JP2749140B2 - ワイヤボンディング方法 - Google Patents
ワイヤボンディング方法Info
- Publication number
- JP2749140B2 JP2749140B2 JP1213861A JP21386189A JP2749140B2 JP 2749140 B2 JP2749140 B2 JP 2749140B2 JP 1213861 A JP1213861 A JP 1213861A JP 21386189 A JP21386189 A JP 21386189A JP 2749140 B2 JP2749140 B2 JP 2749140B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead frame
- lead
- bonding
- wire
- heater block
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
- H01L24/78—Apparatus for connecting with wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/78—Apparatus for connecting with wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/852—Applying energy for connecting
- H01L2224/85201—Compression bonding
- H01L2224/85205—Ultrasonic bonding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01013—Aluminum [Al]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01082—Lead [Pb]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ボンディング性を向上させることのできる
ワイヤボンディング方法に関するものである。
ワイヤボンディング方法に関するものである。
パワートランジスタ等の半導体装置製造時のワイヤボ
ンディング作業を第2図乃至第4図を参照しながら説明
する。同図に於いて、(A)はアイランド(B)上に半
田(C)を介して半導体ペレット(D)をマウントした
リードフレーム、(1)は上記リードフレーム(A)を
加熱しながらガイドするヒータブロックであり、このヒ
ータブロック(1)は第4図の拡大断面図に示す如く、
リードフレーム(A)のリード(E)を加熱するための
リードヒータ(1a)とペレットマウント部となるアイラ
ンド(B)を加熱するアイアイランドヒータ(1b)とに
よって構成され、更に、このヒータブロック(1)の、
リードフレーム送り方向に対し上流側となる部分は、リ
ードフレーム(A)を予熱するための予熱部(2)とな
っており、中流部はボンディング部(3)で、さらに下
流はリードフレームを徐冷するようになっている。そし
て、このヒータブロック(1)のボンディング部(3)
の上方には、ヒータブロック(1)上のリードフレーム
(A)を位置決め状態で固定するための押え板(4)及
びリードフレーム(A)のアイランド(B)上にマウン
トされた半導体ペレット(D)と、リードフレーム
(A)のリード(E)とをワイヤボンディングするため
の、超音波ボンディング装置のボンディングツール(図
示せず)等が配置してある。
ンディング作業を第2図乃至第4図を参照しながら説明
する。同図に於いて、(A)はアイランド(B)上に半
田(C)を介して半導体ペレット(D)をマウントした
リードフレーム、(1)は上記リードフレーム(A)を
加熱しながらガイドするヒータブロックであり、このヒ
ータブロック(1)は第4図の拡大断面図に示す如く、
リードフレーム(A)のリード(E)を加熱するための
リードヒータ(1a)とペレットマウント部となるアイラ
ンド(B)を加熱するアイアイランドヒータ(1b)とに
よって構成され、更に、このヒータブロック(1)の、
リードフレーム送り方向に対し上流側となる部分は、リ
ードフレーム(A)を予熱するための予熱部(2)とな
っており、中流部はボンディング部(3)で、さらに下
流はリードフレームを徐冷するようになっている。そし
て、このヒータブロック(1)のボンディング部(3)
の上方には、ヒータブロック(1)上のリードフレーム
(A)を位置決め状態で固定するための押え板(4)及
びリードフレーム(A)のアイランド(B)上にマウン
トされた半導体ペレット(D)と、リードフレーム
(A)のリード(E)とをワイヤボンディングするため
の、超音波ボンディング装置のボンディングツール(図
示せず)等が配置してある。
上記構成に於いて、ワイヤボンディングを行うには、
半導体ペレット(D)がマウントされたリードフレーム
(A)を、ヒータブロック(1)の予熱部(2)でリー
ドフレーム(A)を、半導体ペレット(D)をアイラン
ド(B)に固定している半田(C)の融点(約290℃)
以下の温度で予熱した後、ボンディング部(3)に送
る。そして、リードフレーム(A)上の半導体ペレット
(D)がボンディング部(3)に達すると、押え板
(4)によってリードフレーム(A)をヒータブロック
(1)のボンディング部(3)上に位置決めした後、超
音波ボンディング装置を用い、半導体ペレット(D)上
のアルミ電極とリードフレーム(A)のリード(E)と
を金ワイヤ(F)によって接続する。上記のようにし
て、1つの半導体ペレット(D)に対するワイヤボンデ
ィングが終了すると、押え板(4)によるリードフレー
ム(A)のクランプを一旦解除し、リードフレーム
(A)を1ピッチだけピッチ送りした後、リードフレー
ム(A)を押え板(4)によって再びクランプし、以後
上記動作が繰返される。
半導体ペレット(D)がマウントされたリードフレーム
(A)を、ヒータブロック(1)の予熱部(2)でリー
ドフレーム(A)を、半導体ペレット(D)をアイラン
ド(B)に固定している半田(C)の融点(約290℃)
以下の温度で予熱した後、ボンディング部(3)に送
る。そして、リードフレーム(A)上の半導体ペレット
(D)がボンディング部(3)に達すると、押え板
(4)によってリードフレーム(A)をヒータブロック
(1)のボンディング部(3)上に位置決めした後、超
音波ボンディング装置を用い、半導体ペレット(D)上
のアルミ電極とリードフレーム(A)のリード(E)と
を金ワイヤ(F)によって接続する。上記のようにし
て、1つの半導体ペレット(D)に対するワイヤボンデ
ィングが終了すると、押え板(4)によるリードフレー
ム(A)のクランプを一旦解除し、リードフレーム
(A)を1ピッチだけピッチ送りした後、リードフレー
ム(A)を押え板(4)によって再びクランプし、以後
上記動作が繰返される。
上記方法によってワイヤボンディングを行う場合、従
来はリードフレーム(A)のリード(E)の表面に予め
銀メッキを施こしておき、ワイヤボンディング時、金ワ
イヤ(F)とリード(E)との接着が確実に行えるよう
にしていた。しかし、リード(E)に銀メッキを施こす
には多数の作業工程を必要とし、手間がかかるため、近
年、上記銀メッキを省略することにより、半導体製造工
程の簡略化及びコストダウンを計る傾向にある。ところ
が、上記リードフレーム(A)が鋼製の場合、上記メッ
キ処理を省略し、リード(E)の表面に直接金ワイヤ
(F)を超音波ボンディングによって接着すると、両者
は非常になじみが悪いため、ワイヤボンディング後、抜
き取り検査によって行われる引張り強度試験に合格でき
るだけの十分な接着強度を得ることが非常に困難である
といった問題があった。
来はリードフレーム(A)のリード(E)の表面に予め
銀メッキを施こしておき、ワイヤボンディング時、金ワ
イヤ(F)とリード(E)との接着が確実に行えるよう
にしていた。しかし、リード(E)に銀メッキを施こす
には多数の作業工程を必要とし、手間がかかるため、近
年、上記銀メッキを省略することにより、半導体製造工
程の簡略化及びコストダウンを計る傾向にある。ところ
が、上記リードフレーム(A)が鋼製の場合、上記メッ
キ処理を省略し、リード(E)の表面に直接金ワイヤ
(F)を超音波ボンディングによって接着すると、両者
は非常になじみが悪いため、ワイヤボンディング後、抜
き取り検査によって行われる引張り強度試験に合格でき
るだけの十分な接着強度を得ることが非常に困難である
といった問題があった。
尚、上記引張り強度試験とは、ボンディング終了後の
金ワイヤ(F)を、その中央部を釣り針状の工具で引掛
けて上方に引張り、金ワイヤ(F)が引き千切れるまで
に、金ワイヤ(F)とリード(E)との接着部、及び、
金ワイヤ(F)と半導体ペレット(D)のアルミ電極と
の接着部が剥れるか否かをチェックするためのものであ
り、金ワイヤ(F)が引き千切れるまで、両接着部が剥
がれなければ合格となり、金ワイヤ(F)が引き千切れ
るまでに接着部が剥れてしまえば不合格となる。
金ワイヤ(F)を、その中央部を釣り針状の工具で引掛
けて上方に引張り、金ワイヤ(F)が引き千切れるまで
に、金ワイヤ(F)とリード(E)との接着部、及び、
金ワイヤ(F)と半導体ペレット(D)のアルミ電極と
の接着部が剥れるか否かをチェックするためのものであ
り、金ワイヤ(F)が引き千切れるまで、両接着部が剥
がれなければ合格となり、金ワイヤ(F)が引き千切れ
るまでに接着部が剥れてしまえば不合格となる。
特に、この鋼製のリードフレーム(A)によって形成
される半導体装置がパワートランジスタ等の如く、大電
流の流れるものの場合、上記リード(E)と金ワイヤ
(F)との接着部の強度不足により、両者の電気的接続
が完全でなく、この部分の電気的抵抗値が大きくなった
場合、パワートランジスタ使用時にこの部分が発熱し、
動作不良を起すといった問題があった。このため、鋼製
リードフレーム(A)を用いたパワートランジスタ等の
半導体装置の製造時には、リードフレーム(A)のリー
ド(E)への銀メッキ工程を省略できないのが現状であ
る。
される半導体装置がパワートランジスタ等の如く、大電
流の流れるものの場合、上記リード(E)と金ワイヤ
(F)との接着部の強度不足により、両者の電気的接続
が完全でなく、この部分の電気的抵抗値が大きくなった
場合、パワートランジスタ使用時にこの部分が発熱し、
動作不良を起すといった問題があった。このため、鋼製
リードフレーム(A)を用いたパワートランジスタ等の
半導体装置の製造時には、リードフレーム(A)のリー
ド(E)への銀メッキ工程を省略できないのが現状であ
る。
又、ヒータブロック(1)によるリードフレーム
(A)の予熱温度を、300℃〜400℃といった高温に設定
しておけば、銀メッキを施こしていない鋼製のリードフ
レーム(A)のリード(E)への金ワイヤ(F)のボン
ディング時、両者間に生じる合金の生成速度を高めるこ
とができるため、十分な接着強度を得ることが可能であ
る。しかし、リードフレーム(A)を300℃以上に加熱
してしまうと、リードフレーム(A)のアイランド
(B)に半導体ペレット(D)を固定している半田
(C)の融点が約290℃であるため、この半田(C)が
溶融してしまい、半導体ペレット(D)のアルミ電極へ
の金ワイヤ(F)のボンディング作業が不可能になるた
め、上記方法をとることもできないのが現状である。
(A)の予熱温度を、300℃〜400℃といった高温に設定
しておけば、銀メッキを施こしていない鋼製のリードフ
レーム(A)のリード(E)への金ワイヤ(F)のボン
ディング時、両者間に生じる合金の生成速度を高めるこ
とができるため、十分な接着強度を得ることが可能であ
る。しかし、リードフレーム(A)を300℃以上に加熱
してしまうと、リードフレーム(A)のアイランド
(B)に半導体ペレット(D)を固定している半田
(C)の融点が約290℃であるため、この半田(C)が
溶融してしまい、半導体ペレット(D)のアルミ電極へ
の金ワイヤ(F)のボンディング作業が不可能になるた
め、上記方法をとることもできないのが現状である。
リードフレームのアイラインド上に半田付けされた半
導体ペレットと、リードフレームのリードとを超音波ボ
ンディングにより電気的に接続するワイヤボンディング
方法に於いて、上記リードフレームを上記半田の融点以
下の温度で予熱し、ワイヤボンディング後、リードとワ
イヤとのボンディング部を、上記半田の融点以上の温度
で加熱することを特徴とするワイヤボンディング方法で
ある。
導体ペレットと、リードフレームのリードとを超音波ボ
ンディングにより電気的に接続するワイヤボンディング
方法に於いて、上記リードフレームを上記半田の融点以
下の温度で予熱し、ワイヤボンディング後、リードとワ
イヤとのボンディング部を、上記半田の融点以上の温度
で加熱することを特徴とするワイヤボンディング方法で
ある。
上記した如く、超音波ボンディングにより、半導体ペ
レットとリードとをワイヤを介して電気的に接続した
後、リードとワイヤとの接着部を、半導体ペレットを固
定している半田の融点以上の温度で加熱することによ
り、リードとワイヤとの間の合金生成を急速に行わせ、
この部分の接着強度を向上させるものであある。
レットとリードとをワイヤを介して電気的に接続した
後、リードとワイヤとの接着部を、半導体ペレットを固
定している半田の融点以上の温度で加熱することによ
り、リードとワイヤとの間の合金生成を急速に行わせ、
この部分の接着強度を向上させるものであある。
第1図(A)及び第1図(B)は、本発明に係るボン
ディング方法により、銀メッキが施されていない鋼製の
リードフレーム(以下銅ベアリードフレームと称す)
(A)のリード(E)に金ワイヤ(F)をボンディング
する場合のヒータブロックの配置例を示すものである。
同図に於いて、(10)は第1のヒータブロックっであ
り、この第1のヒータブロック(10)は従来と同様、リ
ードフレームを加熱しつつガイドするものであり、銅ベ
アリードフレーム(A)のリード(E)を加熱するリー
ドヒータ(10a)と、アイランド(B)を加熱するアイ
アイランドヒータ(10b)とからなっており、その上流
側は予熱部(11)を構成し、又下流側はボンディング部
(12)を構成している。又ボンディング(12)の上方に
は、従来と同様、押え板、超音波ボンディング装置のボ
ンディングツール等が配置してある。(13)は第1のヒ
ータブロック(10)の下流側に配置した第2のヒータブ
ロックであり、この第2のヒータブロック(13)は、超
音波ボンディングが終了し、第1のヒータブロック(1
0)から搬出されて来る鋼ベアリードフレーム(A)を
一方向に向けて搬送しながら、この搬送中に於いて、リ
ード(E)を重点的に再加熱するためのものである。そ
して、上記第1のヒータブロック(10)による鋼ベアリ
ードフレーム(A)の加熱温度は、鋼ベアリードフレー
ム(A)のアイランド(B)に半導体ペレット(D)を
マウントしている半田(C)が溶融しない温度、即ち約
280℃に設定してあり、又第2ヒータブロック(13)に
よるリード(E)の再加熱温度は、合金生成が早急に進
む温度、即ち300℃〜400℃に設定しておく。更に、第2
ヒータブロック(13)による再加熱時間は、数十秒とな
るようにしておく。
ディング方法により、銀メッキが施されていない鋼製の
リードフレーム(以下銅ベアリードフレームと称す)
(A)のリード(E)に金ワイヤ(F)をボンディング
する場合のヒータブロックの配置例を示すものである。
同図に於いて、(10)は第1のヒータブロックっであ
り、この第1のヒータブロック(10)は従来と同様、リ
ードフレームを加熱しつつガイドするものであり、銅ベ
アリードフレーム(A)のリード(E)を加熱するリー
ドヒータ(10a)と、アイランド(B)を加熱するアイ
アイランドヒータ(10b)とからなっており、その上流
側は予熱部(11)を構成し、又下流側はボンディング部
(12)を構成している。又ボンディング(12)の上方に
は、従来と同様、押え板、超音波ボンディング装置のボ
ンディングツール等が配置してある。(13)は第1のヒ
ータブロック(10)の下流側に配置した第2のヒータブ
ロックであり、この第2のヒータブロック(13)は、超
音波ボンディングが終了し、第1のヒータブロック(1
0)から搬出されて来る鋼ベアリードフレーム(A)を
一方向に向けて搬送しながら、この搬送中に於いて、リ
ード(E)を重点的に再加熱するためのものである。そ
して、上記第1のヒータブロック(10)による鋼ベアリ
ードフレーム(A)の加熱温度は、鋼ベアリードフレー
ム(A)のアイランド(B)に半導体ペレット(D)を
マウントしている半田(C)が溶融しない温度、即ち約
280℃に設定してあり、又第2ヒータブロック(13)に
よるリード(E)の再加熱温度は、合金生成が早急に進
む温度、即ち300℃〜400℃に設定しておく。更に、第2
ヒータブロック(13)による再加熱時間は、数十秒とな
るようにしておく。
上記構成に於いて、アイランド(B)上に半田(C)
により半導体ペレット(D)がマウントされた銅ベアリ
ードフレーム(A)が第1ヒータブロック(10)上をピ
ッチ送りされ、従来と同様の方法により、半導体ペレッ
ト(D)のアルミ電極とリード(E)とが金ワイヤ
(F)によって電気的に接続された後、この超音波ボン
ディングを終えた銅ベアリードフレーム(A)が、第1
図(B)に示す如く、第2のヒータブロック(13)上に
搬送されて来ると、銅ベアリードフレーム(A)のリー
ド(E)は、第2のヒータブロック(13)によって300
℃〜400℃に再加熱される。すると、リード(E)と金
ワイヤ(F)との接着部は、この高温によって、前工程
の超音波ボンディングだけでは不完全であった両者間の
合金生成が急速に進み、両者間の接着強度が増し、引張
り強度試験にも十分に合格するだけの十分の強度とな
る。測定によれば、ボンディング後に400℃、15秒の再
加熱で上記リード(E)の接着部以外の部分で剥がれる
ことが確認された。このようにして、再加熱が終了した
銅ベアリードフレーム(A)は冷却された後、次工程へ
と搬送されて行く。尚、上記再加熱中に、銅ベアリード
フレーム(A)のアイランド(B)側に熱が伝わり、半
導体ペレット(D)をアイランド(B)上にマウントし
ている半田(C)が一時的に溶融しても、半導体ペレッ
ト(D)への金ワイヤ(F)の超音波ボンディングは既
に終了しているため、半導体ペレット(D)がアイラン
ド(B)上で位置ズレを起こさなければ、特に問題が生
じることはない。
により半導体ペレット(D)がマウントされた銅ベアリ
ードフレーム(A)が第1ヒータブロック(10)上をピ
ッチ送りされ、従来と同様の方法により、半導体ペレッ
ト(D)のアルミ電極とリード(E)とが金ワイヤ
(F)によって電気的に接続された後、この超音波ボン
ディングを終えた銅ベアリードフレーム(A)が、第1
図(B)に示す如く、第2のヒータブロック(13)上に
搬送されて来ると、銅ベアリードフレーム(A)のリー
ド(E)は、第2のヒータブロック(13)によって300
℃〜400℃に再加熱される。すると、リード(E)と金
ワイヤ(F)との接着部は、この高温によって、前工程
の超音波ボンディングだけでは不完全であった両者間の
合金生成が急速に進み、両者間の接着強度が増し、引張
り強度試験にも十分に合格するだけの十分の強度とな
る。測定によれば、ボンディング後に400℃、15秒の再
加熱で上記リード(E)の接着部以外の部分で剥がれる
ことが確認された。このようにして、再加熱が終了した
銅ベアリードフレーム(A)は冷却された後、次工程へ
と搬送されて行く。尚、上記再加熱中に、銅ベアリード
フレーム(A)のアイランド(B)側に熱が伝わり、半
導体ペレット(D)をアイランド(B)上にマウントし
ている半田(C)が一時的に溶融しても、半導体ペレッ
ト(D)への金ワイヤ(F)の超音波ボンディングは既
に終了しているため、半導体ペレット(D)がアイラン
ド(B)上で位置ズレを起こさなければ、特に問題が生
じることはない。
又上記実施例は、第1のヒータブロック(10)の下流
側に第2のヒータブロック(13)を配置することによ
り、銅ベアリードフレーム(A)を再加熱する例につい
て説明したが、銅ベアリードフレーム(A)の再加熱方
法としては、第1のヒータブロック(10)から搬出され
る超音波ボンディングを終えた銅ベアリードフレーム
(A)を所定数マガジン内に収納しておき、このマガジ
ンを再加熱用の加熱炉内に収納し、再加熱を行ってもよ
い。
側に第2のヒータブロック(13)を配置することによ
り、銅ベアリードフレーム(A)を再加熱する例につい
て説明したが、銅ベアリードフレーム(A)の再加熱方
法としては、第1のヒータブロック(10)から搬出され
る超音波ボンディングを終えた銅ベアリードフレーム
(A)を所定数マガジン内に収納しておき、このマガジ
ンを再加熱用の加熱炉内に収納し、再加熱を行ってもよ
い。
上記した如く、本発明に係るボンディング方法は、リ
ードフレームのリードと半導体ペレットの電極とを超音
波ボンディング装置を用いて金ワイヤによって電気的に
接続した後、この金ワイヤとリードとの接着部を、両者
間の合金生成が急速に進む温度で再加熱するようにした
から、銀メッキを施こしていない銅製のリードフレーム
のリードに金ワイヤを確実に接着させることが可能とな
り、この種のリードフレームへの、作業工数のかかるメ
ッキ処理を省略することが可能となる。従って、パワー
トランジスタ等の銅製のリードフレームを用いた半導体
装置製造時の製造工程を簡略化できると同時に、この種
の半導体装置のコストダウンを計れる。
ードフレームのリードと半導体ペレットの電極とを超音
波ボンディング装置を用いて金ワイヤによって電気的に
接続した後、この金ワイヤとリードとの接着部を、両者
間の合金生成が急速に進む温度で再加熱するようにした
から、銀メッキを施こしていない銅製のリードフレーム
のリードに金ワイヤを確実に接着させることが可能とな
り、この種のリードフレームへの、作業工数のかかるメ
ッキ処理を省略することが可能となる。従って、パワー
トランジスタ等の銅製のリードフレームを用いた半導体
装置製造時の製造工程を簡略化できると同時に、この種
の半導体装置のコストダウンを計れる。
第1図(A)は、本発明を実施する場合のヒータブロッ
クの配置例を示す平面図、第1図(B)は、第1図
(A)に示したヒータブロック上に銅ベアリードフレー
ムを供給した状態を示す平面図、第2図はリードフレー
ムの一例を示す平面図、第3図は従来のボンディング方
法を説明するための平面図、第4図は拡大断面図であ
る。 (A)……リードフレーム、(B)……アイランド、
(C)……半田、(D)……半導体ペレット、(E)…
…リード、(F)……ワイヤ、(10)……第1のヒータ
ブロック、(13)……第2のヒータブロック。
クの配置例を示す平面図、第1図(B)は、第1図
(A)に示したヒータブロック上に銅ベアリードフレー
ムを供給した状態を示す平面図、第2図はリードフレー
ムの一例を示す平面図、第3図は従来のボンディング方
法を説明するための平面図、第4図は拡大断面図であ
る。 (A)……リードフレーム、(B)……アイランド、
(C)……半田、(D)……半導体ペレット、(E)…
…リード、(F)……ワイヤ、(10)……第1のヒータ
ブロック、(13)……第2のヒータブロック。
Claims (1)
- 【請求項1】リードフレームのアイランド上に半田付け
された半導体ペレットと、リードフレームのリードとを
超音波ボンディングにより電気的に接続するワイヤボン
ディング方法に於いて、上記リードフレームを上記半田
の融点以下の温度で予熱し、ワイヤボンディング後、リ
ードとワイヤとのボンディング部を、上記半田の融点以
上の温度で加熱することを特徴とするワイヤボンディン
グ方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1213861A JP2749140B2 (ja) | 1989-08-18 | 1989-08-18 | ワイヤボンディング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1213861A JP2749140B2 (ja) | 1989-08-18 | 1989-08-18 | ワイヤボンディング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0377340A JPH0377340A (ja) | 1991-04-02 |
JP2749140B2 true JP2749140B2 (ja) | 1998-05-13 |
Family
ID=16646236
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1213861A Expired - Fee Related JP2749140B2 (ja) | 1989-08-18 | 1989-08-18 | ワイヤボンディング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2749140B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102022001130A1 (de) | 2022-03-25 | 2023-09-28 | Jonas Münz | Sonotrode sowie Vorrichtung und Verfahren zum Ultraschallschweißen von Stahl |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5038467A (ja) * | 1973-08-08 | 1975-04-09 | ||
JPS63211733A (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-02 | Mitsubishi Electric Corp | ワイヤボンデイング装置 |
-
1989
- 1989-08-18 JP JP1213861A patent/JP2749140B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102022001130A1 (de) | 2022-03-25 | 2023-09-28 | Jonas Münz | Sonotrode sowie Vorrichtung und Verfahren zum Ultraschallschweißen von Stahl |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0377340A (ja) | 1991-04-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3672047A (en) | Method for bonding a conductive wire to a metal electrode | |
JPH055375B2 (ja) | ||
JP2000036511A (ja) | 電子部品の製造方法 | |
US5877079A (en) | Method for manufacturing a semiconductor device and a method for mounting a semiconductor device for eliminating a void | |
US20050150932A1 (en) | Arrangement for wire bonding and method for producing a bonding connection | |
JPH0645409A (ja) | ワイヤーボンディング方法及びその装置 | |
JP2749140B2 (ja) | ワイヤボンディング方法 | |
JP2583142B2 (ja) | 熱電モジュールの製造方法 | |
US3444347A (en) | Method for solder reflow connection of insulated conductors | |
JP3336999B2 (ja) | バンプシートとこれを用いたバンプ形成装置及びバンプ形成方法 | |
JPH06163612A (ja) | 半導体装置の製造方法及び製造装置 | |
JP3827442B2 (ja) | 半導体パッケージの製造方法 | |
JP2703272B2 (ja) | ワイヤボンディング装置 | |
JPH1154541A (ja) | ワイヤボンディング方法及びワイヤボンディング装置 | |
JPH01256154A (ja) | バンプ電極を備えた半導体素子の製造方法 | |
JP2707909B2 (ja) | 集積回路チップのボンディング方法 | |
JPS6379331A (ja) | ワイヤボンデイング装置 | |
JPH0590355A (ja) | ワイヤボンデイング方法及び装置 | |
JPH08106102A (ja) | Tab−セル圧着装置 | |
JPH09232386A (ja) | ワイヤボンダ | |
JPH0483353A (ja) | 半導体集積回路装置の製造方法 | |
JPH0214780B2 (ja) | ||
JPH11163028A (ja) | ワイヤボンディング装置 | |
JPS61180443A (ja) | リ−ド接続方法 | |
JPH03120844A (ja) | 半導体装置の製造方法及びその装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |