JP2746204B2 - 有限差分法における三角形および四面体メッシュ発生方法 - Google Patents
有限差分法における三角形および四面体メッシュ発生方法Info
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- G06F30/23—Design optimisation, verification or simulation using finite element methods [FEM] or finite difference methods [FDM]
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体デバイスのシミ
ュレーションなどに用いられる有限差分法に関し、特
に、三角形メッシュないし四面体メッシュを発生する方
法に関する。
ュレーションなどに用いられる有限差分法に関し、特
に、三角形メッシュないし四面体メッシュを発生する方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイス用のデバイスシミュレー
タとは、半導体トランジスタ内部での物理量をコンピュ
ータを用いて計算し、トランジスタの端子電流、しきい
値電圧などの電気的特性を算出するものである。LSI
に代表される半導体デバイスがその最高の電気的特性を
発揮するように、その半導体デバイス内の各トランジス
タの最適化を行なおうとする場合、デバイスシミュレー
タを用いれば、実際にLSIを試作するのに比ベて、費
用/期間とも大幅に短縮することができる。また、デバ
イスシミュレータは、半導体トランジスタ内部の物理量
を計算するので、半導体内部で電子や正孔がどのような
振る舞いをしているかを調ベることができ、例えば、微
細MOSFETで問題となっているインパクトイオン化
現象の原因解明等に用いることができる。
タとは、半導体トランジスタ内部での物理量をコンピュ
ータを用いて計算し、トランジスタの端子電流、しきい
値電圧などの電気的特性を算出するものである。LSI
に代表される半導体デバイスがその最高の電気的特性を
発揮するように、その半導体デバイス内の各トランジス
タの最適化を行なおうとする場合、デバイスシミュレー
タを用いれば、実際にLSIを試作するのに比ベて、費
用/期間とも大幅に短縮することができる。また、デバ
イスシミュレータは、半導体トランジスタ内部の物理量
を計算するので、半導体内部で電子や正孔がどのような
振る舞いをしているかを調ベることができ、例えば、微
細MOSFETで問題となっているインパクトイオン化
現象の原因解明等に用いることができる。
【0003】デバイスシミュレータでは、半導体トラン
ジスタ内部の物理量を得るため、電位(ポテンシャル)
とキャリア濃度との関係をあらわすポアソン方程式や、
電流連続式等の偏微分方程式を解いている。偏微分方程
式を解く方法には、檀 良編著の文献“プロセスデバイ
スシミュレーション技術”, 産業図書, pp. 90〜122に
あるように、半導体デバイスを小さな領域に分割し、偏
微分方程式を離散化して計算する方法がある。
ジスタ内部の物理量を得るため、電位(ポテンシャル)
とキャリア濃度との関係をあらわすポアソン方程式や、
電流連続式等の偏微分方程式を解いている。偏微分方程
式を解く方法には、檀 良編著の文献“プロセスデバイ
スシミュレーション技術”, 産業図書, pp. 90〜122に
あるように、半導体デバイスを小さな領域に分割し、偏
微分方程式を離散化して計算する方法がある。
【0004】一方、デバイスシミュレータを用いて、ト
レンチ構造等の複雑な形状を有する半導体デバイスの解
析を行なう場合には、半導体デバイスの形状や構造を正
確に表現するため、C. S. Raffertyらの文献"Iterative
methods in semiconductordevice simulation", IEEE
Trans. on Electron Devices, Vol. ED-32, No. 10,pp.
2018-2027, Oct. 1985にあるように、三角形を使って
デバイス形状を小分割して離散化する方法がある。
レンチ構造等の複雑な形状を有する半導体デバイスの解
析を行なう場合には、半導体デバイスの形状や構造を正
確に表現するため、C. S. Raffertyらの文献"Iterative
methods in semiconductordevice simulation", IEEE
Trans. on Electron Devices, Vol. ED-32, No. 10,pp.
2018-2027, Oct. 1985にあるように、三角形を使って
デバイス形状を小分割して離散化する方法がある。
【0005】図5(a)〜(c)は、上述のC. S. Raffertyら
の文献から引用したものであって、トレンチ分離された
CMOSを三角形要素を用いて離散化している様子の具
体例を示している。すなわち、図5(a)に示されるよう
な断面形状の半導体デバイスは、図5(b)に示されるよ
うに三角形要素の集合として表わされ、さらに、p層と
p+層の境界やp層とn層の境界の近傍は、図5(c)に示
されるように、より細かく三角形要素に分割される。半
導体デバイスの形状が三角形要素の集合として表されて
いるので、トレンチ構造を正確に表現できる。
の文献から引用したものであって、トレンチ分離された
CMOSを三角形要素を用いて離散化している様子の具
体例を示している。すなわち、図5(a)に示されるよう
な断面形状の半導体デバイスは、図5(b)に示されるよ
うに三角形要素の集合として表わされ、さらに、p層と
p+層の境界やp層とn層の境界の近傍は、図5(c)に示
されるように、より細かく三角形要素に分割される。半
導体デバイスの形状が三角形要素の集合として表されて
いるので、トレンチ構造を正確に表現できる。
【0006】図6は、上述のようにして得られた三角形
要素の集合の一部を拡大して示した図である。三角形要
素を用いた有限差分法による上述の偏微分方程式の解法
では、図示●印で示される各格子点(三角形の頂点)
は、その周りにある複数の格子点に対し、図示実線で示
される枝(三角形の辺)で結ばれており、それぞれの枝
上で電流Jが定義される。また各格子点間の電流は、そ
れぞれの枝の受け持つ電流経路の断面(図示点線)で積
分される。この電流経路の断面は、対応する辺の両側に
位置する2つの三角形の外心(図示△印)を結んだ線分
で表わされている。したがって、隣合う三角形の外心が
相互に交差しないという条件が必須である。なぜなら
ば、隣合う三角形の外心が相互に交差する場合、電流を
積分する電流経路の断面が負になるからである。隣合う
三角形の外心が相互に交差しないという条件が満たされ
ない場合には、図7(上述のC. S. Raffertyらの文献か
ら引用)に示されるように、解析結果において、擬フェ
ルミ電位が50Vという、物理的にはあり得ない突起が
生じてしまう。隣合う三角形の外心が相互に交差しない
という条件を満たすためには、三角形の外接円の中に他
の三角形の頂点がない、というドロネー(Delaunay)分割
を保証すればよい。
要素の集合の一部を拡大して示した図である。三角形要
素を用いた有限差分法による上述の偏微分方程式の解法
では、図示●印で示される各格子点(三角形の頂点)
は、その周りにある複数の格子点に対し、図示実線で示
される枝(三角形の辺)で結ばれており、それぞれの枝
上で電流Jが定義される。また各格子点間の電流は、そ
れぞれの枝の受け持つ電流経路の断面(図示点線)で積
分される。この電流経路の断面は、対応する辺の両側に
位置する2つの三角形の外心(図示△印)を結んだ線分
で表わされている。したがって、隣合う三角形の外心が
相互に交差しないという条件が必須である。なぜなら
ば、隣合う三角形の外心が相互に交差する場合、電流を
積分する電流経路の断面が負になるからである。隣合う
三角形の外心が相互に交差しないという条件が満たされ
ない場合には、図7(上述のC. S. Raffertyらの文献か
ら引用)に示されるように、解析結果において、擬フェ
ルミ電位が50Vという、物理的にはあり得ない突起が
生じてしまう。隣合う三角形の外心が相互に交差しない
という条件を満たすためには、三角形の外接円の中に他
の三角形の頂点がない、というドロネー(Delaunay)分割
を保証すればよい。
【0007】ところで、LSIの集積化が進みデバイス
サイズが小さくなるにつれてMOSFETの狭チャネル
効果等が顕著になってきており、トランジスタの奥行き
方向形状も考慮してデバイスシミュレーションを実行す
る必要が生じている。このような3次元問題で任意の形
状を正確に小分割するためには、分割要素として四面体
を用い、3次元半導体デバイス形状を四面体要素の集合
として表せばよい。この場合、電流は四面体の辺上で定
義され、電流経路の断面はその辺を共有する各四面体の
外心を結んでできる面で表わされる。3次元問題の場合
も上述の2次元問題の場合と同様に、M. S. Mockの文
献"Tetrahedral elements and the Scharfetter-Gummel
method", Proceeding of the NASECODE IV, pp. 36-4
7, 1985にあるように、その四面体の分割は、四面体の
外接球の中に他の四面体の頂点がない、というドロネー
分割でなければならない。
サイズが小さくなるにつれてMOSFETの狭チャネル
効果等が顕著になってきており、トランジスタの奥行き
方向形状も考慮してデバイスシミュレーションを実行す
る必要が生じている。このような3次元問題で任意の形
状を正確に小分割するためには、分割要素として四面体
を用い、3次元半導体デバイス形状を四面体要素の集合
として表せばよい。この場合、電流は四面体の辺上で定
義され、電流経路の断面はその辺を共有する各四面体の
外心を結んでできる面で表わされる。3次元問題の場合
も上述の2次元問題の場合と同様に、M. S. Mockの文
献"Tetrahedral elements and the Scharfetter-Gummel
method", Proceeding of the NASECODE IV, pp. 36-4
7, 1985にあるように、その四面体の分割は、四面体の
外接球の中に他の四面体の頂点がない、というドロネー
分割でなければならない。
【0008】解析形状を四面体要素によってドロネー分
割する方法は、上述のM. S. Mockの文献に示されてい
る。ここでは、簡単のため、2次元の領域を三角形要素
でドロネー分割する場合を説明する。Mockによる方法
は、すでにドロネー分割されている三角形群の中に、物
質境界上の点や計算精度を向上するために必要な新節点
を一点づつ追加していく方法である。その方法が図8
(a)〜(c)に示されている。すでにドロネー分割されてい
る三角形群に新節点P'を追加する場合、図8(a)に示す
ように、その新節点P'を外接円の内部に含む三角形を
探索する。図8(a)において点線は外接円を表わし、斜
線部は探索された三角形を表わす。次に、図8(b)に示
しように、探索された三角形を削除し、削除した三角形
で作られる領域の最外殻の辺(図示点線)を見付ける。
そして、図8(c)に示されるように、最外殻辺と新節点
P'とを結んで新たに三角形を作成する。図8(c)では、
新たに作成された各三角形には斜線が付されている。こ
こで、新たに作成された三角形群もまたドロネー分割に
なっている。以上、2次元でのMockの方法によるドロネ
ー分割を説明してきたが、3次元の場合でも、同様の手
順でドロネー分割が実行される。
割する方法は、上述のM. S. Mockの文献に示されてい
る。ここでは、簡単のため、2次元の領域を三角形要素
でドロネー分割する場合を説明する。Mockによる方法
は、すでにドロネー分割されている三角形群の中に、物
質境界上の点や計算精度を向上するために必要な新節点
を一点づつ追加していく方法である。その方法が図8
(a)〜(c)に示されている。すでにドロネー分割されてい
る三角形群に新節点P'を追加する場合、図8(a)に示す
ように、その新節点P'を外接円の内部に含む三角形を
探索する。図8(a)において点線は外接円を表わし、斜
線部は探索された三角形を表わす。次に、図8(b)に示
しように、探索された三角形を削除し、削除した三角形
で作られる領域の最外殻の辺(図示点線)を見付ける。
そして、図8(c)に示されるように、最外殻辺と新節点
P'とを結んで新たに三角形を作成する。図8(c)では、
新たに作成された各三角形には斜線が付されている。こ
こで、新たに作成された三角形群もまたドロネー分割に
なっている。以上、2次元でのMockの方法によるドロネ
ー分割を説明してきたが、3次元の場合でも、同様の手
順でドロネー分割が実行される。
【0009】本出願人は、特願平6−9651号におい
て、ドロネー分割が行なわれた領域に対し、ドロネー分
割条件を満たしたまま節点を削除する方法を提案した。
この方法では、2次元で節点の削除を行なう場合には、
見込角最大法を用いて三角形を再構成する。具体的に
は、削除される節点(メッシュ点)とその節点とつなが
るメッシュエッジ(三角形の辺)を削除し、削除された
節点の周囲に残った多角形に関して、その多角形の辺の
中から未処理の辺を選び、その辺と多角形の頂点で見込
まれる角度が最大となりかつ三角形として定義可能な頂
点を選び、選んだ辺と選んだ頂点とで新たな三角形を生
成する、という作業を多角形の全ての辺について行な
う。3次元で節点の削除を行なう場合には、外接球最小
法を用いて四面体を再構成する。具体的には、まず削除
される節点とその節点につながるメッシュエッジ(四面
体の辺)を削除する。削除された節点の周囲には各面が
三角形である多面体が残るので、その多面体の面である
三角形の中から未処理の三角形を選び、その三角形と多
角形の頂点で作られる四面体の外接球が最小となりかつ
四面体として定義可能な頂点を選び、選ばれた三角形と
選ばれた頂点とによって新たな四面体を生成する、とい
う作業を多面体の全ての面すなわち三角形について行な
う方法である。
て、ドロネー分割が行なわれた領域に対し、ドロネー分
割条件を満たしたまま節点を削除する方法を提案した。
この方法では、2次元で節点の削除を行なう場合には、
見込角最大法を用いて三角形を再構成する。具体的に
は、削除される節点(メッシュ点)とその節点とつなが
るメッシュエッジ(三角形の辺)を削除し、削除された
節点の周囲に残った多角形に関して、その多角形の辺の
中から未処理の辺を選び、その辺と多角形の頂点で見込
まれる角度が最大となりかつ三角形として定義可能な頂
点を選び、選んだ辺と選んだ頂点とで新たな三角形を生
成する、という作業を多角形の全ての辺について行な
う。3次元で節点の削除を行なう場合には、外接球最小
法を用いて四面体を再構成する。具体的には、まず削除
される節点とその節点につながるメッシュエッジ(四面
体の辺)を削除する。削除された節点の周囲には各面が
三角形である多面体が残るので、その多面体の面である
三角形の中から未処理の三角形を選び、その三角形と多
角形の頂点で作られる四面体の外接球が最小となりかつ
四面体として定義可能な頂点を選び、選ばれた三角形と
選ばれた頂点とによって新たな四面体を生成する、とい
う作業を多面体の全ての面すなわち三角形について行な
う方法である。
【0010】ところで、上述のドロネー分割を行なう方
法では、節点の追加や削除によって三角形(あるいは四
面体)を更新していくが、その際、三角形(あるいは四
面体)と物質形状境界とが交差してしまう場合がある。
ここで物質形状境界とは、半導体デバイスであれば、配
線と半導体層との界面、半導体層と絶縁体との界面、あ
るいは半導体層中でのpn接合面や不純物濃度が異なる
領域相互の界面のことである。半導体デバイスシミュレ
ータでは、配線/絶縁体/半導体などの形状を、2次元
での解析を行なう場合には三角形の集合として、3次元
での解析を行なう場合には四面体の集合として表わすた
め、物質形状境界面をまたいで三角形(あるいは四面
体)が作成されてしまうと、各部の形状を正確に表現す
ることができなくなって正確な解析を行なうことができ
なくなってしまう。そこで、新たに作成した三角形(あ
るいは四面体)に関し、物質形状境界との交差チェック
を行ない、交差している場合にはその交差を解消する必
要がある。交差の解消の方法としては、以下に示すよう
なものがある。
法では、節点の追加や削除によって三角形(あるいは四
面体)を更新していくが、その際、三角形(あるいは四
面体)と物質形状境界とが交差してしまう場合がある。
ここで物質形状境界とは、半導体デバイスであれば、配
線と半導体層との界面、半導体層と絶縁体との界面、あ
るいは半導体層中でのpn接合面や不純物濃度が異なる
領域相互の界面のことである。半導体デバイスシミュレ
ータでは、配線/絶縁体/半導体などの形状を、2次元
での解析を行なう場合には三角形の集合として、3次元
での解析を行なう場合には四面体の集合として表わすた
め、物質形状境界面をまたいで三角形(あるいは四面
体)が作成されてしまうと、各部の形状を正確に表現す
ることができなくなって正確な解析を行なうことができ
なくなってしまう。そこで、新たに作成した三角形(あ
るいは四面体)に関し、物質形状境界との交差チェック
を行ない、交差している場合にはその交差を解消する必
要がある。交差の解消の方法としては、以下に示すよう
なものがある。
【0011】(方法1)本出願人には、特願平6−11
5268号において、交差の解消方法の一つを提案し
た。図9は特願平6−115268号の方法の手順を示
すフローチャートである。この方法では、まず、形状境
界と交差している三角形(あるいは四面体)を探し(ス
テップ91)、交差している三角形(四面体)の頂点P
を形状境界に射影して射影点P'とし(ステップ9
2)、この射影点P'に節点を追加して(ステップ9
3)、上述のMockの方法によって三角形(四面体)を作
り直している(ステップ94)。
5268号において、交差の解消方法の一つを提案し
た。図9は特願平6−115268号の方法の手順を示
すフローチャートである。この方法では、まず、形状境
界と交差している三角形(あるいは四面体)を探し(ス
テップ91)、交差している三角形(四面体)の頂点P
を形状境界に射影して射影点P'とし(ステップ9
2)、この射影点P'に節点を追加して(ステップ9
3)、上述のMockの方法によって三角形(四面体)を作
り直している(ステップ94)。
【0012】(方法2)特開平4−309183号公報
には、上述の特願平6−115268号と同様に、節点
の追加によって交差を解消していく方法が示されてい
る。ただし、追加の節点は、形状境界への射影によって
決定されているわけではない。
には、上述の特願平6−115268号と同様に、節点
の追加によって交差を解消していく方法が示されてい
る。ただし、追加の節点は、形状境界への射影によって
決定されているわけではない。
【0013】(方法3)特開平1−106266号公報
には、四面体と形状境界(形状表面)とが交差している
かどうかを調べ、交差している場合には四面体の頂点を
形状表面位置に移動させることによって、交差を解消す
る技術が開示されている。図10(a),(b)はこの方法を
説明する図であり、図示楕円が形状表面を表わしてい
る。図10(a)に示すように、形状境界と交差している
四面体(図では三角形で表示)に関して、四面体の頂点
を立体形状位置に移動させることで、交差の解消を行な
っている。
には、四面体と形状境界(形状表面)とが交差している
かどうかを調べ、交差している場合には四面体の頂点を
形状表面位置に移動させることによって、交差を解消す
る技術が開示されている。図10(a),(b)はこの方法を
説明する図であり、図示楕円が形状表面を表わしてい
る。図10(a)に示すように、形状境界と交差している
四面体(図では三角形で表示)に関して、四面体の頂点
を立体形状位置に移動させることで、交差の解消を行な
っている。
【0014】(方法4)特開平4−268674号公報
には、四面体でなく六面体(四角グリッド)である場合
に、節点の移動によって交差の解消を行なうことが開示
されている。最適化によってグリッドの節点の位置を移
動させた場合、四角グリッドと形状境界との交差が生ず
るが、この特開平4−268674号公報では、形状関
数を用いて移動した点を立体形状位置に補正させること
で、形状とグリッドとの交差を解消している。
には、四面体でなく六面体(四角グリッド)である場合
に、節点の移動によって交差の解消を行なうことが開示
されている。最適化によってグリッドの節点の位置を移
動させた場合、四角グリッドと形状境界との交差が生ず
るが、この特開平4−268674号公報では、形状関
数を用いて移動した点を立体形状位置に補正させること
で、形状とグリッドとの交差を解消している。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、三角形
あるいは四面体と立体形状との交差を解消する上述した
従来の方法では、以下のような問題点がある。すなわ
ち、方法1と方法2では、ドロネー分割は保証される
が、節点を追加して交差の解消を行なっているので、節
点数が増加し解析時間が増加するという問題点がある。
一方、方法3と方法4では、たとえ交差解消前にドロネ
ー分割が保証されていても、交差解消時に節点を動かし
ているので三角形(四面体)の形状が変わり、交差解消
後にドロネー分割が必ずしも成り立たないという問題点
がある。
あるいは四面体と立体形状との交差を解消する上述した
従来の方法では、以下のような問題点がある。すなわ
ち、方法1と方法2では、ドロネー分割は保証される
が、節点を追加して交差の解消を行なっているので、節
点数が増加し解析時間が増加するという問題点がある。
一方、方法3と方法4では、たとえ交差解消前にドロネ
ー分割が保証されていても、交差解消時に節点を動かし
ているので三角形(四面体)の形状が変わり、交差解消
後にドロネー分割が必ずしも成り立たないという問題点
がある。
【0016】本発明の目的は、形状境界と三角形(四面
体)とが交差していてその交差を解消する場合に、節点
数の増加をもたらすことなく、かつ、交差解消後にドロ
ネー分割が保証されるメッシュ発生方法を提供すること
にある。
体)とが交差していてその交差を解消する場合に、節点
数の増加をもたらすことなく、かつ、交差解消後にドロ
ネー分割が保証されるメッシュ発生方法を提供すること
にある。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明の有限差分法にお
ける三角形メッシュ発生方法は、有限差分法に使用され
予めドロネー分割されている三角形メッシュを対象と
し、前記三角形メッシュを構成する三角形と物質境界と
の交差を解消する三角形メッシュ発生方法において、前
記三角形メッシュに含まれ、かつ物質境界と交差してい
る三角形を探すステップと、前記物質境界と交差してい
るいずれかの三角形の頂点であってかつ前記物資境界上
にはない1頂点を移動節点とし、前記移動節点を前記物
質境界上に射影して射影点とするステップと、前記移動
節点を共有する三角形を処理対象三角形として列挙し、
前記各処理対象三角形の周りにある三角形を周辺三角形
として列挙するステップと、前記射影点が前記周辺三角
形のいずれかの外接円に含まれているかどうかを調べ、
含まれている場合には、前記射影点に節点を追加して三
角形を作成し、含まれていない場合には、前記処理対象
三角形を全て削除して前記移動節点を前記射影点に移動
し、前記処理対象三角形が削除された領域において見込
角最大法によって三角形を再構築するステップと、を有
する。
ける三角形メッシュ発生方法は、有限差分法に使用され
予めドロネー分割されている三角形メッシュを対象と
し、前記三角形メッシュを構成する三角形と物質境界と
の交差を解消する三角形メッシュ発生方法において、前
記三角形メッシュに含まれ、かつ物質境界と交差してい
る三角形を探すステップと、前記物質境界と交差してい
るいずれかの三角形の頂点であってかつ前記物資境界上
にはない1頂点を移動節点とし、前記移動節点を前記物
質境界上に射影して射影点とするステップと、前記移動
節点を共有する三角形を処理対象三角形として列挙し、
前記各処理対象三角形の周りにある三角形を周辺三角形
として列挙するステップと、前記射影点が前記周辺三角
形のいずれかの外接円に含まれているかどうかを調べ、
含まれている場合には、前記射影点に節点を追加して三
角形を作成し、含まれていない場合には、前記処理対象
三角形を全て削除して前記移動節点を前記射影点に移動
し、前記処理対象三角形が削除された領域において見込
角最大法によって三角形を再構築するステップと、を有
する。
【0018】本発明の有限差分法における四面体メッシ
ュ発生方法は、有限差分法に使用され予めドロネー分割
されている四面体メッシュを対象とし、前記四面体メッ
シュを構成する四面体と物質境界との交差を解消する四
面体メッシュ発生方法において、前記四面体メッシュに
含まれ、かつ物質境界と交差している四面体を探すステ
ップと、前記物質境界と交差しているいずれかの四面体
の頂点であってかつ前記物質境界上にはない1頂点を移
動節点とし、前記移動節点を前記物質境界上に射影して
射影点とするステップと、前記移動節点を共有する四面
体を処理対象四面体として列挙し、前記各処理対象四面
体の周りにある四面体を周辺四面体として列挙するステ
ップと、前記射影点が前記周辺四面体のいずれかの外接
球に含まれているかどうかを調べ、含まれている場合に
は、前記射影点に節点を追加して四面体を作成し、含ま
れていない場合には、前記処理対象四面体を全て削除し
て前記移動節点を前記射影点に移動し、前記処理対象四
面体が削除された領域において外接円最小法によって四
面体を再構築するステップと、を有する。
ュ発生方法は、有限差分法に使用され予めドロネー分割
されている四面体メッシュを対象とし、前記四面体メッ
シュを構成する四面体と物質境界との交差を解消する四
面体メッシュ発生方法において、前記四面体メッシュに
含まれ、かつ物質境界と交差している四面体を探すステ
ップと、前記物質境界と交差しているいずれかの四面体
の頂点であってかつ前記物質境界上にはない1頂点を移
動節点とし、前記移動節点を前記物質境界上に射影して
射影点とするステップと、前記移動節点を共有する四面
体を処理対象四面体として列挙し、前記各処理対象四面
体の周りにある四面体を周辺四面体として列挙するステ
ップと、前記射影点が前記周辺四面体のいずれかの外接
球に含まれているかどうかを調べ、含まれている場合に
は、前記射影点に節点を追加して四面体を作成し、含ま
れていない場合には、前記処理対象四面体を全て削除し
て前記移動節点を前記射影点に移動し、前記処理対象四
面体が削除された領域において外接円最小法によって四
面体を再構築するステップと、を有する。
【0019】本発明において、物質境界と交差している
三角形(四面体)の頂点のうち物質境界からの距離が最
小であるものが移動節点として選択されるようにするこ
とが望ましい。
三角形(四面体)の頂点のうち物質境界からの距離が最
小であるものが移動節点として選択されるようにするこ
とが望ましい。
【0020】
【作用】物質境界と交差するいずれかの三角形(四面
体)の頂点の1つ(ただし、物質境界上にはない頂点)
を移動節点とし、移動節点を物質境界上に射影した射影
点に移動させたとしてドロネー分割の条件を満足するか
どうかを判断し、満足する場合には移動節点をその射影
点に移動させて三角形(四面体)を再構築し、満足しな
い場合には移動節点を移動させずにその射影点を節点に
追加するので、ドロネー分割が保証されるとともに節点
数の増加を必要最小限に抑えることが可能になる。
体)の頂点の1つ(ただし、物質境界上にはない頂点)
を移動節点とし、移動節点を物質境界上に射影した射影
点に移動させたとしてドロネー分割の条件を満足するか
どうかを判断し、満足する場合には移動節点をその射影
点に移動させて三角形(四面体)を再構築し、満足しな
い場合には移動節点を移動させずにその射影点を節点に
追加するので、ドロネー分割が保証されるとともに節点
数の増加を必要最小限に抑えることが可能になる。
【0021】一般に物質境界と三角形(四面体)とが交
差している場合、その交差している三角形(四面体)の
数は複数であって、移動節点として選択できる頂点の数
も複数である。移動節点を物質境界上に移動した場合に
ドロネー分割が維持されている確率は、移動節点と物質
境界との距離が小さいほど大きいと考えられるから、節
点数の増加を防ぐためには、物質境界と交差している三
角形(四面体)の頂点のうち物質境界からの距離が最小
(ただし0ではない)であるものが移動節点として選択
されるようにすることが有効である。
差している場合、その交差している三角形(四面体)の
数は複数であって、移動節点として選択できる頂点の数
も複数である。移動節点を物質境界上に移動した場合に
ドロネー分割が維持されている確率は、移動節点と物質
境界との距離が小さいほど大きいと考えられるから、節
点数の増加を防ぐためには、物質境界と交差している三
角形(四面体)の頂点のうち物質境界からの距離が最小
(ただし0ではない)であるものが移動節点として選択
されるようにすることが有効である。
【0022】
【実施例】次に、本発明の実施例について、図面を参照
して説明する。
して説明する。
【0023】《実施例1》図1は、本発明の実施例であ
って、2次元での有限差分法による解析を行なう場合に
おける三角形メッシュ発生方法の手順を示すフローチャ
ートである。また、図2(a)〜(e)は、三角形メッシュ発
生の具体例を説明する図である。まず、ドロネー分割さ
れた三角形群について、物質境界と交差している三角形
の1つを探す(ステップ51)。図2(a)に示した例で
は、三角形L1が物質境界B(図示太線)と交差してい
る。次に、図2(b)に示すように、探された三角形L1
の頂点のうち物質境界B上にない1頂点を移動節点Pと
して、移動節点Pを物質境界B上に射影し、射影点P'
を得る(ステップ52)。実際には、物質境界Bと交差
する三角形は複数あるから(図示の例ではL1,L2,L
6)、これら三角形の頂点のうち物質境界B上になくか
つ物質境界Bとの距離が最小である1頂点が移動節点P
として選択されるようにする。
って、2次元での有限差分法による解析を行なう場合に
おける三角形メッシュ発生方法の手順を示すフローチャ
ートである。また、図2(a)〜(e)は、三角形メッシュ発
生の具体例を説明する図である。まず、ドロネー分割さ
れた三角形群について、物質境界と交差している三角形
の1つを探す(ステップ51)。図2(a)に示した例で
は、三角形L1が物質境界B(図示太線)と交差してい
る。次に、図2(b)に示すように、探された三角形L1
の頂点のうち物質境界B上にない1頂点を移動節点Pと
して、移動節点Pを物質境界B上に射影し、射影点P'
を得る(ステップ52)。実際には、物質境界Bと交差
する三角形は複数あるから(図示の例ではL1,L2,L
6)、これら三角形の頂点のうち物質境界B上になくか
つ物質境界Bとの距離が最小である1頂点が移動節点P
として選択されるようにする。
【0024】次に、移動節点Pを共有する三角形(処理
対象三角形)を列挙する(ステップ53)。図2(b)に
示す例では、処理対象三角形はL1〜L6の6個ある。
なお、このうち3つの三角形L3〜L5は物質境界Bと
は交差していない。処理対象三角形が列挙されたら、こ
れら処理対象三角形の周りにある三角形(周辺三角形)
を列挙する(ステップ54)。周辺三角形は、処理対象
三角形のいずれかと辺を共有するが処理対象三角形その
ものではない三角形のことである。図2(b)に示す例で
は、周辺三角形は、J1〜J6の6個ある。
対象三角形)を列挙する(ステップ53)。図2(b)に
示す例では、処理対象三角形はL1〜L6の6個ある。
なお、このうち3つの三角形L3〜L5は物質境界Bと
は交差していない。処理対象三角形が列挙されたら、こ
れら処理対象三角形の周りにある三角形(周辺三角形)
を列挙する(ステップ54)。周辺三角形は、処理対象
三角形のいずれかと辺を共有するが処理対象三角形その
ものではない三角形のことである。図2(b)に示す例で
は、周辺三角形は、J1〜J6の6個ある。
【0025】続いて、周辺三角形J1〜J6のいずれか
の外接円に、射影点P'が含まれるかどうかをチェック
する(ステップ55)。図2(c)はこのチェックを説明
するものであって、図示点線の円がそれぞれ周辺三角形
J1〜J6の外接円を表わしている。射影点P'がいず
れかの外接円に含まれるときは、移動節点Pを射影点
P'にそのまま移動した場合にドロネー分割を満たさな
くなるときなので、移動節点Pは動かさず、射影点P'
に節点を追加し、三角形を作成して交差の解消を行ない
(ステップ59)、処理を終了する。一方、ステップ5
5においていずれの外接円にも射影点P'が含まれない
場合には、図2(d)に示すように、処理対象三角形L1
〜L6を全て削除する(ステップ56)。そして、移動
節点Pを射影点P'に移動し(ステップ57)、ステッ
プ56で処理対象三角形を削除した領域で、見込角最大
法を用い、この領域の最外殻辺と移動後の節点P'とを
用いて三角形を再構築し(ステップ58)、処理を終了
する。図2(e)は再構築後の三角形群を示す図であり、
再構築された三角形はK1〜K6である。
の外接円に、射影点P'が含まれるかどうかをチェック
する(ステップ55)。図2(c)はこのチェックを説明
するものであって、図示点線の円がそれぞれ周辺三角形
J1〜J6の外接円を表わしている。射影点P'がいず
れかの外接円に含まれるときは、移動節点Pを射影点
P'にそのまま移動した場合にドロネー分割を満たさな
くなるときなので、移動節点Pは動かさず、射影点P'
に節点を追加し、三角形を作成して交差の解消を行ない
(ステップ59)、処理を終了する。一方、ステップ5
5においていずれの外接円にも射影点P'が含まれない
場合には、図2(d)に示すように、処理対象三角形L1
〜L6を全て削除する(ステップ56)。そして、移動
節点Pを射影点P'に移動し(ステップ57)、ステッ
プ56で処理対象三角形を削除した領域で、見込角最大
法を用い、この領域の最外殻辺と移動後の節点P'とを
用いて三角形を再構築し(ステップ58)、処理を終了
する。図2(e)は再構築後の三角形群を示す図であり、
再構築された三角形はK1〜K6である。
【0026】以上の処理により、三角形と物質境界との
交差が解消される。
交差が解消される。
【0027】次に、上述の処理を行なう際に使用される
データの構造の一例を図3を用いて説明する。本実施例
では、三角形と節点にそれぞれ番号が付与されている。
各三角形ごとに、隣接三角形(その三角形と辺を共有す
る三角形)の番号とその三角形に含まれる節点(すなわ
ちその三角形の各頂点)の番号が記憶されている。ま
た、節点ごとに、その節点を頂点とする三角形(接続三
角形)の番号とその節点の座標値とが記憶されている。
このような構造のデータを使用することにより、それぞ
れの三角形番号とそれを構成する節点番号が対応してお
り、三角形番号から節点番号を得ることも、逆に節点番
号からその節点を含む三角形番号を得ることも、容易に
実行可能となる。また隣接三角形の番号を保持している
ので、各三角形に隣接した三角形の情報を容易に得るこ
とが可能である。
データの構造の一例を図3を用いて説明する。本実施例
では、三角形と節点にそれぞれ番号が付与されている。
各三角形ごとに、隣接三角形(その三角形と辺を共有す
る三角形)の番号とその三角形に含まれる節点(すなわ
ちその三角形の各頂点)の番号が記憶されている。ま
た、節点ごとに、その節点を頂点とする三角形(接続三
角形)の番号とその節点の座標値とが記憶されている。
このような構造のデータを使用することにより、それぞ
れの三角形番号とそれを構成する節点番号が対応してお
り、三角形番号から節点番号を得ることも、逆に節点番
号からその節点を含む三角形番号を得ることも、容易に
実行可能となる。また隣接三角形の番号を保持している
ので、各三角形に隣接した三角形の情報を容易に得るこ
とが可能である。
【0028】このデータ構造を用いた場合、上述のステ
ップ53で処理対象三角形を列挙する時には、移動節点
に対応する節点番号のデータにおいて接続三角形の三角
形番号を検索するだけでよい。また、ステップ54で周
辺三角形を列挙する場合には、処理対象三角形のデータ
において隣接三角形として挙げられているものの集合か
ら、処理対象三角形を除けばよい。
ップ53で処理対象三角形を列挙する時には、移動節点
に対応する節点番号のデータにおいて接続三角形の三角
形番号を検索するだけでよい。また、ステップ54で周
辺三角形を列挙する場合には、処理対象三角形のデータ
において隣接三角形として挙げられているものの集合か
ら、処理対象三角形を除けばよい。
【0029】《実施例2》図4は、本発明の実施例であ
って、3次元での有限差分法による解析を行なう場合に
おける四面体メッシュ発生方法の手順を示すフローチャ
ートである。この実施例も、実施例1と同様の手順で行
なわれる。
って、3次元での有限差分法による解析を行なう場合に
おける四面体メッシュ発生方法の手順を示すフローチャ
ートである。この実施例も、実施例1と同様の手順で行
なわれる。
【0030】まず、ドロネー分割された四面体群につい
て、物質境界と交差している四面体の1つを探し(ステ
ップ61)、探された四面体の頂点のうち物質境界上に
ない1頂点を移動節点Pとして、移動節点Pを物質境界
上に射影し、射影点P'を得る(ステップ62)。実際
には、物質境界と交差する四面体は複数あるから、これ
ら四面体の頂点のうち物質境界上になくかつ物質境界と
の距離が最小である1頂点が移動節点として選択される
ようにする。次に、移動節点Pを共有する四面体(処理
対象四面体)を列挙し(ステップ63)、これら処理対
象四面体の周りにある四面体(周辺四面体)を列挙する
(ステップ64)。周辺四面体は、処理対象四面体のい
ずれかと辺(稜)を共有するが処理対象四面体そのもの
ではない四面体のことである。
て、物質境界と交差している四面体の1つを探し(ステ
ップ61)、探された四面体の頂点のうち物質境界上に
ない1頂点を移動節点Pとして、移動節点Pを物質境界
上に射影し、射影点P'を得る(ステップ62)。実際
には、物質境界と交差する四面体は複数あるから、これ
ら四面体の頂点のうち物質境界上になくかつ物質境界と
の距離が最小である1頂点が移動節点として選択される
ようにする。次に、移動節点Pを共有する四面体(処理
対象四面体)を列挙し(ステップ63)、これら処理対
象四面体の周りにある四面体(周辺四面体)を列挙する
(ステップ64)。周辺四面体は、処理対象四面体のい
ずれかと辺(稜)を共有するが処理対象四面体そのもの
ではない四面体のことである。
【0031】続いて、このように列挙された周辺四面体
のいずれかの外接球に、射影点P'が含まれるかどうか
をチェックする(ステップ65)。射影点P'がいずれ
かの外接球に含まれるときは、移動節点Pを射影点P'
にそのまま移動した場合にドロネー分割を満たさなくな
るときなので、移動節点Pは動かさず、射影点P'に節
点を追加し、四面体を作成して交差の解消を行ない(ス
テップ69)、処理を終了する。一方、ステップ65に
おいていずれの外接球にも射影点P'が含まれない場合
には、処理対象四面体を全て削除し(ステップ66)、
移動節点Pを射影点P'に移動する(ステップ67)。
処理対象四面体を削除したことで、削除した領域には各
面が三角形である多面体が形成されるから、この領域
で、外接球最小法を用い、この領域の最外殻の面と移動
後の節点P'とを用いて四面体を再構築し(ステップ6
8)、処理を終了する。
のいずれかの外接球に、射影点P'が含まれるかどうか
をチェックする(ステップ65)。射影点P'がいずれ
かの外接球に含まれるときは、移動節点Pを射影点P'
にそのまま移動した場合にドロネー分割を満たさなくな
るときなので、移動節点Pは動かさず、射影点P'に節
点を追加し、四面体を作成して交差の解消を行ない(ス
テップ69)、処理を終了する。一方、ステップ65に
おいていずれの外接球にも射影点P'が含まれない場合
には、処理対象四面体を全て削除し(ステップ66)、
移動節点Pを射影点P'に移動する(ステップ67)。
処理対象四面体を削除したことで、削除した領域には各
面が三角形である多面体が形成されるから、この領域
で、外接球最小法を用い、この領域の最外殻の面と移動
後の節点P'とを用いて四面体を再構築し(ステップ6
8)、処理を終了する。
【0032】以上の処理により、四面体と物質境界との
交差が解消される。
交差が解消される。
【0033】ここで、本発明によって三角形メッシュを
発生させた場合と従来手法によって三角形メッシュを発
生させた場合とで、有限差分法の解析に要する時間がど
の程度異なるかを検討する。
発生させた場合と従来手法によって三角形メッシュを発
生させた場合とで、有限差分法の解析に要する時間がど
の程度異なるかを検討する。
【0034】節点数nに対し、有限差分法の解析時間が
nの1.5乗に比例するものとする。交差の解消を行な
う前の節点数をnoとする。従来の手法では、交差解消
のためにほぼ無条件で節点を追加しており、この追加し
た節点数をncとする。すると、本発明の手法を用いる
ことにより有限差分法の処理が高速化する割合rは、
nの1.5乗に比例するものとする。交差の解消を行な
う前の節点数をnoとする。従来の手法では、交差解消
のためにほぼ無条件で節点を追加しており、この追加し
た節点数をncとする。すると、本発明の手法を用いる
ことにより有限差分法の処理が高速化する割合rは、
【0035】
【数1】 と表わされる。ただしαは、本発明において移動点を含
む三角形を構築するために要する時間である。なお、こ
の移動点を含む三角形を構築するための演算は、全節点
数によらず有限回の実行ですむ。具体的には、節点数n
o=10252のときに、交差解消による追加節点数nc
=1345が必要であったとすると、本発明の手法を採
用することにより、約2割の計算時間の短縮が達成され
る。
む三角形を構築するために要する時間である。なお、こ
の移動点を含む三角形を構築するための演算は、全節点
数によらず有限回の実行ですむ。具体的には、節点数n
o=10252のときに、交差解消による追加節点数nc
=1345が必要であったとすると、本発明の手法を採
用することにより、約2割の計算時間の短縮が達成され
る。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、物質境界
と交差するいずれかの三角形(四面体)の頂点の1つ
(ただし、物質境界上にはない頂点)を移動節点とし、
移動節点を物質境界上に射影した射影点に移動させたと
してドロネー分割の条件を満足するかどうかを判断し、
満足する場合には移動節点をその射影点に移動させて三
角形(四面体)を再構築し、満足しない場合には移動節
点を移動させずにその射影点を節点に追加することによ
り、ドロネー分割が保証されるとともに節点数の増加を
必要最小限に抑えることが可能になるという効果があ
る。したがって、本発明を適用することにより、有限差
分法の計算時間が大幅に短縮されるようになるという効
果がある。
と交差するいずれかの三角形(四面体)の頂点の1つ
(ただし、物質境界上にはない頂点)を移動節点とし、
移動節点を物質境界上に射影した射影点に移動させたと
してドロネー分割の条件を満足するかどうかを判断し、
満足する場合には移動節点をその射影点に移動させて三
角形(四面体)を再構築し、満足しない場合には移動節
点を移動させずにその射影点を節点に追加することによ
り、ドロネー分割が保証されるとともに節点数の増加を
必要最小限に抑えることが可能になるという効果があ
る。したがって、本発明を適用することにより、有限差
分法の計算時間が大幅に短縮されるようになるという効
果がある。
【図1】本発明の実施例1での三角形発生の処理を示す
フローチャートである。
フローチャートである。
【図2】(a)〜(e)は、それぞれ、実施例1での三角形メ
ッシュの発生の具体例を説明する図である。
ッシュの発生の具体例を説明する図である。
【図3】物質境界との交差を解消するために使用するデ
ータの構造を示す図である。
ータの構造を示す図である。
【図4】本発明の実施例2での四面体発生の処理を示す
フローチャートである。
フローチャートである。
【図5】(a)は半導体デバイスの一例の断面図、(b),(c)
は(a)の半導体デバイスを対象として生成される三角メ
ッシュの例を示す図である。
は(a)の半導体デバイスを対象として生成される三角メ
ッシュの例を示す図である。
【図6】三角メッシュにおける電流とその積分領域を説
明する図である。
明する図である。
【図7】外心が交差するとシミュレーション結果が不正
となることを示す図である。
となることを示す図である。
【図8】(a)〜(c)は、2次元におけるドロネー分割の方
法を説明する図である。
法を説明する図である。
【図9】三角形と物質境界との交差を解消するための従
来の技術の一例を説明する図である。
来の技術の一例を説明する図である。
【図10】(a),(b)は三角形と物質境界との交差を解消
するための従来の技術の別の例を説明する図である。
するための従来の技術の別の例を説明する図である。
51〜59,61〜69 ステップ B 物質境界 P 節点
Claims (4)
- 【請求項1】 有限差分法に使用され予めドロネー分割
されている三角形メッシュを対象とし、前記三角形メッ
シュを構成する三角形と物質境界との交差を解消する三
角形メッシュ発生方法において、 前記三角形メッシュに含まれ、かつ物質境界と交差して
いる三角形を探すステップと、 前記物質境界と交差しているいずれかの三角形の頂点で
あってかつ前記物質境界上にはない1頂点を移動節点と
し、前記移動節点を前記物質境界上に射影して射影点と
するステップと、 前記移動節点を共有する三角形を処理対象三角形として
列挙し、前記各処理対象三角形の周りにある三角形を周
辺三角形として列挙するステップと、 前記射影点が前記周辺三角形のいずれかの外接円に含ま
れているかどうかを調べ、含まれている場合には、前記
射影点に節点を追加して三角形を作成し、含まれていな
い場合には、前記処理対象三角形を全て削除して前記移
動節点を前記射影点に移動し、前記処理対象三角形が削
除された領域において見込角最大法によって三角形を再
構築するステップと、を有することを特徴とする三角形
メッシュ発生方法。 - 【請求項2】 有限差分法に使用され予めドロネー分割
されている四面体メッシュを対象とし、前記四面体メッ
シュを構成する四面体と物質境界との交差を解消する四
面体メッシュ発生方法において、 前記四面体メッシュに含まれ、かつ物質境界と交差して
いる四面体を探すステップと、 前記物質境界と交差しているいずれかの四面体の頂点で
あってかつ前記物質境界上にはない1頂点を移動節点と
し、前記移動節点を前記物質境界上に射影して射影点と
するステップと、 前記移動節点を共有する四面体を処理対象四面体として
列挙し、前記各処理対象四面体の周りにある四面体を周
辺四面体として列挙するステップと、 前記射影点が前記周辺四面体のいずれかの外接球に含ま
れているかどうかを調べ、含まれている場合には、前記
射影点に節点を追加して四面体を作成し、含まれていな
い場合には、前記処理対象四面体を全て削除して前記移
動節点を前記射影点に移動し、前記処理対象四面体が削
除された領域において外接円最小法によって四面体を再
構築するステップと、を有することを特徴とする四面体
メッシュ発生方法。 - 【請求項3】 前記物質境界と交差している三角形の頂
点のうち前記物質境界からの距離が最小であるものが前
記移動節点として選択される請求項1に記載の三角形メ
ッシュ発生方法。 - 【請求項4】 前記物質境界と交差している四面体の頂
点のうち前記物質境界からの距離が最小であるものが前
記移動節点として選択される請求項2に記載の四面体メ
ッシュ発生方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7130372A JP2746204B2 (ja) | 1995-05-29 | 1995-05-29 | 有限差分法における三角形および四面体メッシュ発生方法 |
DE19621434A DE19621434A1 (de) | 1995-05-29 | 1996-05-28 | Verfahren zur Erzeugung eines Dreiecks- und Tetraedergitters |
US08/654,190 US5774696A (en) | 1995-05-29 | 1996-05-28 | Triangle and tetrahedron mesh generation method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7130372A JP2746204B2 (ja) | 1995-05-29 | 1995-05-29 | 有限差分法における三角形および四面体メッシュ発生方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08329284A JPH08329284A (ja) | 1996-12-13 |
JP2746204B2 true JP2746204B2 (ja) | 1998-05-06 |
Family
ID=15032798
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7130372A Expired - Fee Related JP2746204B2 (ja) | 1995-05-29 | 1995-05-29 | 有限差分法における三角形および四面体メッシュ発生方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5774696A (ja) |
JP (1) | JP2746204B2 (ja) |
DE (1) | DE19621434A1 (ja) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2874711B2 (ja) * | 1996-03-25 | 1999-03-24 | 日本電気株式会社 | 離散化格子の生成装置 |
US6133921A (en) * | 1996-05-24 | 2000-10-17 | University Of Washington | Constructing shape skeletons of 3D objects using generalized Voronoi diagrams |
JP2998653B2 (ja) * | 1996-09-20 | 2000-01-11 | 日本電気株式会社 | プロセスシミュレーション方法 |
US6100893A (en) * | 1997-05-23 | 2000-08-08 | Light Sciences Limited Partnership | Constructing solid models using implicit functions defining connectivity relationships among layers of an object to be modeled |
JP3045280B2 (ja) | 1997-07-24 | 2000-05-29 | 日本電気株式会社 | シミュレーション用メッシュ生成方法 |
JP3156764B2 (ja) * | 1997-08-21 | 2001-04-16 | 日本電気株式会社 | 半導体デバイスの衝突電離現象のシミュレーション方法 |
JP3050184B2 (ja) | 1997-09-19 | 2000-06-12 | 日本電気株式会社 | 四面体格子の生成方式およびそのプログラムを記録した記録媒体 |
JP3139428B2 (ja) * | 1997-10-31 | 2001-02-26 | 日本電気株式会社 | 拡散シミュレーション方法 |
FR2772162B1 (fr) * | 1997-12-10 | 2000-02-25 | Ge Medical Syst Sa | Procede de segmentation semi-automatique pour l'estimation de volumes tridimensionnels |
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1995
- 1995-05-29 JP JP7130372A patent/JP2746204B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-05-28 US US08/654,190 patent/US5774696A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-05-28 DE DE19621434A patent/DE19621434A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5774696A (en) | 1998-06-30 |
JPH08329284A (ja) | 1996-12-13 |
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