JP2601191B2 - 四面体交差探索装置およびその方法 - Google Patents

四面体交差探索装置およびその方法

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JP2601191B2
JP2601191B2 JP11526894A JP11526894A JP2601191B2 JP 2601191 B2 JP2601191 B2 JP 2601191B2 JP 11526894 A JP11526894 A JP 11526894A JP 11526894 A JP11526894 A JP 11526894A JP 2601191 B2 JP2601191 B2 JP 2601191B2
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    • G06T7/60Analysis of geometric attributes
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/30Computing systems specially adapted for manufacturing

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、デバイスシミュレータ
における立体の3次元メッシュ発生方法およびその装置
に関し、特に、立体を四面体ドロネー分割したときに生
ずる四面体と立体の交差探索に関する。
【0002】本発明は、建築設計、土木設計、家具調度
品の設計、機械設計その他立体図形の設計に利用する。
本発明はCAD(Computer Aided Design)論理の改良に
関する。
【0003】
【従来の技術】デバイスシミュレータとは、半導体トラ
ンジスタ内部の物理量をコンピュータを用いて計算し、
トランジスタの端子電流、しきい値電圧などの電気特性
を計算するものである。半導体デバイスが最高の電気特
性を発揮するようにトランジスタの最適化を行うとき、
デバイスシミュレータを用いれば実際にLSIを試作す
るのに比べて、費用および期間を大幅に短縮することが
できる。また、デバイスシミュレータでは半導体トラン
ジスタ内部の物理量を計算するので、半導体内部で電子
や正孔などのような動きをしているのかを調べることが
でき、微細MOSFET(金属酸化膜半導体電界効果ト
ランジスタ)で問題となっているインパクトイオン化現
象の原因解明などに用いることができる。
【0004】デバイスシミュレータでは、半導体トラン
ジスタ内部の物理量を得るため、電位とキャリア濃度の
関係をあらわすポアソン方程式や電流連続式などの偏微
分方程式を解いている。偏微分方程式を解く方法には、
檀良による文献“プロセスデバイスシミュレーション技
術”(産業図書)pp.90 〜122 にあるように、半導体デ
バイスを小さな領域に分割し、偏微分方程式を離散化し
て計算する方法がある。檀の文献では、半導体2次元断
面の離散化方法として図6(a)に示すトランジスタの
構造を図6(b)に示すように格子状に小分割し、各格
子点間で電流を定義する方法が述べられている。図6
(b)に示す格子の一部を拡大したものが図7であり、
長方形を用いた離散化では、各格子点は、周りの4つの
格子点と枝で結ばれる。それぞれの枝の垂直2等分線の
交差で断面を定義し、各格子点間の電流をその断面で積
分する。
【0005】しかし檀の文献の方法では、デバイス形状
は長方形の集合として表されるため、半導体デバイスが
斜め形状を含む場合には、その斜め形状を階段状に近似
してしまうので、形状を正確に表現することができない
不具合がある。この問題を解決する方法として、C.S.Ra
ffertyらの文献“Iterative methods in semiconductor
device simulation" (IEEE Trans.on ED,Vol.ED-32,N
o.10,Oct.1985) では、半導体デバイス形状を正確に表
現するために三角形を使って形状を小分割し離散化する
方法について述べている。トレンチ分離されたCMOS
を三角形要素を用いて離散化している様子の具体例をC.
S.Raffertyらの文献から引用したものを図8(a)、
(b)、(c)に示す。半導体デバイスの形状は三角形
要素の集合として表されているためトレンチ構造を正確
に表現できる。
【0006】三角形要素を用いたときの電流とその積分
方法を図9に示す。長方形での離散化の場合、各格子点
は上下左右の4つの格子点と枝で結ばれていたが、三角
形要素を用いた離散化では、各格子点はその周りの複数
の格子点と枝で結ばれており、それぞれの枝上で電流を
定義する。また各格子点間電流は、それぞれの枝の受け
持つ電流経路の断面で積分される。
【0007】この電流経路の断面はその辺の両側の三角
形の外心を結んだ線分で表すため、隣合う三角形の外心
が互いに交差しないという条件が必須である。なぜなら
隣合う三角形の外心が互いに交差する場合、電流を積分
する電流経路の断面が負になるためで、この条件が満た
されない場合には、図10(C.S.Raffertyらの文献から
引用)に示すように、擬フェルミ電位が50Vという物
理的にはあり得ない突起が生じてしまう。隣合う三角形
の外心が互いに交差しないという条件を満たすには、三
角形の外接円の中に他の三角形の頂点がない、というド
ロネー分割を保証すればよい。
【0008】最近、LSIの集積化が進みデバイスサイ
ズが小さくなるに伴って、MOSFETの狭チャネル効
果などのトランジスタの奥行き方向形状も考慮し、デバ
イスシミュレーションを行う必要が生じている。このよ
うな3次元問題で任意な形状を正確に小分割するには分
割要素に四面体を用い、3次元半導体デバイス形状を四
面体要素の集合として表せばよい。この場合、電流は四
面体の辺上で定義され、電流経路の断面積はその辺を共
有する四面体群の外心を結んだ面で表す。3次元の場合
も上述の2次元の場合と同様、四面体分割を行うときに
は、M.S.Mockの文献“Tetrahedral elements and the S
charfetter-Gummel method"(Proceedingof the NASECOD
E IV,pp.36-47,1985)にあるように、その四面体の分割
は、四面体の外接球の中に他の四面体の頂点がない、と
いうドロネー分割でなければならない。
【0009】四面体分割の方法の公知例として特開平3
−214266号公報に開示された秋山の方法がある。
この方法を図11を用いて説明する。秋山の方法では、
図11(a)に示すような解析領域である立体Aの中に
立体Bが存在する場合について説明する。まず、立体B
の全ての節点を立体AのXY平面に図11(b)に示す
ように射影し、(c)、(d)に示すようにXY平面を
三角形に分割する。次いで図11(e)に示すように分
割した全ての三角形上の各節点からZ方向に線分を伸ば
し三角柱を作成し、三角柱と立体Bの境界面の交差座標
を計算する。
【0010】次に、図11(f)に示すある三角柱のZ
方向線分とその線分を共有する三角柱に関して、その上
面から側辺に点を下ろし、その側辺を囲む三角柱の他の
側辺上の点を結んで四面体を発生させる。全ての三角柱
に対してこの作業を行えば、図11(g)に示すように
解析領域全体を四面体分割することができる。この方法
では、界面(立体Bの境界面)の位置を三角柱データの
中に取り込んでいるので、作成した四面体群と界面の交
差がない四面体分割を高速に行うことができる。
【0011】しかし、この秋山の方法による四面体分割
は、“四面体の外接球の中に他の四面体の頂点がない”
というドロネー分割を必ずしも保証するものではない。
【0012】解析形状を四面体要素にてドロネー分割す
る方法は、上述のM.S.Mockの文献で示されている。説明
を簡単にするため、まず2次元の領域を三角形要素でド
ロネー分割する場合の例について説明する。Mockによる
方法は、すでにドロネー分割されている三角形群の中
に、物質境界点、計算精度を向上するために必要な新節
点を一点づつ追加していく方法である。その方法を図1
2(a)、(b)、(c)を用いて説明する。すでにド
ロネー分割されている三角形群に新節点を一点追加する
場合、図12(a)に示すようにその新節点を含む外接
円を持った三角形を探索する。次に、図12(b)に示
すように、探索した三角形を削除し、その削除した三角
形で作られる領域の最外殻の辺を見つける。続いて、図
12(c)に示すように最外殻辺と新節点を結んで新た
に三角形を作成する。ここで新たに作成された三角形群
もまたドロネー分割になっている。
【0013】このアルゴリズムは、初期ドロネー分割さ
れた三角形群を再帰的に更新していくアルゴリズムであ
るため、初期ドロネー分割を定義する必要がある。図1
3(a)に示すように、解析領域が長方形でその中に任
意形状領域が存在する場合、初期ドロネー分割は、図1
3(b)に示すように長方形の解析領域を対角線で区切
り二つの三角形にすることで得ることができる。そし
て、図13(c)に示すように解析領域に含まれる任意
形状領域の特徴点を一点づつ追加していって三角形情報
を更新していけばよい。
【0014】しかしこのアルゴリズムでは、新節点を含
む外接円をもった三角形で作られる領域の最外殻の辺と
新節点とを結んで新しい三角形を作成していくため、三
角形と形状境界面が交差してしまう場合がある。
【0015】半導体デバイスシミュレータでは、配線/
絶縁体/半導体などの形状を三角形の集合として表すた
め、このように形状境界面を跨いで三角形を作成してし
まうと形状を正確に表現することができなくなり、正確
な解析を行うことができなくなる。
【0016】ここまでは2次元でMockの方法によるドロ
ネー分割を説明してきたが、3次元の場合でも同様であ
る。M.S.Mockの四面体ドロネー分割の方法では、節点を
1点加えるごとに、その節点を含む外接球をもった四面
体を壊し新しく四面体を作成するため、その新しく作成
された四面体が立体と交差する場合がある。上述のよう
に半導体デバイスシミュレータでは、3次元半導体デバ
イス形状を四面体要素の集合として表すので、立体形状
と解析にもちいる四面体が交差してしまうと、立体形状
を正確に表現できなくなる不具合を生じる。そこでM.S.
Mockの四面体ドロネー分割の方法では新たに作成した四
面体に関し、立体との交差チェックを行い、交差を解消
する必要がある。
【0017】解析に用いる四面体と立体形状の交差に
は、 (a)四面体の面と立体の稜が交差する場合(図14
(a)参照) (b)四面体の辺と立体の面が交差する場合(図14
(b)参照) の2種類の場合があり、この交差座標をもとめ、交差位
置に節点を追加していくことで交差を解消することがで
きる。 (周知例)解析に用いる四面体と立体形状の交差を探索
するための最も単純でかつ確実に探索できる方法は、新
たに作成した四面体に関し、 (a)新たに作成した四面体の辺と立体の面が交差して
いるか (b)新たに作成して四面体の面と立体の稜が交差して
いるか を全て調べる方法である。
【0018】これを図15に示す処理フローチャートを
参照して説明する。処理1201により形状を四面体分
割する。処理1202によって新たに作成された四面体
をIelmに設定し以下の処理を行う。
【0019】まず、処理1203により解析立体形状番
号をIbody に設定する。処理1204により立体Ibody
に属する面をIsに設定する。処理1205により立体Ib
odyに属する面Isについて解析四面体Ielmの辺との交差
をチェックする。交差している場合には処理1211に
より交差情報を登録する。交差していない場合には処理
1206によりIbody に属する全ての面について調べた
かどうかをチェックし、Ibody に属する全ての面につい
て調べていない場合にはIbody に属する次の面について
調べるため処理1204に戻る。
【0020】Ibody のすべての面について調べた場合に
は、処理1207により立体Ibodyに属する辺をILに設
定する。処理1208により立体Ibody に属する辺ILに
ついて解析四面体Ielmの面との交差をチェックする。交
差している場合には処理1211により交差情報を登録
する。交差していない場合には処理1209によりIbod
y に属する全ての辺について調べたかどうかをチェック
し、Ibody に属するすべての辺について調べていない場
合にはIbody に属する次の辺について調べるため処理1
207に戻る。
【0021】Ibody の全ての辺について調べた場合に
は、処理1210により解析四面体Ielmと全ての立体と
の交差をチェックしたかどうかを調べ、全ての立体との
交差をチェックしていない場合には、残りの立体との交
差をチェックするため処理1203に戻る。
【0022】解析四面体Ielmと全ての立体との交差チェ
ックをした場合には、処理1212により作成した全て
の四面体について、立体との交差をチェックしたかどう
かを調べ、作成した全ての四面体について立体との交差
をチェックしていない場合には、残りの新規作成四面体
と立体との交差をチェックするため処理1202に戻
る。作成した全ての四面体について、立体との交差をチ
ェックした場合には、処理を終了する。
【0023】また、四面体と立体交差の探索方法には、
以下のような公知例がある。 (公知例1)四面体と立体の交差の探索方法の公知例と
して特開平4−309183号公報に開示されたものが
ある。この公知例ではまず、四面体の1頂点が立体の稜
上にある四面体群に関して、図16(a)に示すように
その四面体群の面がその立体の稜と交差するかどうかを
探索し、さらに、図16(b)に示すように四面体の辺
が立体の稜上にある四面体群に関して、立体の面と四面
体の辺が交差するかどうかを探索する方法が述べられて
いる。 (公知例2)一方、四面体と立体の交差の探索方法とし
て特開平1−106266号公報に開示されたものがあ
る。この公知例では、図17に示す解析形状をXZ平面
で格子状に分割し、各格子点毎にY方向へ直線群を作成
する。そして解析対象となる立体形状との交差を計算
し、各直線毎に立体の始点と終点を保存する。四面体と
立体の交差は、四面体がランレングスデータと交差する
かどうかで判断する方法である。
【0024】
【発明が解決しようとする課題】しかし上述の従来の交
差探索方法では、以下のような課題がある。周知例の方
法を使用した場合には、四面体を作成する毎に全ての形
状との交差を調べなければならないため非常に時間がか
かる。一方、公知例1では、立体の稜に属する節点、辺
をもった四面体のみを対象にして交差の検索を行ってい
る。上述のMockの方法によるドロネー分割では、図16
(c)に示すような交差が生ずるが、公知例1では、こ
のような交差を探索することができない。
【0025】また公知例2では、解析形状をXZ平面で
格子状に分割し、その交点からZ方向に線分を伸ばして
立体形状の範囲を表すランレングスデータを作成する。
すなわち、ランレングスデータは直交メッシュにおける
形状の範囲を示しているのと同じである。結局、斜め形
状がある場合には階段状に形状を近似することになり、
形状を正確に表現するために四面体要素を用いて離散化
する意味がない。
【0026】本発明はこのような問題を解決するために
なされたもので、あらかじめ立体形状を三角柱データか
ら形状記述四面体に分割し、解析四面体と立体との交差
を解析四面体と形状記述四面体との交差から探索するこ
とにより、処理を高速に行うことができる装置およびそ
の方法を提供することを目的とする。
【0027】
【課題を解決するための手段】本発明の第一は、図形処
理演算装置と、3次元立体形状を分割した三角柱データ
を記憶する三角柱データ記憶装置と、三角柱データから
得られる形状記述四面体データを保存する形状記述四面
体記憶装置と、立体の稜および面を含む形状記述四面体
データを記憶する解析四面体記憶装置と、それぞれの形
状記述四面体データの隣接情報を保持するデータを記憶
する交差情報記憶装置とを備え、前記図形処理演算装置
に、前処理として、3次元立体形状を三角柱に分割し、
三角柱から立体の稜および面を含む形状記述四面体を作
成し、形状記述四面体の隣接情報を格納する手段と、解
析四面体と形状記述四面体との交差を調べる手段とを備
えたことを特徴とする。
【0028】解析四面体を作成する毎に、新たに作成し
た解析四面体がどの形状記述四面体に含まれるかを三角
柱データから探索し、その解析四面体と形状記述四面体
との交差を繰り返して調べる手段を含むことが望まし
い。
【0029】本発明の第二は、前処理として、3次元立
体を三角柱に分割するステップと、分割した三角柱から
形状記述四面体を作成するステップと、各形状記述四面
体の辺と面に立体の稜と面のデータを設定するステップ
と、形状記述四面体の隣接情報を格納するステップとを
実行し、新たに作成した解析四面体について、解析四面
体の代表点を算出するステップと、解析四面体の代表点
がどの形状記述四面体に含まれるかを探索するステップ
と、形状記述四面体の立体の稜に属する辺が解析四面体
の面と交差するかをチェックするステップと、形状記述
四面体の立体の面に属する面が解析四面体の辺と交差す
るかをチェックするステップとを実行することを特徴と
する。
【0030】前記交差するかをチェックする二つのステ
ップで交差していることが検出された場合にその交差情
報を登録するステップを実行し、新たに作成した解析四
面体毎に、その全部の解析四面体について前記前処理を
除く前記各ステップを実行することが望ましい。
【0031】
【作用】3次元立体を三角柱に分割し、分割された三角
柱から形状記述四面体を作成し、各形状記述四面体の辺
と面に立体の稜と面のデータを設定して形状記述四面体
の隣接情報を格納する。次に、新たに作成した解析四面
体毎に代表点を算出し、その代表点がどの形状記述四面
体に含まれるかを探索する。続いて、形状記述四面体の
稜に属する辺が解析四面体の面と交差するか否かをチェ
ックするとともに、形状記述四面体の立体の面に属する
面が解析四面体の辺と交差するか否かをチェックする。
交差している場合には交差情報を登録し、交差していな
い場合は探索した形状記述四面体で作られる領域に解析
四面体が全て含まれるか否かをチェックする。
【0032】これにより、解析に用いる四面体と解析形
状の交差とを高速に探索することができ、立体の3次元
メッシュ形成の処理効率を高めることができる。
【0033】
【実施例】次に、本発明実施例を図面に基づいて説明す
る。図1は本発明実施例の要部の構成を示すブロック図
である。
【0034】本発明実施例は、図形処理演算装置1と、
3次元立体形状を分割した三角柱データを記憶する三角
柱データ記憶装置2と、三角柱データから得られる形状
記述四面体データを記憶する形状記述四面体記憶装置3
と、立体の稜および面を含む形状記述四面体データを記
憶する解析四面体記憶装置4と、それぞれの形状記述四
面体データの隣接情報を保持するデータを記憶する交差
情報記憶装置5と、メモリ6と、通信インタフェース7
とを備える。
【0035】図形処理演算装置1には、前処理として、
3次元立体形状を三角柱に分割し、三角柱から立体の稜
および面を含む形状記述四面体を作成し、形状記述四面
体の隣接情報を格納する手段と、解析四面体と形状記述
四面体の交差を調べる手段と、解析四面体を作成する毎
に新たに作成した解析四面体がどの形状記述四面体に含
まれるかを三角柱データから探索し、その解析四面体と
形状記述四面体との交差を繰返して調べる手段とが含ま
れる。
【0036】ここで、処理手順にしたがって立体の3次
元メッシュ発生における四面体と立体の交差探索処理に
ついて詳しく説明する。図2は本発明実施例における処
理動作の流れを示すフローチャートである。
【0037】処理1により、立体を三角柱に分割する。
特開平3−214266号公報に開示されているよう
に、図11(a)に示す立体Bの全ての節点を立体Aの
XY平面に射影し、図11(b)および(c)に示すよ
うにXY平面を三角形に分割する。そして、分割した全
ての三角形上の各節点からZ方向に線分を伸ばして三角
柱を作成し、図11(e)に示すように三角柱と立体B
の境界面の交差点の座標を計算する。
【0038】処理2により、三角柱を立体の形状を記述
する形状記述四面体に分割する。この方法は特開平3−
214266号公報に開示されているように、図11
(f)に示すある三角柱のZ方向線分とその線分を共有
する三角柱に関して、図11(g)に示すようにその上
面から側辺上の境界交差点(処理1で算出)とその側辺
を囲む三角柱の他の側辺上の境界交差点を結び四面体を
発生させ、全ての三角柱に対してこの作業を行うことに
より、解析領域全体を四面体分割することができる。
【0039】処理3により、形状記述四面体の辺および
面に、立体の稜および面情報を付与する。ここで形状記
述四面体は、処理2によって作成されたものであり、処
理1で計算した境界交差点は立体の境界を表しているの
で、処理2で四面体を作成するときに同時に情報を付与
することも可能である。
【0040】処理4により、それぞれの形状記述四面体
ごとに、どの形状記述四面体と接しているかを隣接情報
として設定する。ここでいう“隣り合う四面体”とは、
ある四面体の面を共有する四面体という意味があり、一
つの形状記述四面体は、4つの形状記述四面体と隣り合
っている。
【0041】ここまでの処理で、形状記述四面体を作成
し、次に、処理5により解析四面体を作成する。解析四
面体とは、半導体基本方程式を離散化するために必要な
四面体であり、前述したM.S.Mockの方法を用いてドロネ
ー分割された四面体である。以下、新たに作成された解
析四面体毎に立体との交差の探索を行う。
【0042】処理6により、新たに作成された解析四面
体の番号をIelmに登録し、処理7により、解析四面体Ie
lm中に含まれる代表点を定義する。例えば、四面体の重
心ならば確実にIslmに含まれるので重心を代表点とす
る。
【0043】処理8により、処理7で定義した解析四面
体Ielmの代表点を含む形状記述四面体番号Istrを探索す
る。その方法は、Ielmの代表点をXY投影平面に投影
し、XY投影平面上のどの三角形に含まれるかすなわち
どの三角柱にIelmが含まれているかを探索する。形状記
述四面体はいずれかの三角柱に含まれるので、三角柱の
上から順に解析四面体Ielmの代表点がどの形状記述四面
体Istrに含まれるかを探索する。
【0044】処理9により、形状記述四面体の辺の内、
立体の稜に属する辺が四面体Ielmの面と交差するか否か
をチェックする。交差する場合には、処理12によって
交差情報を登録し、処理10により、形状記述四面体の
面の内、立体の面に属する面が四面体Ielmの辺と交差す
るか否かをチェックする。交差する場合は、処理12に
よって交差情報を登録して、処理11により、ある一つ
の解析四面体Ielmについて、処理9と処理10により交
差を探索した形状記述四面体で作られる領域に解析四面
体Ielmが完全に含まれるかどうかをチェックする。
【0045】探索済みの形状記述四面体で作られる領域
が解析四面体Ielmを完全に含まない場合には、処理13
により、Istrの隣の形状記述四面体をIstrに設定し、処
理9に戻って交差のチェックを繰り返す。処理9または
処理10によって交差を見付けた場合には、処理12に
よって交差情報を登録する。一方、探索済みの形状記述
四面体で作られる領域が解析四面体Ielmを完全に含んだ
場合には、解析四面体Ielmと立体の交差はない。
【0046】以上の処理を新たに作成されたすべての解
析四面体に関して行う。
【0047】図3は、立体形状と三角柱データから形状
記述四面体をアクセスするためのデータ構造を示す一例
である。上述のように、立体形状はXY平面で投影され
三角形に分割されている。そして三角柱は、XY平面上
のすべての三角形毎に作られている。各三角柱は形状記
述四面体に分割されている。
【0048】次に、形状記述四面体のデータ構造の一例
を図4に示す。形状記述四面体は、4つの面(三角形)
から成り立ち、6つの辺と4つの節点とを持っている。
それぞれの三角形は3つの辺で構成され、さらにそれぞ
れの辺は2つ節点を結んだものである。形状記述四面体
の面が立体の面の一部である場合にはその立体の面番号
を保持し、辺が立体の稜の一部である場合にはその立体
の稜番号を保持する。また形状記述四面体は、面を境界
にして隣りの形状記述四面体と接しており、その情報を
面毎に保持する。
【0049】図5は、本発明で探索した交差情報を保存
するための交差情報登録データ構造を示す一例である。
交差情報としては、交差位置の座標、交差立体番号と交
差面あるいは交差辺番号、そして交差解析四面体の番号
と交差面あるいは交差辺番号がある。ここで登録された
交差情報をもとに、交差位置に節点を順次追加していけ
ば、交差を解消することができる。
【0050】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、解
析に用いる四面体と立体の交差のチェックを解析四面体
の辺と立体の全ての面、および解析四面体の面と立体の
全ての稜に関して行うのではなく、あらかじめ形状を記
述する四面体に分割しておき、解析四面体の辺と形状記
述四面体の立体の面に属する面、解析四面体の面と形状
記述四面体の立体の稜に属する辺の交差を行うことによ
り、高速に交差の探索を行うことができる効果がある。
【0051】形状の複雑さを線分数nで表したときに、
従来はO(n)の計算時間を必要とし、かつ解析四面体
を作成するごとにO(n)の探索時間を必要としてい
た。これに対し本発明の方法では、あらかじめ形状を形
状記述四面体に分割するための計算時間は必要とする
が、一つの解析四面体要素の代表点がどの形状記述四面
体に含まれるかは、形状の複雑さによらずある一定の計
算時間で探索することができ、また形状記述四面体が一
つ見つかればそのまわりの形状記述四面体に関しての解
析四面体との交差のチェックがなされるのでその交差探
索もある一定の計算時間ですむことになり、したがって
形状の複雑さによらずある一定の計算時間で探索を行う
ことができる。また、解析形状が複雑になり、計算精度
を向上させるために解析四面体分割を多くするような場
合にはさらにその効果は顕著となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明実施例の要部の構成を示すブロック図。
【図2】本発明実施例における処理動作の流れを示すフ
ローチャート
【図3】本発明実施例における立体形状と三角柱データ
から形状記述四面体をアクセスするためのデータ構造の
一例を示す図。
【図4】本発明実施例における形状記述四面体のデータ
構造の一例を示す図。
【図5】本発明実施例における探索された交差情報のデ
ータ構造の一例を示す図。
【図6】(a)はトランジスタの構造を示す図、(b)
はその直交メッシュ分割の例を示す図。
【図7】直交メッシュにおける電流とその積分領域を示
す図。
【図8】(a)、(b)、および(c)は三角メッシュ
の例を示す図。
【図9】三角メッシュにおける電流とその積分領域を示
す図。
【図10】外心が交差したときにシミュレーション結果
が不正になったことを示す図。
【図11】(a)〜(g)は立体を三角柱に分割し、さ
らに四面体要素分割を行う過程を示す図。
【図12】(a)〜(c)はドロネー分割の方法を2次
元で示した図。
【図13】(a)〜(c)は2次元の初期ドロネー分割
とMockの方法とによりドロネー分割したときの形状
と交差する三角形が作成されることを示す図。
【図14】(a)および(b)は立体と四面体の交差を
示す図。
【図15】立体と四面体の交差探索方法の周知例におけ
る処理動作の流れを示すフローチャート。
【図16】(a)〜(c)は立体と四面体の交差探索方
法の公知例を示す図。
【図17】立体と四面体の交差探索方法の他の公知例を
示す図。
【符号の説明】
1 図形処理演算装置 2 三角柱データ記憶装置 3 形状記述四面体記憶装置 4 解析四面体記憶装置 5 交差情報記憶装置 6 メモリ 7 通信インタフェース

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 図形処理演算装置と、 3次元立体形状を分割した三角柱データを記憶する三角
    柱データ記憶装置と、 三角柱データから得られる形状記述四面体データを保存
    する形状記述四面体記憶装置と、 立体の稜および面を含む形状記述四面体データを記憶す
    る解析四面体記憶装置と、 それぞれの形状記述四面体データの隣接情報を保持する
    データを記憶する交差情報記憶装置とを備え、 前記図形処理演算装置に、 前処理として、3次元立体形状を三角柱に分割し、三角
    柱から立体の稜および面を含む形状記述四面体を作成
    し、形状記述四面体の隣接情報を格納する手段と、 解析四面体と形状記述四面体との交差を調べる手段とを
    備えたことを特徴とする四面体交差探索装置。
  2. 【請求項2】 解析四面体を作成する毎に、新たに作成
    した解析四面体がどの形状記述四面体に含まれるかを三
    角柱データから探索し、その解析四面体と形状記述四面
    体との交差を繰り返して調べる手段を含む請求項1記載
    の四面体交差探索装置。
  3. 【請求項3】 前処理として、 3次元立体を三角柱に分割するステップと、 分割した三角柱から形状記述四面体を作成するステップ
    と、 各形状記述四面体の辺と面に立体の稜と面のデータを設
    定するステップと、 形状記述四面体の隣接情報を格納するステップと を実行し、新たに作成した解析四面体について、 解析四面体の代表点を算出するステップと、 解析四面体の代表点がどの形状記述四面体に含まれるか
    を探索するステップと、 形状記述四面体の立体の稜に属する辺が解析四面体の面
    と交差するかをチェックするステップと、 形状記述四面体の立体の面に属する面が解析四面体の辺
    と交差するかをチェックするステップとを実行すること
    を特徴とする四面体交差探索方法。
  4. 【請求項4】 前記交差するかをチェックする二つのス
    テップで交差していることが検出された場合にその交差
    情報を登録するステップを実行する請求項3記載の四面
    体交差探索方法。
  5. 【請求項5】 新たに作成した解析四面体毎に、その全
    部の解析四面体について前記前処理を除く前記各ステッ
    プを実行する請求項4記載の四面体交差探索方法。
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