JP2735508B2 - レーザー放射結像装置用リトグラフ印刷部材 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、デジタル印刷装置及び
方法に関する。特に、デジタル的に制御されたレーザー
出力を用いるオンプレス又はオフプレスでリトグラフ印
刷版に結像するための装置に関する。

【０００２】

【従来の技術及び解決しようとする課題】記録材料上に
印刷されたイメージを導入するための伝統的な技術とし
ては、凸版印刷、グラビア印刷及びオフセットリトグラ
フが知られている。これらの印刷方法のすべてが、イメ
ージパターンにてインクを移すために版を必要とし、該
版は、通常、効率化のために回転プレスの版胴上に置か
れる。凸版印刷において、該イメージパターンは、イン
クを受け入れ且つ刷り（impression）により記録媒体上
にインクを移す隆起領域の形態にて版上に再現される。
対照的にグラビア印刷版胴は、記録媒体上にデポジット
するためにインクを受け入れる窪みの列すなわち液体溜
めを含み、過剰のインクは、版胴及び記録媒体の間に接
触する前に、ドクターブレード又は同様の装置によって
版胴から除去されなければならない。

【０００３】オフセットリトグラフの場合には、イメー
ジは、インク受け入れ（親油性）表面領域及びインクを
弾く（疎油性）表面領域のパターンとして、版すなわち
マットの上に与えられる。乾式印刷装置において、該版
は単にインク付けされ、イメージは記録媒体上に転写さ
れる。該版は、始めに、ブランケットシリンダと呼ばれ
る柔順な中間表面と接触し、次いで、紙又は他の記録媒
体にイメージを塗布する。典型的なシートフィードプレ
ス装置において、該記録媒体は圧シリンダにピン止めさ
れ、該圧シリンダによってブランケットシリンダと接触
させられる。

【０００４】湿式リトグラフ装置において、非イメージ
領域は親水性であり、必要とされるインク除去性は、イ
ンク付けに先立ち、版に湿潤化（すなわち「インク溜
め」）溶液（インク不粘着性溶液）を初期塗布すること
により与えられる。該インク不粘着性溶液は、インクが
非イメージ領域に接着することを防止するが、イメージ
領域の親油性特性には影響を与えない。

【０００５】もしプレスが１色以上に印刷するためのも
のであれば、各色に対応する個々の印刷版が必要とさ
れ、かような版のそれぞれは通常、以下に述べるように
写真製版的に作られる。異なる色のために適当な版を準
備することに加えて、オペレータはプレスの版胴上に該
版を正確に載置しなければならず、また異なる版胴によ
り印刷されるべき色成分が印刷されたコピー上に見当合
わせされるように、版胴の位置を整合させなければなら
ない。プレス上の特定の色に関連する版胴の各セット
は、通常、印刷ステーションと呼ばれる。

【０００６】最も慣用的なプレスにおいて、該印刷ステ
ーションは、直線形状すなわち「直列」形状に配列され
ている。かようなステーションのそれぞれは、典型的に
は圧シリンダ、ブランケットシリンダ、版胴及び必要な
インク（及び湿式装置の場合には湿潤化）アセンブリを
含む。記録材料は、印刷ステーションの間で連続的に転
写される。各ステーションは、異なる色のインクを材料
に塗布して、複合多色イメージを作り出す。米国特許第
４，９３６，２１１号明細書（本出願人所有であり、本
願に参照として取り込まれている）に記載されている別
の形状では、各印刷ステーションを通過した記録材料の
シートを運搬する中央圧シリンダを備えており、各印刷
ステーションへの媒体の機械的な転送の必要性を排除す
る。

【０００７】プレスのいずれのタイプでも、記録媒体を
材料のカットシートあるいは連続ウェブの形態で印刷ス
テーションに供給することができる。プレス上の印刷ス
テーションの数は、印刷されるべきドキュメントのタイ
プに依存する。テキストの多量コピーあるいは単色線画
に対しては、単一の印刷ステーションで十分であろう。
より複雑な単色イメージの全色調表現を達成するため
に、２つのステーションが同じ色又は陰影の異なる濃度
を塗布する「ダブルトーン」アプローチを用いることが
慣習として行われている。フルカラープレスは、最も一
般的にはシアン、マゼンタ、イエロー及びブラック
（「ＣＭＹＫ」モデル）である選択されたカラーモデル
に従ってインクを塗布する。したがって、ＣＭＹＫモデ
ルは、最低４つの印刷ステーションを必要とし、強調す
べき特定の色がある場合にはより多くの印刷ステーショ
ンを必要とするであろう。プレスは、印刷されたドキュ
メントの種々の部分にスポットラッカーを塗布するため
に、別のステーションを含むこともでき、さらに表裏別
々の印刷を得るために記録媒体を逆転させる１以上の
「両面刷り」アセンブリを特徴とすることもできる。

【０００８】オフセットプレス用の版は、通常、写真製
版により製造される。典型的なネガ作用減法退色カラー
写真法を用いて湿式版を製造するために、原画（オリジ
ナルドキュメント）は写真製版されて、写真用ネガを製
作する。このネガは、フォトポリマーで被覆された水受
容酸化物表面を有するアルミニウム版上に置かれる。ネ
ガを通しての光の暴露あるいは他の放射線の暴露によっ
て、（オリジナルの暗領域あるいは印刷された領域に対
応する）放射線を受け入れたコーティング領域は、凝固
して耐性を有する親油性状態となる。次いで、版は、現
像工程に供されて、コーティングの凝固していない領域
（すなわち、オリジナルの非イメージ領域あるいはバッ
クグラウンド領域に対応する放射線を受容していない領
域）を除去し、アルミニウム版の親水性表面を露出す
る。

【０００９】同様の写真製版工程は、典型的には、適当
な安定性の基体（例えばアルミニウムシート）の上に被
覆された感光性層の上に被覆されたインク不粘着性（例
えばシリコン）表面層を含む乾式版を凝固させるために
用いられる。化学線の暴露によって、感光性層は凝固し
て、表面層に対する結合を破壊する状態になる。暴露
後、暴露されていない領域の感光性層の感光性を不活性
化する処置が施され、さらに表面層のこれらの領域に対
する係止が改良される。暴露された版を現像剤に浸ける
ことによって、結果的に、放射線を受容した版表面の部
分での表面層の乖離及び除去を生じさせ、こうしてイン
ク受容凝固感光性層を露出する。

【００１０】写真製版工程は、時間を消費する傾向にあ
り、且つ必要な化学薬品を支持するための設備及び備品
を必要とする。これらの欠点を解決するために、版結像
に代わる多くの電気的代替物が開発されており、それら
の幾つかはオンープレスで実用化することができる。こ
れらのシステムで、デジタル制御された装置は、印刷さ
れるべきイメージを表すパターンでのブランク版のイン
ク受容能を変化させる。かような結像装置は、電磁放射
線パルス源、インクジェット設備及びスパーク放射設備
を含む。該電磁放射線パルスは１以上のレーザー源若し
くは非レーザー源によって発生して、版ブランク上に化
学変化を引き起こす（こうして、写真ネガの必要性を排
除する）。該インクジェット設備は、版ブランク上にイ
ンクを弾く又はインクを受け入れるスポットを直接デポ
ジットする。該スパーク放射設備においては、版ブラン
クに接触したあるいは近接しているが離れている電極
が、電気スパークを発生して、版ブランクのトポロジー
を物理的に変化させ、こうして、所望のイメージを選択
的に形成する「ドット」を作る（本願に参照として組み
込まれている本出願人の米国特許第４，９１１，０７５
号明細書参照）。

【００１１】レーザー設備の入手容易性及びこれらのデ
ジタル制御に対する従順性によって、レーザーを基本と
する結像装置の開発に顕著な効果が得られている。初期
の例では、版ブランクから材料をエッチングして除去
し、凹刻印刷鋳型（インタグリオ）すなわち凸版印刷パ
ターンを形成するようなレーザーを用いていた。米国特
許第３，５０６，７７９号及び第４，３４７，７８５号
明細書参照。このアプローチは、後に、例えば親水性表
面の除去及び親油性下層を露出することにより、リトグ
ラフ版の製作に拡張された。米国特許第４，０５４，０
９４号明細書参照。これらのシステムは、一般に高出力
レーザーを必要とするが、該レーザーは高価で速度が遅
い。

【００１２】レーザー結像への第２のアプローチは、熱
転移材料の使用を含む。米国特許第３，９４５，３１８
号、第３，９６２，５１３号、第３，９６４，３８９号
及び第４，３９５，９４６号明細書参照。これらのシス
テムで、レーザーによって放射された放射線に対して透
過性である高分子シートは、転写可能な材料で被覆され
ている。操作中、この構造の転移側は、受容シートと接
触されており、転写材料は透過層を通して選択的に照射
されている。照射により、転写材料は受容シートに好ま
しく接着される。転写及び受容体材料は、噴出溶液及び
／又はインクに対する異なる親和性を現出するので、照
射されていない転写材料を伴う透過層の除去は、適当に
結像されて仕上げられた版を残す。典型的には、転写材
料は親油性であり、受容体材料は親水性である。転写型
システムで製作された版は、効果的に転写される材料の
量が制限されていることによって、短い有用寿命を示す
傾向にある。加えて、転写工程が材料の溶融及び再凝固
を含むので、イメージの質は、他の方法によって得られ
るイメージの質に比較して視覚的に劣る傾向にある。

【００１３】最後に、レーザーは、伝統的な化学工程の
ために、感光性ブランクを暴露するべく用いることがで
きる。米国特許第３，５０６，７７９号及び第４，０２
０，７６２号明細書参照。このアプローチに代えて、レ
ーザーは、イメージ様パターンにおいて、感光性版ブラ
ンクを覆っている不透明なコーティングを選択的に除去
するために用いられている。次いで、該版は、放射線が
版の下層部分に到達することを防止するマスクとして作
用する除去されなかった材料と共に、放射源に対して暴
露される。米国特許第４，１３２，１６８号明細書参
照。これらの結像技術のいずれもが、伝統的な非デジタ
ル版製作に関連する扱いにくい化学処理を必要とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、出力レベルを
低く調整するべく操作できる比較的廉価なレーザー設備
を用いる、迅速で、効果的なリトグラフ印刷版の製作を
可能とする。本願明細書に記載されている結像技術は、
種々の版ブランク構造体と一緒に使用することができ、
印刷中に噴出溶液を利用する「湿式」版あるいは直接イ
ンクが塗布される「乾式」版の製作を可能とする。ここ
で用いられる「版」という語彙は、いかなるタイプの印
刷部材、あるいはインク及び／又は噴出溶液に対する異
なる親和性を現出する領域によって規定されたイメージ
を記録可能な表面を意味する。適当な形状は、印刷プレ
スの版胴上に載置されている伝統的な平面あるいは曲率
リトグラフ版を含むが、シームレスシリンダ（例えば、
版胴のロール表面）、無端ベルト、あるいは他の装置を
含むこともできる。

【００１５】本発明のキーとなる特徴は、レーザービー
ムのアブレーション効率を増強する材料の使用にある。
迅速に加熱されず、あるいは多量の放射線を吸収しない
物質は、比較的長いインターバルで照射され及び／又は
高出力パルスを受け入れるまで、アブレーションされな
いであろう。かような物理的制限は、一般に、従来技術
のリトグラフ版材料に関連し、また高出力レーザーの普
及率に起因する。

【００１６】本発明の一実施例において、適当な版構造
は、第１の層及び該第１の層の下に積層されている基体
層を含み、該基体層が赤外線（ＩＲ）を効果的に吸収
し、また該第１の層及び基体層がインク（乾式版構造の
場合）あるいはインク不粘着性流体（湿式版構造の場
合）に対する異なる親和性を有することを特徴とする。
レーザー放射線は、基体によって吸収され、第１の層と
接触する基体表面をアブレートする。この作用は、基体
を覆っている第１の層に対する基体の係止を中断させ、
次いで、該第１の層は暴露されたポイントにて容易に除
去される。除去の結果は、暴露されなかった第１の層の
親和性とは異なるインクあるいはインク不粘着性流体に
対する親和性を有するイメージスポットとなる。

【００１７】この実施例の変更例においては、基体層よ
りもむしろ第１の層がＩＲを吸収する。この場合、基体
層は、支持機能を呈し且つ対照的な親和性特性を与え
る。

【００１８】これら２層版タイプの双方において、ただ
一つの層は、２つの別個の機能、主にＩＲ吸収及びイン
クあるいはインク不粘着流体との相互作用、を呈する。
本発明の第１の目的を実現する第２の実施例において、
これらの機能は、２つの別個の層によってなされる。第
１の最上部層は、インクあるいはインク不粘着流体に対
する親和性（又は斥力）によって選択される。第１の層
の下に積層するのは、ＩＲを吸収する薄い金属層であ
る。強く、安定な基体層は、該金属層の下に積層し、第
１の層の親和性とは反対のインクあるいはインク不粘着
流体に対する親和性によって特徴づけられる。レーザー
パルスへの版の暴露は、最上部層を弱化すると共に、吸
収第２層をアブレート（融解）する。第２層のアブレー
ションの結果として、弱化された表面層は、もはや、そ
の下に積層する層に係止されず、容易に除去される。破
壊された最上部層（及び吸収第２層の破壊から残された
残骸）は、結像後の洗浄工程において除去される。こう
して、もう一度、暴露されていない第１層とは異なるイ
ンクあるいはインク不粘着流体に対する親和性を有する
イメージスポットを作り出す。

【００１９】結像後の洗浄は、例えば回転ブラシ（ある
いは本願に参照として取り込まれている本願出願人の米
国特許第５，１４８，７４６号明細書に記載されている
ような他の適当な手段）等の接触洗浄装置を用いて行う
ことができる。結像後の洗浄は、追加の工程であるけれ
ども、結像中の最上部層の耐性を現実に有益なものとし
て証明することができる。吸収層のアブレーションは、
（例えば、部分的に伝達を阻害する微粒子のエアロゾル
（またはミスト）として、焦点合わせ中のレンズの上に
デポジットすることにより）レーザービームの伝達に干
渉する残骸を作り出す。破壊されたが除去されていない
最上部層は、この残骸の逃げを防止する。

【００２０】本発明の印刷部材は、好ましくは、同時係
属中の米国特許出願第０８／１１２，７８９号明細書に
記載されているような自動化版材料分配装置上で、好都
合な多用途用に製作することができる。かような装置に
おいては、ロール状にされた版材料を小径のコア上に保
存しておいて、該コアから版胴を取り巻くように密着し
て引き出すので、可撓性で自由運動ができるほど低い動
摩擦係数を有し、リトグラフ印刷部材に要求される耐性
を現出する材料を利用することは重要なことである。

【００２１】本発明の結像装置は、好ましくはｌａｍｂ
ｄａ_maxが７００〜１５００nmにある近赤外線結像放射
線手段のような近赤外領域にある赤外線（ＩＲ）を放出
する少なくとも１つのレーザー装置を有する。本発明の
重要な特徴は、固体状態レーザー（一般には半導体レー
ザーと言われ、典型的にはガリウム−アルミニウム−ヒ
素化合物をベースとする）をレーザー源として使用する
ことにある。これらは、明らかに経済的且つ簡便であ
り、種々の結像装置と一緒に使用することができる。近
赤外線を用いることにより、近赤外線を吸収する広範囲
の有機化合物及び無機化合物、特に半導体タイプ及び導
電タイプ、を用いることができる。

【００２２】レーザー出力は、レンズ若しくは他のビー
ムガイド成分を介して、版表面に直接与えることがで
き、あるいは光ファイバーケーブルを用いる遠隔に設置
されたレーザーからブランク印刷版の表面に伝達するこ
とができる。コントローラ及び該コントローラに関連す
る位置決めハードウェアは、版表面に関する正確な方向
にビーム出力を維持し、該出力を表面上全体に走査さ
せ、版の選択されたポイントあるいは領域に隣接する位
置でレーザーを賦活する。コントローラは、版上にコピ
ー中の原画に対応する入力イメージ信号に応答して、原
画の正確なネガイメージ又はポジイメージを製作する。
イメージ信号は、コンピュータ上のビットマップデータ
ファイルとして保存される。かようなファイルは、ラス
ターイメージプロセッサー（ＲＩＰ）又は他の適当な手
段により発生させることもできる。例えば、ＲＩＰは、
印刷版上に転写されるべく要求された特性のすべてを規
定するページ記述言語でのインプットデータ、あるいは
ページ記述言語及び１以上のイメージデータファイルの
組み合わせとしてのインプットデータを受容できる。ビ
ットマップは、色相並びにスクリーン周波数及びスクリ
ーン角度を規定するように構築される。

【００２３】結像装置は、それ自身プレートマーカーと
して単独で機能するように操作することも、リトグラフ
印刷プレス内に直接組み込むこともできる。後者の場
合、ブランク版に対するイメージの塗布後、印刷を速や
かに開始することができるから、プレスのセットアップ
時間を大幅に減少することができる。結像装置は、平台
レコーダーとして若しくはドラムの外部円筒状表面又は
内部円筒状表面に載置されたリトグラフ版ブランクを有
するドラムレコーダーとして形状化されてもよい。明ら
かに、外部ドラム設計はリトグラフプレス上にそのまま
使用するために、より適している。この場合、印刷胴自
身がレコーダー若しくはプロッターのドラム成分を構成
する。

【００２４】ドラム形状において、レーザービーム及び
版の間の必要な相対運動は、ドラム（及びドラム上に載
置されている版）をドラムの軸について回転させ、且つ
ビームを回転軸に対して平行に移動させ、こうしてイメ
ージが軸方向に「成長する」ように版を円周方向に走査
することで得られる。あるいは、ビームはドラム軸に対
して平行に移動することもでき、版を横切る各パス後
に、版上のイメージが円周方向に「成長する」ように角
度的に増加することもできる。双方の場合において、ビ
ームによる完全な走査後には、原画に（ポジ的にあるい
はネガ的に）対応するイメージが版の表面に塗布されて
いるであろう。

【００２５】平台形状において、ビームは版のいずれか
の軸を横切って、各パス後に他の軸に沿って指標つけさ
れる。もちろん、ビーム及び版の間の必要な相対運動
は、ビームの移動よりも（又はビームの移動に加えて）
版の移動により生じるであろう。

【００２６】ビームが走査される態様にかかわらず、複
数のレーザーを用いて、該レーザーの出力を単一の書き
込み列に案内することが（速度上の理由により）好まし
い。次いで、書き込み列は指標付けされ、版を横切る各
パス又は版に沿っての各パスの完成後に、放射するビー
ムの数によって、及び所望の解像度（すなわち、単位長
さ当たりのイメージポイントの数）によって、該書き込
み列からの距離が決定される。

【００２７】

【実施例】以下、実施例により本発明をより詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００２８】１．結像装置 ａ．外部ドラム記録 まず、図１を参照すれば、結像装置の外部ドラムの実施
例が示されている。アセンブリは、シリンダ５０を含
み、該シリンダの回りにはリトグラフ版ブランク５５が
巻かれている。シリンダ５０は、ボイドセグメント（不
用の切れ端）６０を含み、該セグメント内には、版５５
の外側マージンが慣用のクランプ手段（図示せず）によ
って固定されている。ボイドセグメントの大きさは、シ
リンダ５０が用いられる環境に依存して大きく変えるこ
とができることに注意する。

【００２９】もし所望であれば、シリンダ５０は、慣用
のリトグラフプレスの設計に真っすぐ前方に組み込まれ
て、プレスの版胴として作用する。典型的なプレス構造
において、版５５はインクトレインからのインクを受け
入れ、インクトレインのターミナルシリンダは、シリン
ダ５０と回転係合状態にある。シリンダ５０もまた、記
録媒体にインクを転送するブランケットシリンダと接触
しながら回転する。プレスは直線列状態に並べられた印
刷アセンブリのようなものを１以上有していてもよい。
あるいは、複数のアセンブリが、ブランケットシリンダ
のすべてと回転しながら係合するように大きな中央の圧
胴について並べられてもよい。

【００３０】記録媒体は、圧胴の表面に載置され、シリ
ンダ及び各ブランケットシリンダの間のニップを貫通し
て通過する。適当な中央圧縮形状及びインラインプレス
形状が米国特許第５，１６３，３６８号明細書（本発明
の出願人所有であり、本願に参照として取り込まれてい
る）及び前述の４，９１１，０７５号明細書に、記載さ
れている。

【００３１】シリンダ５０は、フレーム内に支持されて
いて、且つ標準的な電気モータあるいは他の慣用の手段
（図２に概略的に示されている）によって回転させられ
る。シリンダ５０の角度位置は、シャフトエンコーダ
（図４参照）によってモニターされる。移動のためにリ
ードスクリュー６７及びガイドバー６９上に載置されて
いる書き込み列６５は、回転しながら版５５を横切る。
書き込み列６５の軸移動は、ステップモータ７２の回転
により得られ、次いでリードスクリュー６７を回転さ
せ、こうして書き込み列６５の軸位置をシフトさせる。
ステップモータ７２は、書き込み列６５が版５５の表面
全体を越えて通過した後、書き込み列６５がボイドセグ
メント６０を越えて位置づけられる間に、賦活される。
ステップモータ７２の回転は、書き込み列６５を適当な
軸配置までシフトさせて、次の結像パスを開始する。

【００３２】連続的な結像パスの間の軸インデックス距
離は、書き込み列６５内の結像要素の数及び形状によっ
て、並びに所望の解像度によって決定される。図２に示
されているように、参照番号７５によって集合的に示さ
れている（詳細は後述する）適当なレーザードライバに
よって駆動されるレーザー源の一列Ｌ₁Ｌ₂Ｌ₃・・・Ｌ_N
は、それぞれ光ファイバーケーブルに出力を与える。レ
ーザーとしては、近赤外領域に放射する高速レーザーを
有利に用いることができるけれども、ガリウム−ヒ素モ
デルが好ましい。

【００３３】イメージ特性（すなわちドット、スポット
あるいはエリア）の大きさ及びイメージ解像度は、種々
の方法で変えることができる。レーザーパルスは、十分
なパワーでなければならず、且つ結像用の有用なアブレ
ーションを作るために持続性でなければならない。しか
しながら、パワーレベル及び暴露時間の上限を越える
と、有用で増強したアブレーションは得られない。低い
スレッシュホールド（閾値）とは異なり、この上限は結
像されるべき版のタイプに強く依存する。

【００３４】最小及び上限パラメータ値により規定され
る範囲内での変動は、イメージ特性の大きさを制御し且
つ選択するために用いることができる。加えて、最小値
を越えるパワーレベル及び暴露時間であれば、単に特性
の大きさは焦点決め装置（以下に記載する）を変えるこ
とによって変化させることができる。与えられた大きさ
の特性と共に得ることができる最終的な解像度すなわち
印刷密度は、オーバーラップするイメージにより（例え
ば、イメージ特性の直径よりも小さな軸方向距離だけ、
書き込み列を進めることにより）強められる。イメージ
特性のオーバーラップは、粒子特性で達成できるグレイ
スケールの数を拡張する。

【００３５】最終的な版は、少なくとも１，０００、好
ましくは少なくとも５０，０００部印刷を可能とすべき
である。これは、耐久性材料からの製作を要求し、且つ
レーザー源に所定の最小のパワー要求量を負わせる。後
述される版に結像可能であるべきレーザーとしては、そ
のパワー出力は、少なくとも０．２ＭＷ／in²であり、
好ましくは少なくとも０．６ＭＷ／in²である。たと
え、レーザービームが長時間印加されたとしても、顕著
なアブレーションは、これらのパワーレベル以下では一
般には生じない。

【００３６】特性の大きさは、０．５〜２．０ミルのオ
ーダーであり、一般には非常に小さいので、レーザーが
中位の出力レベル（約１Ｗオーダー）であっても、必要
なパワー強度は容易に達成される。後述されるような焦
点決め装置は、小さな特性上へのレーザー出力全体を凝
縮して、結果的に高い有効エネルギー強度を得る。

【００３７】レーザー出力を伝達するケーブルは、バン
ドル７７内に集められて、書き込み列６５内に個々に現
れる。パワーを保存するために、ファイバーの反射臨界
角度を越えてファイバーを曲げずに（こうして総内部反
射を維持する）、バンドル内に維持することが望ましい
ことが証明されているかもしれない。しかしながら、我
々は、良好なパフォーマンスのためにこの必要性を見い
ださなかった。

【００３８】図２にも示されているように、コントロー
ラ８０は、関連するレーザーが版５５に対向する適当な
ポイントに到達する際に、レーザードライバ７５を作動
させる。さらに加えて、コントローラ８０は、ステップ
モーター７２及びシリンダドライブモータ８２を操作す
る。レーザードライバ７５は、高速度で作用可能であ
り、市販品としての実用速度での結像を促進する。ドラ
イバは、好ましくは、少なくとも４０，０００レーザー
ドライブパルス／秒を発生することができるパルス回路
を含む。各パルスは、（短い持続時間及び長い持続時間
のパルスをうまく用いることができるけれども）比較的
短く、すなわち、１０〜１５μ秒オーダーである。適当
な設計は後述する。

【００３９】コントローラ８０は、２つの源からデータ
を受け取る。書き込み列６５に関するシリンダ５０の角
度位置は、コントローラ８０の位置を示す信号を与える
検出器８５（詳細は後述する）により常にモニターされ
る。加えて、イメージデータ源（例えばコンピュータ）
もまた、コントローラ８０にデータ信号を与える。イメ
ージデータは、版５５上にポイントを規定し、ここでイ
メージスポットが書き込まれる。したがって、コントロ
ーラ８０は、書き込み列６５及び（検出器８５により書
き込まれたものとして）イメージデータを有する版５５
の瞬間的な相対位置を相互に関連づけて、版５５の走査
中に、適当なレーザードライバを適当な回数だけ作動さ
せる。このスキームを行うために要求されるコントロー
ル回路素子は、スキャナー及びプロッター分野で公知の
ものでよい。適当な設計は、本願に参照として取り込ま
れている本出願人の米国特許第５，１７４，２０５号明
細書に記載されている。

【００４０】レーザー出力ケーブルは、書き込み列６５
内に載置されたレンズアセンブリ内で終止する。該レン
ズアセンブリは、版５５の表面上にビームを正確に焦点
決めする。適当なレンズアセンブリ設計は、後述する
が、これらのアセンブリは、参照番号９６にて概略的に
示されている。レンズアセンブリが書き込み列６５内に
分配されている態様並びに書き込み列の設計は、慎重な
設計考慮を要求する。一つの適当な形状は、図３に示さ
れている。この配置において、レンズアセンブリ９６
は、本体６５をジグザグに横断する。該設計は、好まし
くは、加圧空気源に連結されており且つレンズアセンブ
リ９６と整合した一列の出口ポートを含むエアマニフォ
ールド１３０を含む。マニフォールドへの空気の導入及
び該出口ポートを通る排気は、操作中、レンズから残渣
を除去し、さらにレンズアセンブリ９６及び版表面５５
の間の領域から微粒子エアロゾル及びミストをパージす
る。

【００４１】ジグザグにされたレン設計は、直線配列で
可能となるよりも多数のレンズアセンブリを単一のヘッ
ド内で使用できるようにする。結像時間はレンズ要素の
数に直接依存するので、ジグザグ設計は、より早い全結
像の可能性を提案する。この形状の別の利点は、各レン
ズアセンブリからのビーム放射の直径が、焦点決めレン
ズ自身の直径よりもはるかに小さいことに起因する。し
たがって、直線列は、ビーム間の比較的顕著な最小距離
を要求し、該距離は所望の印刷密度を十分に越えるかも
しれない。この結果、微小なステップピッチが必要とな
る。レンズアセンブリをジグザグにすることで、レーザ
ービーム間の密なスペースを得る。また該スペースを所
望の印刷密度に等しくすることで、インデックスを列の
軸方向幅全体を横断させることができる。コントローラ
８０は、それぞれ異なるレンズアセンブリに対応する既
に垂直カラムに配列されたイメージデータを受け取るこ
とも、あるいは転写されるべきイメージを表す完全なビ
ットマップを含むメモリーバッファの内容をカラム状に
連続的に集めることもできる。いずれの場合にも、コン
トローラ８０は、版５５に関するレンズアセンブリの異
なる相対位置を確認し、関連するレンズアセンブリがイ
メージされるべきポイント上に位置づけられた際にの
み、適当なレーザーを作動させる。

【００４２】別の列設計は図４に示されている。ここ
で、シリンダ５０に載置された検出器８５が示されてい
る。好ましい検出器設計は、前記’１９９号出願に記載
されている。この場合、参照番号１５０で示されている
書き込み列は、バンドル７７から引かれた光ファイバケ
ーブルによって送り込まれる長い直線状本体を備える。
書き込み列１５０の内部すなわち内部のある部分は、リ
ードスクリュー６７と係合するネジ溝を含む。先に述べ
たように、リードスクリューの回転は、書き込み列１５
０を版５５に沿って進める。個々のレンズアセンブリ９
６は、互いに距離Ｂだけ等間隔に離隔されている（図５
参照）。距離Ｂは、版５５の軸方向長さ及び第１レンズ
アセンブリと最後のレンズアセンブリとの距離の間の差
に対応する。距離Ｂは完全な走査中に、書き込み列１５
０が横断する軸方向距離全体を示す。書き込み列１５０
がボイドセグメント６０と遭遇する度に、ステップモー
タ７２は、結像パス（すなわち、印刷密度）間の所望の
距離に等しい軸方向距離だけ、書き込み列１５０を進め
るために回転する。この距離は、先に記述した実施例
（書き込み列６５）により示された距離よりもファクタ
ーｎだけ小さい。ここで、ｎは書き込み列６５に含まれ
るレンズアセンブリの数である。

【００４３】書き込み列１５０は、内部エアマニフォー
ルド１５５及びレンズアセンブリ９６と整合している一
列の出口ポート１６０を含む。再度、これらは、操作中
に、レンズアセンブリ及び結像領域から残骸を除去する
ために機能する。

【００４４】ｂ．平台記録 さらに結像装置は、図７に示されているように平台レコ
ーダーの形態とすることもできる。示された実施例にお
いて、平台装置は固定支持体１７５を含む。該固定支持
体１７５には、版５５の外側マージンが慣用のクランプ
等によって載置されている。書き込み列１８０は、バン
ドル７７からの光ファイバーケーブルを受け入れ、また
上述のような一列のレンズアセンブリを含む。該書き込
み列１８０は、版５５に向けて方向づけられている。

【００４５】第１のステップモータ１８２は、リードス
クリュー１８４によって書き込み列１８０を版５５を横
切って進めさせるが、書き込み列１８０はガイドバーに
代わるブラケット１８６によって安定化されている。ブ
ラケット１８６は、（リードスクリュー１８４に沿う）
書き込み列１８０による版５５の各横断後に、第２のス
テップモータ１８８によって支持体１７５の反対側の軸
に沿って指標付けされる。指標距離は、書き込み列１８
０が版５５を横断するパスの間、レーザ−のイメージ方
向の作動によって製作されるイメージ見本の幅に等し
い。ブラケット１８６が指標付けされた後、第１のステ
ップモータ１８２は方向を反転させて、結像を版５５を
横切って戻し、先行する見本の直前に新しいイメージ見
本を製作する。

【００４６】書き込み列１８０及び版５５の間の相対移
動は、書き込み列１８０の２方向への移動を要求しな
い。代わりに、所望であれば、支持体１７５は、１方向
あるいは２方向に沿って移動することができる。さら
に、支持体１７５及び書き込み列１８０を１方向あるい
は２方向に同時に移動させることもできる。さらに、示
されている書き込み列１８０は、直線的なレンズアセン
ブリを含むけれども、ジグザグ設計のレンズアセンブリ
を含んでもよい。

【００４７】ｃ．内部弧状記録 平台に代えて、版ブランクを図８に示されているような
弧状表面上に支持することもできる。この形状は、書き
込み列及び／又は版の直線移動よりもむしろ回転移動を
可能とする。

【００４８】内部弧状走査アセンブリは、弧状の版支持
体２００を含む。該弧状の版支持体２００には、ブラン
ク版５５が挟持されているかあるいは載置されている。
Ｌ字型書き込み列２０５は、支持バー２０７を受け入れ
る底部部分と、レンズアセンブリを通すためのチャンネ
ルを含む前部分と、を含む。好ましい実施例において、
書き込み列２０５及び支持バー２０７は、互いに固定さ
れたままであり、書き込み列２０５は、支持バー２０７
の端部に載置されたラック２１０の直線移動によって、
版５５を横切って軸方向に進められる。ラック２１０
は、第１のステップモータ２１２の回転によって移動さ
せられる。該第１のステップモータ２１２は、ラック２
１０の歯と係合する第１のギア２１４に結合されてい
る。各軸方向横断後、書き込み列２０５は、支持バー２
０７が貫通し且つ固定的に係合されている第３のギア２
２０の回転によって円周的に指標付けされる。回転は、
第２のギア２２４によって第３のギア２２０の歯に係合
する第２のステップモータ２２２によって与えられる。
第２のステップモータ２２２は、ラック２１０との固定
された整合状態のままである。

【００４９】書き込み列２０５が円周的に指標付けされ
た後、第１のステップモータ２１２は方向を反転させ、
結像を版５５を横切って戻し、先行する見本の直前に新
しいイメージを製作する。

【００５０】ｄ．出力ガイド及びレンズアセンブリ レーザー出力を版ブランク表面に案内するための適当な
手段は、図９〜図１１に示されている。まず図９を参照
すれば、レーザーパルスを版に伝達することができる光
ファイバーケーブルを利用するリモートレーザーアセン
ブリが示されている。この配置において、レーザー源２
５０は、電気ケーブル２５２を介してパワーを受け取
る。レーザー源２５０は、ハウジング２５５の背面セグ
メント内に据え付けられている。ハウジングの前面に載
置されているのは、２以上の焦点合わせレンズ２６０
ａ、２６０ｂであり、該レンズは、レーザー源２５０か
ら出射されている放射線を光ファイバーケーブル２６５
の端面上に集める。該光ファイバーケーブル２６５は、
好ましくは（必要というわけではないが）、除去可能な
保持キャップ２６７によってハウジング２５５内に固着
されている。光ファイバーケーブル２６５は、レーザー
源２５０の出力を図１０により詳細に示されている出力
アセンブリ２７０に導通する。

【００５１】図１０を参照すれば、光ファイバーケーブ
ル２６５は、（好ましくは除去可能である）保持キャッ
プ２７４を通してアセンブリ２７０に入る。保持キャッ
プ２７４は、一列のネジ溝２７８を含むほぼ管状の本体
２７６全体にわたって合致する。本体２７６の前面内に
載置されているのは、２以上の焦点合わせレンズ２８０
ａ、２８０ｂである。光ファイバーケーブル２６５は、
スリーブ２８０によって、本体２７６を貫通して途中ま
で運ばれる。本体２７６は、内側レンズ２８０ｂ及びス
リーブ２８０の末端の間に中空チャンネルを規定するの
で、光ファイバーケーブル２６５の端部面は、内側レン
ズ２８０ｂからの選択された距離Ａにある。距離Ａ及び
レンズ２８０ａ、２８０ｂの焦点距離は、版５５からの
通常の作業距離において、光ファイバーケーブル２６５
から出射されているビームが正確に版表面上に焦点合わ
せされるように、選ばれる。この距離は、イメージ特性
の大きさを変えるために変更することができる。

【００５２】本体２７６は、適当な方法で書き込み列６
５に固着される。示された実施例においては、ナット２
８２がネジ溝２７８に係合し、本体２７６の外側フラン
ジ２８４を書き込み列６５の外側面に対して固着させ
る。該フランジは、任意に、考えられる損傷からレンズ
を保護するため透明な窓２９０を含む。

【００５３】あるいは、レンズアセンブリは、微小な軸
方向位置決め整合を助長するために軸方向（すなわち、
図１０に関しては、紙面を貫通する方向）の回転を可能
とするピボット上で、書き込み列内に載置されていても
よい。もし回転角度が４度以下に維持されるならば、イ
メージデータがコントローラ８０に転送される前に、該
イメージデータをシフトすることによって、回転により
生じる円周エラーを電気的に訂正することができること
を見いだした。

【００５４】さて、図１１を参照すれば、レーザー源
が、光ファイバーケーブルを通しての伝達なしに、版表
面に直接照射する別の設計が示されている。図１１に示
されているように、レーザー源２５０は、開放ハウジン
グ３００の背面セグメント内に据え付けられている。ハ
ウジング３００の前面内に載置されているのは、２以上
の焦点合わせレンズ３０２ａ、３０２ｂである。該焦点
合わせレンズ３０２ａ、３０２ｂは、レーザー源２５０
から出射されている放射線を版５５の表面上に集める。
該ハウジングは、任意に、開放端部と平らに載置された
透明な窓３０５及びヒートシンク３０７を含む。

【００５５】結像形状の前述の議論及び添付図面は光フ
ァイバーを用いているけれども、各場合において、図１
１に示された実施例のように、光ファイバーを削除する
こともできる。

【００５６】ｅ．駆動回路 ダイオード型レーザー（例えばガリウム−ヒ素）を駆動
するための適当な回路は、図１２に概略的に示されてい
る。回路の操作は、コントローラ８０によって管理され
る。該コントローラ８０は、固定パルス幅信号（好まし
くは、持続時間で５〜２０μ秒）を高速高電流ＭＯＳＦ
ＥＴドライバ３２５に発生させる。ドライバ３２５の出
力端子は、ＭＯＳＦＥＴ３２７のゲートに接続されてい
る。ドライバ３２５は、高出力電流をＭＯＳＦＥＴゲー
トコンデンサに迅速に充電するために供給することがで
きるので、容量性負荷にもかわらず、ＭＯＳＦＥＴ３２
７のためのオンオフ切り替え時間は、非常に短い（好ま
しくは０．５μ秒以内）。ＭＯＳＦＥＴ３２７のソース
端子は大地電位に接続されている。

【００５７】ＭＯＳＦＥＴ３２７が、導電状態に置かれ
ている場合、電流はレーザーダイオード３３０を通って
流れるので、該レーザーダイオード３３０を賦活する。
可変限流抵抗器３３２は、ＭＯＳＦＥＴ３２７及びレー
ザーダイオード３３０の間に置かれ、ダイオード出力の
調節を可能とする。例えば、かような調節は、異なるダ
イオード効率を訂正して、システム内のすべてのレーザ
ーでの同一出力を産するために、あるいはイメージの大
きさを制御する手段としてレーザー出力を変えるため
に、有用である。

【００５８】コンデンサー３３４は、レーザーダイオー
ド３３０の端子間を横切って置かれており、例えば、低
いレーザーダイオード電極間コンデンサと結合されたワ
イヤインダクタンスの結果として、損傷を与える電流オ
ーバーシュートを防止する。

【００５９】２．リトグラフ印刷版 さて、図１３〜図２１を参照すれば、上述の設備を用い
て結像することができる種々のリトグラフ版の実施例が
示されている。図１３に示された版は、基体層４００、
赤外線を吸収することができる吸収層４０４及び表面コ
ーティング層４０８を含む。

【００６０】基体層４００は、好ましくは強固で、安定
で可撓性であり、高分子フィルム、紙あるいは金属シー
トからなる。ポリエステルフィルム（好ましい実施例に
おいては、Wilmington, DE.,のE.I. duPont de Nemours
Co.,から製造販売されているＭＹＬＡＲフィルム、あ
るいはWilmington, DE.,のICI Films,から製造販売され
ているＭＥＬＩＮＥＸフィルム）が、有用な実施例を提
供する。好ましいポリエステルフィルムの厚さは、０．
００７インチであるが、より厚いフィルムや薄いフィル
ムでも効果的に用いることができる。アルミニウムが、
好ましい金属基体である。紙基体は、典型的には、高分
子で「浸漬」されて耐水性、寸法安定性及び強度を付与
される。

【００６１】付加的な強度のために、米国特許第５，１
８８，０３２号明細書（記載全体が本願に参照として取
り込まれている。以下’０３２号特許と称す）に記載さ
れているアプローチを利用することができる。該明細書
に記載されているように、金属シートは、上述のような
基体材料に積層することもできるし、あるいは基体とし
て直接利用して吸収層４０４に積層することもできる。
適当な金属、積層工程、好ましい大きさ及び作用条件
は、すべて’０３２号特許に記載されており、不必要な
実験なしに本願にそのまま適用することができる。

【００６２】吸収層は、近赤外領域で固有に吸収する高
分子系、あるいは近赤外線吸収成分が分散され又は溶解
されている高分子コーティングからなってもよい。

【００６３】層４００及び４０８は、インクあるいはイ
ンク不粘着流体に対する異なる親和性を現出する。この
版の第１の例において、表面層４０８は、インクを剥離
するシリコンポリマーであり、一方、基体層４００は、
親油性ポリエステル又はアルミニウム材料である。結果
的にこの版は乾式版である。湿式版である第２の例にお
いて、表面層４０８は、ポリビニルアルコール（例え
ば、Allentown, PA.のAir Productsから供給されている
Ａｉｒｖｏｌ １２５材料）等の親水性材料であり、一
方、基体層４００は親油性及び疎水性の両者を兼ね備え
る材料である。

【００６４】表面層４０８での前述の構造体のレーザー
の一つの出力への暴露は、暴露領域での層を弱化させ且
つ吸収層４０４をアブレートする。前述のように、弱化
された表面コーティング（及び吸収第２層の分解による
残渣）は、結像後の洗浄工程において除去される。

【００６５】あるいは、構造体を反対側から、すなわち
基体層４００を貫通して結像することができる。層がレ
ーザー放射線を透過する限りは、ビームは吸収層４０４
のアブレート及び表面層４０８の弱化の機能を発揮し続
けるであろう。この「反転結像」アプローチは、有意な
追加のレーザーパワーを要求しないけれども（ほとんど
透過性である基体層４００を通してのエネルギーロスは
最小である）、レーザービームが結像のために焦点合わ
せされる態様には影響を与えない。一般に、レーザー出
力に隣接した表面層４０８で、ビームは表面層４０８の
平面上に焦点合わせされる。これとは対照的に、反転結
像の場合には、ビームは吸収層４０８に遭遇する前に、
基体層４００の媒体を通して投射されなければならな
い。したがって、構造体の外面よりもむしろ内部層（す
なわち吸収層４０４）の表面上に焦点合わせされるべき
ビームだけでなく、焦点合わせは、基体層４００を通過
する伝達により引き起こされるビームの反射にも適合し
なければならない。

【００６６】反転結像の間、レーザー出力に面する版層
は無傷のままであるので、このアプローチは、アブレー
ションによって生成される残渣が、版及びレーザー出力
の間の領域に堆積することを防止する。反転結像の他の
利点は、表面層４０８が効率的にレーザー放射線を伝達
しなければならないという要求を排除することにある。
事実、表面層４０８は、減生及び引き続く除去に対して
攻撃を受けやすいままである限り、かような放射線に対
して完全に不透過性である。

【００６７】実施例１〜７ 実施例１〜７は、ニトロセルロース材料で被覆されて吸
収層を形成するシリコンコーティング層及びポリエステ
ル基体層を含むポジ作用乾式版の準備について記述す
る。ニトロセルロースコーティング層は、熱硬化性を有
し、下記表１に従って製作される。

【００６８】

【表１】 ここで用いられているニトロセルロースは、Wilmingto
n, DE.のAqualon Co.,から供給されている３０％イソプ
ロパノール液５−６Ｓｅｃ ＲＳニトロセルロースであ
る。Ｃｙｍｅｌ ３０３は、American Cyanamid Corp.
から供給されているヘキサメトキシメチルメラミンであ
る。

【００６９】ＩＲ吸収化合物は、このベース組成物に添
加されて分散される。下記表２に示す実施例１〜実施例
７において、７種の化合物を下記表２に示す割合で用い
たところ、有用な吸収層生成物が得られた。

【００７０】

【表２】 ここで、ＮａＣｕｒｅ ２５３０は、Norwalk, CT.のKi
ng Industriesから供給されているアミンブロックト−
ｐ−トルエンサルホン酸のイソプロパノール／メタノー
ル混合溶液である。Ｖｕｌｃａｎ ＸＣ−７２は、Walt
ham, MA.のtheSpecial Blacks Division of Cabot Cor
p.から供給されている導電性カーボンブラック顔料であ
る。実施例２で用いたチタンカーバイドは、Charlotte,
NC.のBaikowski International Corp.,から供給されて
いるＣｅｒｅｘサブミクロンＴｉＣ粉末である。Ｈｅｌ
ｉｏｇｅｎ Ｇｒｅｅｎ Ｌ ８７３０は、Holland, M
I.のBASF Corp.,Chemical Divisionから提供されている
緑色顔料である。Ｎｉｇｒｏｓｉｎｅ Ｂａｓｅ ＮＧ
−１（ニグロシンベースＮＧ−１）は、Harrisburg, P
A.のNH Laboratories, Inc.,から粉末として供給されて
いる。酸化タングステン（ＷＯ_2.9）及び酸化バナジウ
ム（Ｖ₆Ｏ₁₃）は、Milwaukee, WI.のCerac Inc.,から粉
末として供給されている。

【００７１】ベース組成物におけるＩＲ吸収剤の添加及
び分散に引き続いて、ブロックト−ＰＴＳＡ触媒を添加
し、得られた混合物を巻線ロッドを用いてポリエステル
基体に塗布した。揮発性溶剤を除去するために乾燥し、
凝固した（乾燥及び凝固機能を呈するラボ用対流オーブ
ン内で３００°Ｆにて１分間）後、コーティングは１ｇ
／ｍ²でデポジットされた。

【００７２】ニトロセルロース熱硬化機構は、２つの機
能、主にポリエステル基体へのコーティングの係止及び
（プレスルーム環境にて特に重要な）増強された溶剤抵
抗を呈する。

【００７３】下記表３に示されている組成のシリコンコ
ーティングを、上述の７実施例に従って製作された各係
止ＩＲ吸収層に塗布した。

【００７４】

【表３】 （これらの組成物は、本願に参照として取り込まれてい
る’０３２号特許、米国特許第５，２１２，０４８号明
細書及び係属中の出願第０８／２２２，５２８号に、そ
の供給源とともにより詳細に記載されている。これらの
明細書には、疎油性層４０８の材料として有用な他のシ
リコン化学式が記載されている。） 上記混合物を巻線ロッドを用いて塗布し、次いで、乾燥
凝固させて、２ｇ／ｍ²の均一なコーティングを製作し
た。次いで、版を結像工程のために準備する。

【００７５】実施例８〜９ 以下、下記表４に実施例８及び９のアルミニウム基板を
使用する版の準備を説明する。

【００７６】

【表４】 Ｕｃａｒ Ｖｉｎｙｌ ＶＭＣＨは、Danbury, CT.のUn
ion Carbide Chemicals & Plastics Co.,から供給され
ているカルボキシ基ビニルターポリマーである。

【００７７】実施例８及び９において、巻線ロッドを用
いて、５ミル(mil）のアルミニウムシート（浄化及び脱
脂されている）を上述のコーティング混合物の一つで被
覆した。次いで、該シートをラボ用オーブン内で３００
°Ｆ、１分間乾燥させて、実施例８の場合には１．０ｇ
／ｍ²の塗布重量、実施例９の場合には０．５ｇ／ｍ²の
塗布重量として製作した。

【００７８】実施例８の場合、乾燥したシートを乾式版
を製作するための前述の実施例で説明したシリコンコー
ティングで再被覆した。

【００７９】実施例９の場合、上述のコーティングは、
プライマー（図１４において層４１０として示されてい
る）として作用する。好ましくは結像放射線を透過する
このコーティング上に、実施例１で説明した吸収層を塗
布し、次いで、この吸収層を上記表３に示すシリコンコ
ーティングで被覆した。結果として、図１４に示す構造
を有する有用な乾式版を得た。

【００８０】実施例１０ 巻線ロッドを用いて、下記表５に示す混合物（水性ウレ
タンポリマー分散媒をベースとする）をアルミニウム７
ミル「フルハード」３００３合金（Brooklyn Heights,
OhioのAll-Foilsから供給されている）に被覆すること
で、別のアルミニウム版を準備した。

【００８１】

【表５】 ＮｅｏＲｅｚ Ｒ−９６０は、Wilmington,MA.のICI Re
sins US,より供給されている水性ウレタンポリマー分散
媒である。Ｃｙｍｅｌ ３８５は、American Cyanamid
Corp.から供給されているメチロールを多く含有するヘ
キサメトキシメチルメラミンである。

【００８２】塗布されたコーティングを３００°Ｆで１
分間乾燥して、塗布重量１．０ｇ／ｍ²を得た。プライ
マーとして作用するこのコーティングの上に、実施例１
で説明した吸収層を塗布し、これを乾燥して塗布重量
１．０ｇ／ｍ²を得た。次いで、この吸収層を表３に示
したシリコンコーティングで被覆して、有用な乾式版を
得た。

【００８３】実施例８で行ったように、プライマー層を
使用しないことも可能であるが、プライマーの使用によ
って、幅広い商業的受容を達成する。感光性乾式版は、
通常、アルミニウム層を下塗りし、次いで感光性層で下
塗りされた層を被覆し、さらにシリコン層を被覆して、
製作する。慣用のリトグラフ版で用いられている下塗り
アプローチもまたこれに関連して作用することが予想さ
れる。

【００８４】実施例１１〜１２ 下記表６に示す実施例１１及び１２において、近赤外領
域において吸収するものとして知られている導電性ポリ
マー分散媒から吸収層を準備した。再度、これらの層を
ポリエステルフィルム基体に接着させるために調剤し、
シリコンコーティングで被覆して、ポジ作用乾式印刷版
を製作した。

【００８５】

【表６】 ICP-117（商標）は、Assonet, MAのPolaroid Corp. Com
mersial Chemicalsより供給されているポリピロールベ
ースの導電性ポリマーである。Americhem Green #34384
-C3（商標）は、Cuyahoga Falls, OHのAmerichem Inc.,
から供給されているポリアニリンベースの導電性コーテ
ィングである。

【００８６】巻線を用いて各混合物をポリエステルフィ
ルムに塗布して、乾燥させて、２ｇ／ｍ²でデポジット
された均一なコーティングを製作した。

【００８７】実施例１３〜１４ 下記表７に示される実施例１３及び１４は、顔料よりも
むしろＩＲ吸収染料を含有する吸収層の使用を説明す
る。よって、実施例５にて与えられたニグロシン化合物
は、ここでは固体形態にて利用される。

【００８８】

【表７】 Ｐｒｏｊｅｃｔ ９００ ＮＰ（商標）は、Mancheste
r, 英国のICI Colours& Fine Chemicalsから販売されて
いるＩＲ吸収剤である。ＮｉｇｒｏｓｉｎｅＯｌｅａｔ
ｅ（オレイン酸ニグロシン）は、Harrisburg, PAのN H
Laboratoriesから供給されている３３％ニグロシン溶液
を含むオレイン酸である。

【００８９】各混合物を巻線を用いてポリエステルフィ
ルムに塗布し、乾燥して、１ｇ／ｍ²でデポジットされ
た均一なコーティングを製作した。該コーティングにシ
リコン層を塗布して作用版を製作した。

【００９０】前述の実施例１〜１４のすべてにおいて、
置換されてもよい。例えば、メラミンーホルミアルデヒ
ド架橋剤（Ｃｙｍｅｌ ３０３）は、ブロックト−イソ
シアネート基化合物又は匹敵する溶媒抵抗及び接着特性
を分与するイソシアネート基化合物等の種々のイソシア
ネート基化合物で置換可能である。有用な置換化合物と
しては、Pittsburgh, PAのMobay Chemical Corp.,から
供給されているＤｅｓｍｏｄｕｒ ブロックト−ポリイ
ソシアネート化合物を挙げることができる。前述の実施
例において用いられたもの以外のニトロセルロースのグ
レードもまた有利に用いることができる。許容可能なグ
レードの範囲は、主としてコーティング方法に依存す
る。

【００９１】実施例１５〜１６ 下記表８に示す実施例１５及び１６は、ニトロセルロー
ス以外の高分子に基づくコーティングを与える。該コー
ティングは、ポリエステルフィルムに接着され、シリコ
ンで被覆されて乾式版を製作する。

【００９２】

【表８】 Ucar Vinyl VAGHは、Danbury, CTのUnion Carbide Chem
icals & Plastics Co.,から供給されているヒドロキシ
基ビニルターポリマーである。Saran F-310は、Midlan
d, MI.のDow Chemical Co.,から供給されているビニリ
デンンジクロライドアクリロニトリルコーポリマーであ
る。

【００９３】各混合物を巻線を用いてポリエステルフィ
ルムに塗布し、乾燥して１ｇ／ｍ²でデポジットされた
均一なコーティングを製作する。該コーティングにシリ
コン層を塗布して、作用乾式版を製作する。

【００９４】湿式版を製作するためには、下記表９に示
すように、実施例１６のポリビニリデンジクロライドを
ベースとする高分子をプライマーとして用いて、実施例
１のコーティング上に被覆する。

【００９５】

【表９】 プライマーを前述の成分を化合させることによって準備
し、巻線を用いて実施例１のコーティングに塗布する。
下塗りされたコーティングをラボ対流オーブン中で３０
０°Ｆにて１分間乾燥して、０．１ｇ／ｍ²の塗布質量
を得る。

【００９６】次いで、下記表１０のポリビニルアルコー
ル溶液を用いて、親水性版表面コーティングを作る。

【００９７】

【表１０】 Ａｉｒｖｏｌ １２５は、Allentown,PA.のAir Product
sから供給されている高度に加水分解されたポリビニル
アルコールである。

【００９８】このコーティング溶液を巻線を用いて、下
塗りされて被覆された基体に塗布し、ラボ対流オーブン
中で３００°Ｆにて１分間乾燥する。１ｇ／ｍ²の塗布
質量で、約１０，０００刷可能な湿式印刷版を得る。

【００９９】ポリビニルアルコールは、典型的にはポリ
ビニルアセテート高分子の加水分解により生成されるこ
とに注意していただきたい。加水分解の程度は、耐水性
及び持続性を含む多くの物理特性に影響を与える。よっ
て、適切な版耐性を保証するために、本発明において用
いられるポリビニルアルコールは、高度の加水分解並び
に大きい分子量を表す。効果的な親水性コーティング
は、十分に架橋されて、噴出容器の暴露の結果としての
再溶解を防止するが、さらにフィラーを含有して湿潤化
を促進する表面テクスチャーを生成する。特定の塗布に
対する最適な特性の混合比の選択は、当業者であれば容
易であろう。

【０１００】実施例１７ 直前に示したポリビニルアルコール表面コーティングを
実施例１６に記述された係止コーティングに、巻線を用
いて直接的に塗布し、次いで、ラボ対流オーブン中で３
００°Ｆにて１分間乾燥する。１ｇ／ｍ²の塗布質量
で、約１０，０００刷可能な湿式印刷版を得る。

【０１０１】実施例１６のニグロシンベースＮＧ−１の
代わりに、カーボンブラック（Ｖｕｌｃａｎ ＸＣ−７
２）又はＨｅｌｉｏｇｅｎ Ｇｒｅｅｎ Ｌ ８７３０
を用いて、種々の他の版を仕上げてもよい。

【０１０２】実施例１８ 酸化チタン（ＴｉＯ）の層をポリエステルフィルム上に
スパッタして、６００Åの厚さとし、シリコンで被覆す
る。結果として、ほぼ透過性で結像可能な乾式版を得
る。

【０１０３】さて、図１５を参照すれば、基体層４００
及び表面層４１６を含む２層版の実施例が示されてい
る。この場合において、表面層４１６は、赤外線を吸収
する。この実施例の好ましい乾式版バリエーションとし
ては、ＩＲ吸収顔料又は染料の分散媒を含有するシリコ
ン表面層４１６を含む。米国特許第５，１０９，７７１
号明細書、同第５，１６５，３４５号明細書及び同第
５，２４９，５２５号明細書（いずれも本願出願人によ
る出願であり本願に参照として取り込まれている）に記
載されているスパーク結像工程をアシストするフィラー
粒子を含有する表面層の多くもまた、ＩＲ吸収表面層と
して作用可能である。事実、ＩＲ吸収剤として総合的に
は不適当であるフィラー顔料のみでは、その表面形態
は、高度に反射性の表面となる。よって、ＴｉＯ₂及び
ＺｎＯ等の白色粒子、及びＳｎＯ₂等のオフホワイト化
合物は、その光濃度（light shading）が入射光の有効
な反射に起因し、使用に対する不適当性を証明する。

【０１０４】ＩＲ吸収剤として適当な粒子の中で、存在
する環境内でのパフォーマンスとスパーク放出版フィラ
ーとしての有用性の程度との間には直接的な相関関係は
存在しない。代わりに、スパーク放出結像に有利なよう
に制限された多数の化合物が、ＩＲを良好に吸収する。
半導体化合物は、クラスとして、本発明にとって最良の
パフォーマンス特性を現出する。いかなる特定の理論あ
るいは機構にも束縛されず、導電性バンド内及び導電性
バンドに隣接してエネルギッシュに配置された電極は、
ＩＲを吸収することにより該バンド内に容易に進めら
れ、半導体の公知の性向に一致する機構は、導電性バン
ド内への電極の熱的進入による加熱により増加した導電
性を現出する。

【０１０５】一般に、金属ホウ化物、金属炭化物、金属
窒化物、金属カルボニトライド、ブロンズ型金属酸化
物、及びブロンズ属に構造的に関連するがＡ化合物（例
えば、WO_2.9)を除く金属酸化物が最良である。

【０１０６】ＩＲ吸収は、ＩＲ反射面をＩＲ吸収層（層
４０４又は層４１６でもよい）の下に追加することによ
って、さらに改良される。このアプローチは、吸収層が
部分的に伝達性であるので、入射エネルギーの十分な割
合を吸収できない実施例に対して、最大の改良点を与え
る。図１６は、反射層４１８を層４１６及び４００の間
に挿入した実施例を示す。この層を有する乾式版を製作
するために、好ましくは２００〜７００Åの厚さのアル
ミニウム等の反射性金属の薄い層を直接的に基体層４０
０上に真空蒸着あるいはスパッタリングによりデポジッ
トする。適当なデポジット方法並びに別の材料は、前述
の’０７５特許の図４Ｆの層１７８に関して記述されて
いる。次いで、上述の態様と同様の態様で、シリコンコ
ーティングを層４１８に塗布する。レーザービームの暴
露は、層４１８のアブレーションを引き起こす。類似の
様式において、薄い金属層を図１３に示す版の層４０４
及び４００の間に挿入する。好ましくは結像放射線に対
して透過性であるプライマー層４１０（図１４参照）を
層４１６及び４１８の間に挿入して、これらの接着を改
良することもできる。

【０１０７】この層はアブレートされないので、正確な
厚さは、主に伝達特性及び印刷面として機能することの
必要性によって、決定される。層４１８は、層４１８へ
のほとんどすべての放射線入射を反射しなければならな
い。乾式印刷を支持するために、金属層（上を覆ってい
るＩＲ吸収層が除去されたイメージポイントにて暴露さ
れる）は、インクを受容する。湿式印刷を支持するため
に、金属層は、インクが塗布された場合にインクを弾く
であろう噴出溶液に対する十分に低い親和性を現出す
る。アルミニウムはこれらの特性の両者を与えるので、
湿式版及び乾式版構造体のいずれにおいても用いること
ができる。当業者であれば、アルミニウムに代わる種々
の金属及び合金の有用性を認めるであろう。かような金
属としてはニッケル及び銅を含む。

【０１０８】図２１に示されているこの実施例の高度に
有利なバリエーションにおいて、金属層は、ＩＲ吸収金
属酸化物の薄い層をその上に加えたアブレーション層に
変換される。このタイプの好ましい構造は、基体層４０
０（例えば、７−ミル Ｍｙｌａｒ Ｄ フィルム（商
標）または金属シート）、該基体層の上にデポジットさ
れた金属の層４１８、該金属層４１８の上にデポジット
された金属酸化物層４２５及び表面層４０８を含む。該
表面層４０８は、噴出溶液（例えばポリビニルアルコー
ル）又は撥インク剤（例えばシリコン）を受容してもよ
い。金属層４１８は、好ましくは約７００Å厚さで１．
５〜１．７モー（mho）の導電性を現出するアルミニウ
ムである。金属酸化物層４２５は、好ましくは酸化チタ
ン（TiO）であるが、別のＩＲ吸収性金属（例えば、酸
化バナジウム、酸化マグネシウム、酸化鉄又は酸化コバ
ルト）を用いることもできる。層４２５は、１００〜６
００Åの厚さ、好ましくは２００〜４００Åの厚さに
（例えばスパッタリングによって）デポジットされる。

【０１０９】作動中、金属酸化物層４２５は、ＩＲに暴
露されることで十分に熱くなり、金属層４１８を点火さ
せ、該金属層４１８は金属酸化物層４２５と一緒にアブ
レートする。結果的にに生じる熱放出は、上を覆ってい
る表面層４０８を弱体化させるために十分なほど強いの
で、結像に引き続いて該表面層を除去することが容易に
なる。

【０１１０】図１６に示されている構造の第２のバリエ
ーションにおいて、反射層はそれ自身が基体層であり、
結果的に再度図１５に示されている構造となる。この種
の好ましい構造は、０．００４〜０．０２インチの厚さ
を有する磨かれたアルミニウム基体上に直接被覆された
ＩＲ吸収層４１６を含む。再度、純粋なアルミニウムを
アルミニウム合金あるいは異なる金属（又は合金）で全
体的に置換することができ、印刷表面としての剛性標
準、反射力及び適合性は維持される。さらに、基体層４
００上に層４１６を直接的に被覆する代わりに、２つの
層を’０３２特許に記載されているように一緒に積層す
ることもできる（貼り合わせ接着剤はレーザーアブレー
ションによって除去される）。

【０１１１】金属反射層に代わるものとして、ＩＲを反
射する顔料を含有する層を用いることもできる。再度、
かような層は層４０８若しくは４１６の下に積層され、
あるいは基体層４００として作用する。ＩＲ反射基体と
して使用するに適当な材料として、Wilmington, DE.のI
CI Filmsから供給されているｗｈｉｔｅ ３２９フィル
ム（白色３２９フィルム）を挙げることができ、白色顔
料としてＩＲ反射性硫酸バリウムを利用する。

【０１１２】アルミニウム層上にデポジットするに特に
適するシリコンコーティングは、’０３２特許及び’０
４８特許に記述されている。特に、市販の顔料／ゴム分
散媒を第２の低分子量第２成分と一緒に有利に利用する
ことができる。

【０１１３】実施例１９〜２１ 前述のコーティングの実施例において、カーボンブラッ
ク顔料に基づく顔料／ゴム混合物はすべて、Adrian, MI
のWacker Silicones Corp.から得られる。前記工程にお
いて、コーティングは、’０３２特許及び’０４８特許
に概略が記載されている工程に引き続き、ＰＳ−４４５
及びＣ−９６８、Ｃ−１０２２及びＣ−１１９０の名称
で販売されている分散媒を用いて準備される。下記表１
１に示す成分が、ストックコーティングを準備するため
に利用される。

【０１１４】

【表１１】 次いで、下記表１２に示す割合で成分を調整すること
で、’０３２特許及び’０４８特許に記載されているよ
うに、コーティングバッチが準備される。

【０１１５】

【表１２】 コーティングは、アルミニウム層に真っすぐ塗布され、
有用なＩＲ吸収材料を含有する。

【０１１６】図１６に示されているように配列された金
属層は、十分に薄く作れるのであれば、ＩＲを反射する
よりも吸収することにより結像を支持することができ
る。このアプローチは、層４１６が（図１６にて予期し
たように）ＩＲを吸収する場合、あるいはＩＲを透過す
る場合の両者において価値あるものである。前者の場
合、非常に薄い金属層は（層４１６内に放射線を反射仕
返す代わりに）追加の吸収能を与え、後者の場合には図
１３におけるＩＲ吸収層４０４として機能する。さら
に、このタイプの構造は、多大な可撓性を現出するの
で、版巻装置に良好に適合する。適当な金属層は、完全
な反射性層において有用な２００〜７００Åよりも薄
い。

【０１１７】かような薄い金属層は断続的であってもよ
いので、表面層を他の（非金属）版層に良好に係止する
ために接着促進層を追加するために有用である。かよう
な層の包摂は、図１７に示されている。この構造は、基
体層４００、該基体層４００上の接着促進層４２０、薄
い金属層４１８、及び表面層４０８を含む。適当な接着
促進層は、時々印刷あるいは被覆可能処理と呼ばれる
が、基体として用いられてもよい種々のポリエステルフ
ィルムに備え付けられている。例えば、Wilmington, DE
のE.I.DuPont de Nemours Co.,により販売されているＪ
フィルムが、層４００及び４２０として適切に作用す
る。一般に、層４２０は非常に薄くなるであろうし（厚
さ１ミクロン以下のオーダーである）、ポリエステル基
体に関連して、層４２０はアクリル酸系若しくはポリビ
ニリデンクロライド系をベースとするであろう。

【０１１８】特に好ましいこのタイプの構造において、
少なくとも１つの非常に薄い好ましくはチタンである金
属層（好ましくは２５０Å以下）は、ポリエステル基体
層４００上にデポジットされ疎油性材料（例えば、フル
オロポリマー、あるいは好ましくはシリコン）又は親水
性材料で被覆される。再度、この構造がレーザーパルス
に暴露されることで、薄い金属層をアブレートし、最頂
部層を弱体化し、該最頂部層の係止を破壊し、容易に除
去されやすくする。引き離された最頂部層（及び吸収性
第２層の破壊により残存する残渣）は、結像後の洗浄工
程において除去される。

【０１１９】チタンは他のＩＲ吸収性金属を越える種々
の利点を奏するので、薄い金属層４１８としてチタンが
好ましい。第１に、チタン層は、特にアルミニウム、亜
鉛及びクロム等の金属と比較した際に、取り扱い上の損
傷に対する多大な耐性を現出する。この特性は、層４１
８の上に４１６を被覆する前に層４１８の損傷を引き起
こす製作工程、及び弱い中間層が版寿命を減少させる印
刷工程の両者において、重要である。乾式リトグラフの
場合、チタンはさらに、時間経過により層４１６を通し
て拡散するインク由来溶剤との相互作用に対する耐性を
通じて、版寿命を増長する。有機物層等の他の材料は、
かような溶剤に対する透過性を現出し、版を分解するで
あろう。さらに、チタン層に塗布されたシリコンコーテ
ィングは、低温で早く凝固する傾向を有する（こうし
て、基体層４００に対する熱損傷を避ける）。また低い
触媒レベルを要求し（こうしてポット寿命を改良す
る）、さらに追加の凝固シリコンの場合には「凝固後」
架橋を現出する（例えばニッケルに対してマークされた
対比において、凝固後架橋は現実に初期凝固を阻害す
る）。後者の特性はさらに、より完全に凝固したシリコ
ンは秀逸した耐性を現出し、インク由来溶剤拡散に対す
るさらなる耐性をも与えるので、版寿命を増長する。さ
らに、凝固後架橋は、高速コーティングのための要求
（あるいは基体層４００に対する熱損傷を避けるために
減少された温度にて作業する必要性）は、コーティング
装置上の完全な凝固を実行不可能にする。チタンは、環
境及び安全特性についても利点を与える。チタンのアブ
レーションは、ガス状副生成物の測定可能な放出を産せ
ず、環境暴露は、健康に対する考慮を最小に止める。最
後に、他の多くの金属同様、チタンもデポジット工程中
（真空蒸着、電子ビーム蒸着あるいはスパッタリング）
の酸素との相互作用を示す傾向にある。しかしながら、
ほとんどこの態様にて形成されるべきものである低価チ
タン酸化物（特にＴｉＯ）は、近赤外結像放射線の強い
吸収を示す。対比すれば、アルミニウム酸化物、亜鉛酸
化物及びビスマス酸化物は、かような放射線をあまり吸
収しない。

【０１２０】この実施例において使用するために好まし
いポリエステルフィルムは、デポジットされた金属が良
好に接着する表面を有し、且つ版胴の表面上に巻き付き
やすい実質的な可撓性を現出する。好ましいポリエステ
ル材料の有用なクラスは、Wilmington, DEのICI Films
から販売されているＭＥＬＩＮＥＸ ４２２製品、及び
Greer, SC.のHoechst-Celaneseから販売されている３９
３０フィルム製品により例示された変更されていないフ
ィルムである。用いられている金属に依存する利点もま
た、ポリエステル材料が、上述の表面接着特性を増強す
べく変更されているというものである。このタイプの適
当なポリエステルは、ＩＣＩ ＭＥＬＩＮＥＸ ４５３
製品を含む。これらの材料は、本願での好ましい金属で
あるチタンを、特性の損失なしに受け入れる。対比すれ
ば、他の金属は、金属及びポリエステル間の互換性を作
るために、ポリエステルフィルムの慣習的な予備処理を
要求する。例えば、ビニリデンジクロライドをベースと
する高分子は、しばしばアルミニウムをポリエステル上
に係止するために用いられる。

【０１２１】プレスの版胴に個々独立に載置されている
版を含む伝統的な適用にとって、接着促進表面はさらに
（又は択一的に）版胴と一緒にポリエステルフィルムの
側に存在することもできる。版胴は、しばしば、接着促
進表面が高い静止摩擦係数を示して実際の印刷中に版が
滑る可能性を減少する材料から作られる。ＩＣＩ ５６
１製品及びＤｕｐｏｕｎｔ ＭＹＬＡＲ Ｊ１０２フィ
ルムは、両者の表面に塗布された接着促進コーティング
を有するので、この環境に良好に適する。

【０１２２】しかしながら、自動化版材料分配装置を含
む適用にとっては、版胴周囲に材料を巻き付ける容易さ
は、等しく重要な考慮事項となり、版胴に関する低い動
摩擦係数を有する材料の使用が有利である。動きに対し
て過度の抵抗を示す結果となる場合には、接着促進表面
はポリエステル外表面上で使用されるべきではない。他
方、帯電防止処理は、（変更を加えられていないポリエ
ステルに比較して）多くの表面に関する動きに対する抵
抗の有益な減少を分与することもできる。これは、版胴
に沿う自由動程を遅らせる静電気を蓄積することができ
る半導体層を特徴とする版構造にとって、特に言えるこ
とである。静電防止ポリエステルフィルムの例として
は、Ｄｕｐｏｎｔ ＭＹＬＡＲ ＪＸＭ３０１製品及び
ＪＭＸ５０２製品を挙げることができる。後者のフィル
ム（ＪＭＸ５０２）は、裏面に接着促進処理剤を含む。

【０１２３】実行可能な範囲において理想的には、版胴
及び該版胴に接触するポリエステル表面は、低い動摩擦
係数であるが高い静止摩擦係数を与えるように合致して
いる。このため、版胴の特定のタイプに関するいかなる
表面処理でも動的挙動及び静的挙動の両者を考慮するこ
と、及び変更を加えられていない表面に対するこの挙動
を評価することが重要である。

【０１２４】金属層４１８は、好ましくは０．２〜１．
０の範囲の光学密度、特に好ましくは０．６の光学密度
でデポジットされる。しかしながら、２．５よりも高い
光学密度により特徴づけられるより厚い層をもまた有利
に用いることができる。この光学密度の範囲は、一般に
２５０Å以下の厚さに対応する。チタンが層４１８とし
て好ましいけれども、チタン合金もまた有利に用いるこ
とができる。さらにチタン又はチタン合金は、より低価
のチタン酸化物と一緒に用いることができる。

【０１２５】チタン等の金属は、スパッタリング、電子
ビーム蒸着及び真空蒸着等の公知のデポジット技術によ
り利便に塗布されてもよい。ポリエステル表面の状態に
依存して、デポジットする前にポリエステルに変更を加
えるために用いることができる技術（例えば、グロウ放
電及びバックスパッタリング）を容易に同時進行可能で
あるという点で、スパッタリングが特に有利であること
が証明できる。

【０１２６】結像速度及びレーザーパワーに関する設備
に依存して、結像パルスとの相互作用を増加するため
に、反射防止層を上層に有する金属層を与えることが有
利であることが証明できるであろう。金属の屈折率との
組み合わせにおいて、反射防止材料の屈折率は、反射を
凌ぐレーザー浸透に有利な界面状態を作り出す。適当な
反射防止材料は、公知のものでよく、種々の誘電体（例
えば金属酸化物及び金属塩化物）を含む。マルチターゲ
ット技術によって金属及び反射防止コーティングの両者
を同じチャンバ内で塗布できるので、スパッタリングに
適用しやすい材料は、かなり製造しやすい。

【０１２７】コーティング層４１６としては、乾式版構
造に対してはシリコン組成物、湿式版の場合にはポリビ
ニルアルコール組成物を好ましく挙げることができる。
好ましいシリコンの化学式は、実施例１〜７に関して既
に記述しているもので、塗布されて２g/m²にデポジット
された均一なコーティングを製作する。コーティング層
４１６の金属層４１８に対する係止は、シリコンコーテ
ィングに対してはシラン組成物、ポリビニルアルコール
コーティングに対してはチタン酸塩（チタネート）組成
物等の接着促進剤の添加によって改良することができ
る。

【０１２８】前述の構造は、自動化分配装置に適用され
た版材料に良好に適するが、さらに、例えば金属支持体
又は重いプラスチック支持体（例えば７ミルのポリエス
テル）に接着された比較的薄い（例えば０．５〜３ミ
ル）ポリエステルフィルムを用いる合成ラミネート設計
にも利用することもできる。典型的な生産連続工程にお
いて、２ミルのポリエステルフィルムは、チタンで被覆
され続いてシリコンで被覆され、その後、被覆されたフ
ィルムは所望の版全体の厚さに適当な厚みを有するアル
ミニウムベースの上に積層される。

【０１２９】積層された層状組織は、多くの利点を与え
る。第一に、完成した構造体の剛性及び反射特性追加能
がある。層状組織は、不完全な表面を含むかもしれない
容易に入手可能な重い支持層の使用を助長する。もし、
かような支持体を基体層４００として直接的に使用する
のであれば、傷物を除去するために特別に処理された高
価な材料を用いることが必要となる。第二に、支持層
は、吸収層及び該吸収層の下の層を通過してしまった吸
収されなかった結像放射線を反射する作用をすることが
できる。例えば、近赤外線結像放射の場合には、支持体
に積層されたアルミニウム（及び部分的に磨かれたアル
ミニウム）は、高い有利な反射性を与える。この場合
に、基体層４００、積層する接着層、並びに吸収層及び
積層された支持体（例えばプライマーコート）の間の他
のいかなる層も、結像放射線に対して十分に透過性とす
べきである。加えて、基体層４００は比較的薄くすべき
であるので、ビームエネルギー密度は、反射支持体に衝
突する前に発散により消失することはない。上述のレー
ザー設備に関する正確な操作のために、例えばポリエス
テル基体は、２ミル未満の厚さであることが好ましい。

【０１３０】反射性積層支持体の使用は、チタン吸収層
を有する版の場合に特に有用である。というのも、チタ
ン吸収層は、十分な性能のために要求された光学密度に
て、入射結像放射線の少なくともいくらかを通過させる
傾向にあるからである。さらに、チタンは、加圧及び加
熱にもかかわらず、下及び上に積層する層に対する接着
を維持する層状組織に良好に対応することが見出されて
いる。

【０１３１】適当な積層技術は、当業界において特徴づ
けられており、例えば’０３２特許にも記載されてい
る。本発明の印刷部材の製作において、基体層４００及
び支持体用の材料をロール（ウェブ）形態で利用するこ
とが好ましい。したがって、ロールニップ積層工程が好
ましい。この製作連続工程において、結合されるべき片
面又は両面は、貼り合わせ接着剤で被覆され、次いで、
該表面は、圧力下、及びもし適当であれば加熱下にて、
一緒に円筒状の積層ロールの間のニップに引き入れられ
る。

【０１３２】貼り合わせ接着剤は、反応していない状態
での表面に塗布することができ、該表面が第２の表面と
の接触点に引き込まれた後、自発的にあるいは外部の影
響下のいずれかで反応する材料である。この点に関し
て、貼り合わせ接着剤は、本発明の環境に適する特性を
所有していなければならない。上述したように、接着剤
は結像放射線を吸収してはならず、反射させ且つ吸収の
結果としての熱損傷を避けなければならない。これは、
以下に述べるように、近赤外線結像放射線について容易
に達成される。別の有用な特性は、基体層４００の屈折
率とあまり違わない屈折率であり、前述したように、該
屈折率は結像放射線に対して十分に透過性でなければな
らない。

【０１３３】一実施例において、貼り合わせ接着剤は、
熱的に活性化されており、加熱により流れ可能（熔融さ
れた）状態に精錬された固体材料からなり、再凝固の結
果、接着剤がサンドイッチされている層（例えば、基体
層４００と支持体）の間の結合を生じる。熱は、積層ニ
ップを形成する２つのローラーの少なくとも１つによっ
て与えられ、ニップに先行する予備加熱によって増やさ
れてもよい。ニップはさらに、エアポケットを排斥し、
接着剤の流れを促進して、結合されるべき層の間の均一
な接触エリアを作り出す圧力を与える。

【０１３４】第１のアプローチにおいて、接着剤は、結
合されるべき２つの表面の一方又は双方に固体として
（例えば、連続的なコーティングに熱的に熔融される粉
末として、または塗布に続いて固体状態に凝固される流
体成分の混合物として）塗布されてもよい。例えば、固
体接着剤は、好ましくは０．５〜１．０ミルの厚さに、
高められた温度にて押し出されたコーティングを介し
て、熔融物として塗布されてもよい。塗布に引き続い
て、接着剤は冷却され再凝固される。このアプローチに
適当な接着剤としては、ポリアミド、エチレン及びビニ
ルアセテートのコポリマー、及びエチレン及びアクリル
酸のコポリマーを挙げることができる。化学的な変化及
び特定の適用に接着剤を理想的に適応させる添加剤を含
む特定の化学式は、当業界で良好に特徴づけられてい
る。

【０１３５】第２のアプローチにおいて、接着剤は水に
浮く組成物として塗布される。この場合には、塗布表面
を処理して、湿潤化及び水に浮く材料の接着を促進する
ことが有用であろう。例えば、ポリエステル基体層４０
０の場合には、かような貼り合わせ接着剤を受け入れる
ために、ポリビニルアルコールジクロライドをベースと
する１以上の高分子で予め処理することにより、湿潤度
を改良することもできる。

【０１３６】第３の好ましいアプローチにおいて、接着
層は、結合されるべき２つの表面の１又は両者の上に固
体からキャストされる。この技術は、広範囲にわたる塗
布された層の厚さ全体の実質的な制御を助長し、結果的
に、塗布される表面上に良好に全体にわたる表面接触及
び湿潤を生じる。このタイプの接着剤は、架橋成分を含
み、より強いバンドを形成するので、凝集性の強さを改
良し、並びに（熱性水酸基との反応を介して、ポリエス
テル基体層４００及び／又は重いポリエステル支持体等
の高分子層に対して、任意に）少なくとも１つの結合さ
れるべき表面に対する接着剤の化学結合を促進する。ア
ルミニウムに対して接着剤を化学的に結合させるため
に、該接着剤を反応性シラン（すなわち、シラン接着促
進剤）を含むように形成することもできる。

【０１３７】キャストされるであろう貼り合わせ接着剤
の１つの有用な属は、溶媒溶液として塗布されるポリエ
ステル樹脂をベースにしており、架橋成分を含む。この
ような組成物の有用な例を下記表１３に示す。

【０１３８】

【表１３】 Ｖｉｔｅｌ ３５５０は、Akron, OHのShell Chemical
Co.,から供給されているポリエステル樹脂である。Ｍｏ
ｎｄｕｒ ＣＢ−７５は、Pittsuburgh, PA.のMobay Ch
emical Corp.,から供給されているイソシアネート架橋
剤である。

【０１３９】この組成物を上述のチタンで金属化されシ
リコンで被覆されたポリエステルフィルムの未処理側に
塗布し、MEK溶剤を熱及びエアフローを用いて蒸着す
る。湿潤塗布速度は、最終的に乾燥して得られた質量が
１０±ｇ／ｍ²となるように選択することが好ましい。
しかしながら、広範囲の塗布質量が満足できる結果をも
たらすことが強調されるべきである。ある所定の塗布に
ついての最適な質量は、支持体及び基体層４００として
選択された材料に主に依存するであろう。

【０１４０】接着剤が被覆されたフィルムは、好ましく
は加熱及び圧力下でロールニップ積層を用いる所望の厚
さのアルミニウム基体に、積層される。

【０１４１】熱的に活性化された貼り合わせ接着剤の代
わりに、感圧接着剤（ＰＳＡ）のクラスを用いてもよ
い。これらは、典型的には溶媒からの基体層４００の未
処理側上へのキャストであり、乾燥されて溶媒を除去
し、最終的に圧力下で支持体に積層される。例えば、上
述のロールニップ積層工程をローラーのいずれかに熱を
かけずに利用することもできる。熱的に活性化された接
着剤の場合におけるように、塗布後の架橋可能性を含む
こともでき、表面間の結合及び表面に対する接着剤の結
合を改良する。さらに基体層４００への塗布に加えて、
あるいは基体層４００への塗布に代えて、接着剤を支持
体に塗布することもできる。ＰＳＡに添加剤を加えて、
支持体への接着、基体層４００への接着、若しくは両者
への接着を促進することもできる。

【０１４２】熱的に活性化された接着剤同様、ＰＳＡも
また固体として、水に浮く組成物として、あるいは溶剤
からのキャストとして、塗布することができる。再度、
湿潤度を増強するための塗布表面の予備処理が有利であ
ることが証明されるであろう。

【０１４３】図１７を参照して、非常に薄い金属層単独
で不十分な吸収能を与える表面層４０８におけるＩＲ吸
収能の必要性を除去するために、構造体に近赤外線吸収
層を加えることが可能であることに注意されたい。さ
て、図１８を参照すれば、かような構造体が示されてい
る。上述されたように、ＩＲ吸収層４０４は表面層４０
８の下及び非常に薄い金属層４１８の上に導入されてい
る。結像中にレーザー放射線によりアブレートされる層
４０４及び４１８は、レーザー放射線を吸収し濃縮する
ために共働し、こうしてそれぞれ自身の効果的なアブレ
ーションを確実にする。上述したように逆転方向に結像
されるべき版にとって、層４１８及び４０４の相対位置
を反転することができ、層４００を透過性とするように
選択することができる。かような選択は図１９に示され
ている。

【０１４４】種々の製作連続工程を図１３〜図１９に示
す版を準備するために有利に用いることができる。１つ
の典型的な連続工程において、基体層４００（例えばポ
リエステル又は導電性ポリカーボネートでもよい）は、
金属化されて反射層４１８を形成し、次いで、シリコン
又はフルオロポリマー（いずれもＩＲ吸収顔料の分散媒
を含有していてもよい）で被覆されて表面層４０８を形
成する。これらの工程は、例えば’３４５特許の図４Ｆ
及び４Ｇに記載されているように行われる。

【０１４５】あるいは、バリアシートを表面層４０８に
加え、残りの版層を該シートに構築することもできる。
バリアシートは、本発明に関して有用な多くの機能を呈
する。第一に、前述したように、レーザー放射線に対す
る暴露により弱化された表面層４０８の部分は、結像さ
れた版を印刷に用いる前に除去されなければならない。
両面結像装置を用いるならば、表面層４０８の放射線に
対する暴露は、結果的に、バリアシートの内側面上に表
面層の溶融デポジットすなわち転写を引き起こす。引き
続いてバリアシートを剥がすことで、表面層４０８の余
分な部分を除去することができる。バリアシートはさら
に、（’０３２特許に記載されているように）版が金属
ベースを含有するようにされていて、よって版が直接金
属コイル上に多量に作られ、ロール形態に保存される場
合、この場合には、表面層４０８は金属コイルとの接触
により損傷を受けるのであるが、にも有用である。

【０１４６】参照番号４２７で示されているかようなバ
リアシートを含む典型的な構造は、図２０に示されてい
る。しかしながら、バリアシート４２７は本願において
記述されている実施例に示す版のいずれとも一緒に利用
できることを理解していただきたい。バリアシート４２
７は、好ましくは平滑であり、表面層４０８に弱く接着
されているだけであり、好ましい厚さにて手でうまく剥
がすことができるほど十分に強度があり、表面層４０８
の塗布に関連する熱処理工程に耐えるほど十分に耐熱性
である。主に経済的理由により、好ましい厚さは０．０
００２５〜０．００２インチである。バリアシートとし
てポリエステルを用いているが、好ましい材料として
は、ポリエチレン又はポリプロピレン等のポリオレフィ
ンを用いることもできる。ただし、かような材料は低い
耐熱性及び低い強度を有するので、より厚いシートの使
用が必要である。

【０１４７】バリアシート４２７は、表面層１０８が凝
固した後に塗布することができる。この場合には、バリ
アシートの耐熱性は重要ではない。あるいは凝固する前
に塗布する場合には、例えばバリアシート４２７をまだ
凝固していない層４０８の上全体に置き、化学線を通過
させることで、層４０８を凝固させる。

【０１４８】説明したきた構造体を製作する一つの方法
は、バリアシート４２７をシリコン材料（上述したよう
に、ＩＲ吸収顔料を含有してもよい）で被覆して層４０
８を作り出す。次いで該層４０８を金属化し、結果的に
得られた金属層を基体層４００に被覆若しくは接着す
る。このアプローチは、不要なテクスチャーを分与する
であろう高濃度の分散媒を含有する表面層の平滑度を達
成するために特に有用である。

【０１４９】本願明細書において用いられている語彙
は、本発明の特徴を具体的に説明するために用いられて
いるものであり、本発明の特徴をこれらに限定するもの
ではない。本願において請求されている発明の精神を逸
脱しない限りにおいて、種々の変更が可能であることに
留意していただきたい。

【０１５０】

【発明の効果】本発明によれば、レーザービームのアブ
レーション効率を増強することができる材料を印刷部材
に用いているので、非常に多くの用途に用いることがで
きる結像装置用の種々の印刷版を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明による結像装置の斜め方向の書
き込み列と結合した状態で操作される円筒状の実施例の
等尺図である。

【図２】図２は、図１に示された実施例の操作の機構を
より詳細に説明する概略図である。

【図３】図３は、本発明による結像用の書き込み列の前
端面図であり、ここで結像要素は斜め方向列状態に並べ
られている。

【図４】図４は、本発明による結像装置の斜め方向書き
込み列と結合した状態で操作される円筒状の実施例の等
尺図である。

【図５】図５は、本発明の結像装置用の書き込み列の前
方の等尺図であり、ここで結像要素は直線列状態に並べ
られている。

【図６】図６は、図５に描かれた書き込み列の側面図で
ある。

【図７】図７は、線形レンズ列を有する平台型結像装置
の実施例の等尺図である。

【図８】図８は、線形レンズ列を有する内部ドラム型結
像装置の実施例の等尺図である。

【図９】図９は、リモートレーザー及びビームガイド装
置の切断図である。

【図１０】図１０は、印刷版の表面上に光ファイバーか
らのレーザービームを焦点合わせするためのレンズ要素
の拡大一部切断図である。

【図１１】図１１は、一体型レーザーを有するレンズ要
素の拡大切断図である。

【図１２】図１２は、本発明と共に用いるのに適当なレ
ーザー駆動回路の概略回路図である。

【図１３】図１３は、本発明によるイメージ可能なリト
グラフ版を示す拡大断面図である。

【図１４】図１４は、本発明によるイメージ可能なリト
グラフ版を示す拡大断面図である。

【図１５】図１５は、本発明によるイメージ可能なリト
グラフ版を示す拡大断面図である。

【図１６】図１６は、本発明によるイメージ可能なリト
グラフ版を示す拡大断面図である。

【図１７】図１７は、本発明によるイメージ可能なリト
グラフ版を示す拡大断面図である。

【図１８】図１８は、本発明によるイメージ可能なリト
グラフ版を示す拡大断面図である。

【図１９】図１９は、本発明によるイメージ可能なリト
グラフ版を示す拡大断面図である。

【図２０】図２０は、本発明によるイメージ可能なリト
グラフ版を示す拡大断面図である。

【図２１】図２１は、本発明によるイメージ可能なリト
グラフ版を示す拡大断面図である。

【符号の説明】

４００：基体層 ４０４：赤外線吸収層 ４０８：表面コーティング層 ４１０：プライマー ４１６：表面層 ４１８：金属層 ４２０：接着促進層 ４２５：金属酸化物層 ４２７：バリアシート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 レナード・ホリー アメリカ合衆国ノース・カロライナ州 28105，ウォーカータウン，キャンプ・ ベティー・ハスティング・ロード 4163

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ａ．最頂部の第１の層； ｂ．少なくとも１つの低級酸化チタンと混合していても
   よいチタンあるいチタン合金からなり、該第１の層の下
   に敷かれている薄い金属層； ｃ．該金属層の下に敷かれている基体層を備え、 ｄ．該金属層は、結像放射線をアブレーション的に吸収
   し、該第１の層は該放射線をアブレーション的に吸収せ
   ず、 ｅ．該第１の層及び該基体は、インク及びインク不溶性
   流体からなる群より選択される少なくとも１つの印刷液
   体に対する異なる親和性を現出する、ことを特徴とする
   レーザー放射により直接結像可能なリトグラフ印刷部
   材。
2. 【請求項２】 前記金属が、 （i）２５０Å未満の厚さ、 （ii）０．２〜１．０の範囲の光学濃度、又は （iii）２．５以下の光学濃度のうち少なくとも１つの
   状態にデポジットされていることを特徴とする請求項１
   のリトグラフ印刷部材。
3. 【請求項３】 前記第１の層が、疎油性であることを特
   徴とする請求項１のリトグラフ印刷部材。
4. 【請求項４】 前記第１の層がシリコンをベースとする
   コーティングであることを特徴とする請求項３のリトグ
   ラフ印刷部材。
5. 【請求項５】 前記シリコンをベースとするコーティン
   グが、少なくとも１つのシラン接着促進剤により前記金
   属層に係止されていることを特徴とする請求項４のリト
   グラフ印刷部材。
6. 【請求項６】 前記第１の層が、親水性であることを特
   徴とする請求項１のリトグラフ印刷部材。
7. 【請求項７】 前記基体層が、第１表面及び第２表面を
   備え、該表面のうち少なくとも１つは接着性を改良する
   ように変更を加えられていることを特徴とする請求項１
   のリトグラフ印刷部材。
8. 【請求項８】 前記基体層が、第１表面及び第２表面を
   備え、該表面のうち少なくとも１つは帯電性を減少させ
   るように変更を加えられていることを特徴とする請求項
   １のリトグラフ印刷部材。
9. 【請求項９】 前記基体層が、第１表面及び第２表面を
   備え、該第１表面は接着性を改良するように変更を加え
   られており、該第２表面は帯電性を減少させるように変
   更を加えられていることを特徴とする請求項１のリトグ
   ラフ印刷部材。
10. 【請求項１０】 さらに、前記金属層及び第１の層の間
    に反射防止層を備えることを特徴とする請求項１のリト
    グラフ印刷部材。
11. 【請求項１１】 さらに、前記基体が積層されている金
    属またはプラスチックの支持体を備えることを特徴とす
    る請求項１のリトグラフ印刷部材。
12. 【請求項１２】 前記支持体が金属であり、結像放射線
    を反射することを特徴とする請求項１１のリトグラフ印
    刷部材。
13. 【請求項１３】 前記金属が、アルミニウム又はアルミ
    ニウム合金であることを特徴とする請求項１２のリトグ
    ラフ印刷部材。
14. 【請求項１４】 前記基体が、結像放射線をほとんど透
    過する貼り合わせ用接着剤で、金属支持体に貼り合わさ
    れていることを特徴とする請求項１１のリトグラフ印刷
    部材。
15. 【請求項１５】 さらに、前記金属層及び基体層の間に
    プライマーコーティングを備え、該プライマーコーティ
    ングは結像放射線をほとんど透過することを特徴とする
    請求項１２のリトグラフ印刷部材。