JPH03197190A - レーザー製版用オフセット印刷原板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はレーザー製版用オフセット印刷原版に関し、詳
しくは高エネルギー光によって精細なオフセット印刷版
が得られるレーザー製版用オフセット印刷原版に関する
。

［従来の技術］ 印刷方式としては大別して、凹版、平版（オフセット）
及び凹板（グラビア方式を含む）が知られ採用されてい
るが、オフセット印刷が製版及び印刷のしやすさをはじ
め、装置も他に比べて安価である等の理由から、近時、
印刷の分野で伸長している。特に事務用印刷においては
オフセット印刷は最も有効である。

オフセット印刷版の製版は、感光剤を塗布したアルミニ
ウム板、亜鉛板などの版材にスクリーンを密着させ、こ
れに画像照射を行い、続いて現像・親水化処理を施すと
いう手段、電子写真感光体を版材とし、帯電、露光、現
像後親水化処理を施すという手段が採用されている。し
かし、この従来から行われているオフセット製版法では
、例えばコンピューターなどに蓄積されている印刷情報
や、スキャナーで読み取った情報、原版から直接オフセ
ット印刷版を作ることはできない。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明はコンピューターなどに蓄積された印刷情報、原
稿などから直接オフセット印刷版が得られるレーザー製
版用オフセット印刷原版を提供しようとするものである
。更に非常に簡便な構成で、安価なレーザー製版用オフ
セット印刷原版を提供しようとするものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明者らはオフセット印刷原版並びにその製版法につ
いて鋭意研究、検討を行い、結晶性高分子の薄膜を融点
以上まで昇温し、その後冷却速度を変化させて冷却する
ことにより結晶化度が可逆的に変化し、結晶度の大きい
状態と小さい状態とでは表面形状が変化しそれに伴い接
触角が変化し、濡れ性が変化すること見出し本発明に至
った。

更に光吸収、特にＬＤ光を吸収する物質と組み合わせる
ことにより、ＬＤ光で製版が容易にできることを見出し
た。

すなわち本発明のレーザー製版用オフセット印刷版は、
基板上に温度変化により結晶化度が変化する結晶性高分
子物質からなる画像形成層を有し、かつ光吸収性物質が
該画像形成層中又は基板と画像形成層との間の別層中に
含有されてなるレーザー製版用オフセット印刷原版であ
る。この印刷原板は温度変化による結晶性高分子物質の
結晶化度の変化に伴い、表面形状が変化する。

本発明で使用される結晶性の高分子物質としてはフッ化
ビニリデンと三フッ化エチレンとの共重合体、フッ化ビ
ニリデンと四フッ化エチレンとの共重合体、フッ化ビニ
リデンとへキサフルオロアセトンとの共重合体、フッ化
ビニリデンと四フッ化エチレン及び六フッ化プロピレン
との共重合体、フッ化ビニリデン、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド
、塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレンオキシド、ポリイ
ミド、ポリビニルカルバゾール、エチルセルロース、酢
酸セルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロ
リドン等がある。更に「高分子の分子物性　上」（化学
同人出版）に記載されている結晶性高分子物質も使用す
ることができる。

本発明で使用される光吸収性物質としては、シアニン色
素、スクワリリウム色素、メチン系色素、ナフトキノン
系色素、キノンイミン系色素、キノンジイミン系色素、
フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ジチオー
ル金属錯体色素、アントラキノン系色素、アゾ系色素、
トリスアゾ系色素、ピリリウム塩系色素、アミニウム環
系色素等の赤外線吸収色素があり、特にシアニン色素、
フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ジチオー
ル金属錯体色素が分子吸光係数が大きく効果的である。

この赤外線吸収色素の代表例の幾つかは下記（化合物Ｎ
　ｏ、　１−　Ｎ　ｏ、１３）のとおりである。

更に光吸収性物質として、Ｃｒｓ　Ｇｅ、Ｐｔ。

Ｎ　ｉＳＴ　ｔ　％　Ｓ　ｔ　ｓ　Ａ　１　ｓニクロム
等の金属材料も使用することができる。

又基板としてはポリエステル、ポリエチレン、塩化ビニ
ル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリイミド等のプラスチ
ックフィルム、アルミニウム板、ステンレス板等の金属
板が使用できる。

［実施例］ 以下、実施例によって本発明を具体的に説明する。

実施例１ 本発明のレーザー製版用オフセット印刷原版について代
表的な結晶性高分子物質であるフッ化ビニリデンと三フ
ッ化エチレンを使用した例で説明する。

フッ化ビニリデンと三フッ化エチレンとの共重合体［以
下Ｐ　（ＶＤＰ／ＴｒＰＥ）とするコ　（共重合比６０
／　４０、（仏）アトケム社製）をテトラヒドロフラン
に溶解し、ガラス基板上にスピンコード法で製膜し、乾
燥後オーブン中でＰ　（ＶＤＦ／ＴｒＰＥ）の融点（１
４８，６℃：ＤＳＣで測定）以上に加熱し、直ちに水中
に入れ急冷した試料と、室温まで徐冷した試料を作製し
た。

急冷した試料、除去した試料のＸ線回折を測定した結果
をそれぞれ第１図及び第２図に示す。徐冷した試料の方
が２０−１９°付近のピーク強度が強く、結晶化度が大
きくなっていることが判る。

次に表面状態を顕微鏡で観察すると徐冷した試料は細か
な結晶の分散が見られ、一方急冷した試料では平らの状
態で異質な物は見れられなかった。

触針式の段差針（Ｄｅｋｔａｋ　ＩＩ　）を使用し表面
の凹凸を調べてみると徐冷した試料は第４図に示すよう
に凹凸が激しく、急冷した試料は第３図に示すようにほ
ぼ平らで凹凸は観測されなかった。

液滴法で水に対する接触角を測定したところ（室温、１
分後）徐冷した試料では８７＠急冷した試料では５５°
であった（それぞれ５回の平均値）。徐冷によって接触
角に変化が現れることが確認できた。なおこの変化は融
点以上に加熱した後の冷却速度を変化させることにより
任意の状態に可逆的に変化させることができる。

実施例２ Ｐ　（ＶＤＦ／ＴｒＰＥ）　　（共重合比８５／　３５
、（仏）アトケム社製）９７重量部、光吸収性物質とし
てナフタロシアニン色素（化合物魔７）３重量部をテト
ラヒドロフランに溶解し、７５μｍ厚のポリイミドフィ
ルム（東し製）上にドクターブレードで塗布し、１０μ
ｍ厚の画像形成層を設けた。次にオーブン中で１５０℃
に加熱し、２〜ｂ そのように処理した試料に半導体レーザー光（発振波長
７ＢＯｒ＋＠）をビーム径３μｍに絞り照射光強度６ｍ
Ｗで照射したところ、照射部分は非晶質になっていた。

常法に従い、オフセット印刷に供したところ、良好な印
刷適正を示した。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明の材料によってレーザーを
照射するだけで簡単にオフセット版を作製することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図は実施例に記載の試料を溶融状態から急冷した場
合のＸ線回折図、 第２図は同試料を溶融状態から徐冷した場合のＸ線回折
図、 第３図は第１図の試料と同じ試料の表面性を測定した結
果を示すグラフ、 第４図は第２図の試料と同じ試料の表面性を測定した結
果を示すグラフである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基板上に温度変化により結晶化度が変化する結晶性高分
   子物質からなる画像形成層を有し、かつ光吸収性物質が
   該画像形成層中又は基板と画像形成層との間の別層中に
   含有されてなることを特徴とするレーザー製版用オフセ
   ット印刷原版。