JPH05138848A - レーザー製版用オフセツト印刷版 - Google Patents
レーザー製版用オフセツト印刷版Info
- Publication number
- JPH05138848A JPH05138848A JP33572791A JP33572791A JPH05138848A JP H05138848 A JPH05138848 A JP H05138848A JP 33572791 A JP33572791 A JP 33572791A JP 33572791 A JP33572791 A JP 33572791A JP H05138848 A JPH05138848 A JP H05138848A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 コンピューターなどに蓄積された印刷情報や
スキャナーで読み取られる情報から、あるいは原版等か
ら直接オフセット印刷版が簡便に得られるレーザー製版
用オフセット印刷原版の提供。 【構成】 少なくとも表面が親水性である基板上に、画
像形成層が設けられており、該画像形成層は（ａ）レー
ザー光を吸収する色素、（ｂ）熱可塑性樹脂および
（ｃ）有機溶剤に可溶な低分子有機化合物を主成分とす
る層であることを特徴とするレーザー製版用オフセット
印刷版。
スキャナーで読み取られる情報から、あるいは原版等か
ら直接オフセット印刷版が簡便に得られるレーザー製版
用オフセット印刷原版の提供。 【構成】 少なくとも表面が親水性である基板上に、画
像形成層が設けられており、該画像形成層は（ａ）レー
ザー光を吸収する色素、（ｂ）熱可塑性樹脂および
（ｃ）有機溶剤に可溶な低分子有機化合物を主成分とす
る層であることを特徴とするレーザー製版用オフセット
印刷版。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、ダイレクト製版が可能なレーザ
ー製版用オフセット印刷版に関する。
ー製版用オフセット印刷版に関する。
【０００２】
【従来技術】印刷方式としては、大別して凹版、平板
（オフセット）及び凸版（グラビア方式を含む）が知ら
れているが、オフセット印刷が製版及び印刷のしやすさ
をはじめ、装置も他に比べて安価であること等から近
時、そのシェアーを伸ばしている。特に事務用印刷にお
いて、オフセット印刷は最も有利である。オフセット印
刷版の製版は、感光剤を塗布したアルミニウム板、亜鉛
板などの版材にスクリーンを密着させ、これに画像照射
を行ない、続いて、現像、親水化処理を施こすという手
段あるいは、電子写真感光体を版材とし、帯電、露光、
現像後、親水化処理を施こすという手段が採用されてい
る。しかし、これら従来から行なわれているオフセット
製版法では、例えばコンピューターなどに蓄積されてい
る印刷情報やスキャナーで読み取った情報から、あるい
は原版から直接オフセット印刷版を作ることはできな
い。最近直接オフセット印刷版を作る方法として特開昭
６４−４０３９２が公開されているが、画像形成層を形
成する主成分の１つとして一般の有機溶剤に難溶なワッ
クスを用いているため、制御、維持管理等が困難なホッ
トメルトコーターを使用している。さらに溶融させるた
めに材料の選択範囲にも制限がある。
（オフセット）及び凸版（グラビア方式を含む）が知ら
れているが、オフセット印刷が製版及び印刷のしやすさ
をはじめ、装置も他に比べて安価であること等から近
時、そのシェアーを伸ばしている。特に事務用印刷にお
いて、オフセット印刷は最も有利である。オフセット印
刷版の製版は、感光剤を塗布したアルミニウム板、亜鉛
板などの版材にスクリーンを密着させ、これに画像照射
を行ない、続いて、現像、親水化処理を施こすという手
段あるいは、電子写真感光体を版材とし、帯電、露光、
現像後、親水化処理を施こすという手段が採用されてい
る。しかし、これら従来から行なわれているオフセット
製版法では、例えばコンピューターなどに蓄積されてい
る印刷情報やスキャナーで読み取った情報から、あるい
は原版から直接オフセット印刷版を作ることはできな
い。最近直接オフセット印刷版を作る方法として特開昭
６４−４０３９２が公開されているが、画像形成層を形
成する主成分の１つとして一般の有機溶剤に難溶なワッ
クスを用いているため、制御、維持管理等が困難なホッ
トメルトコーターを使用している。さらに溶融させるた
めに材料の選択範囲にも制限がある。
【０００３】
【目的】本発明は従来技術の欠点を解決し、コンピュー
ターなどに蓄積された印刷情報やスキャナーで読み取ら
れる情報から、あるいは原版等から直接オフセット印刷
版が簡便に得られるレーザー製版用オフセット印刷原版
の提供を目的とするものである。
ターなどに蓄積された印刷情報やスキャナーで読み取ら
れる情報から、あるいは原版等から直接オフセット印刷
版が簡便に得られるレーザー製版用オフセット印刷原版
の提供を目的とするものである。
【０００４】
【構成】本発明は、少なくとも表面が親水性である基板
上に、画像形成層が設けられており、該画像形成層は
（ａ）レーザー光を吸収する色素、（ｂ）熱可塑性樹脂
および（ｃ）有機溶剤に可溶な低分子有機化合物を主成
分とする層であることを特徴とするレーザー製版用オフ
セット印刷版に関する。本発明は、レーザー光ビームを
コンピューター情報、原稿情報等の情報に応じて照射す
ることにより、該画像形成層中に含まれるレーザー光吸
収色素がレーザー光エネルギーを吸収し発熱することに
よって、該画像形成層中の熱可塑性樹脂および有機溶剤
に可溶な低分子有機化合物を溶融し、前記基板上に孔
（ピット）が形成され、親水性の基板表面が露出し、画
像を形成した部分と露出しない未露光の部分との水に対
するヌレの差、接触角の差が大きく生じ、非常に高精細
なオフセット印刷版が直接得られることを見出したこと
によるものである。
上に、画像形成層が設けられており、該画像形成層は
（ａ）レーザー光を吸収する色素、（ｂ）熱可塑性樹脂
および（ｃ）有機溶剤に可溶な低分子有機化合物を主成
分とする層であることを特徴とするレーザー製版用オフ
セット印刷版に関する。本発明は、レーザー光ビームを
コンピューター情報、原稿情報等の情報に応じて照射す
ることにより、該画像形成層中に含まれるレーザー光吸
収色素がレーザー光エネルギーを吸収し発熱することに
よって、該画像形成層中の熱可塑性樹脂および有機溶剤
に可溶な低分子有機化合物を溶融し、前記基板上に孔
（ピット）が形成され、親水性の基板表面が露出し、画
像を形成した部分と露出しない未露光の部分との水に対
するヌレの差、接触角の差が大きく生じ、非常に高精細
なオフセット印刷版が直接得られることを見出したこと
によるものである。
【０００５】本発明における“少なくとも表面が親水性
である基板”とは、本来それ自体が親水性である基板、
あるいはそれ自体は親水性ではない基板の表面を親水化
処理した基板などを意味する。これらの具体例として
は、金属類基板あるいは金属類の層を有する基板もしく
は親水化処理したプラスチック基板などを挙げることが
できる。前記金属類基板もしくは金属類薄膜を有する基
板は、ステンレス、Ａｌ、Ｃｒ、Ｇｅ、ＩＴＯ（スズを
ドープしたＩｎ2Ｏ3）、ＺｎＯ、Ｎｉ、ニクロム、Ｐ
ｔ、Ｔｉ、Ｓｉ、ＳｉＯ、ＳｉＯ2等の金属またはその
酸化物よりなる表面をもつ基板、もしくはポリエステル
フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリイミドフィル
ム、ナイロンフィルム等のプラスチックフィルム上に前
記金属や金属酸化物を蒸着、スパッタ、ラミネート等で
薄膜状に設けたものが使用できる。また、Ｏ2プラズマ
で表面処理し親水化処理を施したポリエステルフィル
ム、ポリプロピレンフィルム、ナイロンフィルム、塩化
ビニルフィルム、塩化ビニリデンフイルム等が使用でき
る。いずれにしても基本的には水に対する静的接触角
（θ）が小さく（θ＜６０°が望ましい）、親水性であ
れば良い。
である基板”とは、本来それ自体が親水性である基板、
あるいはそれ自体は親水性ではない基板の表面を親水化
処理した基板などを意味する。これらの具体例として
は、金属類基板あるいは金属類の層を有する基板もしく
は親水化処理したプラスチック基板などを挙げることが
できる。前記金属類基板もしくは金属類薄膜を有する基
板は、ステンレス、Ａｌ、Ｃｒ、Ｇｅ、ＩＴＯ（スズを
ドープしたＩｎ2Ｏ3）、ＺｎＯ、Ｎｉ、ニクロム、Ｐ
ｔ、Ｔｉ、Ｓｉ、ＳｉＯ、ＳｉＯ2等の金属またはその
酸化物よりなる表面をもつ基板、もしくはポリエステル
フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリイミドフィル
ム、ナイロンフィルム等のプラスチックフィルム上に前
記金属や金属酸化物を蒸着、スパッタ、ラミネート等で
薄膜状に設けたものが使用できる。また、Ｏ2プラズマ
で表面処理し親水化処理を施したポリエステルフィル
ム、ポリプロピレンフィルム、ナイロンフィルム、塩化
ビニルフィルム、塩化ビニリデンフイルム等が使用でき
る。いずれにしても基本的には水に対する静的接触角
（θ）が小さく（θ＜６０°が望ましい）、親水性であ
れば良い。
【０００６】レーザーとしては、炭酸ガスレーザー（発
振波長１０．６μｍ）、イットリウム・アルミニウム・
ガーネット（ＹＡＧ）レーザー（発振波長１．０６μ
ｍ）、銅蒸気レーザー（発振波長０．５１μｍ）、半導
体レーザー（発振波長０．７８μｍ／０．８４μｍ）、
色素レーザー、エキシマレーザー（ＸｅＦのときの発振
波長０．３５１μｍ、ＸｅＣｌのときの発振波長０．３
０８μｍ、ＫｒＦのときの発振波長０．１９３μｍ）な
どがあるが、とくに本発明では発外光タイプのものが好
ましい。
振波長１０．６μｍ）、イットリウム・アルミニウム・
ガーネット（ＹＡＧ）レーザー（発振波長１．０６μ
ｍ）、銅蒸気レーザー（発振波長０．５１μｍ）、半導
体レーザー（発振波長０．７８μｍ／０．８４μｍ）、
色素レーザー、エキシマレーザー（ＸｅＦのときの発振
波長０．３５１μｍ、ＸｅＣｌのときの発振波長０．３
０８μｍ、ＫｒＦのときの発振波長０．１９３μｍ）な
どがあるが、とくに本発明では発外光タイプのものが好
ましい。
【０００７】レーザー光を吸収する色素は、それぞれの
使用する波長を有効に吸収できる色素であれば、とくに
制限はない。赤外線吸収色素についてのみ例示してみる
と、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩
系色素、メチン系色素、ナフトキノン系色素、キノンイ
ミン系色素、キノンジイミン系色素、フタロシアニン色
素、ナフタロシアニン色素、ジチオール金属錯体色素、
アントラキノン系色素、アゾ系色素、トリスアゾ系色
素、アミニウム塩系色素等があり、特にシアニン色素、
フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ジチオー
ル金属錯体色素が分子吸光係数が大きく、効果的であ
る。
使用する波長を有効に吸収できる色素であれば、とくに
制限はない。赤外線吸収色素についてのみ例示してみる
と、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩
系色素、メチン系色素、ナフトキノン系色素、キノンイ
ミン系色素、キノンジイミン系色素、フタロシアニン色
素、ナフタロシアニン色素、ジチオール金属錯体色素、
アントラキノン系色素、アゾ系色素、トリスアゾ系色
素、アミニウム塩系色素等があり、特にシアニン色素、
フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ジチオー
ル金属錯体色素が分子吸光係数が大きく、効果的であ
る。
【０００８】この赤外線吸収色素の代表例の幾つかは下
記（化合物No.１〜No.１３）のとおりである。
記（化合物No.１〜No.１３）のとおりである。
【化１】
【化２】
【化３】
【表１】
【化４】
【表２】
【化５】
【化６】
【０００９】熱可塑性樹脂としては、光吸収剤がレーザ
光を吸収することによる発熱で変形し、それにより版型
を形成し、かつ、耐刷性を発揮させるためのものであ
り、具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
アミド、ポリエステル、ポリウレタン、ポリスチレン、
アクリル樹脂、塩ビ-酢ビ共重合体ブチラール樹脂、フ
ッ化-ビニリデン系樹脂、シリコン樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、キシレン系樹脂、フェノキシ樹脂などが挙げ
られ、軟化点が８０〜２００℃になるよう平均分子量を
調整したものが使用出来る。
光を吸収することによる発熱で変形し、それにより版型
を形成し、かつ、耐刷性を発揮させるためのものであ
り、具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
アミド、ポリエステル、ポリウレタン、ポリスチレン、
アクリル樹脂、塩ビ-酢ビ共重合体ブチラール樹脂、フ
ッ化-ビニリデン系樹脂、シリコン樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、キシレン系樹脂、フェノキシ樹脂などが挙げ
られ、軟化点が８０〜２００℃になるよう平均分子量を
調整したものが使用出来る。
【００１０】また本発明で使用する低分子有機化合物
は、層の溶融粘度を低下させ、ピットの形状を比較的な
だらかにする働きをするものであり、とくに好ましい低
分子有機化合物としては、分子中にＳｉを含有し、かつ
融点が２００℃以下の低分子有機化合物で一般の有機溶
剤に可溶なものであり、具体例としては、例えばＮ-
（３，４-ジクロロフェニル）-Ｎ′-トリメチルシリル
メチル尿素、３-トリメチルシリルフェニル-Ｎ-メチル
カルバメート、トリメチルシリルメチルチオ-Ｎ-（３，
４-ジクロロフェニル）アセトアニリド、３-ジメチル-
ビニルシリルフェニル-Ｎ-メチルカルバメート、３-ト
リメチルシリルメトキシフェニル-Ｎ-メチルカルバメー
ト、２-トリメチルシリルメトキシフェニル-Ｎ-メチル
カルバメート、２-トリメチルシリルメトキシフェニル-
Ｎ-イソプロピルカルバメート、３-トリメチルシリルフ
ェニル-Ｎ-フェニルカルバメート、４-ジメチルビニル
シリルフェニル-Ｎ-フェニルカルバメート、３-ジメチ
ルビニルシリルフェニル-Ｎ-フェニルカルバメート、３
-トリメチルシリルメトキシフェニル-Ｎ-フェニルカル
バメート、トリフェニルシラノール、アセトキシトリフ
ェニルシラン、ジメチルフェニル-４-（ｍ-トリルカル
バモイルピペラジノ）メチルシランなどがある。これら
のＳｉ含有低分子有機化合物は熱膨張率が大きく、かつ
溶融時に流動しやすいのでレーザー光照射により熱可塑
性樹脂と共存させることにより明瞭な孔（ピット）が生
じる。このほか各種脂肪酸、その塩、そのエステル、あ
るいは脂肪酸のエーテル、チオエーテルなどが例示でき
る。
は、層の溶融粘度を低下させ、ピットの形状を比較的な
だらかにする働きをするものであり、とくに好ましい低
分子有機化合物としては、分子中にＳｉを含有し、かつ
融点が２００℃以下の低分子有機化合物で一般の有機溶
剤に可溶なものであり、具体例としては、例えばＮ-
（３，４-ジクロロフェニル）-Ｎ′-トリメチルシリル
メチル尿素、３-トリメチルシリルフェニル-Ｎ-メチル
カルバメート、トリメチルシリルメチルチオ-Ｎ-（３，
４-ジクロロフェニル）アセトアニリド、３-ジメチル-
ビニルシリルフェニル-Ｎ-メチルカルバメート、３-ト
リメチルシリルメトキシフェニル-Ｎ-メチルカルバメー
ト、２-トリメチルシリルメトキシフェニル-Ｎ-メチル
カルバメート、２-トリメチルシリルメトキシフェニル-
Ｎ-イソプロピルカルバメート、３-トリメチルシリルフ
ェニル-Ｎ-フェニルカルバメート、４-ジメチルビニル
シリルフェニル-Ｎ-フェニルカルバメート、３-ジメチ
ルビニルシリルフェニル-Ｎ-フェニルカルバメート、３
-トリメチルシリルメトキシフェニル-Ｎ-フェニルカル
バメート、トリフェニルシラノール、アセトキシトリフ
ェニルシラン、ジメチルフェニル-４-（ｍ-トリルカル
バモイルピペラジノ）メチルシランなどがある。これら
のＳｉ含有低分子有機化合物は熱膨張率が大きく、かつ
溶融時に流動しやすいのでレーザー光照射により熱可塑
性樹脂と共存させることにより明瞭な孔（ピット）が生
じる。このほか各種脂肪酸、その塩、そのエステル、あ
るいは脂肪酸のエーテル、チオエーテルなどが例示でき
る。
【００１１】
【実施例】スチレン樹脂（ピコラスティックＤ-１５
０；エッソスタンダード石油、融点１５０℃）７０重量
部、３-トリメチルシリルフェニル-Ｎ-メチルカルバメ
ート（信越シリコーン；融点１１８℃）３０重量部、ナ
フタロシアニン色素（化合物No.８）２重量部をテトラ
ヒドロフランに溶解し、これをアルミニウムを蒸着した
７５μｍ厚のポリエチレンフィルム上にブレードにより
塗布し、乾燥後の膜厚が約４μｍの画像形成層を設け
た。作成した試料に、発振波長７８０ｎｍの半導体レー
ザー光をビーム径３μｍに絞り、照射光強度１２ｍＷで
照射したところ、輪郭の極めて明瞭なピットが形成し、
アルミニウム部分が露出した。このようにして製版され
た印刷版を常法にしたがいオフセット印刷に供したとこ
ろ良好な印刷適正を示した。
０；エッソスタンダード石油、融点１５０℃）７０重量
部、３-トリメチルシリルフェニル-Ｎ-メチルカルバメ
ート（信越シリコーン；融点１１８℃）３０重量部、ナ
フタロシアニン色素（化合物No.８）２重量部をテトラ
ヒドロフランに溶解し、これをアルミニウムを蒸着した
７５μｍ厚のポリエチレンフィルム上にブレードにより
塗布し、乾燥後の膜厚が約４μｍの画像形成層を設け
た。作成した試料に、発振波長７８０ｎｍの半導体レー
ザー光をビーム径３μｍに絞り、照射光強度１２ｍＷで
照射したところ、輪郭の極めて明瞭なピットが形成し、
アルミニウム部分が露出した。このようにして製版され
た印刷版を常法にしたがいオフセット印刷に供したとこ
ろ良好な印刷適正を示した。
【００１２】
【効果】本発明のレーザー製版用オフセット印刷板は、
ホットメルトコーターを使用せずに製造できるので、製
造工程が簡便であり、これを用いることにより、各情報
や原稿から直接オフセット印刷版を製版できる。
ホットメルトコーターを使用せずに製造できるので、製
造工程が簡便であり、これを用いることにより、各情報
や原稿から直接オフセット印刷版を製版できる。
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくとも表面が親水性である基板上に
画像形成層が設けられており、該画像形成層は（ａ）レ
ーザー光を吸収する色素、（ｂ）熱可塑性樹脂及び
（ｃ）有機溶剤に可溶な低分子有機化合物を主成分とす
る層であることを特徴とするレーザー製版用オフセット
印刷版。 - 【請求項２】 前記熱可塑性樹脂の軟化点が８０〜２０
０℃である請求項１記載のレーザー製版用オフセット印
刷版。 - 【請求項３】 前記低分子有機化合物がＳｉを含有し、
かつ融点が２００℃以下であり、有機溶剤に可溶である
請求項１記載のレーザー製版用オフセット印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33572791A JPH05138848A (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | レーザー製版用オフセツト印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33572791A JPH05138848A (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | レーザー製版用オフセツト印刷版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05138848A true JPH05138848A (ja) | 1993-06-08 |
Family
ID=18291797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33572791A Pending JPH05138848A (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | レーザー製版用オフセツト印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05138848A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2388817A (en) * | 2000-12-05 | 2003-11-26 | Sunlux Corp | A porous resin stamp containing phthalocyanine pigments, and a method of manufacturing the same |
-
1991
- 1991-11-25 JP JP33572791A patent/JPH05138848A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2388817A (en) * | 2000-12-05 | 2003-11-26 | Sunlux Corp | A porous resin stamp containing phthalocyanine pigments, and a method of manufacturing the same |
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