JPS637977A - 感光性記録材料及びその製造方法 - Google Patents
感光性記録材料及びその製造方法Info
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- JPS637977A JPS637977A JP62155626A JP15562687A JPS637977A JP S637977 A JPS637977 A JP S637977A JP 62155626 A JP62155626 A JP 62155626A JP 15562687 A JP15562687 A JP 15562687A JP S637977 A JPS637977 A JP S637977A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は高エネルギー密度の光照射作用下に記録層の光
学的特性の局部的変化により情報を記録するための感光
性記録材料及びその製造方法に関するものである。
学的特性の局部的変化により情報を記録するための感光
性記録材料及びその製造方法に関するものである。
(従来技術)
強烈な照射線源を使用して情報を記録する公知の記録材
料は、感熱的な、もしくは化学的な記録材料であった。
料は、感熱的な、もしくは化学的な記録材料であった。
若干の感熱的記録材料において、記録層は照射波長範囲
において光学的高密度を有し、高エネルギー密度の放射
光線3吸収する。これにより局部的温度上昇が生じ、こ
れが例えば溶融、蒸散、凝結などにより熱的変化をもた
らす。これにより被照射部分は、照射されなかった部分
に対して光学的密度差をもたらすことにより光学的特性
が消失し或は変化し、これにより光学的情報が記録され
る。そこで感熱的記録材料は、例えばリトグラフ印刷フ
ィルム、ファクシミリ記録材料、集積回路(IC)用フ
ォトマスク、マイクロフィルムなどに使用されている。
において光学的高密度を有し、高エネルギー密度の放射
光線3吸収する。これにより局部的温度上昇が生じ、こ
れが例えば溶融、蒸散、凝結などにより熱的変化をもた
らす。これにより被照射部分は、照射されなかった部分
に対して光学的密度差をもたらすことにより光学的特性
が消失し或は変化し、これにより光学的情報が記録され
る。そこで感熱的記録材料は、例えばリトグラフ印刷フ
ィルム、ファクシミリ記録材料、集積回路(IC)用フ
ォトマスク、マイクロフィルムなどに使用されている。
化学的、感熱的記録材料に関する概要はJ、ウィリイ(
Wiley) 、アンド、サンズにニーヨーク、ロンド
ン、シトニー)1965年刊、J、コープ(KO5il
r) 4 ’ライト、センシティブ、システムズ」40
2頁以降に記載されている。
Wiley) 、アンド、サンズにニーヨーク、ロンド
ン、シトニー)1965年刊、J、コープ(KO5il
r) 4 ’ライト、センシティブ、システムズ」40
2頁以降に記載されている。
また弱干渉性金属層は、高エネルギー光線用記録媒体と
して使用され得る。この種の公知の記録材料は、本質的
に担体材料と、金属或はメタロイド、すなわち半金属、
例えばBi、So、In、 AI、Te、C「の薄層と
から成る。これは高解像力、高コントラスト性を有する
が、例えばレーザー光に対する反射率が50%以上であ
って、レーザー光エネルギーはこの記録材料により有効
に利用され得ない。
して使用され得る。この種の公知の記録材料は、本質的
に担体材料と、金属或はメタロイド、すなわち半金属、
例えばBi、So、In、 AI、Te、C「の薄層と
から成る。これは高解像力、高コントラスト性を有する
が、例えばレーザー光に対する反射率が50%以上であ
って、レーザー光エネルギーはこの記録材料により有効
に利用され得ない。
従って、記録に必要な光エネルギーが大きく、高速度走
査記録のために高出力のレーザー光源が必要であり、こ
のため記録装置は大型となり高コストのものとなる。
査記録のために高出力のレーザー光源が必要であり、こ
のため記録装置は大型となり高コストのものとなる。
干渉性半導層乃至金属層の反射率を低減するために、従
ってこれにより該層に吸収される照射線の割合を増大す
るために、ヨーロッパ特許出願公開0107379号公
報において、レーザー干渉分析法(Interfero
n1!Lry)により形成された合成樹脂基体上に金属
蒸着層を設けた材料の使用が提案されている。更に他の
提案(アプライド、フィジックス、レター(Appl、
Pbys、 Letl )生0(1982)622頁
以降)は、蒸着Ge層のイオンエツチング作用による組
織化である。更にまた、特殊な金属層乃至半導層を使用
するこれにより組織化することも公知である。米国特許
4252890号明細書には、約1)、2μm径、低融
点のSe粒粒子一層がら成る写真記録材料が、またヨー
ロッパ特許出願公開0083396号公報には約10n
m径の蒸着^Uスポットから成る特殊な^11層が記載
されている。
ってこれにより該層に吸収される照射線の割合を増大す
るために、ヨーロッパ特許出願公開0107379号公
報において、レーザー干渉分析法(Interfero
n1!Lry)により形成された合成樹脂基体上に金属
蒸着層を設けた材料の使用が提案されている。更に他の
提案(アプライド、フィジックス、レター(Appl、
Pbys、 Letl )生0(1982)622頁
以降)は、蒸着Ge層のイオンエツチング作用による組
織化である。更にまた、特殊な金属層乃至半導層を使用
するこれにより組織化することも公知である。米国特許
4252890号明細書には、約1)、2μm径、低融
点のSe粒粒子一層がら成る写真記録材料が、またヨー
ロッパ特許出願公開0083396号公報には約10n
m径の蒸着^Uスポットから成る特殊な^11層が記載
されている。
しかしながら、上述したすべての記録層は、例えば大面
積レーザーホログラム及び/或は複雑なエッtング技術
のように高コストの製造技術を必要とする。更にまた一
部のものは多くの層を重ねて調製する必要があること、
記録再生性が劣悪であり、また複雑な処理を必要とする
ことなどの欠点がある。更にまた若干のものは、毒性の
かっ、77′もしくは貯蔵安定性の悪い層形成材料を使
用する必要がある点において好ましくない。
積レーザーホログラム及び/或は複雑なエッtング技術
のように高コストの製造技術を必要とする。更にまた一
部のものは多くの層を重ねて調製する必要があること、
記録再生性が劣悪であり、また複雑な処理を必要とする
ことなどの欠点がある。更にまた若干のものは、毒性の
かっ、77′もしくは貯蔵安定性の悪い層形成材料を使
用する必要がある点において好ましくない。
従って本分野の技術的課題は、上述の欠点を回避、克服
し、再生可能の良好な記録を、広いスベクi・ル範囲に
おいて、高怒度、高コントラストでもたらし、しがち簡
単な方法で製造され得る感光性記録材料を提供すること
である。
し、再生可能の良好な記録を、広いスベクi・ル範囲に
おいて、高怒度、高コントラストでもたらし、しがち簡
単な方法で製造され得る感光性記録材料を提供すること
である。
(発明の要約ン
しかるに、本質的に担体材料と、その上に形成されるほ
ぼ球状をなす粉末から成る特殊層と、その上に形成され
る金属層とから成り、高エネルギー密度の光照射作用下
に記録層の光学的特性の局部的変化により情報を記録す
るための感光性記録材料において、上記特殊層のほぼ球
状の粉末が50℃以上の温度において軟化する有機重き
体から成り、5000nmより大きくない平均粒度を有
することを特徴とする、本発明による感光性記録材料に
より、上述の技術的課題が解決され得ることが見出され
た。更に好ましい実施態様によれば、上述のほぼ球状の
粉末は、50乃至150℃の温度において軟化し、30
乃至50001′llI、ことに50乃至800nmの
平均粒度を有する重合体粉末である。
ぼ球状をなす粉末から成る特殊層と、その上に形成され
る金属層とから成り、高エネルギー密度の光照射作用下
に記録層の光学的特性の局部的変化により情報を記録す
るための感光性記録材料において、上記特殊層のほぼ球
状の粉末が50℃以上の温度において軟化する有機重き
体から成り、5000nmより大きくない平均粒度を有
することを特徴とする、本発明による感光性記録材料に
より、上述の技術的課題が解決され得ることが見出され
た。更に好ましい実施態様によれば、上述のほぼ球状の
粉末は、50乃至150℃の温度において軟化し、30
乃至50001′llI、ことに50乃至800nmの
平均粒度を有する重合体粉末である。
本発明による記録材料は、200 nm乃至2μm、す
なわち紫外線、可視光線及び近赤外線の全スペク1−ル
範囲において無反射であるか、或はほとんど反射せず、
残反射スペクトルは使用される金属乃至半金属層ならび
にその厚さに依存する。しかしながら、記録材料の反射
率は、エレクトロンフラッシュ、レーザーのような高エ
ネルギー密度の光照射の作用下おいて著しく高められる
。この反射率の変化は、球状の重合体粉末の瞬時の加熱
軟化及び融合に基因し、これによりその上に在る金属層
の表面構造に変化が生ずるものと考えられる。
なわち紫外線、可視光線及び近赤外線の全スペク1−ル
範囲において無反射であるか、或はほとんど反射せず、
残反射スペクトルは使用される金属乃至半金属層ならび
にその厚さに依存する。しかしながら、記録材料の反射
率は、エレクトロンフラッシュ、レーザーのような高エ
ネルギー密度の光照射の作用下おいて著しく高められる
。この反射率の変化は、球状の重合体粉末の瞬時の加熱
軟化及び融合に基因し、これによりその上に在る金属層
の表面構造に変化が生ずるものと考えられる。
(発明の構成)
本発明記録材料用の担体としては、ガラス、ポリエステ
ル、ポリスチレン、ポリメチルメタクリラート、ポリカ
ルボナーI・、ポリメチルペンテン、ポリスルホン、ポ
リイミド、ポリスチレン共重合体、PVC共重合体、セ
ルロースエステルなどの合成樹脂から成る板或はシート
、ならびに研磨金属板、木材板などが使用される。熱伝
導性の低い透明な材料が好ましい。
ル、ポリスチレン、ポリメチルメタクリラート、ポリカ
ルボナーI・、ポリメチルペンテン、ポリスルホン、ポ
リイミド、ポリスチレン共重合体、PVC共重合体、セ
ルロースエステルなどの合成樹脂から成る板或はシート
、ならびに研磨金属板、木材板などが使用される。熱伝
導性の低い透明な材料が好ましい。
本発明記録材料の特殊層を形成する粒子は、種々の合成
樹脂により製造される。まず重合、重縮合、重附加によ
り得られる熱可塑性樹脂が挙げられる。硬化樹脂のうち
、50°C以上の温度においてその架橋度が低く依然と
して十分な可塑性を有するもののみが使用可能である。
樹脂により製造される。まず重合、重縮合、重附加によ
り得られる熱可塑性樹脂が挙げられる。硬化樹脂のうち
、50°C以上の温度においてその架橋度が低く依然と
して十分な可塑性を有するもののみが使用可能である。
はぼ球状の平均粒度が5000nmより大きくない粒子
は、これ等合成樹脂から種々の方法で製造される。熱可
塑性樹脂の多少高濃度の溶液を、例えば噴霧、乳濁化、
懸濁化、扮砕などにより細分するのが、種々の樹脂に広
く適用し得る方法である。物理的方法としては噴霧乾燥
法、化学的方法としてはいわゆる誘発分散法が好ましい
。この後者の方法は、その目的とする化学的処理により
、例えば合成に際してすでに熱可塑性樹脂に一定の濃度
で導入されている基をイオン化することにより、乳濁を
強制生起させ、誘発分散の平均粒度を調整する。
は、これ等合成樹脂から種々の方法で製造される。熱可
塑性樹脂の多少高濃度の溶液を、例えば噴霧、乳濁化、
懸濁化、扮砕などにより細分するのが、種々の樹脂に広
く適用し得る方法である。物理的方法としては噴霧乾燥
法、化学的方法としてはいわゆる誘発分散法が好ましい
。この後者の方法は、その目的とする化学的処理により
、例えば合成に際してすでに熱可塑性樹脂に一定の濃度
で導入されている基をイオン化することにより、乳濁を
強制生起させ、誘発分散の平均粒度を調整する。
このような方法は、物理的細分化法と化学的助剤の使用
とを併用して、乳化剤、分散助剤、保護コロイドなどを
使用して分散状態を安定化する中間的方法をとり得る。
とを併用して、乳化剤、分散助剤、保護コロイドなどを
使用して分散状態を安定化する中間的方法をとり得る。
本方法は極めて多種多様で均質内部構造粉末の製造であ
っても或は非均質内部構造粉末(例えばマイクロカプセ
ル)の製造であっても使用することができる。このよう
な方法では、一般に合成樹脂製造の少くとも一部が分散
状態で、例えば[硬化」、すなわち分子増大成はマイク
ロカプセル法におけるカプセル壁の架橋で行われる。
っても或は非均質内部構造粉末(例えばマイクロカプセ
ル)の製造であっても使用することができる。このよう
な方法では、一般に合成樹脂製造の少くとも一部が分散
状態で、例えば[硬化」、すなわち分子増大成はマイク
ロカプセル法におけるカプセル壁の架橋で行われる。
池の種類の方法では、巨大分子合成樹脂が、材料から直
接的に所望の卓球状粉末の形で製造される。これには例
えば懸濁重合法、乳化重合法が属する。本発明による特
殊層のための粉末を製造するために特に適当な方法は、
乳化重合法である。
接的に所望の卓球状粉末の形で製造される。これには例
えば懸濁重合法、乳化重合法が属する。本発明による特
殊層のための粉末を製造するために特に適当な方法は、
乳化重合法である。
この方法の技術的重要性のために反応条件がよく研究さ
れており、簡単に処理可能であり、粉末が所望の粒度範
囲で得られるからである。
れており、簡単に処理可能であり、粉末が所望の粒度範
囲で得られるからである。
この乳化重合の概要については、ホウベン−ワイル「マ
クロモレクラーレ、シュトラフ」或はウルマンの[ポリ
メリザチオーンステヒニーク」を参照され度い。例えば
H、ゲレンス(Gerr月+s)の[キネティクス メリザチオーン」、[フオルトシュリ・ソト、ホーホボ
リメリザチオーン、フオルシュング1(Fortsch
r、 Ilochpolym 、 −Forst:h、
)第1巻(1959)234−323頁、或は、■、
ニーゲルスタッド(UgelsLad) 、 F 、K
、ハンセン(Ilansen)の「キネティクス、アン
ド、メカニズム、オブ、エマルジョン、ポリメライゼイ
ション」ラバー、ケミストリー、テクノロジー49 (
1976)536−609頁に該方法の理論及び実際に
関する概要が示されている。本発明の特殊層用粉末製造
のためのこの技術の使用については、工業的に高純度の
ビニル及び(メタ)アクリルモノマー及びスチレンをそ
れぞれの量割合で乳化共重合することにより生成重合体
の軟化点を簡単に調整すること、公知の乳化重合の標準
に相応して形成された安定分散質の平均粒度を簡単に、
再現可能に適切に調整すること、極めて狭い粒度分布範
囲(いわゆる単分散分散液)で分散液を簡単に調製し、
その分散質粉末が比較的高4度で自然に配列されて自然
に巨視的に整列せしめられることが特に重要である。
クロモレクラーレ、シュトラフ」或はウルマンの[ポリ
メリザチオーンステヒニーク」を参照され度い。例えば
H、ゲレンス(Gerr月+s)の[キネティクス メリザチオーン」、[フオルトシュリ・ソト、ホーホボ
リメリザチオーン、フオルシュング1(Fortsch
r、 Ilochpolym 、 −Forst:h、
)第1巻(1959)234−323頁、或は、■、
ニーゲルスタッド(UgelsLad) 、 F 、K
、ハンセン(Ilansen)の「キネティクス、アン
ド、メカニズム、オブ、エマルジョン、ポリメライゼイ
ション」ラバー、ケミストリー、テクノロジー49 (
1976)536−609頁に該方法の理論及び実際に
関する概要が示されている。本発明の特殊層用粉末製造
のためのこの技術の使用については、工業的に高純度の
ビニル及び(メタ)アクリルモノマー及びスチレンをそ
れぞれの量割合で乳化共重合することにより生成重合体
の軟化点を簡単に調整すること、公知の乳化重合の標準
に相応して形成された安定分散質の平均粒度を簡単に、
再現可能に適切に調整すること、極めて狭い粒度分布範
囲(いわゆる単分散分散液)で分散液を簡単に調製し、
その分散質粉末が比較的高4度で自然に配列されて自然
に巨視的に整列せしめられることが特に重要である。
好ましい粒度範囲の「単分散」粉末を調製するための処
理技術については、例えばI、M、クリーi−(にri
der)らのジャーナル、オブ、ペイント、テクノロジ
ー40 (1967>545頁、同42 (1970>
71及び571頁米国特許4336173号明a書に記
載されている。
理技術については、例えばI、M、クリーi−(にri
der)らのジャーナル、オブ、ペイント、テクノロジ
ー40 (1967>545頁、同42 (1970>
71及び571頁米国特許4336173号明a書に記
載されている。
担体材料上に特殊層を成層するためには、塗布、遠心噴
射、噴霧、ブレード法など周知の方法で行う。
射、噴霧、ブレード法など周知の方法で行う。
好ましいのは水性乳濁液を、必要に応じて水と混合可能
の有機溶媒で希釈して、遠心噴射成層法により成層する
ことである。特殊層の厚さは粉末濃度及び回転速度を変
えて調整される。一般にほぼ球状の粉末の単一層で構成
する。しかしながら、層厚さを5層塗布までにすること
は容易である。
の有機溶媒で希釈して、遠心噴射成層法により成層する
ことである。特殊層の厚さは粉末濃度及び回転速度を変
えて調整される。一般にほぼ球状の粉末の単一層で構成
する。しかしながら、層厚さを5層塗布までにすること
は容易である。
この特殊層を、関連波長範囲において高い反射性と高い
吸収性を示す材料の薄い被膜で被覆する。
吸収性を示す材料の薄い被膜で被覆する。
この材料としては、例えば^u、 kg、^1、Cu、
Bi、Sn、Sb、 Pt、 Ni、Teなどの金属
或は半金属を使用するのが有利である。この金属層の厚
さは、記録材料の用途及び要求される感度により規制さ
れる。
Bi、Sn、Sb、 Pt、 Ni、Teなどの金属
或は半金属を使用するのが有利である。この金属層の厚
さは、記録材料の用途及び要求される感度により規制さ
れる。
薄い約10nm厚さのAn層は、極めて展延性が高く、
露光の際両層の間の境界における特殊層の変形を許容す
る。しかしながら記録媒体の透過率はOより比較的高い
。約0.1μmの厚いA1層は、透過率は0まで低下さ
せるが、露光に際し両層間の境界における特殊層の変形
を抑止する。金属層の厚さは使用される金属の光学的及
び機械的データから決定される。好ましい厚さは10n
m乃至0.1μmの範囲にあるが、本質的に厚い層の方
が有利である。
露光の際両層の間の境界における特殊層の変形を許容す
る。しかしながら記録媒体の透過率はOより比較的高い
。約0.1μmの厚いA1層は、透過率は0まで低下さ
せるが、露光に際し両層間の境界における特殊層の変形
を抑止する。金属層の厚さは使用される金属の光学的及
び機械的データから決定される。好ましい厚さは10n
m乃至0.1μmの範囲にあるが、本質的に厚い層の方
が有利である。
金属層の形成は高真空蒸着によるのが有利である。その
ほかに、例えば陰極スパッタリング或はCVDなどの層
形成法も行われ得る。
ほかに、例えば陰極スパッタリング或はCVDなどの層
形成法も行われ得る。
本発明による記録材料は、微細な回路、抵抗、マイクロ
フィルム記録、集積回路マスター、光学的データ記録、
プリント回路の作製、装飾その池数多くの種々の用途に
適する。
フィルム記録、集積回路マスター、光学的データ記録、
プリント回路の作製、装飾その池数多くの種々の用途に
適する。
本発明記録材料の露光は、200 nm乃至2μmの波
長範囲、最少限0.IJ/cm’ がら10 、J
/ cm”の入射光線エネルギーを有する光源により行
われる。ただし上源は感光記録材料の作用範囲を示すの
ではなく、単に工業的に妥当な消費限界を示すに過ぎな
い。適当な光源としては、フラッシュライト、水銀灯、
キセノン高圧灯、ヘリウム/ネオン、アルゴン、クリ1
トン、アルゴン/弗化クリ1トンの各ガスレーザ、Ga
/砒化物、Nd/ YAGの各半導体レーザー、染料レ
ーザーなどが挙げられる。画及楕成の作製は、湿式現像
g1.護を含まない。
長範囲、最少限0.IJ/cm’ がら10 、J
/ cm”の入射光線エネルギーを有する光源により行
われる。ただし上源は感光記録材料の作用範囲を示すの
ではなく、単に工業的に妥当な消費限界を示すに過ぎな
い。適当な光源としては、フラッシュライト、水銀灯、
キセノン高圧灯、ヘリウム/ネオン、アルゴン、クリ1
トン、アルゴン/弗化クリ1トンの各ガスレーザ、Ga
/砒化物、Nd/ YAGの各半導体レーザー、染料レ
ーザーなどが挙げられる。画及楕成の作製は、湿式現像
g1.護を含まない。
このことは特に高解像力及び環境衛生の点から有利であ
る。
る。
担体材料、特殊層及び金属層から成る本発明記録材料の
構成は、更に干渉調整層、絶縁層、隔離層などの追加層
を有することができる。また本発明による記録材料2枚
をサンドイッチ状に合体することもできる。
構成は、更に干渉調整層、絶縁層、隔離層などの追加層
を有することができる。また本発明による記録材料2枚
をサンドイッチ状に合体することもできる。
本発明の記録材料の本質的特性は、その金属層の反射率
の著しい低減であるから、画偶形成露光と関係の無い更
に他の重要な用途、例えばガラス板、TV管、ディスプ
レイのような光学的表面の反射率低減のためにも使用さ
れ得る。
の著しい低減であるから、画偶形成露光と関係の無い更
に他の重要な用途、例えばガラス板、TV管、ディスプ
レイのような光学的表面の反射率低減のためにも使用さ
れ得る。
以下に実施例により本発明を更に具体的に説明する。
実」L倒」−
直径12cm、厚さ]、2+IIIIのPMMA盤体と
、1%のPv人を添加した水/n−プロパツールにおけ
る20%ポリスチレン分散液から形成された粒径0.2
μmのポリスチレン粉末層と、真空蒸着された50nm
厚さの^11層とから°成る光学的記録媒体を作製した
。
、1%のPv人を添加した水/n−プロパツールにおけ
る20%ポリスチレン分散液から形成された粒径0.2
μmのポリスチレン粉末層と、真空蒸着された50nm
厚さの^11層とから°成る光学的記録媒体を作製した
。
この記録媒体はP M M、A基体を透過する入射光で
暗褐色に見え、金属層裏面から観察するときは記録媒体
は黒い全鏡面のように見えた。エレクトロンフラッシュ
(10nJ、/μmz )でPMM^基体を透過して、
また裏面から露光したところ、両者において同様の変化
をもたらした。すなわちPMM人基体を通して観察した
場合の暗褐色は明褐色となった。すなわち反射率は著し
く高められた。原画を介在させて露光を行った所、記録
媒体による原画の再生性は良好であった。
暗褐色に見え、金属層裏面から観察するときは記録媒体
は黒い全鏡面のように見えた。エレクトロンフラッシュ
(10nJ、/μmz )でPMM^基体を透過して、
また裏面から露光したところ、両者において同様の変化
をもたらした。すなわちPMM人基体を通して観察した
場合の暗褐色は明褐色となった。すなわち反射率は著し
く高められた。原画を介在させて露光を行った所、記録
媒体による原画の再生性は良好であった。
足1眞よ
実施例1と同様にして、ただし金の代わりに50nn+
厚さのA1層を蒸着させて記録媒体を作製した。
厚さのA1層を蒸着させて記録媒体を作製した。
PMMA基体を透過する入射光でこの記録媒体は帯青色
であったが、金属層裏面から見て記録媒体は帯青銀色で
あった。同様にエレクトロンフラ・ソシュ(10nJ/
μm2)でPMM^基体を透過して、また裏面から露光
した所、PMM八基へを通して見た場合の帯青色は暗灰
色に変った。すなわち反射率は著しく低減された。原画
を介在させて露光し、記録媒体による良好な再生性が認
められた。
であったが、金属層裏面から見て記録媒体は帯青銀色で
あった。同様にエレクトロンフラ・ソシュ(10nJ/
μm2)でPMM^基体を透過して、また裏面から露光
した所、PMM八基へを通して見た場合の帯青色は暗灰
色に変った。すなわち反射率は著しく低減された。原画
を介在させて露光し、記録媒体による良好な再生性が認
められた。
え1眞1
実施例1と同様に記録媒体を作製し、このPMMA層を
通してクリプトンレーザ(647na+、100mW、
焦点径100μl11)で露光を行ったが、本実施例で
はIj am/ secの速度で記録媒体を運動させて
露光した。100nJ/μm2の露光エネルギーは実施
例1に記載されたと同様の反射率の変化をもたらした。
通してクリプトンレーザ(647na+、100mW、
焦点径100μl11)で露光を行ったが、本実施例で
はIj am/ secの速度で記録媒体を運動させて
露光した。100nJ/μm2の露光エネルギーは実施
例1に記載されたと同様の反射率の変化をもたらした。
実]L倒」一
実施例1による記録媒体を、ラインパターンを有するマ
スクで被覆して、エレクトロンフラッシュで露光した。
スクで被覆して、エレクトロンフラッシュで露光した。
ポリスチレン球状粉末は露光部分において相互に、また
PMMA基体と融着して、金属層の担体材料に対する接
着は非露光部分に対して著しく高められた。記録材料の
画像形成露光部分は金属層に対して、透明膠着性シート
で膠着し、従ってシート除去により露光部分はPMM八
基へ上に残留し、非露光部分の金属フィルムはシート上
に移される。白色乃至透明な基板上には明暗原画の鮮明
でコントラストの著しいコピーが膠着して得られた。
PMMA基体と融着して、金属層の担体材料に対する接
着は非露光部分に対して著しく高められた。記録材料の
画像形成露光部分は金属層に対して、透明膠着性シート
で膠着し、従ってシート除去により露光部分はPMM八
基へ上に残留し、非露光部分の金属フィルムはシート上
に移される。白色乃至透明な基板上には明暗原画の鮮明
でコントラストの著しいコピーが膠着して得られた。
支[
実施例4と同様にして、ただし回路パターンをレーザー
光線で直接記録した。このようにして10μm以下の幅
の回路ラインを得た。
光線で直接記録した。このようにして10μm以下の幅
の回路ラインを得た。
支11[
130關の直径、1m−の厚さ、15mm径の内孔を有
する、螺旋状条溝(1,6μm間隔)を形成したポリカ
ルボナート盤体に、水/’n−プロパツール中20%の
ポリメチルメタクリラート粉末(粒度0.05μm)分
散液を遠心放射成層装置で成層し、水を遠心分離して層
厚さを70nmとした。この層上にAu層を50nn+
厚さに蒸着した。このような盤体2枚を0.5a+1g
厚さの接着性スペーサでサンドイッチ状に結合した。
する、螺旋状条溝(1,6μm間隔)を形成したポリカ
ルボナート盤体に、水/’n−プロパツール中20%の
ポリメチルメタクリラート粉末(粒度0.05μm)分
散液を遠心放射成層装置で成層し、水を遠心分離して層
厚さを70nmとした。この層上にAu層を50nn+
厚さに蒸着した。このような盤体2枚を0.5a+1g
厚さの接着性スペーサでサンドイッチ状に結合した。
このようにして得られた光学的データ記憶ディスクをレ
ーザー(波長820um)でディジタルデータを記録し
たが、1マーク当たり9.5 +oWの書込み効率、1
nJの書込み閾値であった。
ーザー(波長820um)でディジタルデータを記録し
たが、1マーク当たり9.5 +oWの書込み効率、1
nJの書込み閾値であった。
実]1殊1一
実施例1のようにして記録媒体を作製したが、金の層で
はなく酸化珪素の層を蒸着した。この記録媒体は実施例
1の場合に対し著しく低い反射率を示した。
はなく酸化珪素の層を蒸着した。この記録媒体は実施例
1の場合に対し著しく低い反射率を示した。
代理人弁理士 1)代 蕉 治
A
Claims (3)
- (1)本質的に担体材料と、その上に形成されるほぼ球
状をなす粉末から成る特殊層と、その上に形成される金
属層とから成り、高エネルギー密度の光照射作用下に記
録層の光学的特性の局部的変化により情報を記録するた
めの感光性記録材料において、上記特殊層のほぼ球状の
粉末が50℃以上の温度において軟化する有機重合体か
ら成り、5000nmより大きくない平均粒度を有する
ことを特徴とする感光性記録材料。 - (2)特許請求の範囲(1)の感光性記録材料であって
、上記特殊層のほぼ球状の粉末が50乃至150℃の温
度において軟化する有機重合体から成り、30乃至50
00nmの平均粒度を有することを特徴とする材料。 - (3)本質的に担体材料と、その上に形成されるほぼ球
状をなす粉末から成る特殊層と、その上に形成される金
属層とから成り、高エネルギー密度の光照射作用下に記
録層の光学的特性の局部的変化により情報を記録するた
めの感光性記録材料の製造方法において、5000nm
より大きくない平均粒度を有し、50℃以上の温度にお
いて軟化する有機重合体から成る上記のほぼ球状粉末の
分散液を上記担体材料に成層し、これを硬化させ、次い
でこれに金属層を成層することを特徴とする製造方法。
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DE3621685.2 | 1986-06-27 | ||
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