JPS60147733A - 可逆的立体パタ−ンの形成方法 - Google Patents
可逆的立体パタ−ンの形成方法Info
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- JPS60147733A JPS60147733A JP262984A JP262984A JPS60147733A JP S60147733 A JPS60147733 A JP S60147733A JP 262984 A JP262984 A JP 262984A JP 262984 A JP262984 A JP 262984A JP S60147733 A JPS60147733 A JP S60147733A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光又は熱エネルギーによる物質の体積変化を利
用する立体パターンの形成方法に関する。
用する立体パターンの形成方法に関する。
近年光エネルギー、熱エネルギー、電気エネルギー、力
学的エネルギー等の相互変換を可能にする材料、素子が
注目されそおり、実際に各種記録、記憶材料、光学棄子
等に応用されている。このうち電気エネルギーを力学的
エネルギーに変換するものとして可逆的に体積変化を起
す電歪効果が良く知られており、種・々の強誘電体が、
電気振動と力学的振動の相互変換に利用されている。し
かし、光又は熱エネルギーを力学的エネルギーに変換す
る方法は、単なる熱膨張を利用するもの以外ははとんど
見られない。
学的エネルギー等の相互変換を可能にする材料、素子が
注目されそおり、実際に各種記録、記憶材料、光学棄子
等に応用されている。このうち電気エネルギーを力学的
エネルギーに変換するものとして可逆的に体積変化を起
す電歪効果が良く知られており、種・々の強誘電体が、
電気振動と力学的振動の相互変換に利用されている。し
かし、光又は熱エネルギーを力学的エネルギーに変換す
る方法は、単なる熱膨張を利用するもの以外ははとんど
見られない。
その1例として、特願昭56−115294号明細書に
記載されている感熱立体記録方法などが挙けられる。こ
れ′は熱膨張性微小球と熱軟化性インクとからなる感熱
立体記録材料に熱記録装置を用いて記録を行うもので、
点字の記録を目的としている。この方法は単に熱膨張に
よる体積変化を固足して記録とするものでる”るが、可
逆性がない上、体積変化量の制御も困難である。また、
フォトクロミズムを示す官能基を高分子中に化学結合し
た高分子フィルムが光エネルギーにより、可逆的に体積
変化することが見出されている。
記載されている感熱立体記録方法などが挙けられる。こ
れ′は熱膨張性微小球と熱軟化性インクとからなる感熱
立体記録材料に熱記録装置を用いて記録を行うもので、
点字の記録を目的としている。この方法は単に熱膨張に
よる体積変化を固足して記録とするものでる”るが、可
逆性がない上、体積変化量の制御も困難である。また、
フォトクロミズムを示す官能基を高分子中に化学結合し
た高分子フィルムが光エネルギーにより、可逆的に体積
変化することが見出されている。
例えば、スピロピラン構造を架橋部に有するポリエチル
アクリレートポリマー〔ピュア エンド アプライド
ケミストリー(Pure、 andAppl 、Ohe
m )第39巻、第225頁(1974))、主鎖にア
ゾベンゼン構造を有するポリイミドポリマー〔マクロモ
レキュールス(MacrOmO1θ−aules )第
5巻、第549頁(1970))、置換アゾベンゼンを
含むアクリル酸−エチレングリコールジメタクリレート
コポリマー〔ジャーナル オプ メカノケミストリー
エンドセル モチリテイ(J、 Mechanoch
em 、 Cel1Motilit7 )第2巻、第1
05頁(1973))などである。しかしながら、これ
らの物質の光エネルギーによる体積変化は高々7%と微
小であり、光又は熱エネルギーにより可逆的に、大きな
体積変化を示すものは見出されていなかった。
アクリレートポリマー〔ピュア エンド アプライド
ケミストリー(Pure、 andAppl 、Ohe
m )第39巻、第225頁(1974))、主鎖にア
ゾベンゼン構造を有するポリイミドポリマー〔マクロモ
レキュールス(MacrOmO1θ−aules )第
5巻、第549頁(1970))、置換アゾベンゼンを
含むアクリル酸−エチレングリコールジメタクリレート
コポリマー〔ジャーナル オプ メカノケミストリー
エンドセル モチリテイ(J、 Mechanoch
em 、 Cel1Motilit7 )第2巻、第1
05頁(1973))などである。しかしながら、これ
らの物質の光エネルギーによる体積変化は高々7%と微
小であり、光又は熱エネルギーにより可逆的に、大きな
体積変化を示すものは見出されていなかった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、従来にない大きな体積変化及びそれに
付随して起る屈折率変化や光吸収帯の変化と、その可逆
性を利用した記録又は記憶方法を提供することにある。
付随して起る屈折率変化や光吸収帯の変化と、その可逆
性を利用した記録又は記憶方法を提供することにある。
、本発明を概説すれば、本発明は可逆的立体パターンの
形成方法の発明であって、下記一般式: (式中、nは正の整数を示し、R1、Rs 及びRsは
同−又は異なり、水素原子、炭素数1〜5のアルコキシ
基、炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基、ニトロ基
又はハロゲンを示す)で表される化合物を含む材料を蒸
着した基板面に、光又は熱エネルギーを加えることによ
り可逆的に凹凸を形成させる工程を包含することを特徴
とする。
形成方法の発明であって、下記一般式: (式中、nは正の整数を示し、R1、Rs 及びRsは
同−又は異なり、水素原子、炭素数1〜5のアルコキシ
基、炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基、ニトロ基
又はハロゲンを示す)で表される化合物を含む材料を蒸
着した基板面に、光又は熱エネルギーを加えることによ
り可逆的に凹凸を形成させる工程を包含することを特徴
とする。
以下、本発明の可逆的立体パターン形成方法をより詳細
に説明する。
に説明する。
本発明では前記一般式1で表されるN−アルキル基を有
するスピロピラン化合物を寸法変化物質として使用する
。これらの化合物を蒸着する基板面の基材としてはその
上に蒸着膜を作製することが可能なものであれば、特に
限定されないが、例えば、ガラス板、金属板、ポリマー
フィルム、紙などが挙げられる。
するスピロピラン化合物を寸法変化物質として使用する
。これらの化合物を蒸着する基板面の基材としてはその
上に蒸着膜を作製することが可能なものであれば、特に
限定されないが、例えば、ガラス板、金属板、ポリマー
フィルム、紙などが挙げられる。
本発明に用いる記録媒体の作製には真空蒸着法が用いら
れる。すなわち、前記一般式■で表されるスピロピラン
化合物を基板上に真空蒸着すればよい。この際に、光エ
ネルギー吸収剤その他の成分を同時に共蒸着することも
可能である。例えばラウリン酸アミド、ステアリン酸ア
ミド等は膜質改良に有効である。
れる。すなわち、前記一般式■で表されるスピロピラン
化合物を基板上に真空蒸着すればよい。この際に、光エ
ネルギー吸収剤その他の成分を同時に共蒸着することも
可能である。例えばラウリン酸アミド、ステアリン酸ア
ミド等は膜質改良に有効である。
上記の方法で作製した基板面にキセノンランプ、超高圧
水銀灯等の紫外線をパターン露光することにより、露光
部が着色すると同時に隆起した立体記録が得られる。こ
の記録を消去するには、紫外線カツトフィルターなつけ
たキセノンランプ、超高圧水銀灯、タンクステンランプ
等の可視光を照射すればよい。また、加熱によって消去
することもできる。一部分のみに可視光照射又は加熱を
行って記録を修正することも可能である。
水銀灯等の紫外線をパターン露光することにより、露光
部が着色すると同時に隆起した立体記録が得られる。こ
の記録を消去するには、紫外線カツトフィルターなつけ
たキセノンランプ、超高圧水銀灯、タンクステンランプ
等の可視光を照射すればよい。また、加熱によって消去
することもできる。一部分のみに可視光照射又は加熱を
行って記録を修正することも可能である。
以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明はこれら実施例に限定含れるものではない。
明はこれら実施例に限定含れるものではない。
実施例1
6′−ニド四−1−ヘプチルー3,3゛−ジメチルスピ
ロ〔インドリン−2,2′−ベンゾピラン〕をガラス基
板上に[L7μm7μm真空蒸、記録媒体を作製した。
ロ〔インドリン−2,2′−ベンゾピラン〕をガラス基
板上に[L7μm7μm真空蒸、記録媒体を作製した。
これにフォトマスクを重ね、υV−D 55 Sフィル
ター(東芝硝子社製)をつけた500W超高圧水銀灯の
紫外線f 5 cmの距離から10秒間照射することに
より、露光部のみが青発色すると同時に隆起した立体パ
ターンが得られた。隆起部分の膜厚変化率は170チで
あった。次にこの媒体全体にY−50フイルター(東芝
硝子社製)をつけたキセノンランプの可視光を3分間照
射することにより、基板上の着色及び立体パターンは消
失した。この変化は繰返し行わせることが可能であった
。
ター(東芝硝子社製)をつけた500W超高圧水銀灯の
紫外線f 5 cmの距離から10秒間照射することに
より、露光部のみが青発色すると同時に隆起した立体パ
ターンが得られた。隆起部分の膜厚変化率は170チで
あった。次にこの媒体全体にY−50フイルター(東芝
硝子社製)をつけたキセノンランプの可視光を3分間照
射することにより、基板上の着色及び立体パターンは消
失した。この変化は繰返し行わせることが可能であった
。
実施例2
6−ニトロ−1−オクタデシル−6,3−ジメチルスピ
ロ〔インドリン−2,2′−ベンゾビラン〕をポリエス
テルフィルム上に1.6μm真空蒸着して記録媒体を作
製した。これにフォトマスクを重ねUV−D55Bフィ
ルターをつけた500W超高圧水銀灯の紫外線”f 5
cmの距離から20秒間照射することによυ、露光部
のみが青発色すると同時に隆起した立体パターンが得ら
れた。
ロ〔インドリン−2,2′−ベンゾビラン〕をポリエス
テルフィルム上に1.6μm真空蒸着して記録媒体を作
製した。これにフォトマスクを重ねUV−D55Bフィ
ルターをつけた500W超高圧水銀灯の紫外線”f 5
cmの距離から20秒間照射することによυ、露光部
のみが青発色すると同時に隆起した立体パターンが得ら
れた。
隆起部分の膜厚変化率は50%であった。次に、この媒
体全体を60℃で2分間加熱することにより、基板上の
着色及び立体パターンは消去した。この変化は繰返し行
わせることが可能であった。
体全体を60℃で2分間加熱することにより、基板上の
着色及び立体パターンは消去した。この変化は繰返し行
わせることが可能であった。
実施例3
等重量の6′−二トロー1−ドデシル−5,5’ −ジ
メチルスピロ〔インドリン−2,2′−ベンゾピラン〕
とラウリン酸アミドを真空蒸着用ボートに仕込み、膜厚
z5μm となるようにガラス基板上に真空蒸着して、
記録媒体を作製した。これにフォトマスクを重ねUV−
D!i 5 E+フィルターをつけた500W超高圧水
銀灯の紫外線を5儒の距離から20秒間照射することに
より露光部のみが隆起した立体パターンが得られた。隆
起部分の膜厚変化率は20%であった。この媒体の一部
に、Y−50フイルターをつけた超高圧水銀灯の可視光
を5副の距離から5分間照射し、露光部分の隆起を消失
させることにより、立体パターンを一部修正することが
可能でめった。
メチルスピロ〔インドリン−2,2′−ベンゾピラン〕
とラウリン酸アミドを真空蒸着用ボートに仕込み、膜厚
z5μm となるようにガラス基板上に真空蒸着して、
記録媒体を作製した。これにフォトマスクを重ねUV−
D!i 5 E+フィルターをつけた500W超高圧水
銀灯の紫外線を5儒の距離から20秒間照射することに
より露光部のみが隆起した立体パターンが得られた。隆
起部分の膜厚変化率は20%であった。この媒体の一部
に、Y−50フイルターをつけた超高圧水銀灯の可視光
を5副の距離から5分間照射し、露光部分の隆起を消失
させることにより、立体パターンを一部修正することが
可能でめった。
以上説明したように本発明を用いれば、光照射によ多基
板の任意の部分あるいは形状に、大きな体積変化を起し
て立体パターンを形成させることができ、更に熱又は異
なる波長の光によりパターンを消失させることも可能で
あり、すなわち、繰返し性がある。また、上記体積変化
は蒸着膜の屈折率変化、吸収波長域の変化も伴っている
ので、本発明方法は、可逆的な凹凸を利用した印刷用原
板、記録材料、回折格子の作製方法、屈折率変化を利用
したメモリーの形成方法などに応用できる利点がある。
板の任意の部分あるいは形状に、大きな体積変化を起し
て立体パターンを形成させることができ、更に熱又は異
なる波長の光によりパターンを消失させることも可能で
あり、すなわち、繰返し性がある。また、上記体積変化
は蒸着膜の屈折率変化、吸収波長域の変化も伴っている
ので、本発明方法は、可逆的な凹凸を利用した印刷用原
板、記録材料、回折格子の作製方法、屈折率変化を利用
したメモリーの形成方法などに応用できる利点がある。
特許出願人 日本電信電話公社
代理人 中 本 宏
同 井 上 昭
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 下記一般式l: (式中、nFi、正の整数を示し、R1、R2及ヒR,
は同−又は異なり、水素原子、炭素数1へ5のアルコキ
シ基、炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基、ニトロ
基又はハロゲンを示す)で表される化合物を含む材料金
蒸着した基板面に、光又は熱エネルギーを加えることに
より可逆的に凹凸を形成させる工程を包含すること全特
徴とする可逆的立体パターンの形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP262984A JPS60147733A (ja) | 1984-01-12 | 1984-01-12 | 可逆的立体パタ−ンの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP262984A JPS60147733A (ja) | 1984-01-12 | 1984-01-12 | 可逆的立体パタ−ンの形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60147733A true JPS60147733A (ja) | 1985-08-03 |
Family
ID=11534684
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP262984A Pending JPS60147733A (ja) | 1984-01-12 | 1984-01-12 | 可逆的立体パタ−ンの形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60147733A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0189188A2 (en) * | 1985-01-24 | 1986-07-30 | Sony Corporation | Optical recording medium |
JPS62160283A (ja) * | 1986-01-08 | 1987-07-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 書換型ヒ−トモ−ド光記憶媒体 |
EP0230024A2 (en) * | 1985-12-20 | 1987-07-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical recording medium having a stabilized recording layer |
-
1984
- 1984-01-12 JP JP262984A patent/JPS60147733A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0189188A2 (en) * | 1985-01-24 | 1986-07-30 | Sony Corporation | Optical recording medium |
EP0230024A2 (en) * | 1985-12-20 | 1987-07-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical recording medium having a stabilized recording layer |
JPS62160283A (ja) * | 1986-01-08 | 1987-07-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 書換型ヒ−トモ−ド光記憶媒体 |
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