JPS6021555B2 - 熱的記録材料 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高エネルギー密度のビームを用いて熱的に記
録層を変化させ、その変化により情報を記録するための
熱的記録材料に関するものであり、さらに詳しくは機械
的強度が大きくかつ記録感度の低下の少〈ない保護層を
有する熱的記録材料に関するものである。
録層を変化させ、その変化により情報を記録するための
熱的記録材料に関するものであり、さらに詳しくは機械
的強度が大きくかつ記録感度の低下の少〈ない保護層を
有する熱的記録材料に関するものである。
レーザ光ビームのごとき高エネルギー密度の光ビームを
情報に応じて記録層に照射すると、高い光学濃度を有し
ている記録層は照射される高エネルギー密度の光ビーム
を吸収して局所的な温度上昇を生じ、融解、蒸発、凝集
等の物理的変化をして、その光照射された部分が非照射
部分に対して光学的濃度差を生じるので情報が記録され
る。
情報に応じて記録層に照射すると、高い光学濃度を有し
ている記録層は照射される高エネルギー密度の光ビーム
を吸収して局所的な温度上昇を生じ、融解、蒸発、凝集
等の物理的変化をして、その光照射された部分が非照射
部分に対して光学的濃度差を生じるので情報が記録され
る。
このような熱的記録材料は一般に現像定着等の処理を必
要とせず、通常の室内光では変化しないため暗室操作が
不要であり、しかも、高コントラストの画像が得られ、
さらに情報の追加記録（アドオソ）が可能である等の利
点を有する。一般にこのような熱的記録材料への記録は
、記録すべき情報を電気的な時系列信号に変換し、その
信号に応じて強度変調されたレーザビームで、その記録
材料上を走査させて行なうことができ、この場合にはリ
アルタイムで記録画像が得られるという利点がある。
要とせず、通常の室内光では変化しないため暗室操作が
不要であり、しかも、高コントラストの画像が得られ、
さらに情報の追加記録（アドオソ）が可能である等の利
点を有する。一般にこのような熱的記録材料への記録は
、記録すべき情報を電気的な時系列信号に変換し、その
信号に応じて強度変調されたレーザビームで、その記録
材料上を走査させて行なうことができ、この場合にはリ
アルタイムで記録画像が得られるという利点がある。
このような記録材料は、例えばＭ．Ｌ．にｖｅｎｅりの
著による“Ｅｌｅｃｔｒｏｎ，Ｉｏｎａｎｄ Ｌａｓｅ
ｒ民ａｍＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ’’第１１回シンポジウ
ムの記録（１９６９年）、Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ誌（
１９６８年３月１８日）第５０頁、Ｄ．Ｍａｙｄａｎ著
“Ｔｈｅ ＲＩＩ Ｓ＄ｔｍ ＴｅｃｈｎｉｃａｌＪｏ
山ＭＩ”誌第５０巻（１９７１年）第１７６１頁、Ｃ．
０．Ｃａｒｌｓｏｎ著“Ｓｃｉｅｎｃｅ”誌第１５４巻
（１９６６年）第１５５０頁等に記載されているが、こ
の熱的言己録材料の記録層としては、金属、染料、プラ
スチック等が適している。
著による“Ｅｌｅｃｔｒｏｎ，Ｉｏｎａｎｄ Ｌａｓｅ
ｒ民ａｍＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ’’第１１回シンポジウ
ムの記録（１９６９年）、Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ誌（
１９６８年３月１８日）第５０頁、Ｄ．Ｍａｙｄａｎ著
“Ｔｈｅ ＲＩＩ Ｓ＄ｔｍ ＴｅｃｈｎｉｃａｌＪｏ
山ＭＩ”誌第５０巻（１９７１年）第１７６１頁、Ｃ．
０．Ｃａｒｌｓｏｎ著“Ｓｃｉｅｎｃｅ”誌第１５４巻
（１９６６年）第１５５０頁等に記載されているが、こ
の熱的言己録材料の記録層としては、金属、染料、プラ
スチック等が適している。
それらのうち記録層に金属を用いたものとしてはたとえ
ば支持体上にＢｉ，Ｓｎ，ｌｎ、等の金属薄膜を用いた
ものがあり、それらは高解像力の画像が記録でき、しか
も高コントラストである等、熱的記録材料として優れた
性質を有する。しかしながら一般に金属薄膜を用いた記
録材料では、記録に用いるレーザ光に対する光反射率が
５０％以上のものが多く、レーザ光のエネルギーを有効
に利用することが出来ないため、記録に要する光エネル
ギーが大きく、従って高速走査で記録するには大出力の
レーザ光源が必要となり、そのため記録装置が大型且つ
高価なものになるという欠点がある。そこで記録感度の
高い記録材料が探究されており、その１例として特公昭
４６一４０４７ｙ号公報にはＳｅとＢｉより成る薄膜の
光反射率を下げるため極く薄いＣもの膜を積層した記録
材料が記載されている。しかしながら、Ｓｅ等を用いた
ものは、公害発生の危険があるため好ましくなく、また
記録された画質も満足出来るものではない。反射防止層
を設けた記録材料の他の例としては、椿関昭５０−１５
１１５１号公報および特関昭５１−７４６３２号公報に
、金属層と記録に用いるレーザ光の波長域で光吸収を有
する反射防止層が設けられることが記載されている。
ば支持体上にＢｉ，Ｓｎ，ｌｎ、等の金属薄膜を用いた
ものがあり、それらは高解像力の画像が記録でき、しか
も高コントラストである等、熱的記録材料として優れた
性質を有する。しかしながら一般に金属薄膜を用いた記
録材料では、記録に用いるレーザ光に対する光反射率が
５０％以上のものが多く、レーザ光のエネルギーを有効
に利用することが出来ないため、記録に要する光エネル
ギーが大きく、従って高速走査で記録するには大出力の
レーザ光源が必要となり、そのため記録装置が大型且つ
高価なものになるという欠点がある。そこで記録感度の
高い記録材料が探究されており、その１例として特公昭
４６一４０４７ｙ号公報にはＳｅとＢｉより成る薄膜の
光反射率を下げるため極く薄いＣもの膜を積層した記録
材料が記載されている。しかしながら、Ｓｅ等を用いた
ものは、公害発生の危険があるため好ましくなく、また
記録された画質も満足出来るものではない。反射防止層
を設けた記録材料の他の例としては、椿関昭５０−１５
１１５１号公報および特関昭５１−７４６３２号公報に
、金属層と記録に用いるレーザ光の波長域で光吸収を有
する反射防止層が設けられることが記載されている。
また、特開昭５１−７８２３６号公報には金属と反射防
止材料とを物理的な混在状態とした記録層を有する記録
材料が記載されている。しかしながら、このような熱的
記録材料の記録層は一般にそれ自体非常に傷がつきやす
く、更に記録層の厚さは高々０．５仏程度であるため、
記録材料の取り扱いの際についた傷は表面だけでなく支
持体の表面にまで容易に到達し、これが記録された情報
の読み出しの際にもあらわれるので、記録された情報の
信頼性を失う結果となる。このような傷は記録前の記録
材料にも容易に発生する。さらには、このような熱的記
録材料に於いて、充分な感度を有し、且つ機械的強度の
大きい、実用に充分適応し得る記録層形成材料を選択す
ることはきわめて困難であり、まして商品としての廉価
でそのような記録材料を提供することはできません。従
来、このような記録層が傷つき易い欠点に対して、記録
層上に保護層を設けてその欠点を解決したものが知られ
ており、侍開昭４９−９６７１６号公報、椿関昭５１−
５９６２６号公報、鰭関昭５１一７５５２３号公報ある
いは袴関昭５１−８８０２４号公報などに有機高分子物
質を保護層に用いたものが記載されている。
止材料とを物理的な混在状態とした記録層を有する記録
材料が記載されている。しかしながら、このような熱的
記録材料の記録層は一般にそれ自体非常に傷がつきやす
く、更に記録層の厚さは高々０．５仏程度であるため、
記録材料の取り扱いの際についた傷は表面だけでなく支
持体の表面にまで容易に到達し、これが記録された情報
の読み出しの際にもあらわれるので、記録された情報の
信頼性を失う結果となる。このような傷は記録前の記録
材料にも容易に発生する。さらには、このような熱的記
録材料に於いて、充分な感度を有し、且つ機械的強度の
大きい、実用に充分適応し得る記録層形成材料を選択す
ることはきわめて困難であり、まして商品としての廉価
でそのような記録材料を提供することはできません。従
来、このような記録層が傷つき易い欠点に対して、記録
層上に保護層を設けてその欠点を解決したものが知られ
ており、侍開昭４９−９６７１６号公報、椿関昭５１−
５９６２６号公報、鰭関昭５１一７５５２３号公報ある
いは袴関昭５１−８８０２４号公報などに有機高分子物
質を保護層に用いたものが記載されている。
しかしながらこのような有機高分子物質の保護層を記録
層に傷がつかないほど十分な膜厚、たとえば３ムの以上
に形成すると、記録材料として感度が大中に、たとえば
１／２とか１／３に低下し、記録感度の面で実用性のな
い記録材料となってしまつｏ本発明はかかる従来の欠点
を考慮してそれと解決すべ〈なされたものであり、その
目的とするところは、記録層本来の感度をできる限り低
下させる事なく、また多数回密着によりデュープを作成
しても傷がつきにくい熱的記録材料を提供することであ
り、さらに、記録材料上に附着した塵芥を記録層に傷を
つけることなく容易に除去することが可能な熱的記録材
料を提供することである。
層に傷がつかないほど十分な膜厚、たとえば３ムの以上
に形成すると、記録材料として感度が大中に、たとえば
１／２とか１／３に低下し、記録感度の面で実用性のな
い記録材料となってしまつｏ本発明はかかる従来の欠点
を考慮してそれと解決すべ〈なされたものであり、その
目的とするところは、記録層本来の感度をできる限り低
下させる事なく、また多数回密着によりデュープを作成
しても傷がつきにくい熱的記録材料を提供することであ
り、さらに、記録材料上に附着した塵芥を記録層に傷を
つけることなく容易に除去することが可能な熱的記録材
料を提供することである。
上述したごとき諸目的を達成しうる本発明は、支持体上
に直接あるいは間接に記録層が設けられ、該記録層上に
酢酸ビニル含有量１の重量％以上のエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体、ポリクロロプレン、軟化点が約７０００以
下のアィオノマー、軟化点が約７０ｑｏ以下のポリエチ
レン、及び軟化点が約７０００以下のアセチルセルロー
ス樹脂から選ばれた少くとも１つの有機高分子物質から
なる第一保護層が設けら、さらにその上に機械的強度の
強い有機高分子物質からなる第二保護層ぎ設けられた熱
的記録材料である。以下本発明を詳細に説明する。
に直接あるいは間接に記録層が設けられ、該記録層上に
酢酸ビニル含有量１の重量％以上のエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体、ポリクロロプレン、軟化点が約７０００以
下のアィオノマー、軟化点が約７０ｑｏ以下のポリエチ
レン、及び軟化点が約７０００以下のアセチルセルロー
ス樹脂から選ばれた少くとも１つの有機高分子物質から
なる第一保護層が設けら、さらにその上に機械的強度の
強い有機高分子物質からなる第二保護層ぎ設けられた熱
的記録材料である。以下本発明を詳細に説明する。
まず本発明に用いられる支持体としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリカーポネート等のプラスチック、
ガラス、紙、板状又は箔状の金属等の一般の記録材料の
支持体があり、特にポリエチレンテレフタレートフィル
ムは軽量かつ強軌であり、伸長性も４・さく、そのため
所望ならばきわめて薄いフィルム状とすることができ、
−さらに透明であるなど諸々の特長を備えているので好
しし・ものである。
テレフタレート、ポリカーポネート等のプラスチック、
ガラス、紙、板状又は箔状の金属等の一般の記録材料の
支持体があり、特にポリエチレンテレフタレートフィル
ムは軽量かつ強軌であり、伸長性も４・さく、そのため
所望ならばきわめて薄いフィルム状とすることができ、
−さらに透明であるなど諸々の特長を備えているので好
しし・ものである。
本発明に用いられる記録層は光学濃度の高い層であり、
薄層で隠蔽力のある物質によって形成されることが好ま
しい。
薄層で隠蔽力のある物質によって形成されることが好ま
しい。
そのような物質の代表的なものはたとえば金属である。
また記録層は陰蔽力のある物質だけから構成されるもの
（たとえば金属層のみ）ではなく、記録感度を上昇させ
るために他の物質からなる層を金属層と積層したもの、
あるいは記録感度を上昇させるために他の物質を金属と
共に混合した層をも含む。記録層は、レーザ光の照射な
どによって照射領域が融解、蒸発あるいは凝集などの熱
的変化を起こした結果の光学的透過率あるいは反射率の
変化に寄与する主たる層であり、種々の層礎成および物
質を選択することができる。記録層に用いられる金属と
してはＭｇ，Ｓｃ，Ｙ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，
Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｒｅ．Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ
，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，ｌｒ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，
Ｚｕ，Ｃｄ，ＡＩ，Ｇａ，ｌｎ，Ｓｊ，ＣＥ，Ｔｅ，Ｐ
ｂ，Ｐｏ，Ｓｎ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｓｅ，Ｔｅがあり
、これらの金属は単体あるいは２種以上の金属の組み合
せで使用される。
また記録層は陰蔽力のある物質だけから構成されるもの
（たとえば金属層のみ）ではなく、記録感度を上昇させ
るために他の物質からなる層を金属層と積層したもの、
あるいは記録感度を上昇させるために他の物質を金属と
共に混合した層をも含む。記録層は、レーザ光の照射な
どによって照射領域が融解、蒸発あるいは凝集などの熱
的変化を起こした結果の光学的透過率あるいは反射率の
変化に寄与する主たる層であり、種々の層礎成および物
質を選択することができる。記録層に用いられる金属と
してはＭｇ，Ｓｃ，Ｙ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，
Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｒｅ．Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ
，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，ｌｒ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，
Ｚｕ，Ｃｄ，ＡＩ，Ｇａ，ｌｎ，Ｓｊ，ＣＥ，Ｔｅ，Ｐ
ｂ，Ｐｏ，Ｓｎ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｓｅ，Ｔｅがあり
、これらの金属は単体あるいは２種以上の金属の組み合
せで使用される。
本発明に用いられる金属として特に望ましい条件は、毒
性の少ないこと、融解または蒸発に要するエネルギーが
小さいこと、膜の製造が容易であることなどで、最も好
ましいものはＳｎ，Ｂｉ，ｌｎである。これらの金属は
単体、２種以上あるいは合金を真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティング、電気メッキ、無電藤メッキ
等種々の方法によって支持体上にあるいは下塗層その他
の層の上に単層あるいは重層して薄層を形成することが
できる。さらにこれらの金属は後述する感度上昇のため
に用いられる物質と共蒸着などの手段により物理的に混
在した状態の層として形成してもよい。金属層の膜厚は
画像として必要な光学濃度を与える厚さであればよく、
例えば透過濃度２を得るためには一般に３００〜１５０
０Ａの膜厚を必要とするが、この膜厚は用いる金属によ
って異なる。
性の少ないこと、融解または蒸発に要するエネルギーが
小さいこと、膜の製造が容易であることなどで、最も好
ましいものはＳｎ，Ｂｉ，ｌｎである。これらの金属は
単体、２種以上あるいは合金を真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティング、電気メッキ、無電藤メッキ
等種々の方法によって支持体上にあるいは下塗層その他
の層の上に単層あるいは重層して薄層を形成することが
できる。さらにこれらの金属は後述する感度上昇のため
に用いられる物質と共蒸着などの手段により物理的に混
在した状態の層として形成してもよい。金属層の膜厚は
画像として必要な光学濃度を与える厚さであればよく、
例えば透過濃度２を得るためには一般に３００〜１５０
０Ａの膜厚を必要とするが、この膜厚は用いる金属によ
って異なる。
また真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング
等の方法でたとえば支持体上に金属層を形成する場合、
同じ金属でも支持体の種類、温度、真空度、蒸着速度等
によって金属層の膜構造が変化するため、所望の光学濃
度を得るために必要な膜厚も場合によって異なる。また
記録層には上述のごとき金属以外にも記録感度を上昇さ
せるための物質を金属層に積層して、あるいは金属と共
に混合した層として用いることが好ましい。
等の方法でたとえば支持体上に金属層を形成する場合、
同じ金属でも支持体の種類、温度、真空度、蒸着速度等
によって金属層の膜構造が変化するため、所望の光学濃
度を得るために必要な膜厚も場合によって異なる。また
記録層には上述のごとき金属以外にも記録感度を上昇さ
せるための物質を金属層に積層して、あるいは金属と共
に混合した層として用いることが好ましい。
これらの物質は反射防止その他の作用によって記録感度
を上昇させるものであり、たとえばＰｂ○，Ｗ０３，Ｔ
ｉ０２，Ｓｊ○，Ｓｉ０２，Ｚｒ０２などの酸化物、Ｇ
ｅ，ｌｎ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｆｅ，Ｂｉ，ＡＩ，Ｓｉ
，Ｚｎ，Ｖなどのカルコゲン化物、ＰｂＸ２，ＡｇＸ，
ＳｕＸ２，ＳｂＸ５，ＳｂＸ３（こ）で×は弗素、塩素
、臭素、沃素）などのハロゲン化物、＄，Ｓｂ，Ｐ，戊
，Ｓｉ，Ｔｅなどがある。これらの物質に望ましい特性
は毒性の少なく、吸湿又は潮解又は金属との階反応等に
よる経時劣化が少なく、膜の製造が容易である等である
。これらの特性の上からはＷＳ，ＳｎＳ，Ｐｂ１２など
は特に好ましい物質である。金属層に積層して設けられ
る層の場合は、その膜厚は金属層として使用する金属の
種類、膜厚等によって異なるが通常５０Ａ〜１０００△
程度が好ましい。これらの記録層と支持体との間に記録
感度を上昇させるための下塗層を設けてもよい。たとえ
ばハロゲン化ポリオレフィン、ハロゲン化ポリヒドロキ
シスチレン、塩化ゴムなどの下塗層を設けることは記録
材料の感度上昇に有効である。本発明に用いられる保護
層は、記録層上に設ける軟化温度の低い有機高分子物質
からなる第一保護層とさらにその上に設ける機械的強度
の強い有機高分子物質からなる第二保護層とを有するも
のであり、さらに好ましくはその上に高級脂肪酸あるい
はそのアミドなど記録材料表面の滑りをよくする層を有
するものである。
を上昇させるものであり、たとえばＰｂ○，Ｗ０３，Ｔ
ｉ０２，Ｓｊ○，Ｓｉ０２，Ｚｒ０２などの酸化物、Ｇ
ｅ，ｌｎ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｆｅ，Ｂｉ，ＡＩ，Ｓｉ
，Ｚｎ，Ｖなどのカルコゲン化物、ＰｂＸ２，ＡｇＸ，
ＳｕＸ２，ＳｂＸ５，ＳｂＸ３（こ）で×は弗素、塩素
、臭素、沃素）などのハロゲン化物、＄，Ｓｂ，Ｐ，戊
，Ｓｉ，Ｔｅなどがある。これらの物質に望ましい特性
は毒性の少なく、吸湿又は潮解又は金属との階反応等に
よる経時劣化が少なく、膜の製造が容易である等である
。これらの特性の上からはＷＳ，ＳｎＳ，Ｐｂ１２など
は特に好ましい物質である。金属層に積層して設けられ
る層の場合は、その膜厚は金属層として使用する金属の
種類、膜厚等によって異なるが通常５０Ａ〜１０００△
程度が好ましい。これらの記録層と支持体との間に記録
感度を上昇させるための下塗層を設けてもよい。たとえ
ばハロゲン化ポリオレフィン、ハロゲン化ポリヒドロキ
シスチレン、塩化ゴムなどの下塗層を設けることは記録
材料の感度上昇に有効である。本発明に用いられる保護
層は、記録層上に設ける軟化温度の低い有機高分子物質
からなる第一保護層とさらにその上に設ける機械的強度
の強い有機高分子物質からなる第二保護層とを有するも
のであり、さらに好ましくはその上に高級脂肪酸あるい
はそのアミドなど記録材料表面の滑りをよくする層を有
するものである。
第一保護層に使用される有機高分子物質は軟化点が約７
０ｏｏ以下の後記する特定の有機高分子物質であって、
そのうち好ましくは約６０００以下のもの、特に好まし
くは約５０ｑｏ以下のものである。
０ｏｏ以下の後記する特定の有機高分子物質であって、
そのうち好ましくは約６０００以下のもの、特に好まし
くは約５０ｑｏ以下のものである。
こ）で軟化点とは、プラスチック材料の軟化点を定める
ピカ一試験（Ｖｉｃａｔｔｅｓｔ）による温度のことで
あり、具体的にはアメリカ材料試験法（ＡＳＴＭ Ｄ１
５２５）によって測定される温度である。
ピカ一試験（Ｖｉｃａｔｔｅｓｔ）による温度のことで
あり、具体的にはアメリカ材料試験法（ＡＳＴＭ Ｄ１
５２５）によって測定される温度である。
本発明者達は種々の軟化点を有する有機高分子物質を第
一保護層として用いた結果、軟化点が約７０００以下の
もの、特に約５０００以下のものは記録感度が高く、軟
化点が約８０こ０以上のものに比べると約２倍も高感度
であった。本発明で用いられる軟化点が約７０００以下
の有機高分子物質としては、酢酸ビニル含有量が１の重
量％以下のエチレン−酢酸ビニル共重合体及びポリクロ
ロプレンの他に、「プラスチック性能便覧」（日本プラ
スチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会
編著、工業調査会発行、１９６８王１０月２５日発行）
に記載されている軟化点約７０ｑｏ以下のアィオノマ（
同便覧、３４３頁）、軟化点約７０℃以下のポリエチレ
ン（同便覧、４１１頁）、及び軟化点約７０℃以下のア
セチルセルロース樹脂（同便覧、４２１頁）がある。こ
れらの第一保護層形成物質は、ゴム状のものが多く、べ
とべとしたり、皮膜性が悪かったり、引掻き傷などがつ
き易いのが通常であり、それ単独では膜厚を厚くしても
保護層としての各種の機能を達成することができない。
後述の第二保護層を設けた場合、第一保護層の厚さは約
１りの以上あれば感度低下を少なくする効果があり、一
般に１〜１０ム仇の厚さがあればよいが、好ましくは２
〜６仏のの厚さがあればよい。第二保護層に用いられる
有機高分子物質は、機械的強度の強い従来から知られて
いる各種のものを用いることができる。
一保護層として用いた結果、軟化点が約７０００以下の
もの、特に約５０００以下のものは記録感度が高く、軟
化点が約８０こ０以上のものに比べると約２倍も高感度
であった。本発明で用いられる軟化点が約７０００以下
の有機高分子物質としては、酢酸ビニル含有量が１の重
量％以下のエチレン−酢酸ビニル共重合体及びポリクロ
ロプレンの他に、「プラスチック性能便覧」（日本プラ
スチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会
編著、工業調査会発行、１９６８王１０月２５日発行）
に記載されている軟化点約７０ｑｏ以下のアィオノマ（
同便覧、３４３頁）、軟化点約７０℃以下のポリエチレ
ン（同便覧、４１１頁）、及び軟化点約７０℃以下のア
セチルセルロース樹脂（同便覧、４２１頁）がある。こ
れらの第一保護層形成物質は、ゴム状のものが多く、べ
とべとしたり、皮膜性が悪かったり、引掻き傷などがつ
き易いのが通常であり、それ単独では膜厚を厚くしても
保護層としての各種の機能を達成することができない。
後述の第二保護層を設けた場合、第一保護層の厚さは約
１りの以上あれば感度低下を少なくする効果があり、一
般に１〜１０ム仇の厚さがあればよいが、好ましくは２
〜６仏のの厚さがあればよい。第二保護層に用いられる
有機高分子物質は、機械的強度の強い従来から知られて
いる各種のものを用いることができる。
例えば、塩化ビニールと酢酸ビニールの共重合体、ポリ
塩化ビニール、アセチルセルロース、ポリエチレンテレ
フタレ−ト、ポリイミド、ポリウレタン、ポリフッ化ビ
ニリデン、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
エチレン、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアクリル
アミド、ナイロン、ポリカーボネート、ポリプロピレン
、ポリスチレン、ポリブテン、ポリ三フッ化塩化エチレ
ン、ポリ（メタ）アクリル酸ェステルあるいは、これら
の英重合体などがあり、これらの一つあるいは二以上の
組み合せでもよい。機械的強度の強いものとは、記録材
料として一般的な取扱いとしている限り記録材料の表面
にすり傷が容易には発生しない程度の保護層としての表
面の強さがあるものである。第二保護層の厚さも１〜１
０りの程度あればよいが、好ましくは２〜６山肌である
。両保護層の厚さはそれぞれの役割を果すものであれば
よいが、厚さの和は１０一肌以下が好ましい。保護層の
厚さが例えば２０〃肌以上にもなるとデュープの際にデ
ュープされた画像はボケてしまうので好ましくない。な
お、第二保護層の上に高級脂肪酸あるいは高級脂肪酸ア
ミドの層を形成すると、記録材料表面は滑りやすくなる
ので表面にすり傷がつきにくくなる。従ってこの様なオ
−バーコート層を設けることも好ましいことである。保
護層として好ましい性質は、記録層の感度をできる限り
低下させないこと、機械的強度が大さし、こと、記録層
と十分に接着しはがれにくいこと、その濃厚が密着デュ
ープを行う際に記録された情報がボケルことなくデュー
ブされることなどであるが、本発明の熱的記録材料は上
述の性質のいずれも備えている。
塩化ビニール、アセチルセルロース、ポリエチレンテレ
フタレ−ト、ポリイミド、ポリウレタン、ポリフッ化ビ
ニリデン、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
エチレン、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアクリル
アミド、ナイロン、ポリカーボネート、ポリプロピレン
、ポリスチレン、ポリブテン、ポリ三フッ化塩化エチレ
ン、ポリ（メタ）アクリル酸ェステルあるいは、これら
の英重合体などがあり、これらの一つあるいは二以上の
組み合せでもよい。機械的強度の強いものとは、記録材
料として一般的な取扱いとしている限り記録材料の表面
にすり傷が容易には発生しない程度の保護層としての表
面の強さがあるものである。第二保護層の厚さも１〜１
０りの程度あればよいが、好ましくは２〜６山肌である
。両保護層の厚さはそれぞれの役割を果すものであれば
よいが、厚さの和は１０一肌以下が好ましい。保護層の
厚さが例えば２０〃肌以上にもなるとデュープの際にデ
ュープされた画像はボケてしまうので好ましくない。な
お、第二保護層の上に高級脂肪酸あるいは高級脂肪酸ア
ミドの層を形成すると、記録材料表面は滑りやすくなる
ので表面にすり傷がつきにくくなる。従ってこの様なオ
−バーコート層を設けることも好ましいことである。保
護層として好ましい性質は、記録層の感度をできる限り
低下させないこと、機械的強度が大さし、こと、記録層
と十分に接着しはがれにくいこと、その濃厚が密着デュ
ープを行う際に記録された情報がボケルことなくデュー
ブされることなどであるが、本発明の熱的記録材料は上
述の性質のいずれも備えている。
以下、実施例によって本発明を説明する。
実施例 １〜８
厚さ１００〃机のポリエチレンテレフタレートフィルム
上に、塩素化ポリエチレン（山陽国策パルプ工業■製“
９０７ＨＡ”）２夕をメチルセロソルフアセテート５０
ｃｃおよびメチルエチルケトン５０ｃｃの混合溶剤中に
溶かした液をホワィラ−によって塗布して、乾燥膜厚が
０．３一仇の塩素化ポリエチレン層を形成せしめた。
上に、塩素化ポリエチレン（山陽国策パルプ工業■製“
９０７ＨＡ”）２夕をメチルセロソルフアセテート５０
ｃｃおよびメチルエチルケトン５０ｃｃの混合溶剤中に
溶かした液をホワィラ−によって塗布して、乾燥膜厚が
０．３一仇の塩素化ポリエチレン層を形成せしめた。
次にこの上に真空度５×１０‐５Ｔｏｒｒの条件下でｌ
ｎと戊Ｓとをそれぞれ単独では３００Ａと２５０Ａの厚
さに相当する量だけ共蒸着し、ｌｎとＷＳとが物理的に
混在する層からなる記録層を形成せしめた。この記録材
料を試料Ａとする。次に、上記の記録層の上に第一保護
層として下記の処方１からなる溶液を塗布し、乾燥膜厚
が４りのになるようにエチレン−酢酸ピニル共重合体の
層を形成せしめた。
ｎと戊Ｓとをそれぞれ単独では３００Ａと２５０Ａの厚
さに相当する量だけ共蒸着し、ｌｎとＷＳとが物理的に
混在する層からなる記録層を形成せしめた。この記録材
料を試料Ａとする。次に、上記の記録層の上に第一保護
層として下記の処方１からなる溶液を塗布し、乾燥膜厚
が４りのになるようにエチレン−酢酸ピニル共重合体の
層を形成せしめた。
処方１次に、第一保護層の上に下記の各種の処方０，〜
０８ からなる溶液を塗布し、乾燥膜陣が６〃肌になる
ように第二保護層を形成せしめた。
０８ からなる溶液を塗布し、乾燥膜陣が６〃肌になる
ように第二保護層を形成せしめた。
すなわち第一保護層と第二保護層との膜厚の和は１０一
である。処方ロ， 処方ロ２ 「アルコール可溶性ナイロン（東レ■ 処方ロ３ 処方ロ４ ポリウレタンェマルジョン（保±谷 化学工業■製“アィゼラック スＳ−１０７０’’） 処方０５ 塩化ビニリデンェマルジョン（呉羽 化学工業■製“クレハ。
である。処方ロ， 処方ロ２ 「アルコール可溶性ナイロン（東レ■ 処方ロ３ 処方ロ４ ポリウレタンェマルジョン（保±谷 化学工業■製“アィゼラック スＳ−１０７０’’） 処方０５ 塩化ビニリデンェマルジョン（呉羽 化学工業■製“クレハ。
ンＶＡＴＲ−１０ｒ）
処方０６
ポリアクリル酸ェステルェマルジョ
ン（日本アクリル工業■製
“プライマール Ｂ−１５’’）
処方０７
処方ロ８
ポリエチレンェマルジョン（三井石油
化学工業■製“ケミパールＡＩＯＯ’’）以上、第二保
護層として処方ロ，〜処方ロ８の塗布液の塗布を行なっ
た各試料の上に、さらに下記の処方ｍを回転速度１３５
回／分のホワィラーで塗布してべへン酸の層を形成せし
めた。
護層として処方ロ，〜処方ロ８の塗布液の塗布を行なっ
た各試料の上に、さらに下記の処方ｍを回転速度１３５
回／分のホワィラーで塗布してべへン酸の層を形成せし
めた。
これら処方ロ，〜０８ を用いた本発明による記録材料
をそれぞれ試料１〜８とする。処方ｍ 一方、比較試料として試料１〜８における第一保護層を
形成せしめずして第二保護層のための組成物のみで膜厚
１０山肌の層を形成せしめたものを調製した。
をそれぞれ試料１〜８とする。処方ｍ 一方、比較試料として試料１〜８における第一保護層を
形成せしめずして第二保護層のための組成物のみで膜厚
１０山肌の層を形成せしめたものを調製した。
これらをそれぞれ本発明による試料の処方０，〜処方ロ
８ を用いたもののＮｏ．と対応させて比較試料１〜８
とする。次に、試料Ａ、本発明による試料１〜８および
比較試料１〜８のそれぞれにレーザ光を照射して各記録
材料の相対的な感度の測定をした。レーザ光としては最
大出力２Ｗで波長５１４５Ａのアルゴンイオンレーザの
光をレンズによって約１３一肌のビーム径に集東させた
ものを用いて、１００ｍ／ｓｅｃの走査速度で記録層側
から照射した。各試料の感度はしーザ光の照射領域がか
ぶりなく１０仏肌中で鮮明に記録されるに要する最小の
レーザ出力強度の大きさを比較することによって相対的
に評価された。すなわち記録に要する最小のレーザ出力
強度が小さいほど高感度であることになる。第１表には
上述の感度の測定の結果を示した。第１表 第１表から明らかなごとく、本発明による試料の場合、
つまりｌｏＡｍの腰厚の保護層を形成せしめたものは、
保護層を形成しないものと比べて記録に要するレーザ出
力強度を２倍にする必要がない、換言すれば上記の記録
条件の場合には１０仏川の膜厚の保護層を形成しても記
録感度が１′沙〆下にならないことが認められた。
８ を用いたもののＮｏ．と対応させて比較試料１〜８
とする。次に、試料Ａ、本発明による試料１〜８および
比較試料１〜８のそれぞれにレーザ光を照射して各記録
材料の相対的な感度の測定をした。レーザ光としては最
大出力２Ｗで波長５１４５Ａのアルゴンイオンレーザの
光をレンズによって約１３一肌のビーム径に集東させた
ものを用いて、１００ｍ／ｓｅｃの走査速度で記録層側
から照射した。各試料の感度はしーザ光の照射領域がか
ぶりなく１０仏肌中で鮮明に記録されるに要する最小の
レーザ出力強度の大きさを比較することによって相対的
に評価された。すなわち記録に要する最小のレーザ出力
強度が小さいほど高感度であることになる。第１表には
上述の感度の測定の結果を示した。第１表 第１表から明らかなごとく、本発明による試料の場合、
つまりｌｏＡｍの腰厚の保護層を形成せしめたものは、
保護層を形成しないものと比べて記録に要するレーザ出
力強度を２倍にする必要がない、換言すれば上記の記録
条件の場合には１０仏川の膜厚の保護層を形成しても記
録感度が１′沙〆下にならないことが認められた。
一方、比較試料の場合には１０仏机の膜厚の保護層を形
成せしめると保護層がない場合に比べて記録感度は少く
とも１′３以下になってしまった。さらに試料Ａおよび
実施例１〜８で作成した本発明による試料の機械的強度
を下記の方法によって測定した。
成せしめると保護層がない場合に比べて記録感度は少く
とも１′３以下になってしまった。さらに試料Ａおよび
実施例１〜８で作成した本発明による試料の機械的強度
を下記の方法によって測定した。
すでに情報の記録された試料Ａおよび本発明による試料
をオリジナルとして富士・ジアゾ・フィルムＭタイプＭ
−４２０８一Ｐに連続デュープをおこなった。なお装置
には富士・ジアゾ・プリンタＪ−２１および富士・ジア
ゾ・プロセッサＤ−３０を使用した。試料Ａ（保護層な
し）では、デュープを５枚作成すると、オリジナルは記
録層が損傷を受けて、記録された情報は読み取り不能に
なる個所が多数発生した。
をオリジナルとして富士・ジアゾ・フィルムＭタイプＭ
−４２０８一Ｐに連続デュープをおこなった。なお装置
には富士・ジアゾ・プリンタＪ−２１および富士・ジア
ゾ・プロセッサＤ−３０を使用した。試料Ａ（保護層な
し）では、デュープを５枚作成すると、オリジナルは記
録層が損傷を受けて、記録された情報は読み取り不能に
なる個所が多数発生した。
一方本発明による試料では、デュープを１００功女作成
した後でも記録材料は損傷を受けず記録された情報は完
全に読み取ることが可能であった。なお比較試料でもデ
ユーブは１００の女作成しても記録材料は損傷を受けな
かった。すなわち本発明による試料は比較試料と同等の
強い機械的強度を有していることが認められた。実施例
９ 実施例１〜８においては第一保護層としてエチレン−酢
酸ビニル共重合体を用いたが、実施例２においては第一
保護層として下記の処方１２によってポリクロロプレン
を４仏の乾燥膜厚に塗布したものを用い、他はすべて実
施例１の場合と同様のものを用いて、以下同様な手段で
感度の測定をした。
した後でも記録材料は損傷を受けず記録された情報は完
全に読み取ることが可能であった。なお比較試料でもデ
ユーブは１００の女作成しても記録材料は損傷を受けな
かった。すなわち本発明による試料は比較試料と同等の
強い機械的強度を有していることが認められた。実施例
９ 実施例１〜８においては第一保護層としてエチレン−酢
酸ビニル共重合体を用いたが、実施例２においては第一
保護層として下記の処方１２によってポリクロロプレン
を４仏の乾燥膜厚に塗布したものを用い、他はすべて実
施例１の場合と同様のものを用いて、以下同様な手段で
感度の測定をした。
その結果は実施例１〜８の場合とはゞ同様であった。処
方１２
方１２
Claims (1)
- １ 支持体上に記録層が設けられ、該記録層上に酢酸ビ
ニル含有量１０重量％以上のエチレン−酢酸ビニル共重
合体、ポリクロロプレン、軟化点が約７０℃以下のアイ
オノマー、軟化点が約７０℃以下のポリエチレン、及び
軟化点が約７０℃以下のアセチルセルロース樹脂から選
ばれた少くとも１つの有機高分子物質からなる層が設け
られ、さらにその上に機械的強度の強い有機高分子物質
からなる第二保護層が設けられていることを特徴とする
熱的記録材料。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53079072A JPS6021555B2 (ja) | 1978-06-29 | 1978-06-29 | 熱的記録材料 |
| DE2925765A DE2925765C2 (de) | 1978-06-29 | 1979-06-26 | Thermisches Aufzeichnungsmaterial |
| GB7922225A GB2029267B (en) | 1978-06-29 | 1979-06-26 | Thermal recording elements |
| GB7922224A GB2029266B (en) | 1978-06-26 | 1979-06-26 | Thermal recording elements |
| DE19792925766 DE2925766A1 (de) | 1978-06-26 | 1979-06-26 | Thermisches aufzeichnungsmaterial |
| US06/377,100 US4463083A (en) | 1978-06-29 | 1982-05-11 | Thermal recording elements |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53079072A JPS6021555B2 (ja) | 1978-06-29 | 1978-06-29 | 熱的記録材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS555857A JPS555857A (en) | 1980-01-17 |
| JPS6021555B2 true JPS6021555B2 (ja) | 1985-05-28 |
Family
ID=13679674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53079072A Expired JPS6021555B2 (ja) | 1978-06-26 | 1978-06-29 | 熱的記録材料 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4463083A (ja) |
| JP (1) | JPS6021555B2 (ja) |
| DE (1) | DE2925765C2 (ja) |
| GB (1) | GB2029267B (ja) |
Families Citing this family (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4357616A (en) * | 1979-03-26 | 1982-11-02 | Hitachi, Ltd. | Recording medium |
| US4340655A (en) * | 1980-06-18 | 1982-07-20 | Eastman Kodak Company | Thermal and mechanical barrier layers for optical recording elements |
| JPS5724036A (en) * | 1980-07-18 | 1982-02-08 | Sony Corp | Optical information recording medium |
| JPS57179956A (en) * | 1981-04-25 | 1982-11-05 | Toshiba Corp | Optical recording member |
| JPS5977647A (ja) * | 1982-10-26 | 1984-05-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学式円盤 |
| JPS59104996A (ja) * | 1982-12-08 | 1984-06-18 | Canon Inc | 光記録方法 |
| US4995028A (en) * | 1982-12-17 | 1991-02-19 | Unisys Corp. | Coated media for optical recording, with soft/hard overcoat |
| US4551828A (en) * | 1983-03-18 | 1985-11-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Quadrilayer optical draw medium |
| US4719615A (en) * | 1983-08-22 | 1988-01-12 | Optical Data, Inc. | Erasable optical data storage medium |
| JPS6082386A (ja) * | 1983-10-12 | 1985-05-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | レ−ザ−記録材料 |
| JPS6161895A (ja) * | 1984-09-04 | 1986-03-29 | Daicel Chem Ind Ltd | レ−ザ−記録用フイルム |
| JP2627738B2 (ja) * | 1985-12-17 | 1997-07-09 | 大日本印刷株式会社 | 光カードの製造方法 |
| JPS62188037A (ja) * | 1986-02-13 | 1987-08-17 | Central Glass Co Ltd | 光情報記録カ−ド |
| JPS632223U (ja) * | 1986-06-23 | 1988-01-08 | ||
| US5297132A (en) * | 1986-10-29 | 1994-03-22 | Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha | Draw type optical recording medium |
| US4981743A (en) * | 1988-07-25 | 1991-01-01 | Unisys Corporation | Overcoat composition for optical record |
| DE69130344T2 (de) * | 1990-06-19 | 1999-04-08 | Canon Kk | Optisches Aufzeichnungsmedium, Verfahren zur optischen Aufzeichnung und Verfahren zur optischen Wiedergabe |
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