JPH04314578A - 印材 - Google Patents
印材Info
- Publication number
- JPH04314578A JPH04314578A JP3109705A JP10970591A JPH04314578A JP H04314578 A JPH04314578 A JP H04314578A JP 3109705 A JP3109705 A JP 3109705A JP 10970591 A JP10970591 A JP 10970591A JP H04314578 A JPH04314578 A JP H04314578A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- seal material
- engraved
- engraving
- laser light
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 238000004040 coloring Methods 0.000 claims abstract 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 abstract description 5
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 4
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 abstract description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 abstract description 3
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 abstract description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 abstract 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 11
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 8
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000010147 laser engraving Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Printing Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、セラミックス素材に着
色剤として金属を溶融混合した印材をレーザー加工装置
にて文字、模様を彫刻するための印材に関するものであ
る。
色剤として金属を溶融混合した印材をレーザー加工装置
にて文字、模様を彫刻するための印材に関するものであ
る。
【従来技術】従来、セラミックス、等の表面にレーザー
加工装置にて、文字、模様を彫刻する場合、原稿を読取
りながら、順次レーザーで加工する装置、又は、マスキ
ングによりレーザーで加工する装置で加工している。例
えば、(イ)特公昭41−17333号、(ロ)同43
−5843号、(ハ)同53−16721号、(ニ)同
56−27388号、(ホ)56−40033号がある
。これらの装置で前記のセラミックス素材の表面が白色
系統であるためにその表面に文字、模様を彫刻すると、
レーザー光が前記素材の表面にて反射したり、透過した
りして、彫刻する文字、模様の輪郭、または、彫刻面が
凸凹あるいはギザギザになり、シャープに彫刻できない
欠点があった。そのために、レーザー加工後に更に、シ
ャープにするための後加工が必要であった。前記(イ)
、(ロ)、(ハ)においてはこれらの欠点を除去する考
えは全くない。(ニ)、(ホ)は後加工をサンドブラス
ト法、高圧水等で後加工することが記載されているが、
彫刻表面にキズをつけたりしてしまうので、製造工程上
手間がかかり、コストアップとなっていた。又、前記の
素材は高融点の素材であるため、レーザー加工装置での
表面加工は、素材表面がきれいにできない。更に、レー
ザーのエネルギーは高エネルギーであるため、素材の彫
刻部分の近傍は、高温となるので、余分に溶融してしま
い、彫刻した表面が凸凹で、ギザギザになってしまう欠
点があった。
加工装置にて、文字、模様を彫刻する場合、原稿を読取
りながら、順次レーザーで加工する装置、又は、マスキ
ングによりレーザーで加工する装置で加工している。例
えば、(イ)特公昭41−17333号、(ロ)同43
−5843号、(ハ)同53−16721号、(ニ)同
56−27388号、(ホ)56−40033号がある
。これらの装置で前記のセラミックス素材の表面が白色
系統であるためにその表面に文字、模様を彫刻すると、
レーザー光が前記素材の表面にて反射したり、透過した
りして、彫刻する文字、模様の輪郭、または、彫刻面が
凸凹あるいはギザギザになり、シャープに彫刻できない
欠点があった。そのために、レーザー加工後に更に、シ
ャープにするための後加工が必要であった。前記(イ)
、(ロ)、(ハ)においてはこれらの欠点を除去する考
えは全くない。(ニ)、(ホ)は後加工をサンドブラス
ト法、高圧水等で後加工することが記載されているが、
彫刻表面にキズをつけたりしてしまうので、製造工程上
手間がかかり、コストアップとなっていた。又、前記の
素材は高融点の素材であるため、レーザー加工装置での
表面加工は、素材表面がきれいにできない。更に、レー
ザーのエネルギーは高エネルギーであるため、素材の彫
刻部分の近傍は、高温となるので、余分に溶融してしま
い、彫刻した表面が凸凹で、ギザギザになってしまう欠
点があった。
【発明が解消しようとする問題点】本発明は、レーザー
加工装置にて前記素材の表面に文字、模様を彫刻しても
その彫刻された文字、模様の輪郭はシャープに彫刻でき
る印材を提供するものである。
加工装置にて前記素材の表面に文字、模様を彫刻しても
その彫刻された文字、模様の輪郭はシャープに彫刻でき
る印材を提供するものである。
【0002】
【問題を解決するための手段】セラミックス素材の少な
くとも、その素材表面を着色したことである。
くとも、その素材表面を着色したことである。
【作用】レーザー加工装置にて、前記素材の表面に文字
、模様を彫刻した時、セラミックス素材の少なくとも表
面に着色することによりレーザー光を反射、透過しない
ので、彫刻した輪郭がシャープになる。
、模様を彫刻した時、セラミックス素材の少なくとも表
面に着色することによりレーザー光を反射、透過しない
ので、彫刻した輪郭がシャープになる。
【0003】
【実施例】以下本発明を実施例にて詳細に説明する。セ
ラミックス素材としては、アルミナ、ジルコニア、酸化
ケイ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ガラス等である。 又、素材に適宜混合できるする粉末充填物としては、炭
酸カルシウム、塩、塩化カルシウム、タルク、クレー等
の物質であり、セラミックス素材の種類によって適宜選
択して、混合使用してもよい。セラミックス素材と粉末
充填物との重量比率は、比重、粒径、気孔率によっても
ことなるが、0.5〜5倍の範囲で適宜選択する。前記
セラミックス素材と、粉末充填物との混合は、粉末状態
で混合できる。次に、セラミックスの着色剤としては、
チタン、クロム、マンガン、コバルト、ニッケル、硫化
カドミウム、セレン化カドミウム、酸化鉄等があり、全
体を着色できる。又、印材の表面への着色剤としては、
ペイント、絵の具、等のインキ類を塗布する。レーザー
光としては、直径0.03mm〜0.1mmの収束で彫
刻する。この収束度合いは適宜セラミックスの材質等に
より変更して彫刻するものである。
ラミックス素材としては、アルミナ、ジルコニア、酸化
ケイ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ガラス等である。 又、素材に適宜混合できるする粉末充填物としては、炭
酸カルシウム、塩、塩化カルシウム、タルク、クレー等
の物質であり、セラミックス素材の種類によって適宜選
択して、混合使用してもよい。セラミックス素材と粉末
充填物との重量比率は、比重、粒径、気孔率によっても
ことなるが、0.5〜5倍の範囲で適宜選択する。前記
セラミックス素材と、粉末充填物との混合は、粉末状態
で混合できる。次に、セラミックスの着色剤としては、
チタン、クロム、マンガン、コバルト、ニッケル、硫化
カドミウム、セレン化カドミウム、酸化鉄等があり、全
体を着色できる。又、印材の表面への着色剤としては、
ペイント、絵の具、等のインキ類を塗布する。レーザー
光としては、直径0.03mm〜0.1mmの収束で彫
刻する。この収束度合いは適宜セラミックスの材質等に
より変更して彫刻するものである。
【0004】
【実施例1】融点約1,200℃に配合した珪砂に炭酸
ナトリウム、更にコバルトを混合溶融させ、ブルーに着
色し、直径15mm、長さ50mmの円筒状金型に流し
込み、ゆっくり冷却し、直径15mm長さ50mmの円
柱状のセラミックスの印材を得た。この印材を特願平1
−302811号のレーザー加工装置にて3回彫刻した
。深度は0.5mmであった。レーザーでの彫刻後の輪
郭を観察すると、輪郭はシャープで、凸凹のないきれい
な表面であった。この印材をもって、市販の朱肉で捺印
すると鮮明な印影が得られた。
ナトリウム、更にコバルトを混合溶融させ、ブルーに着
色し、直径15mm、長さ50mmの円筒状金型に流し
込み、ゆっくり冷却し、直径15mm長さ50mmの円
柱状のセラミックスの印材を得た。この印材を特願平1
−302811号のレーザー加工装置にて3回彫刻した
。深度は0.5mmであった。レーザーでの彫刻後の輪
郭を観察すると、輪郭はシャープで、凸凹のないきれい
な表面であった。この印材をもって、市販の朱肉で捺印
すると鮮明な印影が得られた。
【実施例2】融点700℃に配合した炭酸ナトリウムと
炭酸カルシュウム混合の珪酸に更に、セレン化カドミウ
ムを混合溶融し赤色に着色したものを、粒径5〜20ミ
クロンの粉末としたものを100gと粒径4〜10ミク
ロンの食塩を混合攪拌し、直径15mm長さ80mmの
円筒体に密に充填した後、温度750℃で溶融させ、冷
却後、直径15mm長さ80mmの円筒体を得た。これ
を実施例1と同様に彫刻した後、彫刻文字模様の輪郭は
シャープに、きれいにできた。更に、水中に浸けて、食
塩を溶解除去し、乾燥後市販の油性インキを含浸させた
後捺印すると、鮮明な印影が得られた。
炭酸カルシュウム混合の珪酸に更に、セレン化カドミウ
ムを混合溶融し赤色に着色したものを、粒径5〜20ミ
クロンの粉末としたものを100gと粒径4〜10ミク
ロンの食塩を混合攪拌し、直径15mm長さ80mmの
円筒体に密に充填した後、温度750℃で溶融させ、冷
却後、直径15mm長さ80mmの円筒体を得た。これ
を実施例1と同様に彫刻した後、彫刻文字模様の輪郭は
シャープに、きれいにできた。更に、水中に浸けて、食
塩を溶解除去し、乾燥後市販の油性インキを含浸させた
後捺印すると、鮮明な印影が得られた。
【0005】
【実施例3】100gの融点1,200℃の銅赤ガラス
(銅赤色の着色されているガラス)粉末と、200gの
粒径5ミクロンのアルミナ粉末を混合攪拌し、その混合
粉末を直径15mmの円筒体に密に充填後1,200℃
にて加熱した後、冷却後、直径14mm、長さ50mm
の円柱状に切削加工した。その円盤表面を実施例1のレ
ーザー加工機にて彫刻した結果、深度0.8mmで、き
れいにでき、市販の朱肉にて捺印すると鮮明な印影が得
られた。
(銅赤色の着色されているガラス)粉末と、200gの
粒径5ミクロンのアルミナ粉末を混合攪拌し、その混合
粉末を直径15mmの円筒体に密に充填後1,200℃
にて加熱した後、冷却後、直径14mm、長さ50mm
の円柱状に切削加工した。その円盤表面を実施例1のレ
ーザー加工機にて彫刻した結果、深度0.8mmで、き
れいにでき、市販の朱肉にて捺印すると鮮明な印影が得
られた。
【0006】
【実施例4】100gの融点1,100℃の珪酸と炭酸
ナトリウムの混合物にアルミナ50gを混合し、直径1
5mm長さ50mmの円筒体に密に充填し、1,100
℃に加熱溶融した後、冷却し、乳白色のセラミックス印
材を得た。この印材の彫刻する表面に市販の速乾性マー
カーの黒色インキを塗布した後、実施例1と同じレーザ
ー加工機にて彫刻すると、彫刻した輪郭はシャープにで
き、捺印すると鮮明な印影が得られた。この実施例によ
り作成した印判を図1に示す。1は印字部、2は塗布イ
ンキである。比較例として実施例4において、彫刻する
表面になにも塗布しないでレーザー加工機にて彫刻する
と、彫刻した輪郭はギザギザであり、きれいに彫刻でき
なかった。以上の通りであり、レーザーで彫刻加工する
時、レーザーが照射するとレーザー光の印材表面にて反
射または、透過しないので彫刻した輪郭はシャープに彫
刻される。
ナトリウムの混合物にアルミナ50gを混合し、直径1
5mm長さ50mmの円筒体に密に充填し、1,100
℃に加熱溶融した後、冷却し、乳白色のセラミックス印
材を得た。この印材の彫刻する表面に市販の速乾性マー
カーの黒色インキを塗布した後、実施例1と同じレーザ
ー加工機にて彫刻すると、彫刻した輪郭はシャープにで
き、捺印すると鮮明な印影が得られた。この実施例によ
り作成した印判を図1に示す。1は印字部、2は塗布イ
ンキである。比較例として実施例4において、彫刻する
表面になにも塗布しないでレーザー加工機にて彫刻する
と、彫刻した輪郭はギザギザであり、きれいに彫刻でき
なかった。以上の通りであり、レーザーで彫刻加工する
時、レーザーが照射するとレーザー光の印材表面にて反
射または、透過しないので彫刻した輪郭はシャープに彫
刻される。
【0007】
【効果】セラミックス印材を金属等により着色、あるい
はセラミックス印材の彫刻表面に有色インキ等で塗布し
たので、レーザー光が反射あるいは、透過しないので、
にきれいに彫刻できる印材である。
はセラミックス印材の彫刻表面に有色インキ等で塗布し
たので、レーザー光が反射あるいは、透過しないので、
にきれいに彫刻できる印材である。
【0008】
【図1】実施例4の印材を印判にした斜視図
1 印字部
2 塗布インキ
Claims (1)
- セラミックス素材の少なくとも表面を着色したことを特
徴とする印材
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3109705A JPH04314578A (ja) | 1991-04-15 | 1991-04-15 | 印材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3109705A JPH04314578A (ja) | 1991-04-15 | 1991-04-15 | 印材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04314578A true JPH04314578A (ja) | 1992-11-05 |
Family
ID=14517127
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3109705A Pending JPH04314578A (ja) | 1991-04-15 | 1991-04-15 | 印材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04314578A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0684133A1 (en) * | 1994-05-20 | 1995-11-29 | Presstek, Inc. | Lithographic printing members for use with laser-discharge imaging apparatus |
-
1991
- 1991-04-15 JP JP3109705A patent/JPH04314578A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0684133A1 (en) * | 1994-05-20 | 1995-11-29 | Presstek, Inc. | Lithographic printing members for use with laser-discharge imaging apparatus |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6852948B1 (en) | High contrast surface marking using irradiation of electrostatically applied marking materials | |
JPS6141320B2 (ja) | ||
EP1147015A1 (en) | Heat sensitive coating composition and marking method | |
JPS62183981A (ja) | セラミツク材料、釉薬、ガラスセラミツク及びガラスのレ−ザ−マ−キング方法 | |
JPWO2007020779A1 (ja) | 無機質基材へのインクジェットプリント方法 | |
KR100788432B1 (ko) | 오프셋인쇄에 의한 전사지의 제조방법 | |
JPH04314578A (ja) | 印材 | |
US7238396B2 (en) | Methods for vitrescent marking | |
JPS63239059A (ja) | レ−ザマ−キング方法 | |
JPH0152331B2 (ja) | ||
US20070207264A1 (en) | Procedure For Reproduction Of A Photographic Picture In An Article Of Glass | |
JPH04314577A (ja) | 印材 | |
DE19516863A1 (de) | Verfahren zur individuellen Kennzeichnung von Werkstücken aus Glas, Glaskeramik oder Keramik und nach dem Verfahren gekennzeichnete Werkstücke | |
US20140197577A1 (en) | Durable earthenware engraving process | |
Hayter | Techniques of Gravure | |
US2128105A (en) | Relief print | |
US477568A (en) | Frederic booth nichols and abbie tiiurston crane | |
JP2775395B2 (ja) | 永久記録板 | |
DE59506481D1 (de) | Verfahren zur herstellung von transferdruckpapieren | |
JPH06270593A (ja) | 転写印刷紙を製造する方法とその装置 | |
JPH05208859A (ja) | セラミックス製印鑑及びその製造方法 | |
JPS6049437B2 (ja) | 蝕刻による図柄作成方法 | |
US302226A (en) | Process of engraving | |
RU2000955C1 (ru) | Способ декорировани изделий | |
JPS6247687A (ja) | 表札製造方法 |