JPH05208859A - セラミックス製印鑑及びその製造方法 - Google Patents

セラミックス製印鑑及びその製造方法

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JPH05208859A
JPH05208859A JP4016433A JP1643392A JPH05208859A JP H05208859 A JPH05208859 A JP H05208859A JP 4016433 A JP4016433 A JP 4016433A JP 1643392 A JP1643392 A JP 1643392A JP H05208859 A JPH05208859 A JP H05208859A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 印材の文字表面に、多孔質の針状ムライト結
晶層を折出して、朱肉の吸着を良好とすることができ
る。 【構成】 アルミナ微粒子或いは陶磁器の原料である各
種粘土、ジルコニア粉末を主原料として印材を形成し、
同印材の表面に、文字を彫り、その後に、その文字表面
に、二酸化ケイ素を含有するムライト結晶形成物質を付
着させて、その状態で、同印材を焼成する。印材を焼成
する際に、文字表面中に残存するガラス成分を溶出させ
て、文字表面に、多孔質の針状ムライト結晶層を密生
し、このムライト結晶層によって、朱肉の吸着性を向上
させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、多孔質の針状ムライト
結晶層によって、朱肉の吸着を良好とすることができる
セラミックス製印鑑及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、印鑑は、通常、象牙、水晶、ツ
ゲ、水牛の角等を用いているが、欠け、割れ、耐久性、
変色等の難点から、象牙を使用したものが一般的であ
る。しかし、近年では、象牙の輸入禁止措置に伴って、
代替の素材として、セラミックスを用いた開発がなされ
ている。
【0003】その一例として、人工雲母等を使った加工
性セラミックスと、アミノ酸系樹脂とを原料としたもの
がある。また、ジルコニアに超微粉のパラフィンを添
加、これを棒状に成形し、その表面を印刻したものがあ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の印鑑
は、以下のような欠点を有していた。即ち、象牙製印鑑
の場合、0.1 μm以下の微小な孔が無数に存在している
為に、朱肉の吸着性を良好としているが、セラミックス
製印鑑の場合、その表面に上記のような微小な孔を有し
ていない為に、朱肉の吸着が悪く、その印鑑の印影が欠
けたりして、鮮明なものでなかった。また、セラミック
ス製印鑑は、硬質であるが、非常にもろいので、落とし
た際に、文字表面が容易に欠けたりしていた。
【0005】本発明は、上記の課題を解決することがで
きるセラミックス製印鑑及びその製造方法を提供するこ
とを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明では、アルミナ微
粒子或いは陶磁器の原料である各種粘土、ジルコニア粉
末等を主原料として印材を形成し、同印材の表面に、文
字を彫り、その文字表面に、多孔質の針状ムライト結晶
層を形成したことを特徴とするセラミックス製印鑑を提
供するものである。
【0007】また、本発明は、ジルコニア粉末を主原料
として印材を形成し、同印材の表面に、文字を彫り、そ
の文字表面に、多孔質の針状ムライト結晶層を形成した
ことを特徴としている。
【0008】また、本発明は、アルミナ微粒子或いは陶
磁器の原料である各種粘土、カオリン粉末等を主原料と
して印材を形成し、同印材の表面に、文字を彫り、その
文字表面に、多孔質の針状ムライト結晶層を形成したこ
とを特徴としている。
【0009】また、本発明は、アルミナ微粒子或いは陶
磁器の原料である各種粘土、カオリン粉末、ジルコニア
粉末等を主原料として印材を形成し、同印材の表面に、
文字を彫り、その文字表面に、多孔質の針状ムライト結
晶層を形成したことを特徴としている。
【0010】また、本発明は、アルミナ微粒子或いは陶
磁器の原料である各種粘土、ジルコニア粉末等を主原料
として印材を形成し、同印材の表面に、文字を彫った後
に、その文字表面に、二酸化ケイ素を塗布して、同印材
を焼成し、文字表面中に残存するガラス成分を溶出し
て、文字表面に、多孔質の針状ムライト結晶層を折出し
たことを特徴とするセラミックス製印鑑の製造方法をも
提供するものである。
【0011】また、本発明は、アルミナ微粒子或いは各
種粘土、カオリン粉末等を主原料として印材を形成し、
同印材の表面に、文字を彫った後に、同印材を焼成し、
文字表面中に残存するガラス成分を溶出して、文字表面
に、多孔質の針状ムライト結晶層を折出したことを特徴
としている。
【0012】
【発明の効果】本発明では、印材に彫った文字表面に、
多孔質の針状ムライト結晶層を折出することにより、同
ムライト結晶層によって、朱肉の吸着を良好とし、この
印鑑で押印した際に、セラミックス製印鑑での印影を鮮
明なものにすることができる。
【0013】さらに、印材の文字表面に二酸化ケイ素を
塗布して、同印材を焼成した後、文字表面に残存するガ
ラス成分を溶出すると、多孔質の針状ムライト結晶層が
密生し、この針状ムライト結晶層によって、朱肉の吸収
性を良好としたセラミックス製印鑑を容易に製造するこ
とができる。
【0014】また、アルミナ微粒子或いは各種粘土、カ
オリン粉末、ジルコニア粉末等を主原料として形成した
印材に彫った後に、同印材を焼成した際に、カオリン粉
末によって文字表面に残存するガラス成分を溶出させ
て、多孔質の針状ムライト結晶層が密生し、同ムライト
結晶層によって、朱肉の吸着を良好とし、この印鑑で押
印した際に、セラミックス製印鑑での印影を鮮明なもの
にすることができる。しかも、焼成の際に、印材中にア
ルミナ微粒子とジルコニア粉末とが反応して、アルミナ
ージルコニアの複合粒子を形成させて、印材自体の強
度、靭性を高めて、印材を落としても割れにくくし、さ
らに、焼成後に印材の表面が象牙色に類似して、高級感
を現出させることができる。
【0015】
【実施例】本発明の実施例を図面にもとづき詳説すれ
ば、図2の側面図において、1は本発明に係る印鑑を示
し、同印鑑1は、セラミックス製であるが、朱肉の吸収
性を良好としており、図1に示すように、印材製造工程
A→刻印工程B→仮焼処理工程C→印材表面処理工程D
の順に沿って製造されている。そこで、印材製造工程A
について詳説する。
【0016】即ち、主原料として、部分安定化ジルコニ
ア粉末を3〜50重量% 混合したアルミナ微粒子(平均粒
径:0.4 μm、住友化学株式会社製、α型アルミナ、A
ES−11E)と、成形助剤(日本石油化学株式会社
製、セラメート614)と、アルミナ微粒子、成形助剤
及び純水の混合を良好に行う解膠剤(バインダー、東亞
合成株式会社製、アロンA−6114、主成分ポリカル
ボン酸アンモニウム塩)と、純水とを混合して、円柱状
の印材6を形成する。
【0017】本実施例では、上記の原料を以下の表1〜
4の組成にして配合した。
【0018】
【表1】
【0019】
【表2】
【0020】
【表3】
【0021】
【表4】
【0022】本実施例では、容器内に、上記の各配分に
したがってアルミナ微粒子(部分安定化ジルコニア粉末
を含む)、成形助剤、解膠剤及び純水を入れて、約1日
間混合して、セラミックスのスラリーとする。
【0023】さらに、セラミックスのスラリーを脱泡処
理後、石膏型にスラリーを流し込んで、直径20mm、長さ
150mm の棒状とした成形体を形成する。成形体を約50℃
で24時間かけて乾燥し、その後に、60mmに切断して、印
材6の原本とする。
【0024】上記の表では、成形助剤(バインダー)の
量を10g 〜100gの幅で混合しているが、多量の成形助剤
を添加した場合、印材6が柔らかくなり、細かな文字を
彫ることができ、この細かな文字を彫るには、成形助剤
量(バインダー量)を4wt%〜8wt%であることが望ま
しく、又それ以上でも可能としている。
【0025】さらに、本発明の印材6を成形する他の実
施例として、以下、詳説する。即ち、アルミナ微粒子
(平均粒径:0.4 μm)100重量部と、成形助剤としての
メチルセルロース5〜15重量部と、可塑剤、湿潤剤とし
てのワックスエマルジョン (固形分40%)、ステアリン酸
エマルジョン1〜2重量部と、水25〜35重量部とを混合
し、その後、スクリュー式押出し機を用いて、直径20mm
の棒状としたアルミナ成形体を作成し、所定の長さの印
材6を形成する。本実施例では、上記の成分で印材3を
形成することにより、その表面に文字を刻印する際に、
その刻印を容易に行うことができる。
【0026】また、本発明では、成形助剤 (バインダ
ー) として、ポリビニルアルコール、メチルセロルース
等を使用することも可能としている。
【0027】次いで、形成した印材6の刻印工程B及び
仮焼処理工程Cについて詳説すると、印材6の原本を印
字作成機にかけて、印材6に、図1に示すように、「山
口」aの文字を彫る。さらに、文字を彫った印材6を、
焼成窯に入れて、350 ℃まで5時間で昇温し、その温度
を2時間保持する。その後に、1000〜1200℃まで10〜12
時間で昇温し、その温度を2時間保持して、仮焼処理を
行う。
【0028】さらに、焼成窯内の温度を室温まで10時間
で冷却して、仮焼処理した印材3の中に、0.1 〜0.5 μ
m程度の小さな気孔を形成しており、この気孔は、印材
3の体積の30〜60%を占めるものである。
【0029】また、本発明では、かかる印材6の文字表
面7を多孔質化する印材表面処理工程Dを行って、朱肉
の吸収性を向上させるものであり、以下、その方法につ
いて詳説する。即ち、本実施例では、印材3の文字表面
7に、ムライト結晶形成物質を塗布させて、同形成物質
を付着させる。
【0030】このムライト結晶形成物質としては、カオ
リンや陶磁器用の陶土等の粘土物質が挙げられ、また、
石英粉末、クリストバライト粉末、トリジマイト粉末、
板ガラス粉末、コロイド状シリカまたは水ガラス等のケ
イ酸塩ガラス或いは酸化アルミニウム粉末もしくは水酸
化アルミニウム粉末と二酸化ケイ素粉末との粉末混合物
等を用いることができる。また、二酸化ケイ素と水酸化
アルミニウム、酸化アルミニウム等との粉末状混合物を
原料とする場合、0.1 〜100 μmの範囲で選ばれるが、
酸化アルミニウムや水酸化アルミニウムでは、0.1 〜10
μm、二酸化ケイ素では、0.5 〜10μm程度が好まし
い。
【0031】さらに、ケイ酸塩ガラスの粉末や二酸化ケ
イ素と酸化アルミニウムないしは水酸化アルミニウムと
の混合粉末を用いる場合には、粉末のまま或いは重量比
で原料粉末1〜10、水が99〜90の割合の原料粉末が分散
したスラリーを用いる。
【0032】次いで、ムライト結晶形成物質を付着させ
た印材6は、1200〜1700℃の温度で0.1 〜10時間、好ま
しくは1〜3時間焼成する。
【0033】焼成の後、印材6の文字表面7に残存する
ガラス成分或いはガラス相を、酸またはアルカリで溶出
させる。本実施例では、酸としてフッ化水素酸を用いる
場合には、2〜20%の濃度の酸に20〜50℃の温度で10分
ないし3時間浸漬させる。また、水酸化ナトリウムや水
酸化カリウム等のアルカリを用いる場合には、0.1 〜2
規定の濃度のものを用いてオートクレーブ中で100 〜20
0 ℃の温度で30分〜10時間浸漬させる。これらの溶出処
理の後には、水洗等の常用の方法により後処理を行う。
【0034】このような方法により、印材6の文字表面
に密着して微細な針状ムライト結晶層8が3次元的に成
長し、図4に示すように、針状結晶が交差して密生した
状態となる。得られた針状ムライト結晶は、通常長径1
〜30μm、短径0.1 ないし2μmのウイスカー状結晶の
形態を示し、約1750℃まで熱安定性を有し変形しにく
い。また、針状ムライト結晶層8は、下地の印材6と強
く密着しているので、400 ないし500 ℃で加熱後急冷し
ても剥離しにくい。さらに、焼成時に、印材6中にアル
ミナ微粒子とジルコニア粉末とが反応して、アルミナー
ジルコニアの複合粒子を形成させて、印材6自体の強
度、靭性を高めて、印材6を落としても割れにくくし、
さらに、焼成後に印材6の表面が象牙色に類似して、高
級感を現出させることができる。
【0035】また、本発明の他の実施例としては、ムラ
イト結晶形成物質として、平均粒径1μmの粘土鉱物粉
末10重量部に対して水90重量部を加えてムライト形成物
質が分散したスラリーを調整し、このスラリー100 ml
中に、印材6の文字表面7を浸漬して含浸させた後に、
印材6を1650℃で2時間焼成した。そして、得られた印
材3中に残存するガラス成分或いはガラス相を4.6 %の
フッ化水素酸で1時間溶出し、水洗して文字表面に、針
状ムライト結晶層8を折出させるようにしている。
【0036】さらに、上記の原料でで印材6を形成した
場合、印材6の表面に、模様を有する転写紙を貼り付け
て、800 ℃で1時間焼成して、同印材6の表面に、各種
の模様を設けることができる。
【0037】上記の方法では、印材表面処理工程Dが終
了後に、印鑑1を、印材6の20% 程度収縮されることに
より、印鑑1の文字自体が細くなり、複雑な文字を容易
に形成することができる。なお、図3において、bは印
材6の文字表面7に吸着した朱肉を示す。
【0038】〔第2実施例〕次いで、第2実施例は、針
状ムライト結晶層8を折出方法に、その特徴を有するも
のである。即ち、主原料としてアルミナ微粒子と、カオ
リン粉末と、部分安定化ジルコニア粉末と、成形助剤
と、アルミナ微粒子、成形助剤及び純水の混合を良好に
行う解膠剤と、純水とを混合して、円柱状の印材6を形
成する。
【0039】本実施例では、上記の原料を以下の表5〜
8の組成にして配合した。
【0040】
【表5】
【0041】
【表6】
【0042】
【表7】
【0043】
【表8】
【0044】本実施例では、容器内に、上記の各成分に
したがってアルミナ微粉末、成形助剤、解膠剤及び純水
を入れて、約1日間混合して、セラミックスのスラリー
とする。さらに、セラミックスのスラリーを脱泡処理
後、石膏型にスラリーを流し込んで、直径20mm、長さ15
0mm の棒状とした成形体を形成する。この成形体を約50
℃で24時間かけて乾燥し、その後に、60mmに切断して、
印材6の原本とする。上記の表では、成形助剤 (バイン
ダー) の量を10g 〜100gの幅で混合しているが、多量の
成形助剤を添加した場合、印材6が柔らかくなって、文
字の破損を少なくし、細かな文字を彫ることができ、こ
の細かな文字を彫るには、成形助剤量 (バインダー量)
を4〜8wt% であることが望ましく、又、それ以上でも
可能としている。
【0045】本実施例では、上記の成分で印材3を形成
することにより、その表面に文字を刻印する際に、その
刻印を容易に行うことができる。
【0046】また、本発明としては、成形助剤 (バイン
ダー) として、ポリビニルアルコール、メチルセロルー
ス等を使用することも可能としている。
【0047】次いで、形成した印材6の刻印工程及び印
材表面処理工程について詳説すると、印材6の原本を印
字作成機にかけて、印材6に、図1に示すように、「山
口」aの文字を彫る。さらに、文字を彫った印材6を、
焼成窯に入れて、350 ℃まで5時間で昇温し、その温度
を2時間保持する。その後に、1000〜1600℃まで10〜15
時間で昇温し、その温度を2時間保持した後に冷却す
る。
【0048】本実施例では、印材3の原料中に、ムライ
ト結晶形成物質であるカオリン粉末を混入している為
に、文字表面7に針状ムライト結晶層8を折出させる。
【0049】焼成処理した後、印材6の文字表面7のガ
ラス成分或いはガラス相を、酸またはアルカリで溶解さ
せる。本実施例では、酸としてフッ化水素酸を用いる場
合には、2〜20%の濃度の酸に20〜50℃の温度で10分な
いし3時間浸漬させる。また、水酸化ナトリウムや水酸
化カリウム等のアルカリを用いる場合には、0.1 〜2規
定の濃度のものを用いてオートクレーブ中で100 〜200
℃の温度で30分〜10時間浸漬させる。これらの溶出処理
の後には、水洗等の常用の方法により後処理を行う。
【0050】そして、その印材6は、1200〜1700℃の温
度で0.1 〜10時間、好ましくは1〜3時間焼成する。
【0051】このような方法により、印材6の文字表面
7には、長さ1〜5μm、太さ0.1〜1μmのムライト
結晶及びアルミナージルコニアの複合粒子が共存し、多
孔質組織を形成する。かかるアルミナージルコニアは、
焼成により、アルミナ微粒子と部分安定化ジルコニア粉
末とが反応した個容体であり、アルミナの靭性を高め
て、印材6の文字に粘りが出て、欠けにくくすることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】セラミックス製印鑑の製造工程を示すブロック
図である。
【図2】本発明に係るセラミックス製印鑑の正面図であ
る。
【図3】印鑑の断面側面図である。
【図4】印鑑に設けた文字表面の拡大側面図である。
【符号の説明】 1 印鑑 2 文字 3 印材 8 針状ムライト結晶層

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アルミナ微粒子或いは陶磁器の原料であ
    る各種粘土、ジルコニア粉末等を主原料として印材を形
    成し、同印材の表面に、文字を彫り、その文字表面に、
    多孔質の針状ムライト結晶層を形成したことを特徴とす
    るセラミックス製印鑑。
  2. 【請求項2】 ジルコニア粉末を主原料として印材を形
    成し、同印材の表面に、文字を彫り、その文字表面に、
    多孔質の針状ムライト結晶層を形成したことを特徴とす
    るセラミックス製印鑑。
  3. 【請求項3】 アルミナ微粒子或いは陶磁器の原料であ
    る各種粘土、カオリン粉末等を主原料として印材を形成
    し、同印材の表面に、文字を彫り、その文字表面に、多
    孔質の針状ムライト結晶層を形成したことを特徴とする
    セラミックス製印鑑。
  4. 【請求項4】 アルミナ微粒子或いは陶磁器の原料であ
    る各種粘土、カオリン粉末、ジルコニア粉末等を主原料
    として印材を形成し、同印材の表面に、文字を彫り、そ
    の文字表面に、多孔質の針状ムライト結晶層を形成した
    ことを特徴とするセラミックス製印鑑。
  5. 【請求項5】 アルミナ微粒子或いは陶磁器の原料であ
    る各種粘土、ジルコニア粉末等を主原料として印材を形
    成し、同印材の表面に、文字を彫った後に、その文字表
    面に、二酸化ケイ素を塗布して、同印材を焼成し、文字
    表面中に残存するガラス成分を溶出して、文字表面に、
    多孔質の針状ムライト結晶層を折出したことを特徴とす
    るセラミックス製印鑑の製造方法。
  6. 【請求項6】 アルミナ微粒子或いは各種粘土、カオリ
    ン粉末等を主原料として印材を形成し、同印材の表面
    に、文字を彫った後に、同印材を焼成し、文字表面中に
    残存するガラス成分を溶出して、文字表面に、多孔質の
    針状ムライト結晶層を折出したことを特徴とするセラミ
    ックス製印鑑の製造方法。
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