JP2002020186A

JP2002020186A - イングレーズ絵付け盛装飾陶磁器及び転写紙

Info

Publication number: JP2002020186A
Application number: JP2000196699A
Authority: JP
Inventors: Hiromichi Hayashi; 博道林; Takuya Kawamura; 拓也川村
Original assignee: Noritake Co Ltd
Current assignee: Noritake Co Ltd
Priority date: 2000-06-29
Filing date: 2000-06-29
Publication date: 2002-01-23
Also published as: US6893725B2; US20020022133A1

Abstract

(57)【要約】【課題】立体感に優れた装飾陶磁器及び転写紙を提供す
ること。【解決手段】陶磁器素地層表面に施釉された釉薬層上
に、無機顔料及びガラスフラックスを含む盛絵具を用い
てイングレーズ絵付けした盛絵具層を有するイングレー
ズ絵付け盛装飾陶磁器において、前記釉薬層と前記盛絵
具層との間にガラス転移点が４５０から５５０℃のガラ
スからなるガラス層を含み、前記盛絵具中のガラスフラ
ックスのガラス転移点は、５５０から７００℃であるこ
とを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、無機顔料で装飾さ
れた陶磁器及びこれに用いる転写紙に関し、特に、立体
感と色彩に溢れ、各種の耐久性に優れたイングレーズ絵
付け技法を併用した盛のある装飾陶磁器及びこれに用い
る転写紙に関する。

【０００２】

【従来の技術】無機顔料（無機絵の具）で装飾された装
飾陶磁器は、断面からみると素地層、釉薬層及び絵の具
層の順で一般的に構成されている。絵の具層は、装飾部
とも言われ、淡色の素地層上に各種色調を発現させる無
機顔料と無色透明なガラスを結合材とした混合物（洋絵
の具）又は無色透明なガラスに顔料を溶かし込んだ着色
ガラス粉（和絵の具）を釉薬層の上から塗布し焼成固着
される。

【０００３】装飾陶磁器の絵付け装飾方法を大まかに分
類すると、釉薬層（部）と絵具層（部）の位置関係によ
り、第１にアンダーグレーズ絵付け方法（素地層、絵具
層、釉薬層の順）、第２にイングレーズ絵付け方法（素
地層、釉薬層中に一部又は全部沈降した絵具層、釉薬層
の順）、第３にオングレーズ絵付け方法（素地層、釉薬
層、絵の具層の順）に分類され各々の特徴を有する。こ
のうちイングレーズ絵付け方法については、前記方法の
中で焼成温度及び構成形態について中間的なものであ
る。また、イングレーズ絵付け方法は、アンダーグレー
ズ絵付け方法の場合に比べて多種類の無機顔料が使用で
きるので、より豊かな色彩・模様を表現することが可能
である。さらに、イングレーズ絵付け方法は、オングレ
ーズ絵付け方法と比べて焼成温度が高いので、無機顔料
が釉薬層中に沈み込み、酸性やアルカリ性洗浄のような
ケースにおいても化学的耐久性に富み、さらに各種洗浄
時の機械的取扱いにおける摩耗や摩擦があっても絵具層
の剥離や脱落など等が少ないなどの特徴を有している。

【０００４】イングレーズ絵付け方法による装飾は、前
記他の方法と比べ最近利用されだしたものであり、特
に、いわゆるＲＨＫ（ローラーハースキルン）を用いて
迅速に焼成した硬化陶磁器が普及している。この場合、
焼成温度すなわち装飾を固着させる温度は、素地の本焼
き又は締め焼き温度に近くなるとともに、その所要時間
も従来のトンネル窯と比較して極端に短縮され、６０〜
１５０分間で可能になっている。このように絵付けの温
度が高くなったため使用できる無機顔料の種類は限定さ
れているが、この温度になると無機顔料が陶磁器の釉薬
層に溶け込み（又は沈み込み：イングレーズ絵付けの別
称にこれからシンクイン“Ｓｉｎｋ−Ｉｎ”の名称があ
る。）、絵具層は一段と安定になる。このような従来例
の一つに、特開昭５８−２５９８３号公報に記載された
転写紙を利用したイングレーズの絵付け装飾方法が知ら
れており、釉薬層上の絵の具層の上にガラスフラックス
層を被覆し焼成することを特徴としている。

【０００５】前記各絵付け方法における焼成温度は使用
する陶磁器の素地組成によって異なってくるが、例え
ば、ボーンチャイナのような軟質磁器はアンダーグレー
ズ絵付けでは１１００℃前後、イングレーズ絵付けでは
約９００℃前後、さらに、オングレーズ絵付けでは約７
５０℃前後が比較的多く用いられている。一方、ホテル
チャイナのような硬質磁器では同様にそれぞれ約１４０
０℃、１２５０℃、８２０℃前後のようである。また、
セミビトリファイドチャイナに分類される硬質陶器も同
様に特有な焼成温度を有する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】前記のようにイングレ
ーズ絵付けによる陶磁器の装飾は色彩や耐久性の点で多
くの優れた特徴を有するが、このイングレーズ絵付けで
形成された装飾模様は平面的であり立体感に乏しいもの
である。

【０００７】また、陶磁器表面上に立体感のあるレリー
フ模様を形成する方法には湿った生素地や乾燥生素地を
彫刻刀等で加工したり、成型時の石膏型に予め凹部を形
成しこの型に泥將を流し込んで生素地表面に対応する凸
型を形成する手法があるが、繊細な凹型の石膏型の製作
が難しく、特に、石膏型の凹面の摩耗が激しく一度に多
くの形成個数が確保できないという問題がある。

【０００８】さらに、この凸部を形成した素地は８００
℃前後で仮焼された後、この上から施釉、次いで本焼成
されるが、凸部の施釉厚みは焼成前に比べて薄くなり、
一方で隣接する凹部の施釉は厚くなる傾向があり、得ら
れた施釉陶磁器の装飾模様は鋭い境界が得られ難く、鈍
いものになってしまう。

【０００９】一方、同様の目的で本焼き後の平滑な施釉
面に厚く絵具層を盛るいわゆる盛の技法が知られてお
り、従来から手工的な特殊技法としてイッチン盛、白
盛、色盛等の名称で知られ利用されてきたが、このよう
な手工的技法では高度の技能を要求されるので、最近で
はスクリーン印刷による絵の具の厚盛りを転写紙に適用
する事が試みられている。この点、特開平５−３０１４
９６号公報では絵の具層（絵付け材層）を転写台紙上に
２００〜３５０μｍの手彫型紙を利用して厚みのある印
刷を多数回繰り返して行い、次いでこの転写紙をタイル
素地表面に貼着し７００℃〜８００℃の温度で上絵付け
（オングレーズ絵付け）する方法が開示されている。ま
た、通常の絵付けに常用されるスクリーン印刷法では素
地の上の直接印刷又は転写紙を使う間接絵付けでの絵の
具層の厚みは通常５〜４０μｍ程度であるが、厚盛では
焼成前で５０〜５００μｍの印刷厚みのものが試験的に
得られている。所望の厚みは転写台紙の上に絵の具ペー
ストを数回〜十数回の印刷を乾燥工程の間に入れて行
い、この厚みを確保している。次いでこの転写紙を水に
浸し施釉済陶磁器表面にスライドさせて絵の具層を載置
し、乾燥、焼成されてこの絵の具層が焼き付け固着され
る。焼成後の絵の具層の厚みは数十μｍ〜１００μｍ程
度になるが、厚くなるほど各種の欠陥が発生し歩留まり
が低下する。

【００１０】しかしながら、この手の厚盛技法はオング
レーズ絵付け（上絵技法）に限られ、製造された装飾陶
磁器は厚みのある盛（絵の具層）が得られ立体感溢れる
装飾体であるが、オングレーズ絵付けに帰因する比較的
低い焼成温度よる絵の具層の耐摩耗性や耐食性が未だ十
分ではない。

【００１１】また、陶磁器施釉面上に厚盛された絵の具
層をそのままオングレーズ絵付けの焼成温度に上げても
目的とする諸特性は単純に得られず焼成後の装飾陶磁器
の表面の装飾（絵の具層）部に模様のキレやチヂレ（装
飾着色部の抜けで有り釉薬層が上から見える）などの欠
陥が発生し満足出来る製品が得られていない（図４〜６
参照）。

【００１２】特開昭５７−１２３８７６号はイングレー
ズ絵付けによるレリーフ模様を形成する陶磁器の装飾方
法を開示し、レリーフ形成のために化学的エッチングの
使用を述べているが、これは焼成後の装飾陶磁器の表面
の装飾（絵の具層）部に模様のキレやチヂレなどの欠陥
の発生を防止するものではない。

【００１３】本発明の第１の目的は、従来のオングレー
ズ絵付け技法に適用されている厚盛技法を遥かに高い焼
成温度のイングレーズ絵付け法に応用して立体感に優れ
た装飾陶磁器及び転写紙を提供することである。

【００１４】本発明の第２の目的は、耐摩耗性や耐食性
にも格段に改善された装飾陶磁器及び転写紙を提供する
ことである。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の視点にお
いては、陶磁器素地層表面に施釉された釉薬層上に、無
機顔料及びガラスフラックスを含む盛絵具を用いてイン
グレーズ絵付けした盛絵具層を有するイングレーズ絵付
け盛装飾陶磁器において、前記釉薬層と前記盛絵具層と
の間にガラス転移点が４５０から５５０℃のガラスから
なるガラス層を含み、前記盛絵具中のガラスフラックス
のガラス転移点は、５５０から７００℃であることを特
徴とする。

【００１６】また、前記イングレーズ絵付け盛装飾陶磁
器において、前記盛絵具中のガラスフラックスのガラス
転移点は、５７０℃から６８０℃であることが好まし
く、より好ましくは６００℃〜６６０℃である。

【００１７】また、前記イングレーズ絵付け盛装飾陶磁
器において、前記ガラス層のガラスのガラス転移点は、
４７０℃〜５３０℃であることが好ましく、より好まし
くは４９０℃〜５２０℃である。

【００１８】本発明の第２の視点においては、前記イン
グレーズ絵付け盛装飾陶磁器において、前記盛絵具層の
厚さは、焼成後の状態で２０〜２５０μｍであることを
特徴とする。

【００１９】また、前記イングレーズ絵付け盛装飾陶磁
器において、前記盛絵具層の厚さは、焼成後の状態で５
０〜２００μｍが好ましく、より好ましくは８０〜１５
０μｍである。

【００２０】また、前記イングレーズ絵付け盛装飾陶磁
器において、前記盛絵具中のガラスフラックスは、鉛を
含まないことが好ましい。

【００２１】本発明の第３の視点においては、前記イン
グレーズ絵付け盛装飾陶磁器において、前記ガラス層の
厚さは、焼成後の状態で０．１〜５０μｍであることを
特徴とする。

【００２２】また、前記イングレーズ絵付け盛装飾陶磁
器において、前記ガラス層の厚さは、焼成後の状態で１
〜４０μｍであることが好ましく、より好ましくは３〜
３０μｍであり、さらに好ましくは５〜２０μｍであ
る。

【００２３】本発明の第４の視点においては、前記イン
グレーズ絵付け盛装飾陶磁器において、陶磁器素地の本
焼温度は、１１００℃以上であることを特徴とする。

【００２４】本発明の第５の視点においては、前記イン
グレーズ絵付け盛装飾陶磁器において、前記盛絵具にお
けるガラスフラックスのガラス転移点は、前記ガラス層
のガラスのガラス転移点よりも２０〜１５０℃高いこと
を特徴とする。

【００２５】また、前記イングレーズ絵付け盛装飾陶磁
器において、１００℃以内が好ましく、より好ましくは
７５℃以内である。

【００２６】本発明の第６の視点においては、施釉した
陶磁器表面にイングレーズ絵付けするためのイングレー
ズ絵付け用転写紙であって、少なくとも、台紙上に形成
された水溶性の接着層と、前記接着層上の所定位置に印
刷された無機顔料及びガラスフリットを含む盛絵具層
と、前記接着層と前記盛絵具層との間にガラス転移点が
４５０から５５０℃のガラスからなるガラス層と、を含
み、前記盛絵具中のガラスフラックスのガラス転移点
は、５５０から７００℃であることを特徴とする。

【００２７】

【発明の実施の形態】本発明の一形態について説明す
る。図１は、本発明の一形態に係るイングレーズ絵付け
盛装飾陶磁器を模式的に示した部分断面図であり、
（Ａ）は焼成前、（Ｂ）は焼成後である。イングレーズ
絵付け技法（高温釉上技法とも称する）による盛装飾陶
磁器は、絵具層１０と、ガラス層２０と、釉薬層３０
と、陶磁器素地層４０と、の順で少なくとも構成されて
いる。

【００２８】まず、絵具層１０について説明する。絵具
層１０は、外側から見て立体感と色彩感を発現する厚み
のある層であり、ガラス層２０上に有し、通常、無色透
明なガラスフラックスと、耐熱性に優れた有色の無機顔
料と、から構成される。

【００２９】絵具層１０に用いるガラスフラックスは、
所定の酸化物から成り、所望のガラス組成になるように
必要化学成分が決めらる。決められた各化学成分を含有
する酸化物、炭酸塩、硝酸塩、複合酸化物等の工業製
品、試薬或いはカオリン、各種長石などの天然原料など
が出発原料として適時選択され調合される。この調合物
を乾式又は湿式のボールミル等の混合機で粉砕工程を兼
ねながら十分均一になるように数時間から数十時間混合
する。次いで、この混合物を湿式の場合は乾燥機に移し
十分に乾燥した後、所定の温度に保持した炉にこの乾燥
混合物を耐火性の坩堝、例えば、アルミナ、シャモッ
ト、耐火粘土、白金製等の中に充填して投入する。均質
なガラスを形成するためには高い温度が望ましいが、あ
まり高いと坩堝がこの溶融したガラスに侵食されたり、
構成成分の蒸発揮散が顕著になり溶解ガラスの化学組成
が大幅に変化する恐れがあるため、一般には１２００℃
から１４００℃の溶融温度が選択される。均質に溶融し
ガラス化した溶融物を素早く水中に投下し急冷すること
により均質なガラス塊を得る。このガラス塊をボールミ
ル等で平均粒径数μｍになるほどに微粉砕し、無機顔料
を接着する結合材料（ガラスフラックス）とする。この
粉砕工程で同じに粗い無機顔料を添加しても良く、この
場合粉砕と混合が同時に達成できる。ガラスフラックス
の化学組成は、特に限定がないが、一般の酸化物組成Ｓ
ｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｂ₂Ｏ₃、Ｐ₂Ｏ₅、ＣａＯ、ＭｇＯ、
ＢａＯ、ＺｎＯ、ＰｂＯ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｌｉ₂Ｏそ
の他必要に応じて他の酸化物を含むが、好ましくは鉛成
分（ＰｂＯ）を含有しない無鉛ガラス組成である。

【００３０】絵具層１０に用いる無機顔料は、発色要素
であり、窯業分野で従来から一般に利用されている顔料
である。無機顔料の名称で示せばトルコ青、レモン黄、
マロン、セレン赤、円子、ピンク赤、バナジウム黄、海
碧、紺青などが挙げられ、化合物の形態で示すなら酸化
コバルト、酸化鉄、酸化銅、酸化マンガン、酸化クロ
ム、酸化ニッケル、酸化スズ等およびそれらの複合酸化
物が良く利用されている。

【００３１】無機顔料は、ガラスフラックスと混合され
て絵の具と言われるが、この混合工程は各々を別に微粉
化した後にこれらを機械的に混合した物でも或いは無機
顔料とガラスフラックスを予め十分に粉砕微粒化して混
合した物でもよい。次いで、この混合物を加熱、例え
ば、６００℃〜７００℃にて１〜数時間保持し焼結した
後、急冷して焼結物を再度所望の粒度になるまで微粉砕
する。このような処理がなされた絵の具は、無機顔料と
ガラスフラックスが一体固結化しているので、後の工程
で成分の分離などのトラブルが避けられる。無機顔料と
ガラスフラックスの構成比は、ガラスフラックス１００
重量部（以下単に部と記す）に対し無機顔料０．５〜１
００部、好ましくは１〜３０部、より好ましくは２〜１
５部であり、使用される無機顔料の発色の強さによって
適宜使い分けられる。

【００３２】絵具層１０で用いられるガラスフラックス
の特徴的事項は、このガラスフラックスを定義する物理
的特性の１種であるガラス転移点が５５０℃〜７００℃
の範囲にあることである。ガラスの転移点の測定は、十
分に歪み取りされた徐冷ガラス試料を一定の速度で加熱
しながらその伸びを求め、温度（ｔ）と伸び（Δｌ／
ｌ）の関係をグラフに示し、その図から求められる。こ
の図を図２に示す。図２は、ガラス転移点及びガラス軟
化点の測定方法に係るグラフである。この図は、一般に
常温からある温度までの範囲ではほぼ直線的であるが、
これ以上の高温域になると直線を離れる温度付近からそ
れまでの伸びの数倍の伸びを示すようになる。この臨界
温度を転移点（Ｔ_g）と定義する。転移点より高温に加
熱されるとガラスは弾性的性質を失って明確な粘性流動
を示すようになり、自重及びそれに架かる加重によって
軟化収縮し始める。この温度を軟化点、別名屈服点（Ｍ
_g）とも言う（窯業工学ハンドブック窯業協会編技報
堂出版ｐ、９２４１９８２年６月第２版）。

【００３３】絵具層１０で用いられるガラスフラックス
のガラス転移点は、無機顔料を含んだ形態すなわち絵の
具として求めることが厳密には正確であるが、無機顔料
の含有量が２０部以下であるならば実際の適用において
ほぼガラスフラックス自身の転移点と見なしても問題な
いので、本発明では断らない限りガラスフラックス自身
の転移点で示す。ガラス転移点が５５０℃未満では、イ
ングレーズ絵付け温度に比較してガラスフラックスの軟
化点（Ｍ_g）が低すぎるので、この温度では陶磁器素地
上にある釉薬層の上に立体的な盛絵の具層が形成できず
形状が流動流失してしまう恐れがある。一方、７００℃
を越えるガラス転移点のガラスフラックスでは、前記の
イングレーズ絵付け温度を高くする必要が生じる。この
ためこの温度を超えるときは前記素地上の釉薬層が再度
融けだしたり、ガラスフラックスと反応してそのガラス
転移点の温度等の諸物性が大きく変化させてしまう。よ
って、ガラスフラックスのガラス転移点は好ましくは５
８０℃〜６８０℃であり、より好ましくは６００℃〜６
７０℃である。ガラス転移点が約６００℃前後にあると
好ましい。イングレーズ絵付け温度は約１１００℃〜１
２５０℃の範囲にあり、この温度範囲では絵具層が釉薬
層の中に十分沈み込むことができ、得られた装飾陶磁器
は耐摩耗性や耐食性に優れた物になる。

【００３４】絵具層１０の厚盛は従来からの技法である
イッチン盛や色盛等の手工業的技法でも可能であるが、
好ましくはスクリーン印刷法を利用することが望まし
い。スクリーン印刷法でもいわゆる転写紙法が好まし
く、台紙の上に所定の模様を有する印刷版を変えながら
又スクリーン印刷を何回も重ね刷りすることにより２５
０μｍ以上の乾燥厚みを持つ多色模様が得られる。ま
た、略平坦部を有する陶磁器、例えば、タイルや平皿で
は転写紙を使用することなしに直接この上からスクリー
ン印刷を行い所望の厚みの模様を得ることができる。焼
成後の盛の厚みは印刷乾燥厚みの約１／２〜２／３に減
少するが５０μｍ以上が好ましい。５０μｍ未満では目
的とする立体感溢れた模様が得られ難い。通常は５０〜
２５０μｍ程度が好ましくこれ以上の厚みであっても良
い。ガラスフラックスの熱膨張係数は釉薬層の熱膨張係
数と関連し、好ましくはこの差が約３．０×１０^-6Ｋ^-1
以内、さらに好ましくは２．０×１０^-6Ｋ^-1以内、より
好ましくは１．０×１０^-6Ｋ^-1以内である。特に盛の厚
みが大きくなるほどこの差が少ないことが要求され、差
が大きいと冷却時に歪みが発生して割れ、剥離等の欠陥
原因になる。

【００３５】次に、ガラス層２０について説明する。こ
のガラス層２０は、前記絵具層より薄い厚みであり、上
記の絵具層１０と釉薬層３０の間で密接して存在する。

【００３６】このガラス層２０を構成しているガラスの
ガラス転移点は、４５０℃〜５５０℃の範囲にある。ガ
ラス転移点が４５０℃未満のガラスは一般に耐久性にお
とり食器材料には適さない。一方、５５０℃を越える
と、前記絵付け温度で未だ粘土が高く流動性が少ないた
め、やはり目的の効果が得られない。このガラス層のガ
ラス転移点は好ましくは４７０℃〜５３０℃ある。

【００３７】ガラス層２０の厚みは、限定が無く薄い方
が好ましく、昇温時に上部に密接して存在する厚い絵の
具層が焼結収縮する際に一種のコロ或いは緩衝層の作用
が有ればよい。下限値はガラス層の形成方法から焼成後
で通常０．１〜５μｍ、上限は同様に３０μｍであり、
これより上では意味が無く、好ましくは２〜１５μｍの
厚みである。

【００３８】ガラス層２０のガラスについては、通常の
ガラスで良く、好ましくは前記ガラスフラックスと同
様、無鉛ガラスである。ガラス層のガラス組成について
は、特に限定はなく一般の低軟化点（低転移点）ガラス
が好ましい。この時ガラスの熱膨張係数は冷却時での釉
薬層とさらに絵具層とのストレス（歪み）問題を考慮す
るならば約４〜９×１０^-6Ｋ^-1の範囲が好ましく、さら
には各々の熱膨張差が１〜２×１０^-6Ｋ^-1の範囲内が好
ましい。しかしながらこのガラス層の厚みが薄ければ薄
いほど熱膨張係数の影響は無視できる。

【００３９】次に、陶磁器素地層４０について説明す
る。本発明に適する陶磁器素地層４０となる陶磁器に限
定はないが、好ましくはホテルやレストランで賞揚され
る硬質磁器に適用するとその効果が顕著に発現する。こ
の種の磁器は、カオリン４０〜６０重量部、石英２５〜
４０重量部、長石２０〜３０重量部の原料組成からな
る。製法については、生成形物を乾燥し、次いで６００
℃〜９００℃の温度で素焼きし、施釉した後、１２００
℃〜１４００℃で本焼する。素地の化学組成は、概ねＳ
ｉＯ₂：６０〜７０ｗｔ％、Ａｌ₂Ｏ₃：２０〜３５ｗｔ
％、ＣａＯ：０．１〜２ｗｔ％、ＭｇＯ：０．１〜１ｗ
ｔ％、Ｋ₂Ｏ：２〜５ｗｔ％、Ｎａ₂Ｏ：０．５〜３ｗｔ
％その他Ｆｅ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂が挙げられる。

【００４０】次に、釉薬層３０について説明する。釉薬
層３０となる釉薬は、前記陶磁器素地に適合するものが
適宜選択され、本焼きの温度によって、例えば、ＳＫ５
〜１４番では、ＲＯ（塩基性成分）、０．３〜１．２Ａ
ｌ₂Ｏ₃、３〜９ＳｉＯ₂（ゼーゲル式）で表される調合
が選ばれる。釉薬層の熱膨張係数は平均３〜６×１０ ^-6
Ｋ^-1程度であり、素地部の熱膨張係数に比して若干低い
物が使用され、本発明に関して言えば、前記ガラス層の
ガラスや前記絵具層のガラスフラックスの熱膨張係数よ
りも高く、ガラス転移点も好ましくは５０℃以上高いこ
とが好ましい。

【００４１】次に、陶磁器の装飾方法について説明す
る。一般的には盛装飾の方法は、施釉した（焼成済み又
は未焼成）陶磁器表面に直接絵筆などで絵付けを行う素
描や盛が知られているが、工業的な観点からは前記と同
様、転写紙を利用する方法が好ましい。

【００４２】転写紙は通常の窯業分野では（１）台紙、
（２）剥離層（水溶性樹脂、でんぷん層）、（３）ノリ
（接着）層、（４）絵具層、（５）オーバーコート層よ
り成る。本発明では、この構成に加えさらに（３）ノリ
層と（４）絵具層の間に厚み０．１〜３０μｍ、好まし
くは１〜２０μｍの上記ガラス転移点を有するガラス層
を挿入することである。絵具層の厚みも５０μｍ以上好
ましくは１００μｍ以上より好ましくは２００μｍ以上
である。このような厚みを得るには印刷スクリーンの目
開きが粗い方が印刷の回転数が少なくて済み有利である
が、得られる模様が粗になり精緻なものには適用できな
い。この場合は、多数回の印刷、例えば、１００メシュ
のスクリーンを用いた場合１０回以上の繰り返し印刷が
要求される。

【００４３】ガラス粉末や絵の具粉末を磁器素地や台紙
上に印刷するとき、ペースト状にし、乾燥後の保形性を
確保するために有機の樹脂が添加される。この樹脂はビ
ヒクルとも呼ばれアクリル樹脂、セルロース樹脂、ブチ
ラ−ル樹脂、ビニール系樹脂、アルキッド樹脂など或い
はこれらの混合物や共重合体が適宜選択される。本発明
ではアクリル樹脂が好ましく、さらに昇温時での樹脂分
解特性も考慮される。盛装飾用焼成ではＲＨＫのような
短時間の迅速焼成が多くの場合に利用されるので、この
樹脂の燃え抜け特性が早すぎると絵具層中に切れやチヂ
レ等の欠陥が発生しやすくなる。このため樹脂の選択は
空気中で昇温速度１０℃／分の熱重量分析（ＴＧ−ＤＴ
Ａ）にて測定した場合、残り５〜１０ｗｔ％４００℃以
上で存在し、５５０℃以上で実質的にゼロとなる樹脂が
好ましい。４００℃以上で５ｗｔ％未満の残存ではチヂ
レがなお発生する恐れがあり、４００℃以上で１０ｗｔ
％を越えると樹脂分解残留分が炭素として残り、焼成後
の黒色や斑点や発泡の原因となりやすい傾向にある。

【００４４】以上のように、本発明の形態に係る装飾陶
磁器では、少なくとも施釉層、薄いガラス層、盛絵具層
の３層をこの順番にて成形され、さらに前記ガラス層の
ガラス転移点は盛絵具層のガラス転移点と同じか又は低
くなるように構成されている。印刷し乾燥された盛装飾
部層を有する陶磁器は窯の中に入れられ１１００〜１２
５０℃程度の温度で絵付け焼成される。温度が３００℃
〜６００℃の間ではまず印刷等に結合材として使用した
樹脂などの有害物が燃え去り、続いて昇温されるとまず
ガラス転移点の一番低いガラス層を構成しているガラス
が軟化し流動可能になる。この時、絵の具層すなわち過
半を占めるガラスフラックスのガラス転移点は前記ガラ
ス層のガラス転移点より高いので、まずこのガラスフラ
ックス粉が焼結を始め盛絵の具層の全体が収縮を始める
が、軟化流動したガラス層が下部に存在するので一種の
緩衝層の働きをするものと考えられ、これにより焼結収
縮が無理なく絵の具層全体で均一になる。一方、前記ガ
ラス層が無く施釉層に直接絵の具を設ける手法では絵具
層の焼結の際に下部にある施釉層が軟化流動しないので
下部が束縛されて焼結収縮が不均一になり、装飾部のキ
レやチヂレが発生するものと推定される。

【００４５】

【実施例】本発明の実施例について説明する。本実施例
に係る装飾陶磁器は、陶磁器素地と、釉薬素地と、ガラ
スと、絵具と、からなる。

【００４６】まず、第１の陶磁器素地（加飾用）として
は、一般の硬質磁器であるホテルチャイナ素地を用い
た。この素地の原料としてカオリン３５重量部、ボール
クレー７重量部、長石２２重量部、フリント３５重量
部、炭酸カルシウム１．２重量部を各々秤量し、混合、
ボールミル湿式粉砕した後成形した。成形物を乾燥し７
００℃の温度で素焼きした。

【００４７】次に、前記第１の陶磁器素地について使用
した釉薬の原料組成は、カオリン：１３重量％、長石：
４２％、石英：２７％、石灰：１８％の生釉である。こ
の釉薬を前記第１の陶磁器素地上に塗布して１３００℃
で本焼きした。この施釉済本焼き品を盛装飾用の陶磁器
素地とした。

【００４８】また、第２の陶磁器素地（盛装飾用）とし
ては、高火度磁器、すなわち硬質磁器と言われる素地を
用いた。この素地の原料として陶石：４０ｗｔ％、カオ
リン：３０ｗｔ％、蛙目粘土：１５ｗｔ％、長石：１０
ｗｔ％、珪石：５ｗｔ％を秤量し、水を加えてボールミ
ルで湿式粉砕混合し、泥奨を作成した。この泥奨を石膏
型に鋳込み１００角厚み５ｍｍの板状生成形体を得、こ
れを乾燥し次いで９３０℃で焼成し素焼き素地を得た。

【００４９】別に準備した生釉薬（珪石：４０ｗｔ％、
長石：３５ｗｔ％、仮焼カオリン：１５ｗｔ％、仮焼タ
ルク：５ｗｔ％、ドロマイト：５ｗｔ％）を前記第２の
陶磁器素地に施釉し、１３５０℃（ＳＫ１２番）４０時
間の本焼き焼成を行った。この本焼き品の釉薬層の熱膨
張係数は４．７×１０^-6Ｋ^-1であり、また、この釉薬層
のガラス転移点は約７５０℃であった。この施釉済本焼
き品を盛装飾用の陶磁器素地とした。

【００５０】次に、盛装飾は次のよう手順に行った。前
記施釉素地の上からガラス層を形成するため手刷りのス
クリーン印刷機でアクリル系の樹脂を含むビヒクル：
０．６重量部と透明ガラス粉（ＳｉＯ₂：５２ｗｔ％、
Ａｌ₂Ｏ₃：４ｗｔ％、Ｂ₂Ｏ₃：１４ｗｔ％、ＣａＯ：３
ｗｔ％、Ｌｉ₂Ｏ：１４ｗｔ％、Ｎａ₂Ｏ：７ｗｔ％、Ｂ
ａＯ：３ｗｔ％、その他：残（ＳｉＯ₂等）、平均粒
径：５．０μｍガラス転移点：４９０℃、熱膨張係
数：８．６７×１０^-6Ｋ^-1）１重量部とからなるペース
トを印刷し、乾燥後に印刷厚み３０μｍのガラス層を得
た。次に、このガラス層の上から絵具層として同一のビ
ヒクル、重量比の絵の具粉（ガラスフラックス９７重量
部、組成；ＳｉＯ₂：６３ｗｔ％、Ａｌ₂Ｏ₃：９ｗｔ
％、Ｂ₂Ｏ₃：３ｗｔ％、ＣａＯ：１０ｗｔ％、Ｌｉ
₂Ｏ：３ｗｔ％、Ｎａ₂Ｏ：２ｗｔ％、Ｋ₂Ｏ：５ｗｔ
％、ＢａＯ：１ｗｔ％、その他：残（ＳｉＯ₂等）、平
均粒径：５．５μｍ、ガラス転移点：６６０℃、熱膨張
係数：６．７×１０^-6Ｋ^-1／無機顔料３重量部、酸化コ
バルト）ペーストを７０メシュのスクリーン版で５回印
刷を重ね、乾燥厚み３００μｍを得た。これをローラー
ハ−スキルンにて酸化雰囲気、最高温度１２４０℃サイ
クル１５０分でイングレーズ絵付け焼成をした。焼成後
の装飾面は盛の厚みが約２００μｍの高さが得られた。

【００５１】イングレーズ絵付け焼成後の盛絵の具、す
なわちこの場合青色（酸化コバルト）の模様が均一に着
色され、釉薬層が小さな白色斑点状としてそのまま残っ
たように見えるチヂレ等の欠陥は無かった（図３参
照）。

【００５２】次に、実施例２について説明する。盛絵の
具用のガラスフラックスはガラス転移点７００℃、印刷
の乾燥厚み１５０μｍである。ガラス層のガラスはガラ
ス転移点５２０℃、乾燥厚み１５μｍである。他の条件
は、実施例１と同じ条件で行った。得られたイングレー
ズ装飾磁器の盛厚みは１００μｍ有り、絵具層にはチヂ
レはなく均一な着色が得られた。

【００５３】次に、実施例３について説明する。乾燥後
の印刷厚み２００μｍの白色の盛絵の具（無機顔料１０
重量部、ＺｒＳｉＯ₄／ガラスフラックス９０重量部、
組成ＳｉＯ₂：５８ｗｔ％、Ａｌ₂Ｏ₃：１０ｗｔ％、Ｂ₂
Ｏ₃：４ｗｔ％、ＺｎＯ：８ｗｔ％、ＣａＯ＋ＭｇＯ：
４ｗｔ％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：５ｗｔ％、平均
粒径：４．８μｍ、ガラス転移点：５５０℃、熱膨張係
数：５．７×１０^-6Ｋ ^-1）層と、乾燥後の印刷厚み１５
μｍのガラス（ガラス組成ＳｉＯ₂：５５ｗｔ％、Ａｌ₂
Ｏ₃：８ｗｔ％、Ｂ₂Ｏ₃：２４ｗｔ％、ＺｒＯ₂：４ｗｔ
％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：８ｗｔ％、平均粒径：
４．５μｍ、ガラス転移点：５２０℃、熱膨張係数：
７．２×１０７×１０^-6Ｋ^-1）層に形成し、１２２０℃
の温度で焼成した（他の条件は実施例１と同じ条件）。
盛厚みは１３０μｍが得られ、このイングレーズ装飾磁
器にもチヂレはなかった。

【００５４】実施例４：磁器素地にカオリン：４７ｗｔ
％、珪石：２３ｗｔ％、長石：３０ｗｔ％の原料を調合
しこれに釉薬組成としてゼーゲル式で、Ｋ₂Ｏ：０．１８Ｎａ₂Ｏ：０．０８ＣａＯ：０．２７ＭｇＯ：０．４３ＺｎＯ：０．０５Ａｌ₂Ｏ₃：０．７３ＳｌＯ₂：５．５の泥奨物を施釉し、１２９０℃（ＳＫ−１０番）で本焼
きした。この時の磁器素地の熱膨張係数は、５．０×１
０^-6Ｋ^-1であった。釉薬の熱膨張係数は、４．７×１０
^-6Ｋ^-1であり、そのガラス軟化点は約７７０℃であっ
た。盛絵の具は、化学組成としてＳｉＯ₂：６６ｗｔ
％、Ａｌ₂Ｏ₃：１０ｗｔ％、ＺｎＯ：３．３ｗｔ％、Ｃ
ａＯ：１２ｗｔ％、ＭｇＯ：２．２ｗｔ％、Ｎａ₂Ｏ＋
Ｋ₂Ｏ：６．５ｗｔ％、ガラス転移点７００℃のガラス
フラックス９４重量部と、青色の無機顔料である酸化コ
バルト６重量部の混合物からなり、通常の有機溶剤と樹
脂でペースト化しガラス層の上から複数回スクリーン印
刷し乾燥厚み５００μｍの絵具層を得た。

【００５５】この施釉した磁器素地の上に薄いガラス層
を形成するために、ガラスの化学組成がＳｉＯ₂：５１
ｗｔ％、Ａｌ₂Ｏ₃：６．５ｗｔ％、Ｂ₂Ｏ₃：１６ｗｔ
％、ＺｎＯ：４．０ｗｔ％、ＺｒＯ₂：６ｗｔ％、Ｃａ
Ｏ＋ＭｇＯ：４．５ｗｔ％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ：１２ｗ
ｔ％でガラス軟化点が４７０℃のガラス粉末をスクリー
ン印刷し、乾燥後の厚み１０μｍのガラス層を得た。続
いて同一のパターンでこの上から盛装飾部を構成する盛
絵具層を形成する。

【００５６】次いで、これを１２４０℃の酸化性雰囲気
で１２０分ＲＨＫ焼成し、イングレーズ絵付けによる盛
りの高さが２５０μｍの装飾磁器を得た。装飾部は全体
が均一な青色に着色され目視や低倍率の拡大ではチヂレ
等の欠陥は認められなかった。

【００５７】次に、前記実施例と比較例との対比につい
て説明する。

【００５８】比較例１について説明する。比較例１で
は、ガラス層のみ無くして他は全て実施例１の条件と同
一でイングレーズ絵付けの盛装飾を行った（図４参
照）。焼成により盛絵具層１１０が釉薬層１３０にイン
グレースし、冷却の際、盛絵具層１１０の下部が釉薬層
１３０に固定されるとともに、釉薬層１３０の不均一な
収縮の作用を受けて、盛絵具層１１０の表面から切れ１
１２ができた。図５は、この比較例の焼成後における盛
装飾部表面の様子を示した部分拡大写真であるが、得ら
れた陶磁器の青色（酸化コバルト）の装飾（盛絵具部分
１１１）には素地自身の色（釉薬部分１３１）と考えら
れる白色の小さな斑点（チヂレ１５０）が多数認められ
た。

【００５９】比較例２について説明する。比較例２で
は、ガラス層が無い以外は実施例３と同じ条件で焼成し
た。盛絵具装飾部には白色の斑点が少数であるが存在し
ていた。

【００６０】比較例３について説明する。比較例３で
は、ガラス層にガラス転移点が５６０℃のガラスを用い
るとともに、盛絵具層にガラス転移点が５４０℃の盛絵
具を用いて、他は実施例１と同じ条件で焼成した。得ら
れた盛装飾磁器にはチヂレが発生していた。

【００６１】比較例４について説明する。比較例４で
は、ガラス転移点が４８０℃の絵具層を用いて、ガラス
層を設けずに高さ２００μｍの盛を形成し、これを実施
例４の陶磁器素地調合及びＲＨＫ焼成と同様な条件で実
施した。この場合、盛絵具層は流動して広がり、その厚
みは１００μｍ以下に減少してしまった（図６参照）。

【００６２】

【発明の効果】本発明によれば、装飾は１１００℃以上
の高温で焼成するため無機顔料が一部釉薬層に沈み込み
（イングレーズ絵付け法）、さらにガラスフラックスと
も強固に結合されるため、８００℃〜９００℃にて焼成
される上絵付け法に比較して耐摩耗性や耐食性などの諸
性状を改善することができる。

【００６３】また、盛りが高く強固にな立体感溢れる模
様を形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一形態に係るイングレーズ絵付け盛装
飾陶磁器を模式的に示した部分断面図であり、（Ａ）は
焼成前、（Ｂ）は焼成後である。

【図２】ガラス転移点及びガラス軟化点の測定方法に係
るグラフである。

【図３】本発明の実施例１に係るイングレーズ絵付け盛
装飾陶磁器の焼成後における盛装飾部表面の様子を示し
た部分拡大写真である。

【図４】比較例１に係るイングレーズ絵付け盛装飾陶磁
器を模式的に示した部分断面図であり、（Ａ）は焼成
前、（Ｂ）は焼成後である。

【図５】比較例１に係るイングレーズ絵付け盛装飾陶磁
器の焼成後における盛装飾部表面の様子を示した部分拡
大写真である。

【図６】比較例４に係るイングレーズ絵付け盛装飾陶磁
器を模式的に示した部分断面図であり、（Ａ）は焼成
前、（Ｂ）は焼成後である。

【符号の説明】

１０盛絵具層１１盛絵具部分２０ガラス層３０釉薬層３１釉薬部分４０陶磁器素地層１１０、１１３盛絵具層１１１盛絵具部分１１２切れ１３０釉薬層１３１釉薬部分１４０陶磁器素地層１５０チヂレ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】陶磁器素地層表面に施釉された釉薬層上
に、無機顔料及びガラスフラックスを含む盛絵具を用い
てイングレーズ絵付けした盛絵具層を有するイングレー
ズ絵付け盛装飾陶磁器において、前記釉薬層と前記盛絵具層との間にガラス転移点が４５
０から５５０℃のガラスからなるガラス層を含み、前記盛絵具中のガラスフラックスのガラス転移点は、５
５０から７００℃であること、を特徴とするイングレー
ズ絵付け盛装飾陶磁器。
【請求項２】前記盛絵具層の厚さは、焼成後の状態で２
０〜２５０μｍであることを特徴とする請求項１記載の
イングレーズ絵付け盛装飾陶磁器。
【請求項３】前記ガラス層の厚さは、焼成後の状態で
０．１〜５０μｍであることを特徴とする請求項１又は
２記載のイングレーズ絵付け盛装飾陶磁器。
【請求項４】陶磁器素地の本焼温度は、１１００℃以上
であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一に
記載のイングレーズ絵付け盛装飾陶磁器。
【請求項５】前記盛絵具におけるガラスフラックスのガ
ラス転移点は、前記ガラス層のガラスのガラス転移点よ
りも２０〜１５０℃高いことを特徴とする請求項１乃至
４のいずれか一に記載のイングレーズ絵付け盛装飾陶磁
器。
【請求項６】施釉した陶磁器表面にイングレーズ絵付け
するためのイングレーズ絵付け用転写紙であって、少なくとも、台紙上に形成された水溶性の接着層と、前記接着層上の所定位置に印刷された無機顔料及びガラ
スフリットを含む盛絵具層と、前記接着層と前記盛絵具層との間にガラス転移点が４５
０から５５０℃のガラスからなるガラス層と、を含み、前記盛絵具中のガラスフラックスのガラス転移点は、５
５０から７００℃であること、を特徴とするイングレー
ズ絵付け用転写紙。