JP2721638B2 - 静電気アクチュエータ - Google Patents
静電気アクチュエータInfo
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- JP2721638B2 JP2721638B2 JP5295691A JP29569193A JP2721638B2 JP 2721638 B2 JP2721638 B2 JP 2721638B2 JP 5295691 A JP5295691 A JP 5295691A JP 29569193 A JP29569193 A JP 29569193A JP 2721638 B2 JP2721638 B2 JP 2721638B2
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- electrode
- electrostatic actuator
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-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H02N1/00—Electrostatic generators or motors using a solid moving electrostatic charge carrier
- H02N1/002—Electrostatic motors
- H02N1/004—Electrostatic motors in which a body is moved along a path due to interaction with an electric field travelling along the path
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- Micromachines (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、静電力を利用して物体
を連続的に移動させる静電気アクチュエータに関する。
この種の静電気アクチュエータは、例えば、板状の物体
を直線的に移動させるための偏平静電モータとして利用
することができる。
を連続的に移動させる静電気アクチュエータに関する。
この種の静電気アクチュエータは、例えば、板状の物体
を直線的に移動させるための偏平静電モータとして利用
することができる。
【0002】
【従来の技術】例えば、国際公開WO91/16757
において、静電気アクチュエータが開示される。この静
電気アクチュエータは、絶縁体層を有する固定子と抵抗
体層を有する移動子とから構成されている。固定子の絶
縁体層において、複数の帯状の電極が所定の間隔で互い
に平行となるように配列されている。そして、固定子の
上に、絶縁体層及び抵抗体層が接触するように、移動子
が載置されている。このような静電気アクチュエータに
おいて、帯状の電極に所定のパターン(+V,−V,0
V )の電圧が印加され、それによって生ずる電界により
移動子の抵抗体層に所定のパターン(正、負)で配列さ
れる束縛電荷が誘起される。そして、電極への印加電圧
を所定のパターンに従って切換えることにより、移動子
の抵抗体層に誘起された束縛電荷と電極から生ずる電界
との間の吸引、反発作用が繰り返される。その過程で、
移動子が固定子上を移動する。
において、静電気アクチュエータが開示される。この静
電気アクチュエータは、絶縁体層を有する固定子と抵抗
体層を有する移動子とから構成されている。固定子の絶
縁体層において、複数の帯状の電極が所定の間隔で互い
に平行となるように配列されている。そして、固定子の
上に、絶縁体層及び抵抗体層が接触するように、移動子
が載置されている。このような静電気アクチュエータに
おいて、帯状の電極に所定のパターン(+V,−V,0
V )の電圧が印加され、それによって生ずる電界により
移動子の抵抗体層に所定のパターン(正、負)で配列さ
れる束縛電荷が誘起される。そして、電極への印加電圧
を所定のパターンに従って切換えることにより、移動子
の抵抗体層に誘起された束縛電荷と電極から生ずる電界
との間の吸引、反発作用が繰り返される。その過程で、
移動子が固定子上を移動する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述したような従来の
静電気アクチュエータでは、束縛電荷が永久的に移動子
の抵抗体層に保持されるわけではない。従って、移動体
が移動している過程における所定のタイミングで、束縛
電荷を誘起させるための電極への電圧印加を行なわなけ
ればならない。この束縛電荷を抵抗体層に誘起させるた
めに必要な時間は、抵抗体層の体積抵抗率×誘電率の値
で決まる。この値が大きいと、束縛電荷が抵抗体層に保
持される時間が長く、束縛電荷を誘起させるための電極
への電圧印加の回数は減るものの、各電圧印加に要する
時間が長くなる。一方、上記値が小さいと、束縛電荷を
誘起させるための電極への電圧印加の時間は減るもの
の、束縛電荷が抵抗体層に保持される時間が短くなるの
で、その電圧印加の回数を増さなければならない。従っ
て、どちらの場合においても、移動子を高速で、スムー
ズに連続的に移動させることが困難であった。
静電気アクチュエータでは、束縛電荷が永久的に移動子
の抵抗体層に保持されるわけではない。従って、移動体
が移動している過程における所定のタイミングで、束縛
電荷を誘起させるための電極への電圧印加を行なわなけ
ればならない。この束縛電荷を抵抗体層に誘起させるた
めに必要な時間は、抵抗体層の体積抵抗率×誘電率の値
で決まる。この値が大きいと、束縛電荷が抵抗体層に保
持される時間が長く、束縛電荷を誘起させるための電極
への電圧印加の回数は減るものの、各電圧印加に要する
時間が長くなる。一方、上記値が小さいと、束縛電荷を
誘起させるための電極への電圧印加の時間は減るもの
の、束縛電荷が抵抗体層に保持される時間が短くなるの
で、その電圧印加の回数を増さなければならない。従っ
て、どちらの場合においても、移動子を高速で、スムー
ズに連続的に移動させることが困難であった。
【0004】また、上記の原理によって束縛電荷を抵抗
体層に誘起させる場合、十分な駆動力が得られるように
束縛電荷の電荷密度を高くするためには、比較的高い電
圧(+V,−V)を電極に印加しなければならない。こ
のため、固定子の絶縁体層の絶縁性を向上させなければ
ならない。また、移動子を移動させる際に、その高電圧
(−V,+V)を高速に切換えなければならず、電圧切
換回路の電気的特性を向上させなければならない。そし
て更に、上述した従来の静電アクチュエータでは、移動
体の直進性について特に考慮されたものではない。
体層に誘起させる場合、十分な駆動力が得られるように
束縛電荷の電荷密度を高くするためには、比較的高い電
圧(+V,−V)を電極に印加しなければならない。こ
のため、固定子の絶縁体層の絶縁性を向上させなければ
ならない。また、移動子を移動させる際に、その高電圧
(−V,+V)を高速に切換えなければならず、電圧切
換回路の電気的特性を向上させなければならない。そし
て更に、上述した従来の静電アクチュエータでは、移動
体の直進性について特に考慮されたものではない。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、請求項1に記載されるように、所定の間
隔で配列された複数の電極が形成された面を有する支持
体と、強誘電体層を有する移動体とを備え、該強誘電体
層の表面に、所定の極性パターンを有する残留電気分極
による分極電荷の分布エリアが支持体上の電極に対応す
るように形成され、上記電極に印加する電圧の極性パタ
ーンの切換えに基づいた電極と強誘電体層における分極
電荷の分布エリアとの間の静電吸引力及び静電反発力の
変化により移動体が支持体の電極形成面(34)上を移
動するようにする共に、電極は移動体の移動方向と平行
な方向に配列され、各電極は移動体の移動方向に対して
所定の角度傾いて形成されるように構成される。
め、本発明は、請求項1に記載されるように、所定の間
隔で配列された複数の電極が形成された面を有する支持
体と、強誘電体層を有する移動体とを備え、該強誘電体
層の表面に、所定の極性パターンを有する残留電気分極
による分極電荷の分布エリアが支持体上の電極に対応す
るように形成され、上記電極に印加する電圧の極性パタ
ーンの切換えに基づいた電極と強誘電体層における分極
電荷の分布エリアとの間の静電吸引力及び静電反発力の
変化により移動体が支持体の電極形成面(34)上を移
動するようにする共に、電極は移動体の移動方向と平行
な方向に配列され、各電極は移動体の移動方向に対して
所定の角度傾いて形成されるように構成される。
【0006】
【0007】移動体を薄く形成する観点から、請求項7
に記載されるように、移動体において、平滑面を確保す
るための表面平滑層を介して強誘電体層上に当該静電気
アクチュエータによって本来移動されるべき目的物体層
が形成される。
に記載されるように、移動体において、平滑面を確保す
るための表面平滑層を介して強誘電体層上に当該静電気
アクチュエータによって本来移動されるべき目的物体層
が形成される。
【0008】移動体の移動制御を容易にするという観点
から、請求項11に記載されるように、強誘電体層に形
成される残留電気分極の極性パターンは、正、負、負、
正の繰り返しである。
から、請求項11に記載されるように、強誘電体層に形
成される残留電気分極の極性パターンは、正、負、負、
正の繰り返しである。
【0009】移動体の移動をより安定化させるという観
点から、請求項12に記載されるように、移動体を支持
体の電極形成面に押さえつけて移動体の浮き上がりを防
止する押さえ機構が設けられる。
点から、請求項12に記載されるように、移動体を支持
体の電極形成面に押さえつけて移動体の浮き上がりを防
止する押さえ機構が設けられる。
【0010】
【作用】支持体上に形成された電極に印加する電圧の極
性パターンを切換えると、該電極と強誘電体層における
分極電荷の分布エリアとの間に生ずる静電吸引力及び静
電反発力が変化する。この変化に従って移動体が支持体
の電極形成面上を移動する。
性パターンを切換えると、該電極と強誘電体層における
分極電荷の分布エリアとの間に生ずる静電吸引力及び静
電反発力が変化する。この変化に従って移動体が支持体
の電極形成面上を移動する。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
【0012】本願出願人は、複数の記録セルが形成され
た板状の磁気記録媒体に対向する磁気ヘッドを磁気記録
媒体の表面と平行に振動させた状態で磁気記録媒体の記
録セルに情報を書き込み及びその記録セルから情報を読
み出すようにした磁気記録装置を既に提案している(特
開平5−73850)。この磁気記録装置においては、
磁気記録媒体の各記録セルを磁気ヘッドに位置づけるた
め、板状の磁気記録媒体を静電気アクチュエータによっ
て直線的に移動させている。この実施例では、この種の
磁気記録装置にて用いられる静電気アクチュエータにつ
いて説明する。
た板状の磁気記録媒体に対向する磁気ヘッドを磁気記録
媒体の表面と平行に振動させた状態で磁気記録媒体の記
録セルに情報を書き込み及びその記録セルから情報を読
み出すようにした磁気記録装置を既に提案している(特
開平5−73850)。この磁気記録装置においては、
磁気記録媒体の各記録セルを磁気ヘッドに位置づけるた
め、板状の磁気記録媒体を静電気アクチュエータによっ
て直線的に移動させている。この実施例では、この種の
磁気記録装置にて用いられる静電気アクチュエータにつ
いて説明する。
【0013】図2は、静電気アクチュエータが用いられ
る磁気記録装置の構造を示す。図2において、パッケー
ジ30には、電子回路ユニット31,磁気ヘッドが取付
けられたビーム32及び記録プレート33が収納されて
いる。記録プレート33は、パッケージ30に形成され
た凹部に嵌合し、滑走面34上を側面ガイド35にガイ
ドされながらY方向に摺動するようになっている。記録
プレート33は、後述するように、強誘電体層、基板層
(平滑層)及び媒体層にて構成されており、強誘電体層
が滑走面34に接触し、媒体層がビーム32先端の磁気
ヘッドに対向している。記録プレート33は、後述する
静電気アクチュエータによりY方向に移動され、また、
ビーム32は記録プレート33の静電気アクチュエータ
と同様の構造を有する静電気アクチュエータによりY方
向に直行するX方向に移動される。この記録プレート3
3のY方向の移動ビーム32のX方向の移動により、ビ
ーム32先端に取付けられた磁気ヘッドが記録プレート
33上の各記録セルに位置付けられる。ビーム32は圧
電素子により記録プレート33の表面に平行に振動する
ようになっている。ビーム32が振動している状態で、
磁気ヘッドを介してデータが記録プレート33上の記録
セルに書き込まれ、また記録セルからデータが読み出さ
れる。電子回路ユニット31には、信号処理、ビーム3
2の駆動、記録プレート33の駆動に係る回路が構成さ
れており、それらの回路における所定の端子とパッケー
ジ30の側面から突出するリード39とが電気的に接続
されている。
る磁気記録装置の構造を示す。図2において、パッケー
ジ30には、電子回路ユニット31,磁気ヘッドが取付
けられたビーム32及び記録プレート33が収納されて
いる。記録プレート33は、パッケージ30に形成され
た凹部に嵌合し、滑走面34上を側面ガイド35にガイ
ドされながらY方向に摺動するようになっている。記録
プレート33は、後述するように、強誘電体層、基板層
(平滑層)及び媒体層にて構成されており、強誘電体層
が滑走面34に接触し、媒体層がビーム32先端の磁気
ヘッドに対向している。記録プレート33は、後述する
静電気アクチュエータによりY方向に移動され、また、
ビーム32は記録プレート33の静電気アクチュエータ
と同様の構造を有する静電気アクチュエータによりY方
向に直行するX方向に移動される。この記録プレート3
3のY方向の移動ビーム32のX方向の移動により、ビ
ーム32先端に取付けられた磁気ヘッドが記録プレート
33上の各記録セルに位置付けられる。ビーム32は圧
電素子により記録プレート33の表面に平行に振動する
ようになっている。ビーム32が振動している状態で、
磁気ヘッドを介してデータが記録プレート33上の記録
セルに書き込まれ、また記録セルからデータが読み出さ
れる。電子回路ユニット31には、信号処理、ビーム3
2の駆動、記録プレート33の駆動に係る回路が構成さ
れており、それらの回路における所定の端子とパッケー
ジ30の側面から突出するリード39とが電気的に接続
されている。
【0014】蓋38の裏面には、りん青銅の細線からな
る押さえバネ36が取付けられている。蓋38がパッケ
ージ30の上面に固定されると(ネジにより)、押さえ
バネ36が記録プレート33の端部をその動きを妨げな
い程度の圧力で押さえ付ける。それにより、記録プレー
ト33の滑走面34からの浮き上がりが防止される。
る押さえバネ36が取付けられている。蓋38がパッケ
ージ30の上面に固定されると(ネジにより)、押さえ
バネ36が記録プレート33の端部をその動きを妨げな
い程度の圧力で押さえ付ける。それにより、記録プレー
ト33の滑走面34からの浮き上がりが防止される。
【0015】記録プレート33は、例えば8mm×8mmの
面積を有し、側面ガイド35によってガイドされる記録
プレート33のX方向の振れ幅は10μm 以下である。
面積を有し、側面ガイド35によってガイドされる記録
プレート33のX方向の振れ幅は10μm 以下である。
【0016】上記記録プレート33及びそれに接触する
滑走面34を含む支持ブロックの構造は、例えば、図1
に示すようになっている。図1において、記録プレート
33は、基板層10,基板層10の一方の表面に形成さ
れた媒体層11及び基板層10の他方の面に形成された
強誘電体層12にて構成されている。基板層10は、例
えば、電気伝導度が0.1 Ω・cmであるアンチモンドープ
のシリコン単結晶により形成され、その厚さは約200
μm である。媒体層11は、約100nmのCr−層を下
地として膜厚約20nmのCoCrTa−層がその下地に
積層された構造となっている。強誘電体層12は、PZ
T(ジルコン酸チタン酸鉛)にて形成され、その厚さは
約20μm である。強誘電体層12は分極処理が施さ
れ、その表層に残留分極による正(+)及び負(−)の
分極帯が形成されている。各分極帯は、記録プレート3
3の移動方向(Y方向)と垂直な方向に延びており、2
つの正(+)の分極帯と2つの負(−)の分極帯が交互
に記録プレート33の移動方向(Y方向)に所定のイン
ターバルで配列されている。
滑走面34を含む支持ブロックの構造は、例えば、図1
に示すようになっている。図1において、記録プレート
33は、基板層10,基板層10の一方の表面に形成さ
れた媒体層11及び基板層10の他方の面に形成された
強誘電体層12にて構成されている。基板層10は、例
えば、電気伝導度が0.1 Ω・cmであるアンチモンドープ
のシリコン単結晶により形成され、その厚さは約200
μm である。媒体層11は、約100nmのCr−層を下
地として膜厚約20nmのCoCrTa−層がその下地に
積層された構造となっている。強誘電体層12は、PZ
T(ジルコン酸チタン酸鉛)にて形成され、その厚さは
約20μm である。強誘電体層12は分極処理が施さ
れ、その表層に残留分極による正(+)及び負(−)の
分極帯が形成されている。各分極帯は、記録プレート3
3の移動方向(Y方向)と垂直な方向に延びており、2
つの正(+)の分極帯と2つの負(−)の分極帯が交互
に記録プレート33の移動方向(Y方向)に所定のイン
ターバルで配列されている。
【0017】また、記録プレート33を摺動自在に支え
る支持ブロック20は、シリコン層14及びシリコン層
14の表面に酸化シリコン(SiO2 )にて形成された
絶縁層15により構成されている。絶縁層15の表面に
は蒸着等の手法によりアルミニウム製の電極21-1,2
1-2,…21-12 が形成されている。各電極21-1〜2
1-12 は、強誘電体層12に形成された分極帯と同じ方
向に延びると共に、その分極帯と同一方向及び同一イン
ターバルで配列されている。
る支持ブロック20は、シリコン層14及びシリコン層
14の表面に酸化シリコン(SiO2 )にて形成された
絶縁層15により構成されている。絶縁層15の表面に
は蒸着等の手法によりアルミニウム製の電極21-1,2
1-2,…21-12 が形成されている。各電極21-1〜2
1-12 は、強誘電体層12に形成された分極帯と同じ方
向に延びると共に、その分極帯と同一方向及び同一イン
ターバルで配列されている。
【0018】実験的に用いられた記録プレート33及び
支持ブロック20においては、記録プレート33の強誘
電体層12の残留電気分極は、50μクローン/cm2 で
あり、抗電界は、約150kv/cmであった。また、支持
ブロック20に形成された各電極21-1〜21-12 の幅
及び長さは夫々1.5 μm ,6mmであり、電極21-1〜2
1-12 の配列のインターバルは3μm であった。更に、
各電極21-1〜21-1 2 に印加すべき電圧は±2Vとし
た。この印加電圧において、強誘電体層12(PZT)
に生ずる最大電界は7kv/cm であり、強誘電体層12の
抗電界の1/10以下である。強誘電体層12(PZT)に
生ずる最大電界は、強誘電体層12内の残留電気分極が
減少しないように、その抗電界の1/3 以下であることが
好ましい。
支持ブロック20においては、記録プレート33の強誘
電体層12の残留電気分極は、50μクローン/cm2 で
あり、抗電界は、約150kv/cmであった。また、支持
ブロック20に形成された各電極21-1〜21-12 の幅
及び長さは夫々1.5 μm ,6mmであり、電極21-1〜2
1-12 の配列のインターバルは3μm であった。更に、
各電極21-1〜21-1 2 に印加すべき電圧は±2Vとし
た。この印加電圧において、強誘電体層12(PZT)
に生ずる最大電界は7kv/cm であり、強誘電体層12の
抗電界の1/10以下である。強誘電体層12(PZT)に
生ずる最大電界は、強誘電体層12内の残留電気分極が
減少しないように、その抗電界の1/3 以下であることが
好ましい。
【0019】上述した強誘電体層12及び電極21-1〜
21-12 が静電気アクチュエータの基本的な構成要素で
ある。
21-12 が静電気アクチュエータの基本的な構成要素で
ある。
【0020】上記電極21-1〜21-12 への印加電圧
は、例えば、図1に示すステップ1,2,3,4のよう
に切換えられる。図1において、(−)は負電圧(例え
ば、−2V),(+)は正電圧(例えば、+2V)を示
す。このように、電極21-1〜21-12 への印加電圧を
切換えると、各電極21-1〜21-12 から生ずる電界と
強誘電体層12内の正及び負の分極帯との静電的な相互
作用により、記録プレート33は支持ブロック20上を
Y方向に移動する。
は、例えば、図1に示すステップ1,2,3,4のよう
に切換えられる。図1において、(−)は負電圧(例え
ば、−2V),(+)は正電圧(例えば、+2V)を示
す。このように、電極21-1〜21-12 への印加電圧を
切換えると、各電極21-1〜21-12 から生ずる電界と
強誘電体層12内の正及び負の分極帯との静電的な相互
作用により、記録プレート33は支持ブロック20上を
Y方向に移動する。
【0021】強誘電体層12及びそれに対向する電極2
1-1〜21-11 にて構成される静電気アクチュエータの
動作を図3及び図4を参照して説明する。
1-1〜21-11 にて構成される静電気アクチュエータの
動作を図3及び図4を参照して説明する。
【0022】電極21-1〜21-12 に対してステップ1
のパターンの電圧が印加されると、図3(a)に示すよ
うに、正(+)電圧が印加された電極と、負(−)の分
極帯が対向し、負(−)電圧が印加された電極と正
(+)の分極帯が対向するので、強誘電体層12は電極
21-1〜21-12 に吸引される。この状態で、電極21
-1〜21-12 に印加する電圧のパターンをステップ2の
ように切換えると、図3(b)に示すように、各電極の
極性とその隣りに位置する電極に対向した分極帯の極性
が逆となり、それら極性が逆となる電極と分極帯が吸引
し合う。その結果、強誘電体層12は、図3(C)に示
すように、極性が逆となる電極と分極帯が対向する位置
まで移動する。この状態で、電極21-1〜21-12 に印
加する電圧のパターンをステップ3のように切換える
と、図4(a)に示すように、再度、各電極の極性とそ
の隣りに位置する電極に対向した分極帯の極性が逆とな
り、それら極性が逆となる電極と分極帯が吸引し合う。
その結果、上記と同様に、強誘電体層12は、図4
(b)に示すように、極性が逆となる電極と分極帯が対
向する位置まで移動する。更に、この状態で、電極21
-1〜21-12 に印加する電圧のパターンをステップ4の
ように切換えると、上述の場合と同様に、強誘電体層1
2は電極の配列インターバルに相当する距離だけ移動す
る(図4(c)及び図4(d)参照)。
のパターンの電圧が印加されると、図3(a)に示すよ
うに、正(+)電圧が印加された電極と、負(−)の分
極帯が対向し、負(−)電圧が印加された電極と正
(+)の分極帯が対向するので、強誘電体層12は電極
21-1〜21-12 に吸引される。この状態で、電極21
-1〜21-12 に印加する電圧のパターンをステップ2の
ように切換えると、図3(b)に示すように、各電極の
極性とその隣りに位置する電極に対向した分極帯の極性
が逆となり、それら極性が逆となる電極と分極帯が吸引
し合う。その結果、強誘電体層12は、図3(C)に示
すように、極性が逆となる電極と分極帯が対向する位置
まで移動する。この状態で、電極21-1〜21-12 に印
加する電圧のパターンをステップ3のように切換える
と、図4(a)に示すように、再度、各電極の極性とそ
の隣りに位置する電極に対向した分極帯の極性が逆とな
り、それら極性が逆となる電極と分極帯が吸引し合う。
その結果、上記と同様に、強誘電体層12は、図4
(b)に示すように、極性が逆となる電極と分極帯が対
向する位置まで移動する。更に、この状態で、電極21
-1〜21-12 に印加する電圧のパターンをステップ4の
ように切換えると、上述の場合と同様に、強誘電体層1
2は電極の配列インターバルに相当する距離だけ移動す
る(図4(c)及び図4(d)参照)。
【0023】上記のように、電極21-1〜21-12 に印
加する電圧パターンをステップ1,2,3,4の順にサ
イクリックに切換えてゆくと、強誘電体層12は電極2
1-1〜21-12 上を連続的に移動する。即ち、記録プレ
ート33が支持ブロック20の滑走面34上を一定の方
向(Y方向)に移動する。ここで、電極に印加する電圧
パターンの切換えを停止して所定の電圧パターンを固定
的に電極21-1〜21 -12 に印加すると、強誘電体層1
2は電極に吸引された状態で停止する。即ち、記録プレ
ート33が所定の位置で停止する。
加する電圧パターンをステップ1,2,3,4の順にサ
イクリックに切換えてゆくと、強誘電体層12は電極2
1-1〜21-12 上を連続的に移動する。即ち、記録プレ
ート33が支持ブロック20の滑走面34上を一定の方
向(Y方向)に移動する。ここで、電極に印加する電圧
パターンの切換えを停止して所定の電圧パターンを固定
的に電極21-1〜21 -12 に印加すると、強誘電体層1
2は電極に吸引された状態で停止する。即ち、記録プレ
ート33が所定の位置で停止する。
【0024】上記電極21-1〜21-12 に印加する電圧
パターンを切換える電圧切換回路は、例えば、図5に示
すように構成されている。図5において、電極21-1〜
21 -12 が電極群(21-1〜21-4),(21-5〜21
-8),(21-9〜21-12 )にグループ化され、各電極
群に切換回路40が接続されている。切換回路40は4
つの論理回路ユニット、即ち、ドライバ回路41,EO
R(イクルシーブオア)回路42,反転回路43及びE
NOR(イクルーシブノア)回路44によって構成され
ている。電極群(21-1〜21-4)について着目する
と、電極21-1がドライバ回路41の出力、電極21-2
がEOR回路42の出力、電極21-3が反転回路43の
出力、電極21-4がENOR回路44の出力に夫々接続
されている。他の電極群についても同様に、各電極が切
換回路40内の対応する論理回路ユニットの出力に接続
されている。ドライバ回路41及び反転回路43の各入
力は端子(A)に接続されている。また、EOR回路4
2及びENOR回路44の一方の入力が端子(A)に接
続され、それらの他方の入力が端子(B)に接続されて
いる。切換回路40における各論理回路ユニットのグラ
ンド電位は負の電位に保持されており、論理“0”の出
力で対応する電極に負電圧(例えば、−2V)が印加す
るようになっている。
パターンを切換える電圧切換回路は、例えば、図5に示
すように構成されている。図5において、電極21-1〜
21 -12 が電極群(21-1〜21-4),(21-5〜21
-8),(21-9〜21-12 )にグループ化され、各電極
群に切換回路40が接続されている。切換回路40は4
つの論理回路ユニット、即ち、ドライバ回路41,EO
R(イクルシーブオア)回路42,反転回路43及びE
NOR(イクルーシブノア)回路44によって構成され
ている。電極群(21-1〜21-4)について着目する
と、電極21-1がドライバ回路41の出力、電極21-2
がEOR回路42の出力、電極21-3が反転回路43の
出力、電極21-4がENOR回路44の出力に夫々接続
されている。他の電極群についても同様に、各電極が切
換回路40内の対応する論理回路ユニットの出力に接続
されている。ドライバ回路41及び反転回路43の各入
力は端子(A)に接続されている。また、EOR回路4
2及びENOR回路44の一方の入力が端子(A)に接
続され、それらの他方の入力が端子(B)に接続されて
いる。切換回路40における各論理回路ユニットのグラ
ンド電位は負の電位に保持されており、論理“0”の出
力で対応する電極に負電圧(例えば、−2V)が印加す
るようになっている。
【0025】記録プレート33を移動させるためには、
端子(A)に図6(1)に示す第一のクロック信号が供
給され、端子(B)に図6(2)に示す第二のクロック
信号が供給される。第二のクロック信号の周波数は第一
のクロック信号の2倍であり、それらのクロック信号は
同期している。
端子(A)に図6(1)に示す第一のクロック信号が供
給され、端子(B)に図6(2)に示す第二のクロック
信号が供給される。第二のクロック信号の周波数は第一
のクロック信号の2倍であり、それらのクロック信号は
同期している。
【0026】上記第一及び第二のクロック信号により電
極21-1〜21-12 に印加される電圧パターンは、図7
に示すように変化する。
極21-1〜21-12 に印加される電圧パターンは、図7
に示すように変化する。
【0027】図7において、第1のクロック信号がロー
レベル(論理“0”)で第2のクロック信号がローレベ
ル(論理“0”)のとき、ドライバ回路41の出力が負
電圧、EOR回路42の出力が負電圧、反転回路43の
出力が正電圧及びENOR回路43の出力が正電圧とな
る。この場合、ステップ1(S1)の電圧パターンが電
極21-1〜21-12 に印加される。第一のクロック信号
がローレベルを維持して第二のクロック信号がハイレベ
ル(論理“1”)になると、ドライバ回路41の出力が
負電圧、EOR回路42の出力が正電圧、反転回路43
の出力が正電圧及びENOR回路43の出力が負電圧と
なる。この場合、ステップ2(S2)の電圧パターンが
電極21-1〜21-12 に印加される。更に、第一のクロ
ック信号がハイレベル(論理“1”)に切換わり、第二
のクロック信号がローレベルに切換わると、ドライバ回
路41の出力が正電圧、EOR回路42の出力が正電
圧、反転回路43の出力が負電圧及びENOR回路の出
力が負電圧となる。この場合、ステップ3(S3)の電
圧パターンが電極21-1〜21-12 に印加される。また
更に、第一のクロック信号がハイレベルを維持し、第二
のクロック信号がハイレベルに切換わると、ドライバ回
路41の出力が正電圧、EOR回路42の出力が負電
圧、反転回路43の出力が負電圧及びENOR回路44
の出力が正電圧となる。この場合、ステップ4(S4)
の電圧パターンが電極21-1〜21-12 に印加される。
レベル(論理“0”)で第2のクロック信号がローレベ
ル(論理“0”)のとき、ドライバ回路41の出力が負
電圧、EOR回路42の出力が負電圧、反転回路43の
出力が正電圧及びENOR回路43の出力が正電圧とな
る。この場合、ステップ1(S1)の電圧パターンが電
極21-1〜21-12 に印加される。第一のクロック信号
がローレベルを維持して第二のクロック信号がハイレベ
ル(論理“1”)になると、ドライバ回路41の出力が
負電圧、EOR回路42の出力が正電圧、反転回路43
の出力が正電圧及びENOR回路43の出力が負電圧と
なる。この場合、ステップ2(S2)の電圧パターンが
電極21-1〜21-12 に印加される。更に、第一のクロ
ック信号がハイレベル(論理“1”)に切換わり、第二
のクロック信号がローレベルに切換わると、ドライバ回
路41の出力が正電圧、EOR回路42の出力が正電
圧、反転回路43の出力が負電圧及びENOR回路の出
力が負電圧となる。この場合、ステップ3(S3)の電
圧パターンが電極21-1〜21-12 に印加される。また
更に、第一のクロック信号がハイレベルを維持し、第二
のクロック信号がハイレベルに切換わると、ドライバ回
路41の出力が正電圧、EOR回路42の出力が負電
圧、反転回路43の出力が負電圧及びENOR回路44
の出力が正電圧となる。この場合、ステップ4(S4)
の電圧パターンが電極21-1〜21-12 に印加される。
【0028】上記のように、図6(1),(2)に示す
第一のクロック信号及び第二のクロック信号を夫々端子
(A)及び(B)に印加すると、電極21-1〜21-12
に印加される電圧パターンはステップ1,2,3,4の
順でサイクリックに変化する。従って、図3及び図4で
示されるように、強誘電体層12(記録プレート33)
が電極21-1〜21-12 上を連続的に移動する。
第一のクロック信号及び第二のクロック信号を夫々端子
(A)及び(B)に印加すると、電極21-1〜21-12
に印加される電圧パターンはステップ1,2,3,4の
順でサイクリックに変化する。従って、図3及び図4で
示されるように、強誘電体層12(記録プレート33)
が電極21-1〜21-12 上を連続的に移動する。
【0029】また、第一のクロック信号の位相を90°
遅らせると、強誘電体層12(記録プレート33)の移
動方向が反転される。
遅らせると、強誘電体層12(記録プレート33)の移
動方向が反転される。
【0030】記録プレート33は次のように作製され
る。
る。
【0031】図8は強誘電体層の形成プロセスを示す。
まず、図(8a)に示すように、シリコン基板100の
表面にドクターブレード法により厚さ20μm のPZT
層112(強誘電体層)を形成し、焼成する。そして、
PZT層112の表面に所定のインターバルで配列され
るように櫛形電極113を形成する(図8(b))。更
に、電極間での放電を防止するため、酸化シリコン層1
15が櫛形電極113を覆うように形成される(図8
(c))。この状態において、櫛形電極113と隣り合
う2つずつの組にグループ化し、その電極の組に対し
て、図9に示すように、正電圧及び負電圧を交互に印加
する。その結果、図8(d)に示すように、極性が逆と
なる隣り合う電極間に電界が生じ、その電界によって、
櫛形電極113に対応した分極帯がPZT層112の表
層に形成される。分極帯は、正(+),正(+),負
(−),負(−)の極性パターンに従って配列される。
この分極が容易に行なわれるために、シリコン基板10
0,PZT層112,電極113及び酸化シリコン層1
15の積層体を300℃まで加熱し、PZT層112に
電界が生じている状態でその積層体を冷却する。その
後、エッチバック手法により、PZT層112の表面の
平滑性を確保しつつ、酸化シリコン層115及び櫛形電
極113が除去され、シリコン基板100と分極帯が形
成されたPZT層112の積層体が生成される(図8
(e))。
まず、図(8a)に示すように、シリコン基板100の
表面にドクターブレード法により厚さ20μm のPZT
層112(強誘電体層)を形成し、焼成する。そして、
PZT層112の表面に所定のインターバルで配列され
るように櫛形電極113を形成する(図8(b))。更
に、電極間での放電を防止するため、酸化シリコン層1
15が櫛形電極113を覆うように形成される(図8
(c))。この状態において、櫛形電極113と隣り合
う2つずつの組にグループ化し、その電極の組に対し
て、図9に示すように、正電圧及び負電圧を交互に印加
する。その結果、図8(d)に示すように、極性が逆と
なる隣り合う電極間に電界が生じ、その電界によって、
櫛形電極113に対応した分極帯がPZT層112の表
層に形成される。分極帯は、正(+),正(+),負
(−),負(−)の極性パターンに従って配列される。
この分極が容易に行なわれるために、シリコン基板10
0,PZT層112,電極113及び酸化シリコン層1
15の積層体を300℃まで加熱し、PZT層112に
電界が生じている状態でその積層体を冷却する。その
後、エッチバック手法により、PZT層112の表面の
平滑性を確保しつつ、酸化シリコン層115及び櫛形電
極113が除去され、シリコン基板100と分極帯が形
成されたPZT層112の積層体が生成される(図8
(e))。
【0032】上記のプロセスにおいて、特に酸化シリコ
ン層115を形成しなくてもよい。その場合、電極間で
の放電を防止するため、シリコン基板100,PZT層
113及び櫛形電極113の積層体をシリコンオイル中
に浸漬した状態で、上述した分極処理が行なわれる。
ン層115を形成しなくてもよい。その場合、電極間で
の放電を防止するため、シリコン基板100,PZT層
113及び櫛形電極113の積層体をシリコンオイル中
に浸漬した状態で、上述した分極処理が行なわれる。
【0033】シリコン基板100の表面がポリッシュさ
れ、Cr層を下地としたCoCrTa層が媒体層111
としてシリコン基板100の表面に形成される(図10
参照)。この媒体層111の形成は、シリコン基板10
0の導電性を利用したバイアススパッタリング法により
行なわれる。
れ、Cr層を下地としたCoCrTa層が媒体層111
としてシリコン基板100の表面に形成される(図10
参照)。この媒体層111の形成は、シリコン基板10
0の導電性を利用したバイアススパッタリング法により
行なわれる。
【0034】上記実施例では、シリコン基板100の各
面にPZT層112(強誘電体層)及び媒体層111が
形成されているが、このシリコン基板100に代えて導
電性を有するアモルファスカーボン基板を用いてもよ
い。
面にPZT層112(強誘電体層)及び媒体層111が
形成されているが、このシリコン基板100に代えて導
電性を有するアモルファスカーボン基板を用いてもよ
い。
【0035】静電気アクチュエータの電極が形成される
支持ブロック20の他の構造例が図11に示される。
支持ブロック20の他の構造例が図11に示される。
【0036】図11において、導電性を有するシリコン
基板120上に所定の間隔で溝を形成し、水蒸気酸化処
理によりシリコン基板120表面に酸化シリコン層12
1が形成される。この酸化シリコン層121は絶縁層と
して機能する。その後、CVD法によりシリコンを酸化
シリコン層121上に堆積させる。そして、シリコン層
にイオン注入法によりイオンを注入してそのシリコン層
に導電性を与える。その後、エッチバック法により酸化
シリコン層121が露出するまでシリコン層を除去し、
その結果、導電性シリコンにて形成された電極122
が、所定のインターバルで配列されるように酸化シリコ
ン層121上に形成される。
基板120上に所定の間隔で溝を形成し、水蒸気酸化処
理によりシリコン基板120表面に酸化シリコン層12
1が形成される。この酸化シリコン層121は絶縁層と
して機能する。その後、CVD法によりシリコンを酸化
シリコン層121上に堆積させる。そして、シリコン層
にイオン注入法によりイオンを注入してそのシリコン層
に導電性を与える。その後、エッチバック法により酸化
シリコン層121が露出するまでシリコン層を除去し、
その結果、導電性シリコンにて形成された電極122
が、所定のインターバルで配列されるように酸化シリコ
ン層121上に形成される。
【0037】このように、半導体の製造プロセスを利用
して支持ブロックを作製することにより、平坦な滑走面
34を有する支持ブロックを容易に得ることができる。
して支持ブロックを作製することにより、平坦な滑走面
34を有する支持ブロックを容易に得ることができる。
【0038】静電気アクチュエータの電極の他の配置例
が図12に示される。
が図12に示される。
【0039】図12において、第一の電極片群2
1a-1 ,21a-2 ,…,21a-5 …及び第二の電極片群
21b-1 ,21b-2 ,…,21b-5 がV字形状となるよ
うに配列され、各電極群における各電極は記録プレート
33の移動方向(Y方向)に対して、それらの間の狭角
が約60°となるように、傾斜している。この場合、強
誘電体層(PZT層)に形成される分極帯も図12に示
す電極片と同様に配列される。
1a-1 ,21a-2 ,…,21a-5 …及び第二の電極片群
21b-1 ,21b-2 ,…,21b-5 がV字形状となるよ
うに配列され、各電極群における各電極は記録プレート
33の移動方向(Y方向)に対して、それらの間の狭角
が約60°となるように、傾斜している。この場合、強
誘電体層(PZT層)に形成される分極帯も図12に示
す電極片と同様に配列される。
【0040】上記のように静電気アクチュエータの電極
及び強誘電体層中の分極帯をV字形状に配列すると、移
動体(記録プレート33)が支持ブロック上を移動して
いる過程で、その移動方向に垂直な方向にずれたとして
も、分極帯と電極との間の移動方向に垂直な方向に作用
する吸引力により、その移動体は、正規の位置(分極帯
と電極とが対向する位置)に強制的に戻される。従っ
て、移動体の安定した直進性が得られる。
及び強誘電体層中の分極帯をV字形状に配列すると、移
動体(記録プレート33)が支持ブロック上を移動して
いる過程で、その移動方向に垂直な方向にずれたとして
も、分極帯と電極との間の移動方向に垂直な方向に作用
する吸引力により、その移動体は、正規の位置(分極帯
と電極とが対向する位置)に強制的に戻される。従っ
て、移動体の安定した直進性が得られる。
【0041】図13は、記録プレート33(移動体)の
他の構造例を示す。
他の構造例を示す。
【0042】図13において、PZTからなる強誘電体
層112,低融点ガラス層125及びCo層を下地とし
たCoCrTa層により形成された媒体層111が積層
されている。このような記録プレート33は、次のよう
にして作成される。まず、約60μm の厚さのPZTシ
ートをドクターブレード法により作成し、それを焼結し
て強誘電体層112(焼結体)が形成される。この強誘
電体層112の分極処理が行なわれる表面を研磨してそ
の表面が平滑化される。強誘電体層112の反対側の表
面に水ガラス層をスピンコート法によって形成し、その
積層体を定温焼成する。その結果、強誘電体層112の
表面に低融点ガラス層125が形成される。そして、低
融点ガラス層125の表面が、その粗さが、例えばRa
(中心線平均粗さ)で、約2nm程度となるまで研磨され
る。この状態で、低融点ガラス層125上に30nmの厚
さの媒体層111が形成される。
層112,低融点ガラス層125及びCo層を下地とし
たCoCrTa層により形成された媒体層111が積層
されている。このような記録プレート33は、次のよう
にして作成される。まず、約60μm の厚さのPZTシ
ートをドクターブレード法により作成し、それを焼結し
て強誘電体層112(焼結体)が形成される。この強誘
電体層112の分極処理が行なわれる表面を研磨してそ
の表面が平滑化される。強誘電体層112の反対側の表
面に水ガラス層をスピンコート法によって形成し、その
積層体を定温焼成する。その結果、強誘電体層112の
表面に低融点ガラス層125が形成される。そして、低
融点ガラス層125の表面が、その粗さが、例えばRa
(中心線平均粗さ)で、約2nm程度となるまで研磨され
る。この状態で、低融点ガラス層125上に30nmの厚
さの媒体層111が形成される。
【0043】このような構造の記録プレート33によれ
ば、その厚さが、図1及び図10に示すものの約1/4 と
なる。従って、記録プレート33が軽量化され、記録プ
レート33の高速移動が可能となる。
ば、その厚さが、図1及び図10に示すものの約1/4 と
なる。従って、記録プレート33が軽量化され、記録プ
レート33の高速移動が可能となる。
【0044】上記実施例において、水ガラスに代えて流
動性のポリイミド樹脂を用いることも可能である。
動性のポリイミド樹脂を用いることも可能である。
【0045】図14は、記録プレート33の更に他の構
造例を示す。
造例を示す。
【0046】図14において、PZTからなる強誘電体
層112,接着剤層127,ポリイミドフィルム126
及び媒体層111が積層される。上記と同様形成された
強誘電体層112の表面に接着剤が塗布される。そして
ポリイミドフィルム126に引張力を与えた状態で接着
剤に押し付け、ポリイミドフィルム126を強誘電体層
112に接着する。このように、強誘電体層112,接
着剤層127及びポリイミドフィルム126が積層され
た状態において、ポリイミドフィルム126の表面の粗
さは、例えばRa(中心線平均粗さ)で、約2.5 nmであ
る。上記と同様の組成を有する媒体層111がポリイミ
ドフィルム126の表面に直接形成される。
層112,接着剤層127,ポリイミドフィルム126
及び媒体層111が積層される。上記と同様形成された
強誘電体層112の表面に接着剤が塗布される。そして
ポリイミドフィルム126に引張力を与えた状態で接着
剤に押し付け、ポリイミドフィルム126を強誘電体層
112に接着する。このように、強誘電体層112,接
着剤層127及びポリイミドフィルム126が積層され
た状態において、ポリイミドフィルム126の表面の粗
さは、例えばRa(中心線平均粗さ)で、約2.5 nmであ
る。上記と同様の組成を有する媒体層111がポリイミ
ドフィルム126の表面に直接形成される。
【0047】このような構造の記録プレート33におい
ても、その厚さが図1及び図10に示すものの約1/4 と
なり、記録プレート33の高速移動が可能となる。
ても、その厚さが図1及び図10に示すものの約1/4 と
なり、記録プレート33の高速移動が可能となる。
【0048】図15は、パッケージ30内で記録プレー
ト33の浮き上がりを防止するための機構の他の例を示
す。
ト33の浮き上がりを防止するための機構の他の例を示
す。
【0049】図15において、パッケージ30内に摺動
自在に収納された記録プレート33の両側端部に角柱状
の磁石51a,52aが固定されている。各磁石51
a,52aはネオジウム鉄ボロン系ボンド磁石であり、
例えば、その長さ7mm,高さ300μm 及び幅1mmであ
る。蓋38の内壁の両側端部に角柱状の磁石51a,5
2bが上記磁石51a,52aに対向するように固定さ
れている。ここで、対向する磁極は同極性(例えばN
極)である。蓋38の内壁に固定される磁石51b,5
2bの高さ及び幅は、記録プレート33に固定される磁
石51a,52aのものと同じであり、蓋38の内壁に
固定される各磁石(51b,52b)の長さは例えば1
6mmである。磁石51a,51b間及び磁石52a,5
2b間のすき間は、例えば、500μm であり、各磁石
における表面磁束は200 Oe(エルステッド)であ
る。この程度の量の磁束では、媒体層の情報に影響は与
えない。 磁石51a,52a及び磁石51b,52b
の反発力によ、記録プレート33が滑走面に押さえ付け
られ、記録プレート33が滑走面から浮上することが防
止される。
自在に収納された記録プレート33の両側端部に角柱状
の磁石51a,52aが固定されている。各磁石51
a,52aはネオジウム鉄ボロン系ボンド磁石であり、
例えば、その長さ7mm,高さ300μm 及び幅1mmであ
る。蓋38の内壁の両側端部に角柱状の磁石51a,5
2bが上記磁石51a,52aに対向するように固定さ
れている。ここで、対向する磁極は同極性(例えばN
極)である。蓋38の内壁に固定される磁石51b,5
2bの高さ及び幅は、記録プレート33に固定される磁
石51a,52aのものと同じであり、蓋38の内壁に
固定される各磁石(51b,52b)の長さは例えば1
6mmである。磁石51a,51b間及び磁石52a,5
2b間のすき間は、例えば、500μm であり、各磁石
における表面磁束は200 Oe(エルステッド)であ
る。この程度の量の磁束では、媒体層の情報に影響は与
えない。 磁石51a,52a及び磁石51b,52b
の反発力によ、記録プレート33が滑走面に押さえ付け
られ、記録プレート33が滑走面から浮上することが防
止される。
【0050】図16は、パッケージ30内で記録プレー
ト33の浮き上がりを防止するための機構の更に他の構
成例を示す。
ト33の浮き上がりを防止するための機構の更に他の構
成例を示す。
【0051】図16において、記録プレート33の両側
端部に角柱状の強誘電体(PZT)片53,54が固定
されている。各強誘電体片53,54は、ドクターブレ
ード法によって記録プレート33の所定の位置に形成さ
れる。そして、その厚さは、20μm ,長さは7mm,幅
は2mmである。各強誘電体片53,54を250℃のシ
リコンオイル中に保持した状態で、外部電極を用いて、
記録プレート33の垂直方向の分極処理を行なう。その
結果、各強誘電体片53,54の表面に所定の極性(正
又は負)の分極電荷が分布される。蓋38の内壁の両側
端部にアルミ電極55,56が上記分極した強誘電体片
53,54に対応するように固定されている。各アルミ
電極55,56の高さ及び幅は、強誘電体片53,54
と同様であり、その長さは16mmである。蓋38をパッ
ケージ30に取付けた状態で、強誘電体片53,54と
アルミ電極55,56の間隔は約2μm である。
端部に角柱状の強誘電体(PZT)片53,54が固定
されている。各強誘電体片53,54は、ドクターブレ
ード法によって記録プレート33の所定の位置に形成さ
れる。そして、その厚さは、20μm ,長さは7mm,幅
は2mmである。各強誘電体片53,54を250℃のシ
リコンオイル中に保持した状態で、外部電極を用いて、
記録プレート33の垂直方向の分極処理を行なう。その
結果、各強誘電体片53,54の表面に所定の極性(正
又は負)の分極電荷が分布される。蓋38の内壁の両側
端部にアルミ電極55,56が上記分極した強誘電体片
53,54に対応するように固定されている。各アルミ
電極55,56の高さ及び幅は、強誘電体片53,54
と同様であり、その長さは16mmである。蓋38をパッ
ケージ30に取付けた状態で、強誘電体片53,54と
アルミ電極55,56の間隔は約2μm である。
【0052】上記磁気記録装置が駆動されるとき、アル
ミ電極55,56に対向する強誘電体片53,54の表
面に分布した分極電荷の極性と同一の極性の電圧(例え
ば2V)が印加される。その結果、アルミ電極55,5
6及び強誘電体片53,54の反発力により、記録プレ
ート33が滑走面に押さえ付けられ、記録プレート33
が滑走面から浮上することが防止される。
ミ電極55,56に対向する強誘電体片53,54の表
面に分布した分極電荷の極性と同一の極性の電圧(例え
ば2V)が印加される。その結果、アルミ電極55,5
6及び強誘電体片53,54の反発力により、記録プレ
ート33が滑走面に押さえ付けられ、記録プレート33
が滑走面から浮上することが防止される。
【0053】また、上記アルミ電極55,56に代え
て、上記強誘電体片53,54の分極電荷と同一極性の
分極電荷が表面に分布した他の強誘電体片を用いること
も可能である。この場合、強誘電体片間の反発力により
記録プレート33が滑走面に押さえつけられる。
て、上記強誘電体片53,54の分極電荷と同一極性の
分極電荷が表面に分布した他の強誘電体片を用いること
も可能である。この場合、強誘電体片間の反発力により
記録プレート33が滑走面に押さえつけられる。
【0054】上記実施例では、記録プレート33が、滑
走面34に直接接するような構成であったが、記録プレ
ート33の強誘電体層12と滑走面34との間に固体、
液体、気体いずれかの誘電体薄層を形成するようにして
もよい。
走面34に直接接するような構成であったが、記録プレ
ート33の強誘電体層12と滑走面34との間に固体、
液体、気体いずれかの誘電体薄層を形成するようにして
もよい。
【0055】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、移動体における強誘電体層に残留分極により分極電
荷の分布エリアが所定のパターンで配列され、その分極
電荷の分布エリアと電圧印加のなされる電極との間に生
ずる静電力によって移動体が移動する。即ち、従来のよ
うに、移動体が移動している過程で束縛電荷を移動体表
面に誘起させる必要がない。従って、移動体を高速でス
ムーズに連続的に移動させることが可能となる。また、
移動体が移動する際に束縛電荷を移動体表面に誘起させ
るための高電圧が必要ないので、移動体を低電圧にて駆
動することが可能となり、また電圧の切換回路も簡単に
なる。そして、更に、電極が移動体の移動方向と平行な
方向に配列され、各電極は移動体の移動方向に対して所
定の角度傾いて形成されので、移動体が移動方向と垂直
な方向にずれたとしても、電極と分極電荷の分布エリア
との間に生ずる移動方向と垂直な方向への力成分によっ
て移動体は正規の位置に戻される。従って、移動体の直
進性が向上する。
ば、移動体における強誘電体層に残留分極により分極電
荷の分布エリアが所定のパターンで配列され、その分極
電荷の分布エリアと電圧印加のなされる電極との間に生
ずる静電力によって移動体が移動する。即ち、従来のよ
うに、移動体が移動している過程で束縛電荷を移動体表
面に誘起させる必要がない。従って、移動体を高速でス
ムーズに連続的に移動させることが可能となる。また、
移動体が移動する際に束縛電荷を移動体表面に誘起させ
るための高電圧が必要ないので、移動体を低電圧にて駆
動することが可能となり、また電圧の切換回路も簡単に
なる。そして、更に、電極が移動体の移動方向と平行な
方向に配列され、各電極は移動体の移動方向に対して所
定の角度傾いて形成されので、移動体が移動方向と垂直
な方向にずれたとしても、電極と分極電荷の分布エリア
との間に生ずる移動方向と垂直な方向への力成分によっ
て移動体は正規の位置に戻される。従って、移動体の直
進性が向上する。
【図1】本発明の実施例に係る静電気アクチュエータの
構造を示す図である。
構造を示す図である。
【図2】静電気アクチュエータが適用される磁気記録装
置を示す図である。
置を示す図である。
【図3】実施例に係る静電気アクチュエータの動作(そ
の1)を示す図である。
の1)を示す図である。
【図4】実施例に係る静電気アクチュエータの動作を示
す図である。
す図である。
【図5】静電気アクチュエータの電圧切換回路の一例を
示す図である。
示す図である。
【図6】電圧切換回路に供給される切換パルス信号を示
す波形図である。
す波形図である。
【図7】電圧切換回路の動作を示す図である。
【図8】記録プレート(移動体)を作成する手順を示す
図である。
図である。
【図9】分極処理に用いられる電極を示す図である。
【図10】記録プレートの構造を示す断面図である。
【図11】支持ブロックの他の構造を示す断面図であ
る。
る。
【図12】電極の配置例を示す図である。
【図13】記録プレートの他の構造例を示す断面図であ
る。
る。
【図14】記録プレートの更に他の構造例を示す断面図
である。
である。
【図15】記録プレートの押さえ機構の一例を示す図で
ある。
ある。
【図16】記録プレートの押さえ機構の他の一例を示す
図である。
図である。
10 基板層 11 媒体層 12 強誘電体層 14 シリコン層 15 絶縁層 20 支持ブロック 21-1〜21-12 電極 33 記録プレート 40 切換回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−8181(JP,A) 特開 平4−308480(JP,A) 特開 平5−207760(JP,A) 特開 平3−230779(JP,A)
Claims (16)
- 【請求項1】所定の間隔で配列された複数の電極(21
-1〜21-12 )が形成された面(34)を有する支持体
(20)と、 強誘電体層(12、112)を有する移動体(33)と
を備え、 該強誘電体層(12、112)の表面に、所定の極性パ
ターンを有する残留電気分極による分極電荷の分布エリ
アが支持体(20)上の電極(21-1〜21-12 )に対
応するように形成され、上記電極(21-1〜21-12 )
に印加する電圧の極性パターンの切換えに基づいた電極
(21-1〜21-12 )と強誘電体層(12、112)に
おける分極電荷の分布エリアとの間の静電吸引力及び静
電反発力の変化により移動体(33)が支持体(20)
の電極形成面(34)上を移動するようにする共に、 電極(21 -1 〜21 -12 )は移動体(33)の移動方向
(Y)と平行な方向に配列され、各電極は移動体(3
3)の移動方向(Y)に対して所定の角度傾いて形成さ
れた 静電アクチュエータ。 - 【請求項2】 請求項1記載の静電気アクチュエータに
おいて、 上記支持体(20)は、基板層(14)と基板層(1
4)の表面に形成された絶縁層(15)とを有し、該絶
縁層(15)の表面(34)に金属製の電極(21-1〜
21-21 )が形成された静電気アクチュエータ。 - 【請求項3】請求項1記載の静電アクチュエータにおい
て、 上記支持体(20)は、シリコン基板層(120)と該
シリコン基板層(120)表面に形成された酸化シリコ
ン製の絶縁層(121)とを有し、電極の表面と絶縁層
(121)の表面とがそろうように、該電極(122)
が導電性シリコンによって絶縁層(121)内に形成さ
れた静電アクチュエータ。 - 【請求項4】請求項1記載の静電アクチュエータにおい
て、 上記分極電荷の分布エリアは、強誘電体(12、11
2)の表面に沿って形成された所定の極性パターンを有
する残留電気分極により、支持体(20)上の電極(2
1 -1 〜21 -12 )に対応するように形成された 静電アク
チュエータ。 - 【請求項5】請求項1記載の静電アクチュエータにおい
て、 各電極(21-1〜21-12 )は、V字状に配置された第
一の電極片(21a-1 〜21a-5 …)及び第二の電極片
(21b-1 〜21b-5 …)にて構成された静電気アクチ
ュエータ。 - 【請求項6】 請求項1乃至5いずれか記載の静電気ア
クチュエータにおいて、 上記移動体(33)は、基板層(10)と、該基板層
(10)の一方の面に形成された強誘電体層(12)
と、該基板層(10)の他方の面に形成された当該静電
気アクチュエータによって本来移動されるべき目的物体
層(11)とを有する静電気アクチュエータ。 - 【請求項7】所定の間隔で配列された複数の電極(21
−1 〜21 −12 )が形成された面(34)を有する支
持体(20)と、 強誘電体層(12、112)を有する移動体(33)と
を備え、 該強誘電体層(12、112)の表面に、所定の極性パ
ターンを有する残留電気分極による分極電荷の分布エリ
アが支持体(20)上の電極(21 −1 〜21 −12 )
に対応するように形成され、上記電極(21 −1 〜21
−12 )に印加する電圧の極性パターンの切換えに基づ
いた電極(21 −1 〜21 −12 )と強誘電体層(1
2、112)における分極電荷の分布エリアとの間の静
電吸引力及び静電反発力の変化により移動体(33)が
支持体(20)の電極形成面(34)上を移動するよう
にする共に、 上記移動体(33)は、平滑面を確保するてめの表面平
滑層(125)を介して強誘電体層(112)上に形成
された当該静電アクチュエータによって本来移動される
べき目的物体層(11)を有する静電アクチュエータ。 - 【請求項8】 請求項7記載の静電気アクチュエータに
おいて、 該表面平滑層(125)は、低融点ガラスにて形成され
た静電気アクチュエータ。 - 【請求項9】 請求項7記載の静電気アクチュエータに
おいて、 該表面平滑層(125)は、ポリイミド樹脂にて形成さ
れた静電気アクチュエータ。 - 【請求項10】 請求項9記載の静電気アクチュエータ
において、 該表面平滑層(125)は、強誘電体層(112)に接
着剤(127)にて接着されたポリイミド樹脂フィルム
(126)である静電気アクチュエータ。 - 【請求項11】所定の間隔で配列された複数の電極(2
1 −1 〜21 −12 )が形成された面(34)を有する
支持体(20)と、 強誘電体層(12、112)を有する移動体(33)と
を備え、 該強誘電体層(12、112)の表面に、所定の極性パ
ターンを有する残留電気分極による分極電荷の分布エリ
アが支持体(20)上の電極(21 −1 〜21 −12 )
に対応するように形成され、上記電極(21 −1 〜21
−12 )に印加する電圧の極性パターンの切換えに基づ
いた電極(21 −1 〜21 −12 )と強誘電体層(1
2、112)における分極電荷の分布エリアとの間の静
電吸引力及び静電反発力の変化により移動体(33)が
支持体(20)の電極形成面(34)上を移動するよう
にする丑に、 強誘電体層(12、112)に形成される残留電気分極
の極性パターンは、正、負、負、正の繰り返しである静
電アクチュエータ。 - 【請求項12】所定の間隔で配列された複数の電極(2
1 −1 〜21 −12 )が形成された面(34)を有する
支持体(20)と、 強誘電体層(12、112)を有する移動体(33)と
を備え、 該強誘電体層(12、112)の表面に、所定の極性パ
ターンを有する残留電気分極による分極電荷の分布エリ
アが支持体(20)上の電極(21 −1 〜21 −12 )
に対応するように形成され、上記電極(21 −1 〜21
−12 )に印加する電圧の極性パターンの切換えに基づ
いた電極(21 −1 〜21 −12 )と強誘電体層(1
2、112)における分極電荷の分布エリアとの間の静
電吸引力及び静電反発力の変化により移動体(33)が
支持体(20)の電極形成面(34)上を移動するよう
にする共に、 移動体(33)を支持体(20)の電極形成面(34)
に押さえつけて移動体(33)の浮き上がりを防止する
押さえ機構を有する静電アクチュエータ。 - 【請求項13】 請求項12記載の静電気アクチュエー
タにおいて、 該押さえ機構は、移動体(33)の表面を押さえるバネ
部材(36)を有する静電気アクチュエータ。 - 【請求項14】 請求項12記載の静電気アクチュエー
タにおいて、 該押さえ機構は、対になる磁石(51a,51b)(5
2a,52b)を有し、該磁石(51a,51b)(5
2a,52b)の反発力により移動体(33)を支持体
(20)の電極形成面(34)に押さえつけるようにし
た静電気アクチュエータ。 - 【請求項15】 請求項12記載の静電気アクチュエー
タにおいて、 該押さえ機構は、対になる強誘電体片(53,54)と
電極(55,56)を有し、該強誘電体片(53,5
4)の表面に残留電気分極による所定の極性の分極電荷
が分布し、該分極電荷と同極性の電圧を電極(55,5
6)に印加することにより発生する強誘電体片(53,
54)と電極(55,56)間の静電反発力により移動
体(33)を支持体(20)の滑走面(34)に押さえ
つけるようにした静電気アクチュエータ。 - 【請求項16】 請求項12記載の静電気アクチュエー
タにおいて、 該押さえ機構は、対になる強誘電体片を有し、該対にな
る強誘電体片の表面に残留電気分極による夫々同極性の
分極電荷が分布し、該強誘電体片間で生ずる静電反発力
により移動体(33)を支持体(20)の滑走面(3
4)に押さえ付けるようにした静電気アクチュエータ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5295691A JP2721638B2 (ja) | 1993-11-25 | 1993-11-25 | 静電気アクチュエータ |
US08/284,246 US5523639A (en) | 1993-11-25 | 1994-08-02 | Electrostatic actuator having ferroelectrics in which residual dielectric polarization is formed |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5295691A JP2721638B2 (ja) | 1993-11-25 | 1993-11-25 | 静電気アクチュエータ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07147786A JPH07147786A (ja) | 1995-06-06 |
JP2721638B2 true JP2721638B2 (ja) | 1998-03-04 |
Family
ID=17823932
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5295691A Expired - Lifetime JP2721638B2 (ja) | 1993-11-25 | 1993-11-25 | 静電気アクチュエータ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
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DE19533173C1 (de) * | 1995-09-08 | 1997-01-30 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Elektrostatischer Antrieb |
US5986381A (en) * | 1997-03-14 | 1999-11-16 | Hewlett-Packard Company | Electrostatic actuator with spatially alternating voltage patterns |
CN1330082C (zh) * | 2000-03-30 | 2007-08-01 | 株式会社东芝 | 静电致动器机构、其驱动方法、和使用其的摄像机模块 |
EP1193853B1 (en) * | 2000-09-28 | 2013-07-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electrostatic actuator and method of driving the same |
JP3964612B2 (ja) * | 2000-10-06 | 2007-08-22 | 株式会社東芝 | 静電アクチュエータ |
EP1202099A3 (en) * | 2000-10-31 | 2003-04-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electrostatic actuator and camera module using the same |
US7334443B2 (en) * | 2002-02-22 | 2008-02-26 | Master Lock Company Llc | Radio frequency electronic lock |
US6888693B2 (en) * | 2002-09-13 | 2005-05-03 | Seagate Technology Llc | Disc drive slider with protruding electrostatic actuator electrode |
US7081705B2 (en) * | 2003-06-13 | 2006-07-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Luminescent device, display device, and display device control method |
JP2005107399A (ja) * | 2003-10-01 | 2005-04-21 | Olympus Corp | ミラー装置 |
JP4343644B2 (ja) * | 2003-10-15 | 2009-10-14 | オリンパス株式会社 | シャッタ装置 |
JP4286711B2 (ja) * | 2004-04-30 | 2009-07-01 | 富士通株式会社 | 記録ヘッドの磁界を計測する装置および方法 |
US20060125746A1 (en) * | 2004-12-13 | 2006-06-15 | Jean-Michel Sallese | Microelectrical device |
JP4904762B2 (ja) * | 2005-10-03 | 2012-03-28 | カシオ計算機株式会社 | 静電アクチュエータの駆動方法 |
JP4810571B2 (ja) * | 2006-05-18 | 2011-11-09 | アルプス電気株式会社 | 静電アクチュエータ |
US20070286597A1 (en) * | 2006-06-07 | 2007-12-13 | William Hopper | Magnetic fluid adjustable optical iris |
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Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6244079A (ja) * | 1985-08-20 | 1987-02-26 | Masafumi Yano | エネルギ−変換装置 |
JPS6395858A (ja) * | 1986-10-13 | 1988-04-26 | Canon Inc | 静電アクチユエ−タ |
JP2704949B2 (ja) * | 1989-05-23 | 1998-01-26 | 富士通株式会社 | 微小静電リニアモータの製造方法 |
JPH0365083A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-20 | Hiroshi Shimizu | 静電モータ |
JPH03169278A (ja) * | 1989-11-28 | 1991-07-22 | Yaskawa Electric Mfg Co Ltd | 静電アクチュエータ |
JP2682181B2 (ja) * | 1990-02-02 | 1997-11-26 | 日本電気株式会社 | 微小可動機械機構 |
US5378954A (en) * | 1990-04-16 | 1995-01-03 | Fujitsu Limited | Electrostatic actuator |
JPH048181A (ja) * | 1990-04-25 | 1992-01-13 | Ricoh Co Ltd | 静電アクチュエータ |
JPH04172973A (ja) * | 1990-11-01 | 1992-06-19 | Seiko Epson Corp | 駆動装置の電極形状 |
JPH04308480A (ja) * | 1991-04-02 | 1992-10-30 | Mitsubishi Kasei Corp | フィルムアクチュエータ |
JP2549775B2 (ja) * | 1991-09-18 | 1996-10-30 | 富士通株式会社 | 磁気記憶装置 |
JPH05207760A (ja) * | 1992-01-27 | 1993-08-13 | Ricoh Co Ltd | 静電力アクチュエータ |
-
1993
- 1993-11-25 JP JP5295691A patent/JP2721638B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-08-02 US US08/284,246 patent/US5523639A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPH07147786A (ja) | 1995-06-06 |
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