JP2712957B2 - 樹脂封止型半導体装置の製造方法 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置の製造方法

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JP2712957B2
JP2712957B2 JP3318296A JP31829691A JP2712957B2 JP 2712957 B2 JP2712957 B2 JP 2712957B2 JP 3318296 A JP3318296 A JP 3318296A JP 31829691 A JP31829691 A JP 31829691A JP 2712957 B2 JP2712957 B2 JP 2712957B2
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resin
leads
lead frame
semiconductor device
insulating tape
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秀幸 西川
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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は樹脂封止型半導体装置用
リードフレームの構造及びそのリードフレームを用いた
樹脂封止型半導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、樹脂封止型半導体装置は、図4の
平面図に示すようなリードフレームの素子搭載部1に半
導体素子を搭載し、素子とリード2の先端とを金属細線
で接続し、その後リードフレームを樹脂封止金型で型締
めし、型内に封止樹脂を注入することにより、素子搭載
部1に搭載された半導体素子,金属細線,内部リードな
どを樹脂封止して製造される。
【0003】この場合、樹脂封止金型の上型と下型には
さまれて外部に導出した複数のリードにおいて隣り合う
リードのすきまに充填される樹脂は、型の周囲を所定の
間隔で取り囲むように配置され複数のリードを連結する
タイバー3によってせき止められるようにしているのが
一般的である。
【0004】その後、タイバーを切断除去し、外部リー
ドに半田めっき等の外装処理を行い、外部リードを所定
の形状に成形して半導体装置は完成する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の技術で
は、樹脂封止後に複数のリードを連結しているタイバー
を切断除去しなければならない。タイバーは通常、金型
により切断除去されるが、半導体装置の形状が異なるご
とに専用の金型の製作しなければならず、多大の費用が
かかるのと同時に、金型製作に長時間を要するという問
題がある。
【0006】また、外部リードのピッチが小さくなるに
つれて、金型の製造は難しくなり、種々の問題が生じて
きた。たとえば、外部リードのピッチが0.4mmで、
外部リードの幅が0.2mmの場合には、切断刃の先端
の厚さは最大でも0.4−0.2=0.2mmにしかな
らない。このように細い切断刃はかす詰まり等の負荷に
より刃先が容易に破損してしまうため、保守に手間がか
かるという問題がある。
【0007】また、金型によりタイバーを切断除去する
ときのリードフレームの位置合せは、通常リードフレー
ムに設けられている位置決め穴に、金型に設けられてい
る位置決めピンを挿入することによってなされるが、リ
ードフレームおよび金型の製作時の誤差により多少の位
置ずれが生じる。外部リードピッチが小さい半導体装置
の場合は、たとえわずかの位置ずれであっても切断刃が
リードに食い込んでしまい、切断歩留りや品質を低下さ
せてしまうという問題がある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の樹脂封止型半導
体装置の製造方法は、多数のリードを備えタイバーを有
しないリドフレームを形成する工程と、前記多数のリー
ドの配列方向に直行するように所定の幅を有する絶縁テ
ープを接着剤で張り付ける工程と、前記リードフレーム
を樹脂封止する前に前記絶縁テープ上の前記多数のリー
ドのすきまに液状の樹脂を滴下して略前記多数のリード
の厚さ分の樹脂で埋める工程と、その後前記リードフレ
ームを樹脂封止する工程とを有する。
【0009】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明の実施例1のリードフレームの部分斜
視図である。図2は図1のリードフレームの使用方法を
説明するための部分断面図である。
【0010】実施例1のリードフレームはタイバーを有
しないリードフレームであり、図1に示すように、樹脂
封止される部分の外縁4を跨ぐようにリード2の裏面に
リードと直角に絶縁テープ5が接着されている。図1に
おいては、リード2の厚さが0.15mm,幅が0.2
mm,隣り合うリード2のすきまが0.2mm,絶縁テ
ープ5の幅が1mmとなっている。また、絶縁テープ5
の材質はポリイミドであり、絶縁テープ5とリード2の
接着にはアクリル系接着剤を使用している。次に、図1
のリードフレームを使用して樹脂封止型半導体装置を製
造する方法を説明する。まず図1のリードフレームの素
子搭載部(図示せず)に半導体素子を搭載し、素子とリ
ードの先端とを金属細線で接続し、次に図2に示すよう
に、隣り合う複数のリード2のすきまの絶縁テープ5上
に液状の熱硬化性樹脂6を滴下し、熱硬化させる。図2
の断面位置は、図1の樹脂封止される部分の外縁4に相
当する。図2においては、リード2の裏面に絶縁テープ
5が接着されており、リード2のすきまの絶縁テープ5
上に樹脂6が形成されている。
【0011】次にこのリードフレームを樹脂封止金型で
型締めし、型内に封止樹脂を注入することにより、樹脂
封止するのであるが、図2に示す隣り合う複数のリード
2のすきまにすでに形成されいる樹脂6により、封止樹
脂はせき止められる。従来技術では、樹脂封止後、タイ
バーを切断除去する必要があったが、本実施例ではその
必要がない。
【0012】次に、実施例2を説明する。図3は実施例
2のリードフレームの部分斜視図である。実施例2にお
いては、図3に示すように、実施例1と同様樹脂封止さ
れる部分の外縁4近傍に絶縁テープが接着されている
が、実施例1とは異なり、3種の絶縁テープが接着され
ている。ここで、第1の絶縁テープ7及び第2の絶縁テ
ープ8の幅は0.5mm,第3の絶縁テープ9の幅は2
mmとなっている。実施例2では、第1の絶縁テープと
第2の絶縁テープ8の間に液状の熱硬化性樹脂を滴下さ
せて、隣り合う複数のリード2のすきまの第3の絶縁テ
ープ9上に樹脂を形成させる。
【0013】このようにすると、滴下された液状の熱硬
化性樹脂が第1の絶縁テープ7と第2の絶縁テープ8に
支えられるため、複数のリードのすきまの樹脂形成を安
定して行うことができるという利点がある。
【0014】
【発明の効果】以上説明してきたように本発明は、タイ
バーのないリードフレームの樹脂封止される部分の外縁
近傍に絶縁テープを設け、隣り合う複数のリードのすき
まの絶縁テープ上に樹脂等の絶縁物を形成させることに
より、従来技術においては半導体装置の形状が異なるご
とに製作する必要のあった高価なタイバー切断除去用プ
レス金型を不要にすることができるという効果がある。
また、従来技術では、リード間ピッチが小さくなるにつ
れて、タイバー切断ずれによる不良が増加する傾向にあ
ったが、本発明では、タイバー切断ずれによる不良を完
全になくすことができ、安定したリード形状を得ること
ができるという効果がある。また従来技術では、タイバ
ー切断除去時にプレスによる衝撃が生じたが、本発明で
は衝撃は全くなくなり、半導体装置の品質向上がはかれ
るという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1のリードフレームの部分斜視
図である。
【図2】図1のリードフレームの使用方法を説明するた
めの部分断面図である。
【図3】本発明の実施例2のリードフレームの部分斜視
図である。
【図4】従来のリードフレームの部分平面図である。
【符号の説明】 1 素子搭載部 2 リード 3 タイバー 4 樹脂封止される部分の外縁 5 絶縁テープ 6 樹脂 7 第1の絶縁テープ 8 第2の絶縁テープ 9 第3の絶縁テープ

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 樹脂封止型半導体装置の製造方法におい
    て、多数のリードを備えタイバーを有しないリドフレー
    ムを形成する工程と、前記多数のリードの配列方向に直
    行するように所定の幅を有する絶縁テープを接着剤で張
    り付ける工程と、前記リードフレームを樹脂封止する前
    に前記絶縁テープ上の前記多数のリードのすきまに液状
    の樹脂を滴下して硬化させ略前記多数のリードの厚さ分
    の樹脂で埋める工程と、その後前記リードフレームを樹
    脂封止する工程とを有することを特徴とする樹脂封止型
    半導体装置の製造方法。
JP3318296A 1991-12-03 1991-12-03 樹脂封止型半導体装置の製造方法 Expired - Lifetime JP2712957B2 (ja)

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JPS61650A (ja) * 1984-06-07 1986-01-06 数馬 国治 ジヤカ−ド編機におけるジヤカ−ド筬のフランチン制御装置
JPS6151933A (ja) * 1984-08-22 1986-03-14 Hitachi Ltd 半導体装置の製法

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