JP2705792B2 - 二環式芳香族化合物、その製造法及びこれを含有する皮膚及び頭皮処置用組成物 - Google Patents
二環式芳香族化合物、その製造法及びこれを含有する皮膚及び頭皮処置用組成物Info
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規二環式芳香族誘導体、それらの製造法及
びそれらの化粧料、医薬又は動物薬としての使用に関す
るものである。 本発明に従う化合物は脂質の合成を阻害する活性を有
するので、脂肪質の、すなわち脂ぎった外観を呈してい
る頭皮及び皮膚の処理、いわゆるトリートメント用の化
粧料としてきわめて興味あるものである。 これらの化合物はまた、炎症性成分による皮膚病等皮
膚への有害作用の局所的及び全身的処置において優れた
活性を示す。 本発明に従う二環式芳香族化合物は一般式： （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、各々、水素原子又は
Ｃ1〜Ｃ6アルキル基を表すが、Ｒ1〜Ｒ4のうちの少なく
とも２個の基は水素原子以外の基であるものとし;AはＣ
1〜Ｃ6アルキル基によって置換されていてもよいメチレ
ン又はジメチレン基を表すが、Ａがジメチレン基を表す
場合には、Ｒ1とＲ3は一緒にメチレン基を形成し得るも
のとし;R5及びＲ6は、各々、水素原子又はＣ1‐Ｃ6アル
コキシ基を表し;R′は水素原子又はヒドロキシル基を表
し、Ｒ″は水素原子を表すか又はＲ′とＲ″は一緒にオ
キソ基（＝０）を形成しており;Bはシクロヘキシル、シ
クロヘキセニル又はフェニル基を表し;Rは−CH2OH基又
は−COR7基を表し;R7は水素原子、−OR8基又は を表し、Ｒ8は水素原子又はＣ1〜Ｃ20アルキル基を表
し;r′及びｒ″は、各々、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル
基又はモノヒドロキシアルキル基を表すか又はｒ′と
ｒ″は一緒に、ピペリゾノ、ピペラジノ、モルホリノ、
ピロリジノ及び４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ
ノ基から選ばれた基を表す）で表される二環式芳香族化
合物（但し、２［（5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル］安息香酸を除く）及び
該化合物の塩並びにそれらの光学異性体及び幾何異性体
である化合物である。 20個までの炭素原子をもつアルキル基の例は特にメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第３級
ブチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ドデシル、ヘ
キサデシル及びオクタデシル基を包含する。 モノヒドロキシアルキル基は２〜６個の炭素原子をも
つかかる基を意味し、特に２−ヒドロキシエチル、２−
ヒドロキシプロピル又は２−ヒドロキシエトキシエチル
基を例示し得る。 低級アルコキシ基の代表的な例としてはメトキシ、イ
ソプロポキシ、ブトキシ及び第３級ブトキシ基をあげる
ことができる。 基ｒ′及びｒ″が一緒にそれらが結合している窒素原
子とともに複素環を形成する場合、かかる複素環基は好
ましくはピペリジノ、ピペラジノ、モルホリノ、ピロリ
ジノ、又は４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジノ基
である。 本発明の化合物が塩の形で提供される場合、それは該
化合物が少なくとも１個の遊離の酸官能基を有する場合
には亜鉛塩、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩又は
アミン塩であることができ、あるいは該化合物が少なく
とも１個のアミン官能基を有する場合には無機酸又は有
機酸の塩、特に塩酸塩、臭化水素酸塩又はクエン酸塩で
あるとができる。 本発明に従う化合物は、Ｒ′及びＲ″が一緒にオキソ
基を形成しそしてＲがカルボン酸官能基又はアミド官能
基を表わす場合には、互変異性体の形で存在し得る。 したがって、下記の式（II）の化合物は環式ラクトン
（III）の形で表わすことができる。 同様に、式（IV）の化合物は式（Ｖ）のラクタム互変
異性体の形で存在し得る。 式（Ｉ）の化合物の中で、本発明の特に好ましい化合
物として、次の一般式： （式中、Ｒ′及びＲ″は一緒にオキソ基（＝０）を形成
するか又はＲ′がヒドロキシ基を表し、Ｒ″が水素原子
を表し、Ａは基−（CH2）2−又は を表し;Bはフェニル又はシクロヘキシル核を表し;R7は
−OR8基又は を表し;R8は水素原子又はＣ1〜Ｃ12アルキル基を表し;
r′は水素原子又はモノヒドロキシアルキル基を表しそ
してｒ″はＣ1〜Ｃ8アルキル基又はモノヒドロキシアル
キル基を表すか、又は、ｒ′及びｒ″は一緒に隣接する
窒素原子と共に４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ
ニル基を表す）によって表わされる化合物及びそれらの
塩をあげることができる。 本発明に従う式（Ｉ）の化合物の中で代表的な化合物
を以下に列挙する。 （１） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸； （２） Ｎ−エチル ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル
−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニ
ル〕ベンズアミド； （３） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸メチ
ル； （４） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕−安息香酸２
−エチルヘキシル； （５） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸ナト
リウム； （６） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸亜
鉛； （７） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアルデ
ヒド； （８） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕フェニ
ルカルビノール （９） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕安息香
酸； （10） Ｎ−４′−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ
ノ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアミド； （11） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）エトキシメチル〕安息香
酸； （12） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）ヒドロキシメチル〕安息香酸； （13） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）−２−エテニル〕安息香酸； （14） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル〕安息香酸； （15） Ｎ−エチル２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル
−５−インダニル）カルボニル〕ベンズアミド； （16） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル〕安息香酸エチル； （17） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル〕安息香酸２−エチルヘキシル； （18） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル〕安息香酸ナトリウム； （19） Ｎ−４′−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ
ノ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダニ
ル）カルボニル〕ベンズアミド； （20） ２−〔（1,1,3,3−テトラメチル−５−インダ
ニル）ヒドロキシメチル〕安息香酸； （21） ２−〔（1,1,3,3−テトラメチル−５−インダ
ニル）カルボニル〕安息香酸； （22） Ｎ−エチル２−〔（1,1,3,3−テトラメチル−
５−インダニル）カルボニル〕ベンズアミド； （23） Ｎ−４′−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ
ノ２−〔（1,1,3,3−テトラメチル−５−インダニル）
カルボニル〕ベンズアミド； （24） ２−〔（1,1,3,3−テトラメチル−５−インダ
ニル）カルボニル〕安息香酸亜鉛； （25） ２−〔（5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸エチル； （26） Ｎ−エチル２−〔（5,8−メタノ−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアミ
ド； （27） ２−〔（5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕安息香酸； （28） ２−〔（1,4−ジメトキシ−5,8−メタノ−5,6,
7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチ
ル〕安息香酸； （29） ２−〔（1,4−ジメトキシ−5,8−メタノ−5,6,
7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息
香酸； （30） Ｎ−エチル２−〔（1,4−ジメトキシ−5,8−メ
タノ−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボ
ニル〕ベンズアミド； （31） N,N−ジ−ｎ−ブチル２−〔（5,5,8,8−テトラ
メチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カル
ボニル〕ベンズアミド； （32） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサ
ンカルボン酸； （33） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル〕−１−シクロヘキセン−１−カル
ボン酸； （34） N,N−ジ（２−ヒドロキシエチル）２−〔（5,
5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナ
フチル）カルボニル〕ベンズアミド； （35） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサ
ンカルボン酸ナトリウム； （36） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル〕シクロヘキサンカルボン酸； （37） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサ
ンカルボン酸エチル； （38） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕シクロ
ヘキサンカルボン酸； （39） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕シクロ
ヘキサンカルボン酸ナトリウム； （40） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸エチ
ル； （41） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）メチル〕安息香酸； （42） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸亜
鉛； （43） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサ
ンカルボン酸亜鉛；及び （44） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］ベンズアルデ
ヒド 本発明はさらに式（Ｉ）の二環式芳香族化合物の製造
法をも目的とするものである。 本発明に従えば、これらの化合物はつぎの反応工程に
従って製造することができる。 これらの化合物はフリーデル−クラフツ反応の条件下
で置換酸ハライド（１）又は酸無水物（２）と二環式芳
香族化合物（３）とを縮合させる第一工程において得ら
れる。 この縮合反応は構造式（２）の内部無水物を使用し
て、塩化アルミニウム又は塩化錫のようなルイス酸の存
在下、1,2−ジクロルエタンのような塩素系溶剤中で行
なうことが好ましい。 式（３）の出発物質である二環式芳香族化合物の例と
しては、1,1,4,4−テトラメチル−1,2,3,4−テトラヒド
ロナフタリン（J.A.C.S.,62,36-44（1940）に記載され
ている）、1,4−メタノ−1,2,3,4−テトラヒドロナフタ
リン又はベンゾノルボルネン（J.O.C.,32,893-901（196
7）に記載されている）、5,8−ジヒドロキシ−1,4−メ
タノ−1,2,3,4−テトラヒドロナフタリン（商業的に入
手可能な化合物）、1,1,3,3−テトラメチルインダン及
び1,1,2,3,3−ペンタメチルインダン（フランス特許第
1,392,804号明細書に記載されている）をあげることが
できる。 式（４）及び（５）の化合物から、特に式（５）のケ
ト酸から、本発明に従う別の化合物を下記の反応工程に
従って製造することができる。 したがって、たとえばテトラヒドロフランのような溶
剤中における水素化ホウ素ナトリウムによる還元又はア
ルカリ性媒質中における亜鉛による還元によれば式
（６）の第２級アルコールを得ることができる。 塩酸の存在下、亜鉛アマルガムを使用するクレメンゼ
ン還元によれば式（７）の化合物を得ることができる。 テトラヒドロフラン中において水素化リチウムアルミ
ニウムを使用する還元法によれば式（８）のジオールを
得ることができる。 式（８）のジオール類から出発してピリジニウムクロ
ルクロメート（P.C.C.）を用いる酸化法を適用すれば式
（９）のケトアルデヒドを得ることができる。 式（Ｉ）の化合物のアシルオキシ誘導体（Ｒ′＝アシ
ルオキシ基;R″＝Ｈ）は酸の活性化体、たとえば酸無水
物又は酸塩化物をＲ′＝OH、Ｒ″＝Ｈである本発明の化
合物と反応させることによって製造される。 式（Ｉ）の化合物のアルコキシ誘導体（Ｒ′＝アルコ
キシ基、Ｒ″＝Ｈ）は同様にＲ′＝OH、Ｒ″＝Ｈである
式（Ｉ）の化合物から出発して既知の方法に従って製造
される。 Ｒ′及びＲ″が一緒にメタノ基（CH2＝）を形成する
式（Ｉ）の化合物はメチルトリフェニルホスホニウムブ
ロマイドを塩基性媒質中でＲ′及びＲ″が一緒にオキソ
基を形成する式（Ｉ）のカルボニル化合物と反応させる
ことによって製造される。 Ｒ′及びＲ″が一緒にヒドロキシイミノ基を形成する
式（Ｉ）の化合物はたとえばエタノールのような有機溶
剤中でヒドロキシルアミン塩酸塩と対応すカルボニル化
合物とを炭酸水素ナトリウムのような無機塩基又はトリ
エチルアミンのような有機塩基の存在下で反応させるこ
とによって製造される。 これらのヒドロキシイミノ誘導体は対応するアミン
（Ｒ′＝NH2、Ｒ″＝Ｈ）から酢酸媒質中で亜鉛を用い
る還元によって導くことができる。 本発明に従う式（Ｉ）の化合物は、J.Girard及びA.Ba
rbierによってInt.Journal of Cosmetic Science,2,315
〜329（1980）に及びM.Gauci及びJ.OustrinによってIn
t.Journal of Cosmetic Science,3,227〜232（1982）に
それぞれ記載されている試験において優れた活性を示
す。実際上、これらの報告者は、この試験が脂質の合成
の阻止活性を説明するものであるので、指定されたグル
コースを配合する“試験管内”試験が非ホルモン性の抗
脂漏剤のための方向付け（指針）試験として注目され得
ることを教示したものである。 他方、脂漏、ふけ、脂肪肌、脂肪髪、白斑及び黒斑の
ような皮膚科の状態から皮脂腺分泌生成物の分泌が増大
することは知られている。これらの毛脂組織の慢性的現
象は特に顔面、胸及び背中に関係する。 さらに、本発明に従う式（Ｉ）の酸（Ｒ＝−CO2Ｈ）
は瘡の原因となる病原菌に対して殺菌活性を示す。 本発明の化合物は特に皮脂腺分泌物の無秩序な生成又
は過度の分泌に関係する皮膚科疾患及び炎症性成分によ
る皮膚科疾患の処置のために特に適するものである。か
かる皮膚疾患の例としては、とりわけ尋常性、面皰性又
は多形性瘡、老人性、日光性瘡及び薬物性又は職業
性瘡、があげられる。 したがって、本発明はさらに、上記に定義したとおり
の式（Ｉ）の化合物又はそれらの塩又はそれらの光学又
は互変異性体の少なくとも１種を含有してなる医薬組成
物、特に前述した諸疾患の処置に有効な医薬組成物を提
供する。 医薬組成物用の担体としては任意慣用の医薬用担体が
使用でき、活性化合物をその中に溶解又は分散させた状
態で使用できる。 投薬は腸管、腸管外、すなわち非経口的に又は局所又
は眼を経由して実施できる。腸管経由用医薬は錠剤、カ
プセル、糖衣錠、シロップ、懸濁液、溶液、粉末、顆
粒、乳濁液等の剤型とすることができる。非経口投与用
組成物は灌注用又は注射用の溶液又は懸濁液の剤型とす
ることができる。 本発明による化合物は、一般に１日当り、体重1kgあ
たり約0.1mg〜10mgの用量で医薬として投与される。 局所経由用に適する本発明の医薬組成物は軟膏、チン
キ、クリーム、ポマード、粉末、貼布剤、浸漬綿栓、溶
液、乳液、ローション、ゲル、スプレー又は懸濁液の剤
型とすることができる。 これら局所経由用組成物は臨床症状に応じて無水の形
又は水性の形とすることができる。 本発明の化合物が局所経由で使用される場合には、き
わめて広範囲の稀釈度にわたってこれらの化合物の良好
な活性が観察される。特に、これらの活性化合物は0.01
〜10重量％の範囲で活性である。勿論、これより高濃度
の使用もそれが特定の治療のために必要となる場合には
可能であることは明らかである。しかしながら、活性化
合物の好ましい使用範囲は0.1〜５重量％の範囲であ
る。 本発明による式（Ｉ）の化合物はまた、化粧料分野に
おいても、特に身体及び毛髪の衛生に、とりわけ瘡の
傾向のある皮膚の処置、毛髪の再生、脱毛の防止、皮膚
又は毛髪の脂ぎった外観の処置も太陽の有害な作用の防
止又は処置において使用される。 したがって本発明はさらに、許容し得る化粧料用担体
中に式（Ｉ）の化合物又はそれらの塩及び／又はそれら
の異性体の少なくとも１種を含有してなる化粧料組成物
を提供するものである。これらの組成物は特にローショ
ン、ゲル、クリーム、石鹸又はシャンプーの形態で使用
される。 化粧料組成物中の式（Ｉ）の化合物の濃度は0.005〜
５重量％、好ましくは0.01〜１重量％である。 本発明による医薬及び化粧料組成物は不活性添加剤又
は薬理学的に又は美容上活性の添加剤、特にチアモルホ
リノン及びその誘導体又は尿素のような湿潤剤；抗脂漏
剤、たとえばＳ−カルボキシメチルシスティン、Ｓ−ベ
ンジルシステアミン、それらの塩及びそれらの誘導体、
チオキソロン；たとえばベンゾイルペルオキシドのよう
な抗瘡剤；抗生物質、たとえばエリスロマイシン及び
そのエステル、ネオマイシン、テトラサイクリン類又は
4,5−ポリメチレン−３−イシチアゾロンなど；毛髪再
生促進剤、たとえばミノキシジル“Minoxidil"（2,4−
ジアミノ−６−ピペリジノピリミジン−３−オキシド）
及びその誘導体、ジアゾキシド（Diazoxide）（７−ク
ロル−３−メチル−1,2,4−ベンゾチアジアジン−1,1−
ジオキシド）及びフェニトイン（Phenytoin）（5,5−ジ
フェニルイミダゾリン−2,4−ジオン又はオキサプロパ
ニウム ヨーダイドなど；ステロイド系及び非ステロイ
ド系抗炎症剤；カロテノイド、特にβ−カロチン；抗乾
癬剤、たとえばアントラリン及びその誘導体及び5,8,1
1,14−エイコサテトラエン酸及び5,8,11−エイコサトリ
エン酸ならびにそれらのエステル及びアミドなどを含有
し得る。 本発明の組成物はまた風味改良剤、防腐剤、安定剤、
調湿剤、pH調整剤、滲透圧改変剤、乳化剤、紫外線Ａ及
びＢフィルター、酸化防止剤、たとえばα−トリフェロ
ール、ブチルヒドロキシアニソール又はブチルヒドロキ
シトルエンなど、を含有し得る。 以下例証のため、ただし何ら限定的な性格なしに、本
発明による式（Ｉ）の化合物の製造例及びそれらを含有
する組成物例を示す。 実施例Ｉ ２−〔5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸の製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝CO2Ｈである式Ｉ
の化合物） 無水1,2−ジクロルエタン100cm3中の1,1,4,4−テトラ
メチル−1,2,3,4−テトラヒドロナフタリン9.41g（0.05
モル）及び無水フタル酸7.46g（0.05モル）の懸濁物に
無水塩化アルミニウム13.3g（0.1モル）を30℃以下の温
度を維持するように少しずつ添加する。室温で１時間撹
拌した後、反応混合物を氷冷水100cm3に注入する。有機
相を傾瀉し、水性相を新たにジクロルエタン150cm3で２
回抽出する。これらのジクロルエタン相を集め、水洗
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、ついで減圧下で濃縮す
る。得られる粗製の固体を再び沸騰ヘキサン250ml中に
採り、＋５℃まで冷却後乾燥しそしてトルエン200cm3中
で再結晶化する。真空中80℃で乾燥した後、２−〔5,5,
8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフ
チル）カルボニル〕安息香酸の白色結晶13,5gを得る。
融点187℃。 1H NMRスペクトル（250MHz）及びIRスペクトル分析は
所望の構造に合致する。 元素分析:C22Ｈ24Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 78.54 7.19 14.27％ 実測値: 78.82 6.93 14.25％ 実施例II ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダニ
ル）カルボニル〕安息香酸の製造 無水1,2−ジクロルエタン150cm3中の1,1,2,3,3−ペン
タメチルインダン13.2g（0.07モル）及び無水フタル酸1
0.37g（0.07モル）の懸濁物に無水塩化アルミニウム16g
（0.12モル）を温度を30℃以下に保持するように少しず
つ添加する。室温で１時間撹拌後、反応混合物を氷冷水
100cm3中に注入する。有機相を傾瀉しそして水性相を新
たにジクロルエタン100cm3で２回抽出する。ジクロルエ
タン相を集め、水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、つ
いで減圧下で濃縮する。得られる粗製の固体をヘキサン
に吸収させ、乾燥し、ついで酢酸エチル中で再結晶化す
る。乾燥後、２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−
インダニル）カルボニル〕安息香酸の白色結晶15.5gを
得る。融点205℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に相当する。 元素分析:C22Ｈ24Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 78.54 7.19 14.27％ 実測値: 78.50 7.20 14.15％ 実施例III ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカル
ボン酸の製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝シクロヘキシル;R＝CO2Ｈであ
る式Ｉの化合物） 無水の1,2−ジクロルエタン150cm3中の1,1,4,4−テト
ラメチル−1,2,3,4−テトラヒドロナフタリン16.95g
（0.09モル）及びシスヘキサヒドロ無水フタル酸13.9g
（0.09モル）の懸濁物に無水塩化アルミニウム20g（0.1
5モル）を温度30℃以下に保持するように少量ずつ添加
する。室温で１時間撹拌後、反応混合物を氷冷水100cm3
中に注入する。有機相を傾瀉しそして水性相を新たにジ
クロルエタン150cm3で抽出する。ジクロルエタン相を集
め、硫酸ナトリウム上で乾燥し、ついで減圧下に濃縮す
る。得られる粗製の固体を温ヘキサン中に吸収させ、乾
燥し、ついで酢酸エチルから再結晶化する。乾燥後、２
−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカルボン
酸の白色結晶20.7gを得る。融点178℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に合致する。 元素分析:C22Ｈ30Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 77.15 8.83 14.02％ 実測値: 76.93 8.89 13.97％ 実施例IV ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダニ
ル）カルボニル〕−１−シクロヘキセン−１−カルボン
酸の製造 無水1,2−ジクロルエタン60cm3中の1,1,2,3,3−ペン
タメチルインダン5.88g（0.031モル）及び3,4,5,6−テ
トラヒドロ無水フタル酸5g（0.031モル）の懸濁物に、
無水塩化アルミニウム8.3g（0.06モル）を、温度を30℃
以下に保持するように少しずつ分割して添加する。２時
間撹拌後、反応混合物を氷冷水40cm3中に注入する。有
機相を傾瀉し、水性相を新たにジクロルエタン150cm3で
２回抽出する。ジクロルエタン相を集め、水洗し、硫酸
ナトリウム上で乾燥し、ついで減圧下で濃縮する。得ら
れる粗製固体をシリカゲル60上でジクロルメタンを溶離
剤とするクロマトグラフィーにより精製し、ついでヘキ
サンから結晶化させる。濾過及び乾燥後、２−〔（1,1,
2,3,3−ペンタメチル−５−インダニル）カルボニル〕
−１−シクロヘキセン−１−カルボン酸の白色結晶4.8g
を得る。融点153℃。 1H NMRスペクトル（250MHz）及び13C NMRスペクトル
（CDCl3中）及びIRスペクトル（KB4及びジクロルメタ
ン）は環式ラクトン構造に相当する。 元素分析:C22Ｈ28Ｏ Ｃ Ｈ Ｏ 計算値:77.61 8.29 14.10％ 実測値:77.94 8.47 13.53％ 実施例Ｖ ２−〔（1,4−ジメトキシ−5,8−メタノ−5,6,7,8−
テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸の
製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1及びＲ3＝−CH2−;R2＝Ｒ4＝H;R
5＝Ｒ6＝−OCH3;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CO
2Ｈである式Ｉの化合物） 無水1,2−ジクロルエタン40ml中の5,8−ジメトキシ−
1,4−メタノ−1,2,3,4−テトラヒドロナフタリン2.25g
（11ミリモル）及び無水フタル酸1.63g（11ミリモル）
の懸濁物に無水塩化アルミニウム2.93g（22ミリモル）
を約30分かかって少しずつ添加する。室温で一晩撹拌
後、反応混合物を氷冷水40cm3中に注入する。有機相を
傾瀉し、水性相を新たにジクロルメタン100cm3で２回抽
出する。ジクロルエタン及びジクロルメタン相を集め、
水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそして蒸発乾固す
る。得られる固体をシリカゲル60上でジクロルメタン／
テトラヒドロフランの50/50混合物を溶離剤とするクロ
マトグラフィーによって２回精製する。蒸発及び乾燥
後、単離された固体をイソプロピルエーテル中に吸収さ
せる。これを濾過しかつ乾燥した後、２−〔（1,4−ジ
メトキシ−5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−
ナフチル〕安息香酸0.4gを白色粉末として得る。融点21
3℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）は所望の構造に合致す
る。 元素分析:C21Ｈ20Ｏ5 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 71.38 5.72 22.70％ 実測値: 71.18 5.76 22.67％ 実施例VI ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕フェニルカル
ビノールの製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′＝OH;R″＝H;B＝フェニル;R＝−CH2OHである式
Ｉの化合物） ０℃に冷却された無水テトラヒドロフラン10cm3中の
水素化リチウムアルミニウム350mg（９ミリモル）の懸
濁物に無水テトラヒドロフラン20cm3中の２−〔（5,5,
8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフ
チル）カルボニル〕安息香酸1g（３ミリモル）の溶液を
添加する。１時間撹拌して周囲温度に戻した後、反応混
合物を０℃に冷却し、0.1N塩酸をゆっくり添加して酸性
化しそしてエチルエーテルで抽出する。有機相を水洗
し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそして蒸発乾固する。得
られる粗製ジオールをシリカゲル60上でジクロルメタン
−酢酸エチル（97:3）混合物を溶離剤とするクロマトグ
ラフィーによって精製する。蒸発及び乾燥後、２−
〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−
２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕フェニルカルビノー
ル0.8gを白色結晶として得る。融点95〜98℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）は所望の構造に合致す
る。 元素分析:C22Ｈ28Ｏ2 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 81.44 8.70 9.86％ 実測値: 81.48 8.46 9.82％ 実施例VII ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸２−エチル
ヘキシルの製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CO2Ｃ8Ｈ17で
ある式Ｉの化合物） 98％硫酸0.1cm3を含有するトルエン100cm3中の実施例
Ｉに述べた２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−
テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸4.
2g（0.0125モル）及び２−エチル−１−ヘキサノール3.
26g（0.025モル）の溶液を８時間還流加熱しかつ同時に
生成する水を共沸蒸留により除去する。反応混合物をつ
いで室温まで冷却し、多量の水で洗滌しそして減圧下で
濃縮する。得られる粗製油状物を速やかにシリカゲル60
上でトルエン／ジクロルメタン（50:50）混合物を溶離
剤とするクロマトグラフィーによって精製する。蒸発及
び乾燥後、２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−
テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸２
−エチルヘキシル4.1gを無色液体として得る。 1H NMRスペクトル（80MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に相当する。 元素分析:C30Ｈ40Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 80.31 8.99 10.70％ 実測値: 80.46 8.91 10.75％ 実施例VIII ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダニ
ル）カルボニル〕安息香酸エチルの製造 98％硫酸0.1cm3を含有するエチルアルコール80cm3中
の実施例IIに述べた２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル
−５−インダニル）カルボニル〕安息香酸2.4g（7.1ミ
リモル）の溶液を12時間還流下に加熱する。ついでこの
溶液を減圧下に濃縮する。粗製エステルをエチルエーテ
ル100cm3に溶解し、このエーテル溶液を炭酸水素ナトリ
ウム、ついで水で洗滌し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそ
して最後に蒸発乾固する。乾燥後、２−〔（1,1,2,3,3
−ペンタメチル−５−インダニル）カルボニル〕安息香
酸エチル2.5gを無色液体として得る。これは室温で徐々
に晶出し、融点56〜57℃の白色固体を与える。 1H NMRスペクトル（80MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に合致する。 元素分析:C24Ｈ28Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 79.09 7.74 13.17％ 実測値: 79.12 7.85 12.98％ 実施例IX ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸メチルの製
造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CO2CH3である
式Ｉの化合物） 98％硫酸0.1cm3を含有するメチルアルコール125cm3中
の実施例Ｉに述べた２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−
5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕
安息香酸3.36g（0.01モル）の溶液を24時間還流下に加
熱する。この溶液は減圧下に濃縮する。粗製エステルを
エチルエーテル150cm3中に溶解し、炭酸水素ナトリウ
ム、ついで水で洗滌する。硫酸ナトリウム上で乾燥後、
エーテル相を蒸発乾固する。得られる固体を最少量のヘ
キサン中で再結晶化する。乾燥後、２−〔（5,5,8,8−
テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチ
ル）カルボニル〕安息香酸メチル2.2gを白色結晶として
得る。融点77〜78℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に合致する。 元素分析:C23Ｈ26Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 78.82 7.48 13.70％ 実測値: 78.93 7.50 13.79％ 実施例Ｘ Ｎ−エチル ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,
7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベン
ズアミドの製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CONHC2Ｈ5であ
る式Ｉの化合物） 無水ジクロルメタン30cm3中の２−〔（5,5,8,8−テト
ラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カ
ルボニル〕安息香酸3.36g（0.01モル）の溶液に三塩化
燐0.55cm3（６ミリモル）を添加して３時間還流加熱す
る。反応混合物を＋５℃まで冷却し、それに無水エチル
アミン2cm3（0.03モル）を添加する。＋５℃で攪拌を30
分間続け、ついで１時間で周囲温度に戻す。反応混合物
をついでジクロルメタンの添加によって100cm3に稀釈し
そして希塩酸、ついで水で洗滌する。ジクロルメタン相
を硫酸ナトリウム上で乾燥し、ついで減圧下で濃縮す
る。得られる粗生成物をシリカゲル60上でトルエン／ジ
クロルメタン／酢酸エチル（5/3/2）の混合物を溶離剤
とするクロマトグラフィーによって精製し、ついでイソ
プロピルエーテルから再結晶化する。乾燥後、Ｎ−エチ
ル ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラ
ヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアミド1.75
gを白色結晶として得る。融点201℃。 1H NMRスペクトル（250MHz）及び13C NMRスペクトル
（CDCl3中）及びIRスペクトル（KBr及びジクロルメタ
ン）は環状ラクタムに相当する。 元素分析:C24Ｈ29NO2 Ｃ Ｈ Ｎ Ｏ 計算値: 79.30 8.04 3.85 8.80％ 実測値: 79.32 8.01 3.80 8.69％ 実施例XI N,N−ジ−ｎ−ブチル２−〔（5,5,8,8−テトラメチル
−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニ
ル〕ベンズアミドの製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝CON（Ｃ4Ｈ9）2
である式Ｉの化合物） 無水ジクロルメタン20cm3中の２−〔（5,5,8,8−テト
ラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カ
ルボニル〕安息香酸1.68g（５ミリモル）の溶液に三塩
化燐0.22cm3（2.5ミリモル）を添加しそして３時間還流
下に加熱する。＋５℃まで冷却後、ジブチルアミン2.6c
m3（15ミリモル）を添加する。攪拌を＋５℃で30分間続
けた後、さらに１時間で室温に戻す。反応混合物をつい
でジクロルメタンの添加によって約80cm3に稀釈し、つ
いで傾瀉用容器に移し、稀塩酸、ついで水で洗滌する。
ジクロルメタン相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、ついで
減圧下で濃縮する。得られる粗生成物をシリカゲル60上
でトルエン／ジクロルメタン／酢酸エチル（5/3/2）の
混合物を溶離剤とするクロマトグラフィーによって精製
する。蒸発及び80℃における真空乾燥の後、N,N−ジ−
ｎ−ブチル２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−
テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアミ
ド0.6gを無色濃稠油として得る。 1H NMRスペクトル（80MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に相当する。 元素分析:C30Ｈ41NO2・0.25H2Ｏ Ｃ Ｈ Ｎ Ｏ 計算値: 79.69 9.25 3.10 7.96％ 実測値: 79.48 9.37 3.16 7.97％ 実施例XII ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアルデヒドの
製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CHOである式Ｉ
の化合物） 無水ジクロルメタン20cm3中の実施例VIに記載した２
−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニル〕フェニルカルビノール1g
（３ミリモル）の溶液に、室温で攪拌下に、ピリジニウ
ム クロルクロメート2.3g（10.6ミリモル）を添加しそ
して28℃又はそれ以下の温度で１時間30分攪拌する。ジ
クロルメタンによって約200cm3に稀釈した後、50gのシ
リカゲル60を添加しそしてセライト上で濾過する。濾液
を減圧下に濃縮し、得られる粗製固体をシリカゲル60上
でジクロルメタンを溶離剤とするクロマトグラフィーに
よって精製する。蒸発しそして70℃で真空乾燥した後、
２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアルデヒド0.3g
を白色固体として得る。融点145℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）は所望の構造に相当す
る。 元素分析:C22Ｈ24NO2 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 82.46 7.55 9.99％ 実測値: 82.88 7.37 9.82％ 実施例XIII ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕安息香酸及び
そのラクトンの製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′＝OH,R″＝H,B＝フェニル;R＝−CO2Ｈである式
Ｉの化合物） 無水テトララヒドロフラン50cm3中の２−〔（5,5,8,8
−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチ
ル）カルボニル〕安息香酸2g（8.12ミリモル）の溶液に
水素化ホウ素ナトリウム1.82cm3（0.048ミリモル）を少
量ずつ添加しそして室温で20時間攪拌する。反応混合物
を０〜５℃の温度に冷却し、0.1N塩酸をゆっくり添加す
ることによって酸性化しそしてエチルエーテルで抽出す
る。有機相を水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそして
蒸発乾固する。得られる粗生成物を速やかにシリカゲル
60上でジクロルメタンを溶離剤とするクロマトグラフィ
ーによって精製し、ついでヘキサンから再結晶化する。
乾燥後、２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕安息香
酸のラクトン1.1gを白色結晶として得る。融点134℃。 1H NMRスペクトル（250MHz）及び13C NMRスペクトル
及びIRスペクトルは所望の構造に対応する。 元素分析:C22Ｈ24NO2 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 82.46 7.55 9.99％ 実測値: 82.45 7.60 10.11％ 1Nソーダ水溶液（souda normale）60cm3中の上記で得
られたラクトン0.96g（３ミリモル）の懸濁物を還流下
で２時間加熱する。得られる溶液を＋５℃まで冷却し、
ついで氷酢酸3.5cm3を添加することによって酸性化す
る。生ずる沈澱を濾過し、多量の水で洗滌しそして室温
で炭酸カリウム上で真空乾燥する。かくして２−〔（5,
5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナ
フチル）ヒドロキシメチル〕安息香酸0.96gを良好な結
晶状のかつきわめて疎水性の白色固体として得る。これ
は加熱すると直ちにゴム状になり、ついで別の固体とな
り134℃で溶融する（ラクトンに転化）。 1H NMRスペクトル（250MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に対応する。 元素分析:C22Ｈ26NO3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 78.07 7.74 14.18 実測値: 77.97 7.72 13.89％ 実施例XIV ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸ナトリウム
の製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CO2 Na であ
る式Ｉの化合物） ２回イオン交換処理した水300cm3中に２−〔（5,5,8,
8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチ
ル）カルボニル〕安息香酸1.252g（3.73ミリモル）を懸
濁させ、これに0.1Nソーダ水溶液37.3cm3（3.73ミリモ
ル）を添加しそして混合物を僅かに加温した状態で溶解
するまで攪拌する。この溶液を濾過し、ついで蒸発乾固
する。ついでトルエン50cm3を添加して改めて蒸発乾固
する。かくして、80℃で真空乾燥した後に２−〔（5,5,
8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフ
チル）カルボニル〕安息香酸ナトリウム1.32gを白色粉
末として得る。融点300℃。 実施例XV ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカル
ボン酸ナトリウムの製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝シクロヘキシル;R＝−CO2 Na
である式Ｉの化合物） ２回イオン交換処理した水150cm3中の２−〔（5,5,8,
8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチ
ル）カルボニル〕シクロヘキサンカルボン酸342.5mg
（１ミリモル）を懸濁させ、これに0.1Nソーダ水溶液10
cm3（１ミリモル）を添加しそして溶解するまで僅かに
加温しつつ攪拌する。得られる溶液を濾過し、ついで蒸
発乾固する。これにトルエン50cm3を添加してから改め
て蒸発乾固する。かくして、80℃で真空乾燥した後に２
−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカルボン
酸ナトリウム0.36gを145〜150℃でガラス化する白色固
体として得た。 実施例XVI ２−〔（1,1,3,3−テトラメチル−５−インダニル）
カルボニル〕安息香酸の製造 （Ａ＝−CH2−、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6＝
H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CO2Ｈである式Ｉ
の化合物） 無水1,2−ジクロルエタン100cm3中の1,1,3,3−テトラ
メチルインダン2.96g（17ミリモル）及び無水フタル酸
2.52g（17ミリモル）の懸濁物に無水塩化アルミニウム
3.4g（25.5ミリモル）を温度30℃以下に保持するように
少量ずつ添加する。 ３時間攪拌した後、反応混合物を氷冷水50cm3中に注
入する。有機相を傾瀉し、水性相を新たにジクロルエタ
ン50cm3で２回抽出する。ジクロルエタン相を集め、水
洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、ついで減圧下で濃縮
する。残渣を加温したヘキサン100cm3中に吸収させ、＋
５℃まで冷却した後脱液し、ヘキサン50cm3で２回洗滌
し、ついで最少量の沸騰トルエンから再結晶化させる。
80℃で真空乾燥した後、２−〔（1,1,3,3−テトラメチ
ル−５−インダニル）カルボニル〕安息香酸3.1gを白色
結晶として得る。融点194〜195℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に合致する。 元素分析:C21Ｈ22Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 75.49 7.75 16.76％ 実測値: 75.47 7.67 16.92％ 実施例XVII ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダニ
ル）カルボニル〕シクロヘキサンカルボン酸の製造 無水1,2−ジクロルエタン100cm3中の1,1,2,3,3−ペン
タメチルインダン3.3g（17.5ミリモル）及びシスヘキサ
ヒドロ無水フタル酸2.7g（17.5ミリモル）の懸濁物に無
水塩化アルミニウム4.7g（35ミリモル）を温度30℃以下
に保持するように少量ずつ添加する。室温で３時間攪拌
した後、反応混合物を氷冷水50cm3中に注入する。有機
相を傾瀉し、水性相を新たにジクロルエタン100cm3で２
回抽出する。ジクロルエタン相を集め、水洗し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、ついで蒸発乾固する。残渣を加温
したヘキサン200cm3中に吸収させ、＋５℃まで冷却した
後、ヘキサン100cm3で３回洗滌し、冷却しそして70℃で
真空乾燥する。かくして２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメ
チル−５−インダニル）カルボニル〕シクロヘキサンカ
ルボン酸5.1gを白色固体として得る。融点178℃。 IRスペクトル及び1H NMRスペクトル（80MHz）は所望
の構造に合致する。 元素分析:C22Ｈ30Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 77.15 8.83 14.02％ 実測値: 77.21 9.00 13.56％ 実施例XVIII N,N−ジ（２−ヒドロキシエチル）２−〔（5,5,8,8−
テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチ
ル）カルボニル〕ベンズアミドの製造 （Ａ＝CH2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6＝
H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CON（CH2CH2OH）
2である式Ｉの化合物） 無水ジクロルメタン30cm3中の実施例１に述べた２−
〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−
２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸3.36g（10ミリモ
ル）の溶液に三塩化燐0.44cm3を添加しそして還流下で
３時間加熱する。＋５℃まで冷却した後、ジエタノール
アミン5.25g（0.05モル）を添加しそして＋５℃で30分
間攪拌し、ついで１時間で周囲温度まで戻す。反応混合
物をついで約80cm3に稀釈し、それを傾瀉用容器に移し
そして稀塩酸、ついで水で洗浄する。ジクロルメタン相
を硫酸ナトリウム上で乾燥し、ついで減圧下で濃縮す
る。得られる固体をシリカゲル60上で酢酸エチル／イソ
プロピルアルコール／ジクロルメタンの3/2/5比率の混
合物を溶離剤とするクロマトグラフィーによって精製す
る。蒸発及び乾燥後に、N,N−ジ（２−ヒドロキシエチ
ル）２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラ
ヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアミド3.2g
を白色固体として得る。融点116℃。 1H NMRスペクトル（250MHz）は所望の構造に合致す
る。 元素分析:C26Ｈ33NO4 Ｃ Ｈ Ｎ Ｏ 計算値: 73.73 7.85 3.31 19.11％ 実測値: 73.51 7.88 3.27 19.40％ 実施例XIX Ｎ−４′−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジノ２−
〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−
２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアミドの製造 無水ジクロルメタン15cm3中の実施例１に記載した２
−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ
−ナフチル）カルボニル〕安息香酸1.68g（５ミリモ
ル）及び三塩化燐0.28cm3（３ミリモル）の溶液を３時
間還流加熱する。０〜＋５℃の温度まで冷却後、Ｎ−
（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン1.4cm3（11.4ミリ
モル）を添加して光の遮断下で１時間攪拌し、周囲温度
に戻す。反応混合物をついでジクロルメタンの添加によ
って約80cm3に稀釈し、ついで傾瀉用容器に移しそして
多量の水で洗浄する。ジクロルメタン相を硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、ついで減圧下で濃縮する。得られる粗製
固体をシリカゲル60上で光の遮断下で、まずテトラヒド
ロフラン／ジクロルメタンの50/50混合物を、ついでテ
トラヒドロフラン単独を溶離剤とするクロマトグラフィ
ーによって精製する。光の遮断下に蒸発及び乾燥した
後、Ｎ−４′−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジノ２
−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアミド0.9gを白色
固体として得る。融点58〜60℃。 1H NMRスペクトル（250MHz）は所望の構造に相当す
る。 実施例XX ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカル
ボン酸エチルの製造 （Ａ＝CH2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6＝
H;R′,R″＝オキソ;B＝シクロヘキシル;R＝−CO2Ｃ2Ｈ5
である式Ｉの化合物） 98％硫酸0.1cm3を含有するエチルアルコール100cm3中
の実施例IIIに述べた２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−
5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕
シクロヘキサンカルボン酸3.42g（10ミリモル）の溶液
を12時間還流加熱する。この溶液を減圧下で濃縮しそし
て得られる粗製エステルをエチルエーテル100cm3中に溶
解する。エーテル性溶液を炭酸水素ナトリウム、ついで
水で洗滌し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそして蒸発乾固
する。乾燥後、２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,
7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シク
ロヘキサンカルボン酸エチル3.6gを無色濃稠油として得
る。 IRスペクトル及び1H NMRスペクトル（80MHz）は所望
の構造に相当する。 元素分析:C24Ｈ34Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 77.80 9.25 12.95％ 実測値: 77.65 9.29 12.78％ 実施例XXI ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕シクロヘキサ
ンカルボン酸の製造 （Ａ＝CH2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6＝
H;R′＝OH,R″＝H;B＝シクロヘキシル;R＝−CO2Ｈであ
る式Ｉの化合物） ソーダの2.5M水溶液150cm3中の実施例IIIに述べた２
−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカルボン
酸3.42g（10ミリモル）及び亜鉛粉末10g（0.15モル）の
懸濁物を７時間還流加熱する。＋５℃まで冷却後、反応
混合物を6N塩酸60cm3で中和し、ついで氷酢酸20cm3の添
加によってpHを３近くまで酸性化する。この混合物をつ
いでエチルエーテル（２×150cm3）で抽出する。エーテ
ル相を多量の氷で洗滌し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそ
して蒸発乾固する。得られる固体をヘキサン50cm3中に
吸収させ、脱液し、新たにヘキサン40cm3によって２回
洗滌しそして40℃で真空乾燥する。かくして２−〔（5,
5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナ
フチル）ヒドロキシメチル〕シクロヘキサンカルボン酸
2.9gを白色固体として得る。融点186℃。 IRスペクトル及び1H NMRスペクトル（250MHz）は所望
の構造に合致する。 元素分析:C22Ｈ32Ｎ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 76.70 9.36 13.93％ 実測値: 76.66 9.26 13.95％ 実施例XXII ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕シクロヘキサ
ンカルボン酸ナトリウムの製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′＝OH,R″＝H;B＝シクロヘキシル;R＝−CO2 Na
である式Ｉの化合物） ２回イオン交換処理した水100cm3中に実施例XXIに述
べた２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラ
ヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕シクロヘキ
サンカルボン酸344.48mg（１ミリモル）を懸濁させ、こ
れに0.1Nソーダ水溶液10cm3（１ミリモル）を添加しそ
して超音波浴中で30分間攪拌する。得られる溶液を減圧
下で蒸発乾固する。これに無水トルエン50cm3を添加し
そして改めて蒸発乾固する。かくして、80℃で真空乾燥
した後に、２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−
テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕シク
ロヘキサンカルボン酸ナトリウム0.36gを白色固体とし
て得る。融点260℃。 実施例XXIII ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）メチル〕安息香酸の製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝H;B＝フェニル;R＝−CO2Ｈである式Ｉの
化合物） 亜鉛6g、塩化第二水銀0.6g、水9cm3及び濃塩酸0.3cm3
の混合物を室温で10分間攪拌する。この溶液を傾瀉しそ
してアマルガムを水25cm3で２回リンスする。ついで水1
0cm3、濃塩酸5cm3、トルエン8cm3、実施例Ｉに記載した
２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸8.4g（0.025
モル）を添加してそして還流下に30時間加熱攪拌し、そ
れから濃塩酸3cm3を全部で６時間かかって添加する。ト
ルエン20cm3を添加し、熱時濾過しそしてアマルガムを
トルエン40cm3で３回洗滌する。濾液を傾瀉容器に移し
そしてトルエン相を分離し、水洗し、硫酸ナトリウム上
で乾燥し、ついで減圧下で濃縮する。単離した粗生成物
をヘプタン、イソプロピルエーテルの混合物から再結晶
化する。乾燥後、２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,
6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）メチル〕安息香
酸6.6gを白色結晶として得る。融点136℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）は所望の構造に合致す
る。 元素分析:C22Ｈ22Ｏ2 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 81.95 8.13 9.92％ 実測値: 82.14 8.16 9.79％ 実施例XXIV ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸エチルの製
造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CO2Ｃ2Ｈ5であ
る式Ｉの化合物） 98％硫酸0.4cm3を含有するエチルアルコール300cm3中
の実施例Ｉに述べた２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−
5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕
安息香酸8.41g（0.025モル）の溶液を還流下に14時間加
熱する。ついでこの溶液を減圧下で濃縮しそして得られ
る粗製エステルをエチルエーテル300cm3中に溶解する。
エーテル性溶液を炭酸水素ナトリウムで洗滌し、ついで
水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそして蒸発乾固す
る。乾燥後、２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8
−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸
エチル7.9gを無色油状物として得る。これは室温で徐々
に晶出して白色固体を与える。融点58〜59℃。 IRスペクトル及び1H NMRスペクトル（80MHz）は所望
の構造に合致する。 元素分析:C24Ｈ28Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 79.09 7.74 13.17％ 実測値: 79.19 7.75 13.02％ 実施例XXV ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸亜鉛の製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CO2 1/2Zn
である式Ｉの化合物） ２回イオン交換処理した水150cm3中に実施例Ｉに記載
した２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラ
ヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸368.5mg
（1.1ミリモル）を懸濁させ、これに0.1Nソーダ11cm
3（1.1ミリモル）を添加しそして超音波浴中で溶解する
まで（30分間）攪拌する。かく得られるナトリウム塩の
溶液に硫酸亜鉛・7H2O 157.5mg（0.548ミルモル）を固
加し、交換塩形成反応（transalification）によって形
成された亜鉛塩を沈澱せしめる。これを脱液し、水洗し
そして70〜80℃で真空乾燥する。かくして２−〔（5,5,
8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフ
チル）カルボニル〕安息香酸亜鉛0.4gを白色固体として
得る。これは155℃付近でガラス状になる。 実施例XXVI ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカル
ボン酸亜鉛の製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ:B＝シクロヘキシル;R＝−CO2 1/
2Zn である式Ｉの化合物） ２回イオン交換処理した水150cm3中に実施例IIIに記
載した２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テト
ラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサン
カルボン酸381.7mg（1.115ミリモル）を懸濁させ、これ
に0.1Nソーダ11.2cm3（1.12ミリモル）を添加しそして
超音波浴中で溶解するまで（40分間）攪拌する。つい
で、硫酸亜鉛・7H2O160.4mg（0.55ミリモル）を添加
し、ついで生成する沈澱を脱液する。水洗しかつ70〜80
℃で真空乾燥した後、２−〔（5,5,8,8−テトラメチル
−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニ
ル〕シクロヘキサンカルボン酸亜鉛0.41gを白色固体と
して得る。これは135℃近くでガラス状になる。 本発明の組成物（製剤）の例 実施例1:抗脂漏性ローション 無水エタノール 59.0g プロピレングリコール 40.0g ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸 1.0g 実施例2:脂肪肌用ローション 無水エタノール 60.0g ポチエチレングリコール400 39.5g ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸 0.5g この実施例において、ローションの有効成分は２−
〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダニル）カル
ボニル〕安息香酸1g又は２−〔（5,5,8,8−テトラメチ
ル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニ
ル〕シクロヘキサンカルボン酸0.3gによって代替するこ
とができる。 実施例3:瘡傾向の顔の手入れ用ローション 無水エタノール 42.0g プロピレングリコール 24.0g 精製水 33.0g ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸 1.0g この活性化合物の代りに、２−〔（5,5,8,8−テトラ
メチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カル
ボニル〕シクロヘキサンカルボン酸又は２−〔（5,5,8,
8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチ
ル）ヒドロキシメチル〕シクロヘキサンカルボン酸0.5g
を使用することができる。 実施例4:瘡傾向の脂肪肌の手入れ用ゲル カルボポール（Carbopol）941 0.80g 無水エタノール 32.15g プロピレングリコール 35.00g ブチルヒドロキシトルエン 0.02g ブチルヒドロキシアニソール 0.03g トリエタノールアミン（20％濃度） 1.00g 精製水 30.00g ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸 1.0g 実施例5:瘡傾向の脂肪肌の手入れ用ゲル クルセル（Klucel）Ｈ（セルロース誘導体） 1.00g 無水エタノール 70.00g プロピレングリコール 28.45g ブチルヒドロキシトルエン 0.02g ブチルヒドロキシアニソール 0.03g ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸 0.5g この活性化合物は同一量の２−〔（1,1,2,3,3−ペン
タメチル−５−インダニル）カルボニル〕安息香酸又は
２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカルボ
ン酸又はさらに２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,
7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチ
ル〕シクロヘキサンカルボン酸によって代替することが
できる。 実施例6:脂肪肌用クリーム グリコールモノステアレート 4.00g セチルアルコール 3.50g ミルジ（Myrj）53 3.00g 〔Societe Atlasから市販されるポリエチレングリコー
ルステアレート（エチレンオキシド50モル）〕 カプリン酸／カプリル酸トリグリセライド 22.00g パラヒドロキシ安息香酸プロピル 0.15g ブチルヒドロキシトルエン 0.02g ブチルヒドロキシアニソール 0.03g プロピレングリコール 8.00g ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸 2.00g 水（合計で100gになる残部） 実施例7:皮膚の限定された表面上に塗布するためのスチ
ック（着色された） ワセリン 19.40g コスビオール（Cosbiol） 40.00g （ペルヒドロスクアレン） 固形パラフィン 2.00g カルナウバワックス 2.00g オゾケライト 9.00g ブチルヒドロキシトルエン 0.05g ブチルヒドロキシアニソール 0.05g 赤色酸化鉄 0.50g 黄色酸化鉄 1.50g 褐色酸化鉄 2.50g 酸化チタン 20.00g ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸 1.00g ライススターチ 2.00g この活性化合物の代りに２−〔（5,5,8,8−テトラメ
チル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボ
ニル〕シクロヘキサンカルボン酸0.5gを使用することが
できる。
びそれらの化粧料、医薬又は動物薬としての使用に関す
るものである。 本発明に従う化合物は脂質の合成を阻害する活性を有
するので、脂肪質の、すなわち脂ぎった外観を呈してい
る頭皮及び皮膚の処理、いわゆるトリートメント用の化
粧料としてきわめて興味あるものである。 これらの化合物はまた、炎症性成分による皮膚病等皮
膚への有害作用の局所的及び全身的処置において優れた
活性を示す。 本発明に従う二環式芳香族化合物は一般式： （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、各々、水素原子又は
Ｃ1〜Ｃ6アルキル基を表すが、Ｒ1〜Ｒ4のうちの少なく
とも２個の基は水素原子以外の基であるものとし;AはＣ
1〜Ｃ6アルキル基によって置換されていてもよいメチレ
ン又はジメチレン基を表すが、Ａがジメチレン基を表す
場合には、Ｒ1とＲ3は一緒にメチレン基を形成し得るも
のとし;R5及びＲ6は、各々、水素原子又はＣ1‐Ｃ6アル
コキシ基を表し;R′は水素原子又はヒドロキシル基を表
し、Ｒ″は水素原子を表すか又はＲ′とＲ″は一緒にオ
キソ基（＝０）を形成しており;Bはシクロヘキシル、シ
クロヘキセニル又はフェニル基を表し;Rは−CH2OH基又
は−COR7基を表し;R7は水素原子、−OR8基又は を表し、Ｒ8は水素原子又はＣ1〜Ｃ20アルキル基を表
し;r′及びｒ″は、各々、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル
基又はモノヒドロキシアルキル基を表すか又はｒ′と
ｒ″は一緒に、ピペリゾノ、ピペラジノ、モルホリノ、
ピロリジノ及び４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ
ノ基から選ばれた基を表す）で表される二環式芳香族化
合物（但し、２［（5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル］安息香酸を除く）及び
該化合物の塩並びにそれらの光学異性体及び幾何異性体
である化合物である。 20個までの炭素原子をもつアルキル基の例は特にメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第３級
ブチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ドデシル、ヘ
キサデシル及びオクタデシル基を包含する。 モノヒドロキシアルキル基は２〜６個の炭素原子をも
つかかる基を意味し、特に２−ヒドロキシエチル、２−
ヒドロキシプロピル又は２−ヒドロキシエトキシエチル
基を例示し得る。 低級アルコキシ基の代表的な例としてはメトキシ、イ
ソプロポキシ、ブトキシ及び第３級ブトキシ基をあげる
ことができる。 基ｒ′及びｒ″が一緒にそれらが結合している窒素原
子とともに複素環を形成する場合、かかる複素環基は好
ましくはピペリジノ、ピペラジノ、モルホリノ、ピロリ
ジノ、又は４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジノ基
である。 本発明の化合物が塩の形で提供される場合、それは該
化合物が少なくとも１個の遊離の酸官能基を有する場合
には亜鉛塩、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩又は
アミン塩であることができ、あるいは該化合物が少なく
とも１個のアミン官能基を有する場合には無機酸又は有
機酸の塩、特に塩酸塩、臭化水素酸塩又はクエン酸塩で
あるとができる。 本発明に従う化合物は、Ｒ′及びＲ″が一緒にオキソ
基を形成しそしてＲがカルボン酸官能基又はアミド官能
基を表わす場合には、互変異性体の形で存在し得る。 したがって、下記の式（II）の化合物は環式ラクトン
（III）の形で表わすことができる。 同様に、式（IV）の化合物は式（Ｖ）のラクタム互変
異性体の形で存在し得る。 式（Ｉ）の化合物の中で、本発明の特に好ましい化合
物として、次の一般式： （式中、Ｒ′及びＲ″は一緒にオキソ基（＝０）を形成
するか又はＲ′がヒドロキシ基を表し、Ｒ″が水素原子
を表し、Ａは基−（CH2）2−又は を表し;Bはフェニル又はシクロヘキシル核を表し;R7は
−OR8基又は を表し;R8は水素原子又はＣ1〜Ｃ12アルキル基を表し;
r′は水素原子又はモノヒドロキシアルキル基を表しそ
してｒ″はＣ1〜Ｃ8アルキル基又はモノヒドロキシアル
キル基を表すか、又は、ｒ′及びｒ″は一緒に隣接する
窒素原子と共に４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ
ニル基を表す）によって表わされる化合物及びそれらの
塩をあげることができる。 本発明に従う式（Ｉ）の化合物の中で代表的な化合物
を以下に列挙する。 （１） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸； （２） Ｎ−エチル ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル
−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニ
ル〕ベンズアミド； （３） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸メチ
ル； （４） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕−安息香酸２
−エチルヘキシル； （５） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸ナト
リウム； （６） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸亜
鉛； （７） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアルデ
ヒド； （８） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕フェニ
ルカルビノール （９） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕安息香
酸； （10） Ｎ−４′−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ
ノ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアミド； （11） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）エトキシメチル〕安息香
酸； （12） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）ヒドロキシメチル〕安息香酸； （13） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）−２−エテニル〕安息香酸； （14） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル〕安息香酸； （15） Ｎ−エチル２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル
−５−インダニル）カルボニル〕ベンズアミド； （16） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル〕安息香酸エチル； （17） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル〕安息香酸２−エチルヘキシル； （18） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル〕安息香酸ナトリウム； （19） Ｎ−４′−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ
ノ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダニ
ル）カルボニル〕ベンズアミド； （20） ２−〔（1,1,3,3−テトラメチル−５−インダ
ニル）ヒドロキシメチル〕安息香酸； （21） ２−〔（1,1,3,3−テトラメチル−５−インダ
ニル）カルボニル〕安息香酸； （22） Ｎ−エチル２−〔（1,1,3,3−テトラメチル−
５−インダニル）カルボニル〕ベンズアミド； （23） Ｎ−４′−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ
ノ２−〔（1,1,3,3−テトラメチル−５−インダニル）
カルボニル〕ベンズアミド； （24） ２−〔（1,1,3,3−テトラメチル−５−インダ
ニル）カルボニル〕安息香酸亜鉛； （25） ２−〔（5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸エチル； （26） Ｎ−エチル２−〔（5,8−メタノ−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアミ
ド； （27） ２−〔（5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕安息香酸； （28） ２−〔（1,4−ジメトキシ−5,8−メタノ−5,6,
7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチ
ル〕安息香酸； （29） ２−〔（1,4−ジメトキシ−5,8−メタノ−5,6,
7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息
香酸； （30） Ｎ−エチル２−〔（1,4−ジメトキシ−5,8−メ
タノ−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボ
ニル〕ベンズアミド； （31） N,N−ジ−ｎ−ブチル２−〔（5,5,8,8−テトラ
メチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カル
ボニル〕ベンズアミド； （32） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサ
ンカルボン酸； （33） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル〕−１−シクロヘキセン−１−カル
ボン酸； （34） N,N−ジ（２−ヒドロキシエチル）２−〔（5,
5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナ
フチル）カルボニル〕ベンズアミド； （35） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサ
ンカルボン酸ナトリウム； （36） ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル〕シクロヘキサンカルボン酸； （37） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサ
ンカルボン酸エチル； （38） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕シクロ
ヘキサンカルボン酸； （39） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕シクロ
ヘキサンカルボン酸ナトリウム； （40） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸エチ
ル； （41） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）メチル〕安息香酸； （42） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸亜
鉛； （43） ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサ
ンカルボン酸亜鉛；及び （44） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］ベンズアルデ
ヒド 本発明はさらに式（Ｉ）の二環式芳香族化合物の製造
法をも目的とするものである。 本発明に従えば、これらの化合物はつぎの反応工程に
従って製造することができる。 これらの化合物はフリーデル−クラフツ反応の条件下
で置換酸ハライド（１）又は酸無水物（２）と二環式芳
香族化合物（３）とを縮合させる第一工程において得ら
れる。 この縮合反応は構造式（２）の内部無水物を使用し
て、塩化アルミニウム又は塩化錫のようなルイス酸の存
在下、1,2−ジクロルエタンのような塩素系溶剤中で行
なうことが好ましい。 式（３）の出発物質である二環式芳香族化合物の例と
しては、1,1,4,4−テトラメチル−1,2,3,4−テトラヒド
ロナフタリン（J.A.C.S.,62,36-44（1940）に記載され
ている）、1,4−メタノ−1,2,3,4−テトラヒドロナフタ
リン又はベンゾノルボルネン（J.O.C.,32,893-901（196
7）に記載されている）、5,8−ジヒドロキシ−1,4−メ
タノ−1,2,3,4−テトラヒドロナフタリン（商業的に入
手可能な化合物）、1,1,3,3−テトラメチルインダン及
び1,1,2,3,3−ペンタメチルインダン（フランス特許第
1,392,804号明細書に記載されている）をあげることが
できる。 式（４）及び（５）の化合物から、特に式（５）のケ
ト酸から、本発明に従う別の化合物を下記の反応工程に
従って製造することができる。 したがって、たとえばテトラヒドロフランのような溶
剤中における水素化ホウ素ナトリウムによる還元又はア
ルカリ性媒質中における亜鉛による還元によれば式
（６）の第２級アルコールを得ることができる。 塩酸の存在下、亜鉛アマルガムを使用するクレメンゼ
ン還元によれば式（７）の化合物を得ることができる。 テトラヒドロフラン中において水素化リチウムアルミ
ニウムを使用する還元法によれば式（８）のジオールを
得ることができる。 式（８）のジオール類から出発してピリジニウムクロ
ルクロメート（P.C.C.）を用いる酸化法を適用すれば式
（９）のケトアルデヒドを得ることができる。 式（Ｉ）の化合物のアシルオキシ誘導体（Ｒ′＝アシ
ルオキシ基;R″＝Ｈ）は酸の活性化体、たとえば酸無水
物又は酸塩化物をＲ′＝OH、Ｒ″＝Ｈである本発明の化
合物と反応させることによって製造される。 式（Ｉ）の化合物のアルコキシ誘導体（Ｒ′＝アルコ
キシ基、Ｒ″＝Ｈ）は同様にＲ′＝OH、Ｒ″＝Ｈである
式（Ｉ）の化合物から出発して既知の方法に従って製造
される。 Ｒ′及びＲ″が一緒にメタノ基（CH2＝）を形成する
式（Ｉ）の化合物はメチルトリフェニルホスホニウムブ
ロマイドを塩基性媒質中でＲ′及びＲ″が一緒にオキソ
基を形成する式（Ｉ）のカルボニル化合物と反応させる
ことによって製造される。 Ｒ′及びＲ″が一緒にヒドロキシイミノ基を形成する
式（Ｉ）の化合物はたとえばエタノールのような有機溶
剤中でヒドロキシルアミン塩酸塩と対応すカルボニル化
合物とを炭酸水素ナトリウムのような無機塩基又はトリ
エチルアミンのような有機塩基の存在下で反応させるこ
とによって製造される。 これらのヒドロキシイミノ誘導体は対応するアミン
（Ｒ′＝NH2、Ｒ″＝Ｈ）から酢酸媒質中で亜鉛を用い
る還元によって導くことができる。 本発明に従う式（Ｉ）の化合物は、J.Girard及びA.Ba
rbierによってInt.Journal of Cosmetic Science,2,315
〜329（1980）に及びM.Gauci及びJ.OustrinによってIn
t.Journal of Cosmetic Science,3,227〜232（1982）に
それぞれ記載されている試験において優れた活性を示
す。実際上、これらの報告者は、この試験が脂質の合成
の阻止活性を説明するものであるので、指定されたグル
コースを配合する“試験管内”試験が非ホルモン性の抗
脂漏剤のための方向付け（指針）試験として注目され得
ることを教示したものである。 他方、脂漏、ふけ、脂肪肌、脂肪髪、白斑及び黒斑の
ような皮膚科の状態から皮脂腺分泌生成物の分泌が増大
することは知られている。これらの毛脂組織の慢性的現
象は特に顔面、胸及び背中に関係する。 さらに、本発明に従う式（Ｉ）の酸（Ｒ＝−CO2Ｈ）
は瘡の原因となる病原菌に対して殺菌活性を示す。 本発明の化合物は特に皮脂腺分泌物の無秩序な生成又
は過度の分泌に関係する皮膚科疾患及び炎症性成分によ
る皮膚科疾患の処置のために特に適するものである。か
かる皮膚疾患の例としては、とりわけ尋常性、面皰性又
は多形性瘡、老人性、日光性瘡及び薬物性又は職業
性瘡、があげられる。 したがって、本発明はさらに、上記に定義したとおり
の式（Ｉ）の化合物又はそれらの塩又はそれらの光学又
は互変異性体の少なくとも１種を含有してなる医薬組成
物、特に前述した諸疾患の処置に有効な医薬組成物を提
供する。 医薬組成物用の担体としては任意慣用の医薬用担体が
使用でき、活性化合物をその中に溶解又は分散させた状
態で使用できる。 投薬は腸管、腸管外、すなわち非経口的に又は局所又
は眼を経由して実施できる。腸管経由用医薬は錠剤、カ
プセル、糖衣錠、シロップ、懸濁液、溶液、粉末、顆
粒、乳濁液等の剤型とすることができる。非経口投与用
組成物は灌注用又は注射用の溶液又は懸濁液の剤型とす
ることができる。 本発明による化合物は、一般に１日当り、体重1kgあ
たり約0.1mg〜10mgの用量で医薬として投与される。 局所経由用に適する本発明の医薬組成物は軟膏、チン
キ、クリーム、ポマード、粉末、貼布剤、浸漬綿栓、溶
液、乳液、ローション、ゲル、スプレー又は懸濁液の剤
型とすることができる。 これら局所経由用組成物は臨床症状に応じて無水の形
又は水性の形とすることができる。 本発明の化合物が局所経由で使用される場合には、き
わめて広範囲の稀釈度にわたってこれらの化合物の良好
な活性が観察される。特に、これらの活性化合物は0.01
〜10重量％の範囲で活性である。勿論、これより高濃度
の使用もそれが特定の治療のために必要となる場合には
可能であることは明らかである。しかしながら、活性化
合物の好ましい使用範囲は0.1〜５重量％の範囲であ
る。 本発明による式（Ｉ）の化合物はまた、化粧料分野に
おいても、特に身体及び毛髪の衛生に、とりわけ瘡の
傾向のある皮膚の処置、毛髪の再生、脱毛の防止、皮膚
又は毛髪の脂ぎった外観の処置も太陽の有害な作用の防
止又は処置において使用される。 したがって本発明はさらに、許容し得る化粧料用担体
中に式（Ｉ）の化合物又はそれらの塩及び／又はそれら
の異性体の少なくとも１種を含有してなる化粧料組成物
を提供するものである。これらの組成物は特にローショ
ン、ゲル、クリーム、石鹸又はシャンプーの形態で使用
される。 化粧料組成物中の式（Ｉ）の化合物の濃度は0.005〜
５重量％、好ましくは0.01〜１重量％である。 本発明による医薬及び化粧料組成物は不活性添加剤又
は薬理学的に又は美容上活性の添加剤、特にチアモルホ
リノン及びその誘導体又は尿素のような湿潤剤；抗脂漏
剤、たとえばＳ−カルボキシメチルシスティン、Ｓ−ベ
ンジルシステアミン、それらの塩及びそれらの誘導体、
チオキソロン；たとえばベンゾイルペルオキシドのよう
な抗瘡剤；抗生物質、たとえばエリスロマイシン及び
そのエステル、ネオマイシン、テトラサイクリン類又は
4,5−ポリメチレン−３−イシチアゾロンなど；毛髪再
生促進剤、たとえばミノキシジル“Minoxidil"（2,4−
ジアミノ−６−ピペリジノピリミジン−３−オキシド）
及びその誘導体、ジアゾキシド（Diazoxide）（７−ク
ロル−３−メチル−1,2,4−ベンゾチアジアジン−1,1−
ジオキシド）及びフェニトイン（Phenytoin）（5,5−ジ
フェニルイミダゾリン−2,4−ジオン又はオキサプロパ
ニウム ヨーダイドなど；ステロイド系及び非ステロイ
ド系抗炎症剤；カロテノイド、特にβ−カロチン；抗乾
癬剤、たとえばアントラリン及びその誘導体及び5,8,1
1,14−エイコサテトラエン酸及び5,8,11−エイコサトリ
エン酸ならびにそれらのエステル及びアミドなどを含有
し得る。 本発明の組成物はまた風味改良剤、防腐剤、安定剤、
調湿剤、pH調整剤、滲透圧改変剤、乳化剤、紫外線Ａ及
びＢフィルター、酸化防止剤、たとえばα−トリフェロ
ール、ブチルヒドロキシアニソール又はブチルヒドロキ
シトルエンなど、を含有し得る。 以下例証のため、ただし何ら限定的な性格なしに、本
発明による式（Ｉ）の化合物の製造例及びそれらを含有
する組成物例を示す。 実施例Ｉ ２−〔5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸の製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝CO2Ｈである式Ｉ
の化合物） 無水1,2−ジクロルエタン100cm3中の1,1,4,4−テトラ
メチル−1,2,3,4−テトラヒドロナフタリン9.41g（0.05
モル）及び無水フタル酸7.46g（0.05モル）の懸濁物に
無水塩化アルミニウム13.3g（0.1モル）を30℃以下の温
度を維持するように少しずつ添加する。室温で１時間撹
拌した後、反応混合物を氷冷水100cm3に注入する。有機
相を傾瀉し、水性相を新たにジクロルエタン150cm3で２
回抽出する。これらのジクロルエタン相を集め、水洗
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、ついで減圧下で濃縮す
る。得られる粗製の固体を再び沸騰ヘキサン250ml中に
採り、＋５℃まで冷却後乾燥しそしてトルエン200cm3中
で再結晶化する。真空中80℃で乾燥した後、２−〔5,5,
8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフ
チル）カルボニル〕安息香酸の白色結晶13,5gを得る。
融点187℃。 1H NMRスペクトル（250MHz）及びIRスペクトル分析は
所望の構造に合致する。 元素分析:C22Ｈ24Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 78.54 7.19 14.27％ 実測値: 78.82 6.93 14.25％ 実施例II ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダニ
ル）カルボニル〕安息香酸の製造 無水1,2−ジクロルエタン150cm3中の1,1,2,3,3−ペン
タメチルインダン13.2g（0.07モル）及び無水フタル酸1
0.37g（0.07モル）の懸濁物に無水塩化アルミニウム16g
（0.12モル）を温度を30℃以下に保持するように少しず
つ添加する。室温で１時間撹拌後、反応混合物を氷冷水
100cm3中に注入する。有機相を傾瀉しそして水性相を新
たにジクロルエタン100cm3で２回抽出する。ジクロルエ
タン相を集め、水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、つ
いで減圧下で濃縮する。得られる粗製の固体をヘキサン
に吸収させ、乾燥し、ついで酢酸エチル中で再結晶化す
る。乾燥後、２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−
インダニル）カルボニル〕安息香酸の白色結晶15.5gを
得る。融点205℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に相当する。 元素分析:C22Ｈ24Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 78.54 7.19 14.27％ 実測値: 78.50 7.20 14.15％ 実施例III ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカル
ボン酸の製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝シクロヘキシル;R＝CO2Ｈであ
る式Ｉの化合物） 無水の1,2−ジクロルエタン150cm3中の1,1,4,4−テト
ラメチル−1,2,3,4−テトラヒドロナフタリン16.95g
（0.09モル）及びシスヘキサヒドロ無水フタル酸13.9g
（0.09モル）の懸濁物に無水塩化アルミニウム20g（0.1
5モル）を温度30℃以下に保持するように少量ずつ添加
する。室温で１時間撹拌後、反応混合物を氷冷水100cm3
中に注入する。有機相を傾瀉しそして水性相を新たにジ
クロルエタン150cm3で抽出する。ジクロルエタン相を集
め、硫酸ナトリウム上で乾燥し、ついで減圧下に濃縮す
る。得られる粗製の固体を温ヘキサン中に吸収させ、乾
燥し、ついで酢酸エチルから再結晶化する。乾燥後、２
−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカルボン
酸の白色結晶20.7gを得る。融点178℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に合致する。 元素分析:C22Ｈ30Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 77.15 8.83 14.02％ 実測値: 76.93 8.89 13.97％ 実施例IV ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダニ
ル）カルボニル〕−１−シクロヘキセン−１−カルボン
酸の製造 無水1,2−ジクロルエタン60cm3中の1,1,2,3,3−ペン
タメチルインダン5.88g（0.031モル）及び3,4,5,6−テ
トラヒドロ無水フタル酸5g（0.031モル）の懸濁物に、
無水塩化アルミニウム8.3g（0.06モル）を、温度を30℃
以下に保持するように少しずつ分割して添加する。２時
間撹拌後、反応混合物を氷冷水40cm3中に注入する。有
機相を傾瀉し、水性相を新たにジクロルエタン150cm3で
２回抽出する。ジクロルエタン相を集め、水洗し、硫酸
ナトリウム上で乾燥し、ついで減圧下で濃縮する。得ら
れる粗製固体をシリカゲル60上でジクロルメタンを溶離
剤とするクロマトグラフィーにより精製し、ついでヘキ
サンから結晶化させる。濾過及び乾燥後、２−〔（1,1,
2,3,3−ペンタメチル−５−インダニル）カルボニル〕
−１−シクロヘキセン−１−カルボン酸の白色結晶4.8g
を得る。融点153℃。 1H NMRスペクトル（250MHz）及び13C NMRスペクトル
（CDCl3中）及びIRスペクトル（KB4及びジクロルメタ
ン）は環式ラクトン構造に相当する。 元素分析:C22Ｈ28Ｏ Ｃ Ｈ Ｏ 計算値:77.61 8.29 14.10％ 実測値:77.94 8.47 13.53％ 実施例Ｖ ２−〔（1,4−ジメトキシ−5,8−メタノ−5,6,7,8−
テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸の
製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1及びＲ3＝−CH2−;R2＝Ｒ4＝H;R
5＝Ｒ6＝−OCH3;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CO
2Ｈである式Ｉの化合物） 無水1,2−ジクロルエタン40ml中の5,8−ジメトキシ−
1,4−メタノ−1,2,3,4−テトラヒドロナフタリン2.25g
（11ミリモル）及び無水フタル酸1.63g（11ミリモル）
の懸濁物に無水塩化アルミニウム2.93g（22ミリモル）
を約30分かかって少しずつ添加する。室温で一晩撹拌
後、反応混合物を氷冷水40cm3中に注入する。有機相を
傾瀉し、水性相を新たにジクロルメタン100cm3で２回抽
出する。ジクロルエタン及びジクロルメタン相を集め、
水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそして蒸発乾固す
る。得られる固体をシリカゲル60上でジクロルメタン／
テトラヒドロフランの50/50混合物を溶離剤とするクロ
マトグラフィーによって２回精製する。蒸発及び乾燥
後、単離された固体をイソプロピルエーテル中に吸収さ
せる。これを濾過しかつ乾燥した後、２−〔（1,4−ジ
メトキシ−5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−
ナフチル〕安息香酸0.4gを白色粉末として得る。融点21
3℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）は所望の構造に合致す
る。 元素分析:C21Ｈ20Ｏ5 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 71.38 5.72 22.70％ 実測値: 71.18 5.76 22.67％ 実施例VI ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕フェニルカル
ビノールの製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′＝OH;R″＝H;B＝フェニル;R＝−CH2OHである式
Ｉの化合物） ０℃に冷却された無水テトラヒドロフラン10cm3中の
水素化リチウムアルミニウム350mg（９ミリモル）の懸
濁物に無水テトラヒドロフラン20cm3中の２−〔（5,5,
8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフ
チル）カルボニル〕安息香酸1g（３ミリモル）の溶液を
添加する。１時間撹拌して周囲温度に戻した後、反応混
合物を０℃に冷却し、0.1N塩酸をゆっくり添加して酸性
化しそしてエチルエーテルで抽出する。有機相を水洗
し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそして蒸発乾固する。得
られる粗製ジオールをシリカゲル60上でジクロルメタン
−酢酸エチル（97:3）混合物を溶離剤とするクロマトグ
ラフィーによって精製する。蒸発及び乾燥後、２−
〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−
２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕フェニルカルビノー
ル0.8gを白色結晶として得る。融点95〜98℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）は所望の構造に合致す
る。 元素分析:C22Ｈ28Ｏ2 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 81.44 8.70 9.86％ 実測値: 81.48 8.46 9.82％ 実施例VII ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸２−エチル
ヘキシルの製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CO2Ｃ8Ｈ17で
ある式Ｉの化合物） 98％硫酸0.1cm3を含有するトルエン100cm3中の実施例
Ｉに述べた２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−
テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸4.
2g（0.0125モル）及び２−エチル−１−ヘキサノール3.
26g（0.025モル）の溶液を８時間還流加熱しかつ同時に
生成する水を共沸蒸留により除去する。反応混合物をつ
いで室温まで冷却し、多量の水で洗滌しそして減圧下で
濃縮する。得られる粗製油状物を速やかにシリカゲル60
上でトルエン／ジクロルメタン（50:50）混合物を溶離
剤とするクロマトグラフィーによって精製する。蒸発及
び乾燥後、２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−
テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸２
−エチルヘキシル4.1gを無色液体として得る。 1H NMRスペクトル（80MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に相当する。 元素分析:C30Ｈ40Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 80.31 8.99 10.70％ 実測値: 80.46 8.91 10.75％ 実施例VIII ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダニ
ル）カルボニル〕安息香酸エチルの製造 98％硫酸0.1cm3を含有するエチルアルコール80cm3中
の実施例IIに述べた２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル
−５−インダニル）カルボニル〕安息香酸2.4g（7.1ミ
リモル）の溶液を12時間還流下に加熱する。ついでこの
溶液を減圧下に濃縮する。粗製エステルをエチルエーテ
ル100cm3に溶解し、このエーテル溶液を炭酸水素ナトリ
ウム、ついで水で洗滌し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそ
して最後に蒸発乾固する。乾燥後、２−〔（1,1,2,3,3
−ペンタメチル−５−インダニル）カルボニル〕安息香
酸エチル2.5gを無色液体として得る。これは室温で徐々
に晶出し、融点56〜57℃の白色固体を与える。 1H NMRスペクトル（80MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に合致する。 元素分析:C24Ｈ28Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 79.09 7.74 13.17％ 実測値: 79.12 7.85 12.98％ 実施例IX ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸メチルの製
造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CO2CH3である
式Ｉの化合物） 98％硫酸0.1cm3を含有するメチルアルコール125cm3中
の実施例Ｉに述べた２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−
5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕
安息香酸3.36g（0.01モル）の溶液を24時間還流下に加
熱する。この溶液は減圧下に濃縮する。粗製エステルを
エチルエーテル150cm3中に溶解し、炭酸水素ナトリウ
ム、ついで水で洗滌する。硫酸ナトリウム上で乾燥後、
エーテル相を蒸発乾固する。得られる固体を最少量のヘ
キサン中で再結晶化する。乾燥後、２−〔（5,5,8,8−
テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチ
ル）カルボニル〕安息香酸メチル2.2gを白色結晶として
得る。融点77〜78℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に合致する。 元素分析:C23Ｈ26Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 78.82 7.48 13.70％ 実測値: 78.93 7.50 13.79％ 実施例Ｘ Ｎ−エチル ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,
7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベン
ズアミドの製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CONHC2Ｈ5であ
る式Ｉの化合物） 無水ジクロルメタン30cm3中の２−〔（5,5,8,8−テト
ラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カ
ルボニル〕安息香酸3.36g（0.01モル）の溶液に三塩化
燐0.55cm3（６ミリモル）を添加して３時間還流加熱す
る。反応混合物を＋５℃まで冷却し、それに無水エチル
アミン2cm3（0.03モル）を添加する。＋５℃で攪拌を30
分間続け、ついで１時間で周囲温度に戻す。反応混合物
をついでジクロルメタンの添加によって100cm3に稀釈し
そして希塩酸、ついで水で洗滌する。ジクロルメタン相
を硫酸ナトリウム上で乾燥し、ついで減圧下で濃縮す
る。得られる粗生成物をシリカゲル60上でトルエン／ジ
クロルメタン／酢酸エチル（5/3/2）の混合物を溶離剤
とするクロマトグラフィーによって精製し、ついでイソ
プロピルエーテルから再結晶化する。乾燥後、Ｎ−エチ
ル ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラ
ヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアミド1.75
gを白色結晶として得る。融点201℃。 1H NMRスペクトル（250MHz）及び13C NMRスペクトル
（CDCl3中）及びIRスペクトル（KBr及びジクロルメタ
ン）は環状ラクタムに相当する。 元素分析:C24Ｈ29NO2 Ｃ Ｈ Ｎ Ｏ 計算値: 79.30 8.04 3.85 8.80％ 実測値: 79.32 8.01 3.80 8.69％ 実施例XI N,N−ジ−ｎ−ブチル２−〔（5,5,8,8−テトラメチル
−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニ
ル〕ベンズアミドの製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝CON（Ｃ4Ｈ9）2
である式Ｉの化合物） 無水ジクロルメタン20cm3中の２−〔（5,5,8,8−テト
ラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カ
ルボニル〕安息香酸1.68g（５ミリモル）の溶液に三塩
化燐0.22cm3（2.5ミリモル）を添加しそして３時間還流
下に加熱する。＋５℃まで冷却後、ジブチルアミン2.6c
m3（15ミリモル）を添加する。攪拌を＋５℃で30分間続
けた後、さらに１時間で室温に戻す。反応混合物をつい
でジクロルメタンの添加によって約80cm3に稀釈し、つ
いで傾瀉用容器に移し、稀塩酸、ついで水で洗滌する。
ジクロルメタン相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、ついで
減圧下で濃縮する。得られる粗生成物をシリカゲル60上
でトルエン／ジクロルメタン／酢酸エチル（5/3/2）の
混合物を溶離剤とするクロマトグラフィーによって精製
する。蒸発及び80℃における真空乾燥の後、N,N−ジ−
ｎ−ブチル２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−
テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアミ
ド0.6gを無色濃稠油として得る。 1H NMRスペクトル（80MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に相当する。 元素分析:C30Ｈ41NO2・0.25H2Ｏ Ｃ Ｈ Ｎ Ｏ 計算値: 79.69 9.25 3.10 7.96％ 実測値: 79.48 9.37 3.16 7.97％ 実施例XII ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアルデヒドの
製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CHOである式Ｉ
の化合物） 無水ジクロルメタン20cm3中の実施例VIに記載した２
−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニル〕フェニルカルビノール1g
（３ミリモル）の溶液に、室温で攪拌下に、ピリジニウ
ム クロルクロメート2.3g（10.6ミリモル）を添加しそ
して28℃又はそれ以下の温度で１時間30分攪拌する。ジ
クロルメタンによって約200cm3に稀釈した後、50gのシ
リカゲル60を添加しそしてセライト上で濾過する。濾液
を減圧下に濃縮し、得られる粗製固体をシリカゲル60上
でジクロルメタンを溶離剤とするクロマトグラフィーに
よって精製する。蒸発しそして70℃で真空乾燥した後、
２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアルデヒド0.3g
を白色固体として得る。融点145℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）は所望の構造に相当す
る。 元素分析:C22Ｈ24NO2 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 82.46 7.55 9.99％ 実測値: 82.88 7.37 9.82％ 実施例XIII ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕安息香酸及び
そのラクトンの製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′＝OH,R″＝H,B＝フェニル;R＝−CO2Ｈである式
Ｉの化合物） 無水テトララヒドロフラン50cm3中の２−〔（5,5,8,8
−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチ
ル）カルボニル〕安息香酸2g（8.12ミリモル）の溶液に
水素化ホウ素ナトリウム1.82cm3（0.048ミリモル）を少
量ずつ添加しそして室温で20時間攪拌する。反応混合物
を０〜５℃の温度に冷却し、0.1N塩酸をゆっくり添加す
ることによって酸性化しそしてエチルエーテルで抽出す
る。有機相を水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそして
蒸発乾固する。得られる粗生成物を速やかにシリカゲル
60上でジクロルメタンを溶離剤とするクロマトグラフィ
ーによって精製し、ついでヘキサンから再結晶化する。
乾燥後、２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕安息香
酸のラクトン1.1gを白色結晶として得る。融点134℃。 1H NMRスペクトル（250MHz）及び13C NMRスペクトル
及びIRスペクトルは所望の構造に対応する。 元素分析:C22Ｈ24NO2 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 82.46 7.55 9.99％ 実測値: 82.45 7.60 10.11％ 1Nソーダ水溶液（souda normale）60cm3中の上記で得
られたラクトン0.96g（３ミリモル）の懸濁物を還流下
で２時間加熱する。得られる溶液を＋５℃まで冷却し、
ついで氷酢酸3.5cm3を添加することによって酸性化す
る。生ずる沈澱を濾過し、多量の水で洗滌しそして室温
で炭酸カリウム上で真空乾燥する。かくして２−〔（5,
5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナ
フチル）ヒドロキシメチル〕安息香酸0.96gを良好な結
晶状のかつきわめて疎水性の白色固体として得る。これ
は加熱すると直ちにゴム状になり、ついで別の固体とな
り134℃で溶融する（ラクトンに転化）。 1H NMRスペクトル（250MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に対応する。 元素分析:C22Ｈ26NO3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 78.07 7.74 14.18 実測値: 77.97 7.72 13.89％ 実施例XIV ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸ナトリウム
の製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CO2 Na であ
る式Ｉの化合物） ２回イオン交換処理した水300cm3中に２−〔（5,5,8,
8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチ
ル）カルボニル〕安息香酸1.252g（3.73ミリモル）を懸
濁させ、これに0.1Nソーダ水溶液37.3cm3（3.73ミリモ
ル）を添加しそして混合物を僅かに加温した状態で溶解
するまで攪拌する。この溶液を濾過し、ついで蒸発乾固
する。ついでトルエン50cm3を添加して改めて蒸発乾固
する。かくして、80℃で真空乾燥した後に２−〔（5,5,
8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフ
チル）カルボニル〕安息香酸ナトリウム1.32gを白色粉
末として得る。融点300℃。 実施例XV ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカル
ボン酸ナトリウムの製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝シクロヘキシル;R＝−CO2 Na
である式Ｉの化合物） ２回イオン交換処理した水150cm3中の２−〔（5,5,8,
8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチ
ル）カルボニル〕シクロヘキサンカルボン酸342.5mg
（１ミリモル）を懸濁させ、これに0.1Nソーダ水溶液10
cm3（１ミリモル）を添加しそして溶解するまで僅かに
加温しつつ攪拌する。得られる溶液を濾過し、ついで蒸
発乾固する。これにトルエン50cm3を添加してから改め
て蒸発乾固する。かくして、80℃で真空乾燥した後に２
−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカルボン
酸ナトリウム0.36gを145〜150℃でガラス化する白色固
体として得た。 実施例XVI ２−〔（1,1,3,3−テトラメチル−５−インダニル）
カルボニル〕安息香酸の製造 （Ａ＝−CH2−、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6＝
H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CO2Ｈである式Ｉ
の化合物） 無水1,2−ジクロルエタン100cm3中の1,1,3,3−テトラ
メチルインダン2.96g（17ミリモル）及び無水フタル酸
2.52g（17ミリモル）の懸濁物に無水塩化アルミニウム
3.4g（25.5ミリモル）を温度30℃以下に保持するように
少量ずつ添加する。 ３時間攪拌した後、反応混合物を氷冷水50cm3中に注
入する。有機相を傾瀉し、水性相を新たにジクロルエタ
ン50cm3で２回抽出する。ジクロルエタン相を集め、水
洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、ついで減圧下で濃縮
する。残渣を加温したヘキサン100cm3中に吸収させ、＋
５℃まで冷却した後脱液し、ヘキサン50cm3で２回洗滌
し、ついで最少量の沸騰トルエンから再結晶化させる。
80℃で真空乾燥した後、２−〔（1,1,3,3−テトラメチ
ル−５−インダニル）カルボニル〕安息香酸3.1gを白色
結晶として得る。融点194〜195℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）及びIRスペクトルは所望
の構造に合致する。 元素分析:C21Ｈ22Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 75.49 7.75 16.76％ 実測値: 75.47 7.67 16.92％ 実施例XVII ２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダニ
ル）カルボニル〕シクロヘキサンカルボン酸の製造 無水1,2−ジクロルエタン100cm3中の1,1,2,3,3−ペン
タメチルインダン3.3g（17.5ミリモル）及びシスヘキサ
ヒドロ無水フタル酸2.7g（17.5ミリモル）の懸濁物に無
水塩化アルミニウム4.7g（35ミリモル）を温度30℃以下
に保持するように少量ずつ添加する。室温で３時間攪拌
した後、反応混合物を氷冷水50cm3中に注入する。有機
相を傾瀉し、水性相を新たにジクロルエタン100cm3で２
回抽出する。ジクロルエタン相を集め、水洗し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、ついで蒸発乾固する。残渣を加温
したヘキサン200cm3中に吸収させ、＋５℃まで冷却した
後、ヘキサン100cm3で３回洗滌し、冷却しそして70℃で
真空乾燥する。かくして２−〔（1,1,2,3,3−ペンタメ
チル−５−インダニル）カルボニル〕シクロヘキサンカ
ルボン酸5.1gを白色固体として得る。融点178℃。 IRスペクトル及び1H NMRスペクトル（80MHz）は所望
の構造に合致する。 元素分析:C22Ｈ30Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 77.15 8.83 14.02％ 実測値: 77.21 9.00 13.56％ 実施例XVIII N,N−ジ（２−ヒドロキシエチル）２−〔（5,5,8,8−
テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチ
ル）カルボニル〕ベンズアミドの製造 （Ａ＝CH2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6＝
H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CON（CH2CH2OH）
2である式Ｉの化合物） 無水ジクロルメタン30cm3中の実施例１に述べた２−
〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−
２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸3.36g（10ミリモ
ル）の溶液に三塩化燐0.44cm3を添加しそして還流下で
３時間加熱する。＋５℃まで冷却した後、ジエタノール
アミン5.25g（0.05モル）を添加しそして＋５℃で30分
間攪拌し、ついで１時間で周囲温度まで戻す。反応混合
物をついで約80cm3に稀釈し、それを傾瀉用容器に移し
そして稀塩酸、ついで水で洗浄する。ジクロルメタン相
を硫酸ナトリウム上で乾燥し、ついで減圧下で濃縮す
る。得られる固体をシリカゲル60上で酢酸エチル／イソ
プロピルアルコール／ジクロルメタンの3/2/5比率の混
合物を溶離剤とするクロマトグラフィーによって精製す
る。蒸発及び乾燥後に、N,N−ジ（２−ヒドロキシエチ
ル）２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラ
ヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアミド3.2g
を白色固体として得る。融点116℃。 1H NMRスペクトル（250MHz）は所望の構造に合致す
る。 元素分析:C26Ｈ33NO4 Ｃ Ｈ Ｎ Ｏ 計算値: 73.73 7.85 3.31 19.11％ 実測値: 73.51 7.88 3.27 19.40％ 実施例XIX Ｎ−４′−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジノ２−
〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−
２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアミドの製造 無水ジクロルメタン15cm3中の実施例１に記載した２
−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ
−ナフチル）カルボニル〕安息香酸1.68g（５ミリモ
ル）及び三塩化燐0.28cm3（３ミリモル）の溶液を３時
間還流加熱する。０〜＋５℃の温度まで冷却後、Ｎ−
（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン1.4cm3（11.4ミリ
モル）を添加して光の遮断下で１時間攪拌し、周囲温度
に戻す。反応混合物をついでジクロルメタンの添加によ
って約80cm3に稀釈し、ついで傾瀉用容器に移しそして
多量の水で洗浄する。ジクロルメタン相を硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、ついで減圧下で濃縮する。得られる粗製
固体をシリカゲル60上で光の遮断下で、まずテトラヒド
ロフラン／ジクロルメタンの50/50混合物を、ついでテ
トラヒドロフラン単独を溶離剤とするクロマトグラフィ
ーによって精製する。光の遮断下に蒸発及び乾燥した
後、Ｎ−４′−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジノ２
−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニル〕ベンズアミド0.9gを白色
固体として得る。融点58〜60℃。 1H NMRスペクトル（250MHz）は所望の構造に相当す
る。 実施例XX ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカル
ボン酸エチルの製造 （Ａ＝CH2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6＝
H;R′,R″＝オキソ;B＝シクロヘキシル;R＝−CO2Ｃ2Ｈ5
である式Ｉの化合物） 98％硫酸0.1cm3を含有するエチルアルコール100cm3中
の実施例IIIに述べた２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−
5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕
シクロヘキサンカルボン酸3.42g（10ミリモル）の溶液
を12時間還流加熱する。この溶液を減圧下で濃縮しそし
て得られる粗製エステルをエチルエーテル100cm3中に溶
解する。エーテル性溶液を炭酸水素ナトリウム、ついで
水で洗滌し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそして蒸発乾固
する。乾燥後、２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,
7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シク
ロヘキサンカルボン酸エチル3.6gを無色濃稠油として得
る。 IRスペクトル及び1H NMRスペクトル（80MHz）は所望
の構造に相当する。 元素分析:C24Ｈ34Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 77.80 9.25 12.95％ 実測値: 77.65 9.29 12.78％ 実施例XXI ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕シクロヘキサ
ンカルボン酸の製造 （Ａ＝CH2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6＝
H;R′＝OH,R″＝H;B＝シクロヘキシル;R＝−CO2Ｈであ
る式Ｉの化合物） ソーダの2.5M水溶液150cm3中の実施例IIIに述べた２
−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカルボン
酸3.42g（10ミリモル）及び亜鉛粉末10g（0.15モル）の
懸濁物を７時間還流加熱する。＋５℃まで冷却後、反応
混合物を6N塩酸60cm3で中和し、ついで氷酢酸20cm3の添
加によってpHを３近くまで酸性化する。この混合物をつ
いでエチルエーテル（２×150cm3）で抽出する。エーテ
ル相を多量の氷で洗滌し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそ
して蒸発乾固する。得られる固体をヘキサン50cm3中に
吸収させ、脱液し、新たにヘキサン40cm3によって２回
洗滌しそして40℃で真空乾燥する。かくして２−〔（5,
5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナ
フチル）ヒドロキシメチル〕シクロヘキサンカルボン酸
2.9gを白色固体として得る。融点186℃。 IRスペクトル及び1H NMRスペクトル（250MHz）は所望
の構造に合致する。 元素分析:C22Ｈ32Ｎ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 76.70 9.36 13.93％ 実測値: 76.66 9.26 13.95％ 実施例XXII ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕シクロヘキサ
ンカルボン酸ナトリウムの製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′＝OH,R″＝H;B＝シクロヘキシル;R＝−CO2 Na
である式Ｉの化合物） ２回イオン交換処理した水100cm3中に実施例XXIに述
べた２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラ
ヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕シクロヘキ
サンカルボン酸344.48mg（１ミリモル）を懸濁させ、こ
れに0.1Nソーダ水溶液10cm3（１ミリモル）を添加しそ
して超音波浴中で30分間攪拌する。得られる溶液を減圧
下で蒸発乾固する。これに無水トルエン50cm3を添加し
そして改めて蒸発乾固する。かくして、80℃で真空乾燥
した後に、２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−
テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル〕シク
ロヘキサンカルボン酸ナトリウム0.36gを白色固体とし
て得る。融点260℃。 実施例XXIII ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）メチル〕安息香酸の製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝H;B＝フェニル;R＝−CO2Ｈである式Ｉの
化合物） 亜鉛6g、塩化第二水銀0.6g、水9cm3及び濃塩酸0.3cm3
の混合物を室温で10分間攪拌する。この溶液を傾瀉しそ
してアマルガムを水25cm3で２回リンスする。ついで水1
0cm3、濃塩酸5cm3、トルエン8cm3、実施例Ｉに記載した
２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸8.4g（0.025
モル）を添加してそして還流下に30時間加熱攪拌し、そ
れから濃塩酸3cm3を全部で６時間かかって添加する。ト
ルエン20cm3を添加し、熱時濾過しそしてアマルガムを
トルエン40cm3で３回洗滌する。濾液を傾瀉容器に移し
そしてトルエン相を分離し、水洗し、硫酸ナトリウム上
で乾燥し、ついで減圧下で濃縮する。単離した粗生成物
をヘプタン、イソプロピルエーテルの混合物から再結晶
化する。乾燥後、２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,
6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）メチル〕安息香
酸6.6gを白色結晶として得る。融点136℃。 1H NMRスペクトル（80MHz）は所望の構造に合致す
る。 元素分析:C22Ｈ22Ｏ2 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 81.95 8.13 9.92％ 実測値: 82.14 8.16 9.79％ 実施例XXIV ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸エチルの製
造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CO2Ｃ2Ｈ5であ
る式Ｉの化合物） 98％硫酸0.4cm3を含有するエチルアルコール300cm3中
の実施例Ｉに述べた２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−
5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕
安息香酸8.41g（0.025モル）の溶液を還流下に14時間加
熱する。ついでこの溶液を減圧下で濃縮しそして得られ
る粗製エステルをエチルエーテル300cm3中に溶解する。
エーテル性溶液を炭酸水素ナトリウムで洗滌し、ついで
水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそして蒸発乾固す
る。乾燥後、２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8
−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸
エチル7.9gを無色油状物として得る。これは室温で徐々
に晶出して白色固体を与える。融点58〜59℃。 IRスペクトル及び1H NMRスペクトル（80MHz）は所望
の構造に合致する。 元素分析:C24Ｈ28Ｏ3 Ｃ Ｈ Ｏ 計算値: 79.09 7.74 13.17％ 実測値: 79.19 7.75 13.02％ 実施例XXV ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸亜鉛の製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ;B＝フェニル;R＝−CO2 1/2Zn
である式Ｉの化合物） ２回イオン交換処理した水150cm3中に実施例Ｉに記載
した２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラ
ヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸368.5mg
（1.1ミリモル）を懸濁させ、これに0.1Nソーダ11cm
3（1.1ミリモル）を添加しそして超音波浴中で溶解する
まで（30分間）攪拌する。かく得られるナトリウム塩の
溶液に硫酸亜鉛・7H2O 157.5mg（0.548ミルモル）を固
加し、交換塩形成反応（transalification）によって形
成された亜鉛塩を沈澱せしめる。これを脱液し、水洗し
そして70〜80℃で真空乾燥する。かくして２−〔（5,5,
8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフ
チル）カルボニル〕安息香酸亜鉛0.4gを白色固体として
得る。これは155℃付近でガラス状になる。 実施例XXVI ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカル
ボン酸亜鉛の製造 （Ａ＝CH2 2、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝CH3;R5＝Ｒ6
＝H;R′,R″＝オキソ:B＝シクロヘキシル;R＝−CO2 1/
2Zn である式Ｉの化合物） ２回イオン交換処理した水150cm3中に実施例IIIに記
載した２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テト
ラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサン
カルボン酸381.7mg（1.115ミリモル）を懸濁させ、これ
に0.1Nソーダ11.2cm3（1.12ミリモル）を添加しそして
超音波浴中で溶解するまで（40分間）攪拌する。つい
で、硫酸亜鉛・7H2O160.4mg（0.55ミリモル）を添加
し、ついで生成する沈澱を脱液する。水洗しかつ70〜80
℃で真空乾燥した後、２−〔（5,5,8,8−テトラメチル
−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニ
ル〕シクロヘキサンカルボン酸亜鉛0.41gを白色固体と
して得る。これは135℃近くでガラス状になる。 本発明の組成物（製剤）の例 実施例1:抗脂漏性ローション 無水エタノール 59.0g プロピレングリコール 40.0g ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸 1.0g 実施例2:脂肪肌用ローション 無水エタノール 60.0g ポチエチレングリコール400 39.5g ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸 0.5g この実施例において、ローションの有効成分は２−
〔（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダニル）カル
ボニル〕安息香酸1g又は２−〔（5,5,8,8−テトラメチ
ル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニ
ル〕シクロヘキサンカルボン酸0.3gによって代替するこ
とができる。 実施例3:瘡傾向の顔の手入れ用ローション 無水エタノール 42.0g プロピレングリコール 24.0g 精製水 33.0g ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸 1.0g この活性化合物の代りに、２−〔（5,5,8,8−テトラ
メチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カル
ボニル〕シクロヘキサンカルボン酸又は２−〔（5,5,8,
8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチ
ル）ヒドロキシメチル〕シクロヘキサンカルボン酸0.5g
を使用することができる。 実施例4:瘡傾向の脂肪肌の手入れ用ゲル カルボポール（Carbopol）941 0.80g 無水エタノール 32.15g プロピレングリコール 35.00g ブチルヒドロキシトルエン 0.02g ブチルヒドロキシアニソール 0.03g トリエタノールアミン（20％濃度） 1.00g 精製水 30.00g ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸 1.0g 実施例5:瘡傾向の脂肪肌の手入れ用ゲル クルセル（Klucel）Ｈ（セルロース誘導体） 1.00g 無水エタノール 70.00g プロピレングリコール 28.45g ブチルヒドロキシトルエン 0.02g ブチルヒドロキシアニソール 0.03g ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸 0.5g この活性化合物は同一量の２−〔（1,1,2,3,3−ペン
タメチル−５−インダニル）カルボニル〕安息香酸又は
２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕シクロヘキサンカルボ
ン酸又はさらに２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,
7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチ
ル〕シクロヘキサンカルボン酸によって代替することが
できる。 実施例6:脂肪肌用クリーム グリコールモノステアレート 4.00g セチルアルコール 3.50g ミルジ（Myrj）53 3.00g 〔Societe Atlasから市販されるポリエチレングリコー
ルステアレート（エチレンオキシド50モル）〕 カプリン酸／カプリル酸トリグリセライド 22.00g パラヒドロキシ安息香酸プロピル 0.15g ブチルヒドロキシトルエン 0.02g ブチルヒドロキシアニソール 0.03g プロピレングリコール 8.00g ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸 2.00g 水（合計で100gになる残部） 実施例7:皮膚の限定された表面上に塗布するためのスチ
ック（着色された） ワセリン 19.40g コスビオール（Cosbiol） 40.00g （ペルヒドロスクアレン） 固形パラフィン 2.00g カルナウバワックス 2.00g オゾケライト 9.00g ブチルヒドロキシトルエン 0.05g ブチルヒドロキシアニソール 0.05g 赤色酸化鉄 0.50g 黄色酸化鉄 1.50g 褐色酸化鉄 2.50g 酸化チタン 20.00g ２−〔（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル〕安息香酸 1.00g ライススターチ 2.00g この活性化合物の代りに２−〔（5,5,8,8−テトラメ
チル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボ
ニル〕シクロヘキサンカルボン酸0.5gを使用することが
できる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所
Ａ６１Ｋ 31/05 Ａ６１Ｋ 31/05
31/085 31/085
31/11 31/11
31/12 31/12
31/165 31/165
31/19 31/19
31/235 31/235
31/40 31/40
31/445 ＡＤＡ 31/445 ＡＤＡ
31/495 ＡＤＮ 31/495 ＡＤＮ
31/535 31/535
Ｃ０７Ｃ 29/143 9155−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 29/143
29/147 9155−4Ｈ 29/147
33/50 9155−4Ｈ 33/50
47/453 8114−4Ｈ 47/453
47/47 8114−4Ｈ 47/47
47/546 8114−4Ｈ 47/546
47/575 8114−4Ｈ 47/575
49/792 8114−4Ｈ 49/792
49/84 8114−4Ｈ 49/84 Ｃ
49/86 8114−4Ｈ 49/86
51/04 2115−4Ｈ 51/04
51/083 2115−4Ｈ 51/083
61/22 2115−4Ｈ 61/22
62/32 2115−4Ｈ 62/32
62/34 2115−4Ｈ 62/34
62/38 2115−4Ｈ 62/38
63/49 2115−4Ｈ 63/49
65/26 2115−4Ｈ 65/26
65/36 2115−4Ｈ 65/36
69/753 69/753 Ｚ
69/757 69/757 Ｃ
69/76 69/76 Ａ
69/94 69/94
235/40 9547−4Ｈ 235/40
Ｃ０７Ｄ 295/18 Ｃ０７Ｄ 295/18 Ａ
Ｚ
// Ｃ０７Ｍ 7:00
9:00
(72)発明者 フイリツプ・バングレ
フランス国．ジフ‐シユル‐イベツト.
アブニユ・デユ・ジエネラル・レクレル
ク．83
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．式（Ｉ）： （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、各々、水素原子又は
Ｃ1〜Ｃ6アルキル基を表すが、Ｒ1〜Ｒ4のうちの少なく
とも２個の基は水素原子以外の基であるものとし;AはＣ
1〜Ｃ6アルキル基によって置換されていてもよいメチレ
ン又はジメチレン基を表すが、Ａがジメチレン基を表す
場合には、Ｒ1とＲ3は一緒にメチレン基を形成し得るも
のとし;R5及びＲ6は、各々、水素原子又はＣ1‐Ｃ6アル
コキシ基を表し;R′は水素原子又はヒドロキシル基を表
し、Ｒ″は水素原子を表すか又はＲ′とＲ″は一緒にオ
キソ基（＝０）を形成しており;Bはシクロヘキシル、シ
クロヘキセニル又はフェニル基を表し;Rは−CH2OH基又
は−COR7基を表し;R7は水素原子、−OR8基又は を表し、Ｒ8は水素原子又はＣ1〜Ｃ20アルキル基を表
し;r′及びｒ″は、各々、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル
基又はモノヒドロキシアルキル基を表すか又はｒ′と
ｒ″は、一緒に、ピペリジノ、ピペラジノ、モルホリ
ノ、ピロリジノ及び４−（２−ヒドロキシエチル）ピペ
ラジノ基から選ばれた基を表す）で表される二環式芳香
族化合物（但し、２−［（5,8−メタノ−5,6,7,8−テト
ラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］安息香酸を除
く）及び該化合物の塩並びにそれらの光学異性体及び幾
何異性体。 ２．Ｃ1〜Ｃ20アルキル基はメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、第３級ブチル、２−エチル
ヘキシル、オクチル、ドデシル、ヘキサデシル及びオク
タデシル基から選ばれる特許請求の範囲第１項記載の化
合物。 ３．モノヒドロキシアルキル基は２−ヒドロキシエチ
ル、２−ヒドロキシプロピル又は２−ヒドロキシエトキ
シエチルである特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ４．Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基はメトキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ又は第３級ブトキシである特許請求の範囲
第１項記載の化合物。 ５．式（VI）： （式中、Ｒ′及びＲ″は一緒にオキソ基（＝０）を形成
するか又はＲ′がヒドロキシ基を表し、Ｒ″が水素原子
を表し、Ａは基−（CH2）2−又は を表し;Bはフェニル又はシクロヘキシル核を表し;R7は
−OR8基又は を表し;R8は水素原子又はＣ1〜Ｃ12アルキル基を表し;
r′は水素原子又はモノヒドロキシアルキル基を表しそ
してｒ″はＣ1〜Ｃ8アルキル基又はモノヒドロキシアル
キル基を表すか、又は、ｒ′及びｒ″は一緒に隣接する
窒素原子と共に４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ
ニル基を表す）で表される特許請求の範囲第１項〜第４
項のいずれかに記載の化合物及びその塩。 ６．下記の化合物： （１） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］安息香酸； （２） Ｎ−エチル ２−［（5,5,8,8−テトラメチル
−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニ
ル］ベンズアミド； （３） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］安息香酸メチ
ル； （４） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］−安息香酸２
−エチルヘキシル； （５） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］安息香酸ナト
リウム； （６） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］安息香酸亜
鉛； （７） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］ベンズアルデ
ヒド； （８） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル］フェニ
ルカルビノール； （９） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル］安息香
酸； （10） Ｎ−４′−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ
ノ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル］ベンズアミド； （11） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）エトキシメチル］安息香
酸； （12） ２−［（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）ヒドロキシメチル］安息香酸； （13） ２−［（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）−２−エテニル］安息香酸； （14） ２−［（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル］安息香酸； （15） Ｎ−エチル２−［（1,1,2,3,3−ペンタメチル
−５−インダニル）カルボニル］ベンズアミド； （16） ２−［（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル］安息香酸エチル； （17） ２−［（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル］安息香酸２−エチルヘキシル； （18） ２−［（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル］安息香酸ナトリウム； （19） Ｎ−４′−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ
ノ２−［（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−インダニ
ル）カルボニル］ベンズアミド； （20） ２−［（1,1,3,3−テトラメチル−５−インダ
ニル）ヒドロキシメチル］安息香酸； （21） ２−［（1,1,3,3−テトラメチル−５−インダ
ニル）カルボニル］安息香酸； （22） Ｎ−エチル２−［（1,1,3,3−テトラメチル−
５−インダニル）カルボニル］ベンズアミド； （23） Ｎ−４′−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ
ノ２−［（1,1,3,3−テトラメチル−５−インダニル）
カルボニル］ベンズアミド； （24） ２−［（1,1,3,3−テトラメチル−５−インダ
ニル）カルボニル］安息香酸亜鉛； （25） ２−［（5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニル］安息香酸エチル； （26） Ｎ−エチル２−［（5,8−メタノ−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］ベンズアミ
ド； （27） ２−［（5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒドロ
−２−ナフチル）ヒドロキシメチル］安息香酸； （28） ２−［（1,4−ジメトキシ−5,8−メタノ−5,6,
7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチ
ル］安息香酸； （29） ２−［（1,4−ジメトキシ−5,8−メタノ−5,6,
7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］安息
香酸； （30） Ｎ−エチル２−［（1,4−ジメトキシ−5,8−メ
タノ−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボ
ニル］ベンズアミド； （31） N,N−ジ−ｎ−ブチル２−［（5,5,8,8−テトラ
メチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナフチル）カル
ボニル］ベンズアミド； （32） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］シクロヘキサ
ンカルボン酸； （33） ２−［（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル］−１−シクロヘキセン−１−カル
ボン酸； （34） N,N−ジ（２−ヒドロキシエチル）２−［（5,
5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−２−ナ
フチル）カルボニル］ベンズアミド； （35） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］シクロヘキサ
ンカルボン酸ナトリウム； （36） ２−［（1,1,2,3,3−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル］シクロヘキサンカルボン酸； （37） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］シクロヘキサ
ンカルボン酸エチル； （38） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル］シクロ
ヘキサンカルボン酸； （39） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル］シクロ
ヘキサンカルボン酸ナトリウム； （40） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］安息香酸エチ
ル； （41） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）メチル］安息香酸； （42） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］安息香酸亜
鉛； （43） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］シクロヘキサ
ンカルボン酸亜鉛；及び （44） ２−［（5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］ベンズアルデ
ヒド； から選ばれた化合物である、特許請求の範囲第１項〜第
５項のいずれかに記載の化合物。 ７．式（１）： の置換ハライド又は式（２）： の酸無水物（両式中、Ｂ及びＲは後記の意義を有し、Ｘ
は塩素又は臭素原子を表す）と式（３）：（式中、Ａ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は後記の
意義を有する）の芳香族化合物とをフリーデルクラフト
反応の条件下で反応させそして、必要ならば、得られた
化合物中のオキソ（＝０）基を後記ｒ′及びｒ″によっ
て表される他の基に転化する又は得られた化合物中の−
CO2Ｈ基を後記Ｒによって表される他の基に転化するこ
とからなる、式（Ｉ）： （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、各々、水素原子又は
Ｃ1〜Ｃ6アルキル基を表すが、Ｒ1〜Ｒ4のうちの少なく
とも２個の基は水素原子以外の基であるものとし;AはＣ
1〜Ｃ6アルキル基によって置換されていてもよいメチレ
ン又はジメチレン基を表すが、Ａがジメチレン基を表す
場合には、Ｒ1とＲ3は一緒にメチレン基を形成し得るも
のとし;R5及びＲ6は、各々、水素原子又はＣ1‐Ｃ6アル
コキシ基を表し;R′は水素原子又はヒドロキシル基を表
し、Ｒ″は水素原子を表すか又はＲ′とＲ″は一緒にオ
キソ基（＝０）を形成しており;Bはシクロヘキシル、シ
クロヘキセニル又はフェニル基を表し;Rは−CH2OH基又
は−COR7基を表し;R7は水素原子、−OR8基又は を表し、Ｒ8は水素原子又はＣ1〜Ｃ20アルキル基を表
し;r′及びｒ″は、各々、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル
基又はモノヒドロキシアルキル基を表すか又はｒ′と
ｒ″は、一緒に、ピペリジノ、ピペラジノ、モルホリ
ノ、ピロリジノ及び４−（２−ヒドロキシエチル）ピペ
ラジノ基から選ばれた基を表す）で表される二環式芳香
族化合物（但し、２−［（5,8−メタノ−5,6,7,8−テト
ラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］安息香酸を除
く）及び該化合物の塩並びにそれらの光学異性体及び幾
何異性体の製造法。 ８．該縮合反応を塩素系溶剤中でルイス酸の存在下に、
式（２）の酸無水物を用いて達成させる特許請求の範囲
第７項記載の製造法。 ９．得られるケト酸をテトラヒドロフラン中で水素化ホ
ウ素ナトリウムの存在下又はアルカリ性媒質中で亜鉛の
存在下でヒドロキシ酸に還元せしめる特許請求の範囲第
８項記載の製造法。 １０．得られるケト酸のケトン官能基を塩酸の存在下、
亜鉛アマルガムを用いて還元せしめる特許請求の範囲第
７項記載の製造法。 １１．得られるケト酸をテトラヒドロフラン中で水素化
リチウムアルミニウムの存在下でジオールに還元せしめ
る特許請求の範囲第７項記載の製造法。 １２．得られるジオールをピリジニウムクロルクロメー
トを用いる酸化によってケトアルデヒドに転化せしめる
特許請求の範囲第11項記載の製造法。 １３．適当な担体中に、式（Ｉ）： （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、各々、水素原子又は
Ｃ1〜Ｃ6アルキル基を表すが、Ｒ1〜Ｒ4のうちの少なく
とも２個の基は水素原子以外の基であるものとし;AはＣ
1〜Ｃ6アルキル基によって置換されていてもよいメチレ
ン又はジメチレン基を表すが、Ａがジメチレン基を表す
場合には、Ｒ1とＲ3は一緒にメチレン基を形成し得るも
のとし;R5及びＲ6は、各々、水素原子又はＣ1‐Ｃ6アル
コキシ基を表し;R′は水素原子又はヒドロキシル基を表
し、Ｒ″は水素原子を表すか又はＲ′とＲ″は一緒にオ
キソ基（＝０）を形成しており;Bはシクロヘキシル、シ
クロヘキセニル又はフェニル基を表し;Rは−CH2OH基又
は−COR7基を表し;R7は水素原子、−OR8基又はを表し、Ｒ8は水素原子又はＣ1〜Ｃ20アルキル基を表
し;r′及びｒ″は、各々、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル
基又はモノヒドロキシアルキル基を表すか又はｒ′と
ｒ″は、一緒に、ピペリジノ、ピペラジノ、モルホリ
ノ、ピロリジノ及び４−（２−ヒドロキシエチル）ピペ
ラジノ基から選ばれた基を表す）で表される二環式芳香
族化合物（但し、２−［（5,8−メタノ−5,6,7,8−テト
ラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル］安息香酸を除
く）及び該化合物の塩並びにそれらの光学異性体及び幾
何異性体の少なくとも１種を含有せしめてなる、脂肪質
の皮膚及び頭皮処置用組成物。 １４．該二環式芳香族化合物から選んだ化合物を0.005
〜５重量％の量で含有する特許請求の範囲第13項記載の
組成物。 １５．該化合物の含有量が0.01〜10重量％であり、前記
担体が局所投与に適するものである、特許請求の範囲第
13項記載の組成物。
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