JP2520120B2 - 芳香族ベンズアミド化合物、その製法、ひとおよび動物医薬、並びに化粧品 - Google Patents
芳香族ベンズアミド化合物、その製法、ひとおよび動物医薬、並びに化粧品Info
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、新規芳香族ベンズアミド誘導体、その製
造法並びにそのひとおよび動物用医薬および化粧品に対
する用途に関するものである。
造法並びにそのひとおよび動物用医薬および化粧品に対
する用途に関するものである。
[発明の記載] この新規芳香族ベンズアミド誘導体は、角質化異常
(分化増殖)および皮ふ科疾患、あるいは、炎症性およ
び/または免疫・アレルギー症状に関する皮ふ科、他科
の局所および全身的処置、および結合組成の変質性疾患
に対して用途を有し、さらに抗腫瘍活性を有する。ま
た、この化合物は、皮ふおよび呼吸器のアトピーの処
置、ならびにリューマチ性乾せんの処置に用いることが
できる。
(分化増殖)および皮ふ科疾患、あるいは、炎症性およ
び/または免疫・アレルギー症状に関する皮ふ科、他科
の局所および全身的処置、および結合組成の変質性疾患
に対して用途を有し、さらに抗腫瘍活性を有する。ま
た、この化合物は、皮ふおよび呼吸器のアトピーの処
置、ならびにリューマチ性乾せんの処置に用いることが
できる。
さらに、眼科領域、特に角膜疾患の処置に有用であ
る。
る。
この発明の芳香族ベンズアミド誘導体は、下記 [式中、R1は−CH2OH、−CHOHCH3または−COR5、 (R5は水素原子、低級アルキル基、−OR6基または R6は水素原子、低級アルキル基またはモノもしくはポリ
ヒドロキシアルキル基、γ′およびγ″は水素原子、低
級アルキル基、モノもしくはポリヒドロキシアルキル
基、1個以上の置換基を有していてもよいアリールもし
くはベンジル基、アミノ酸もしくはアミノ糖残基、また
は一緒になって複素環を形成する基、 R2は炭素原子数4−12のα,α′−ジ置換アミノ基、炭
素原子数5−12で結合炭素が4級の単環もしくは多環シ
クロアルキル基、 R3は水素原子または炭素原子数1−10のアルキル基、 R4は水素原子、低級アルキル基またはヒドロキシ基を意
味する(ただし、R1が−CO2CH3、R2が1−アダマンチ
ル、R3がデシル、R4が3位にあるヒドロキシ基である式
(I)の化合物を除く)] で示される化合物、または上記式[I]の芳香族ベンズ
アミド誘導体においてR6が水素原子の化合物の塩類であ
る。
ヒドロキシアルキル基、γ′およびγ″は水素原子、低
級アルキル基、モノもしくはポリヒドロキシアルキル
基、1個以上の置換基を有していてもよいアリールもし
くはベンジル基、アミノ酸もしくはアミノ糖残基、また
は一緒になって複素環を形成する基、 R2は炭素原子数4−12のα,α′−ジ置換アミノ基、炭
素原子数5−12で結合炭素が4級の単環もしくは多環シ
クロアルキル基、 R3は水素原子または炭素原子数1−10のアルキル基、 R4は水素原子、低級アルキル基またはヒドロキシ基を意
味する(ただし、R1が−CO2CH3、R2が1−アダマンチ
ル、R3がデシル、R4が3位にあるヒドロキシ基である式
(I)の化合物を除く)] で示される化合物、または上記式[I]の芳香族ベンズ
アミド誘導体においてR6が水素原子の化合物の塩類であ
る。
この発明の化合物が塩である場合、アルカリ金属塩、
アルカリ土金属塩、亜鉛塩または有機アミン塩であり得
る。
アルカリ土金属塩、亜鉛塩または有機アミン塩であり得
る。
低級アルキル基には、炭素原子数1−6の基、特にメ
チル、エチル、イソプロピル、ブチルおよび第3級ブチ
ルが含まれる。
チル、エチル、イソプロピル、ブチルおよび第3級ブチ
ルが含まれる。
モノヒドロキシアルキル基には、炭素原子数2−3の
基、特に2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピ
ルまたは3−ヒドロキシプロピルが含まれる。
基、特に2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピ
ルまたは3−ヒドロキシプロピルが含まれる。
ポリヒドロキシアルキル基には、炭素原子数3−6で
ヒドロキシ基2−5個の基、例えば2,3−ジヒドロキシ
プロピル、2,3,4−トリヒドロキシブチル、2,3,4,5−テ
トラヒドロキシペンチルまたはペンタエリスリトール残
基が含まれる。
ヒドロキシ基2−5個の基、例えば2,3−ジヒドロキシ
プロピル、2,3,4−トリヒドロキシブチル、2,3,4,5−テ
トラヒドロキシペンチルまたはペンタエリスリトール残
基が含まれる。
アリール基には、ハロゲン、ヒドロキシもしくはニト
ロで置換されていてもよいフェニルが含まれる。
ロで置換されていてもよいフェニルが含まれる。
炭素原子数4−12のα,α′−ジ置換基には、第3級
ブチル、1,1−ジメチルプロピル、1−メチル−1−エ
チルプロピル、1−メチル−1エチルヘキシルまたは1,
1−ジメチルデシルが含まれる。
ブチル、1,1−ジメチルプロピル、1−メチル−1−エ
チルプロピル、1−メチル−1エチルヘキシルまたは1,
1−ジメチルデシルが含まれる。
炭素原子数5−12の単環または多環シクロアルキル基
であって結合炭素が4級の基としては、1−メチルシク
ロヘキシルまたは1−アダマンチルが含まれる。
であって結合炭素が4級の基としては、1−メチルシク
ロヘキシルまたは1−アダマンチルが含まれる。
アミノ酸残基には、例えばリジンまたはグリシンから
誘導される基が含まれる。
誘導される基が含まれる。
アミノ糖残基には、例えばグルコサミン、ガラクトサ
ミンまたはマンノサミンから誘導される基が含まれる。
ミンまたはマンノサミンから誘導される基が含まれる。
γ′およびγ″が一緒になって複素環を示す基として
は、ピペリジノ、ピペラジノ、モルホリノ、ピロリジノ
または4−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジノが好ま
しい。
は、ピペリジノ、ピペラジノ、モルホリノ、ピロリジノ
または4−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジノが好ま
しい。
上記式(I)で示される好ましい芳香族ベンズアミド
誘導体としては、下記化合物が含まれる。
誘導体としては、下記化合物が含まれる。
4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸メチル、 N−エチル−4−[3−(1−アダマンチル)−4−メ
トキシベンズアミド]ベンズアミド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヒドロキシベン
ズアミド]安息香酸、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヒドロキシベン
ズアミド]安息香酸メチル、 4−[3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−メトキ
シベンズアミド]安息香酸、 4−[3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−メトキ
シベンズアミド]安息香酸エチル、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシベ
ンズアミド]安息香酸、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシベ
ンズアミド]安息香酸メチル、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヘキシルオキシ
ベンズアミド]安息香酸、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヘキシルオキシ
ベンズアミド]安息香酸メチル、 4−[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシベ
ンズアミド]安息香酸、 4−[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシベ
ンズアミド)安息香酸メチル、 4−(3−第3級ブチル−4−メトキシベンズアミド)
安息香酸、 4−(3−第3級ブチル−4−メトキシベンズアミド)
安息香酸メチル、 N−[4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
ベンズアミド]ベンゾイル]ピロリジン、 N−[4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
ベンズアミド]ベンゾイル]ピペリジン、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸モルホリド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸第3級ブチルアミド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸エチルアミド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド)安息香酸アニリド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸ベンジルアミド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸2−ヒドロキシエチル、 N−(4−アセチルフェニル)−3−(1−アダマンチ
ル)−4−メトキシベンズアミド、 N−[4−(1−ヒドロキシエチル)フェニル]−3−
(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズアミド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸2−ヒドロキシエチルアミド、または 2−ヒドロキシ−4−[3−(1−アダマンチル)−4
−メトキシベンズアミド]安息香酸メチル。
アミド]安息香酸、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸メチル、 N−エチル−4−[3−(1−アダマンチル)−4−メ
トキシベンズアミド]ベンズアミド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヒドロキシベン
ズアミド]安息香酸、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヒドロキシベン
ズアミド]安息香酸メチル、 4−[3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−メトキ
シベンズアミド]安息香酸、 4−[3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−メトキ
シベンズアミド]安息香酸エチル、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシベ
ンズアミド]安息香酸、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシベ
ンズアミド]安息香酸メチル、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヘキシルオキシ
ベンズアミド]安息香酸、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヘキシルオキシ
ベンズアミド]安息香酸メチル、 4−[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシベ
ンズアミド]安息香酸、 4−[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシベ
ンズアミド)安息香酸メチル、 4−(3−第3級ブチル−4−メトキシベンズアミド)
安息香酸、 4−(3−第3級ブチル−4−メトキシベンズアミド)
安息香酸メチル、 N−[4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
ベンズアミド]ベンゾイル]ピロリジン、 N−[4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
ベンズアミド]ベンゾイル]ピペリジン、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸モルホリド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸第3級ブチルアミド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸エチルアミド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド)安息香酸アニリド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸ベンジルアミド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸2−ヒドロキシエチル、 N−(4−アセチルフェニル)−3−(1−アダマンチ
ル)−4−メトキシベンズアミド、 N−[4−(1−ヒドロキシエチル)フェニル]−3−
(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズアミド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸2−ヒドロキシエチルアミド、または 2−ヒドロキシ−4−[3−(1−アダマンチル)−4
−メトキシベンズアミド]安息香酸メチル。
この発明はまた、下記反応式による式(I)の化合物
の製造法を提供する。
の製造法を提供する。
この製造法の主要工程は、無水媒質、有機溶媒好まし
くはテトラヒドロフラン中、第3級アミンの存在、置換
安息香酸の活性形、例えば酸クロリド(1)を式(2)
のアミン化合物に反応させることからなり、この反応は
室温、攪拌下で行ない得る。
くはテトラヒドロフラン中、第3級アミンの存在、置換
安息香酸の活性形、例えば酸クロリド(1)を式(2)
のアミン化合物に反応させることからなり、この反応は
室温、攪拌下で行ない得る。
エステル(Ia)から、けん化により対応する酸(Ib)
を得ることができ、これは、ついで例えばN,N′−カル
ボニルジイミダゾール(CDI)によりまたは酸クロリド
への変換により活性化し、式 (γ′およびγ″は前記の意味)と反応させて式(Ic)
のアミドに変えることができる。
を得ることができ、これは、ついで例えばN,N′−カル
ボニルジイミダゾール(CDI)によりまたは酸クロリド
への変換により活性化し、式 (γ′およびγ″は前記の意味)と反応させて式(Ic)
のアミドに変えることができる。
R6がモノヒドロキシまたはポリヒドロキシアルキルの
場合、メチルエステル(Ia)(R6=−CH3)から酸(I
b)を作り、得られた酸を公知の方法によりモノもしく
はポリヒドロキシアルコールのエステルに誘導すること
ができる。
場合、メチルエステル(Ia)(R6=−CH3)から酸(I
b)を作り、得られた酸を公知の方法によりモノもしく
はポリヒドロキシアルコールのエステルに誘導すること
ができる。
R1=CH2OHおよびCHOH−CH3の化合物は、常法によりそ
れぞれ対応するエステルおびケトンから得られる。
れぞれ対応するエステルおびケトンから得られる。
この発明はまた、式(I)の化合物の下記医薬用途に
関するものである。
関するものである。
上記化合物は、ヌードラットにおける「ストリッピン
グテープ」による誘導後のオルニチンデカルボキシラー
ゼ阻害試験においてすぐれた活性を示す[ブクリエ等、
デルマトロジカ(DELMATOLOGICA)169巻4号1984の方
法)。この試験は、細胞増殖現象に対する化合物の阻害
作用を用いる。
グテープ」による誘導後のオルニチンデカルボキシラー
ゼ阻害試験においてすぐれた活性を示す[ブクリエ等、
デルマトロジカ(DELMATOLOGICA)169巻4号1984の方
法)。この試験は、細胞増殖現象に対する化合物の阻害
作用を用いる。
この化合物は、特に、角質化異常(分化・増殖)に関
連する皮ふ疾患、および炎症性および/または免疫・ア
レルギー性を示す皮ふ病および他の疾患、特に 一般性、面ぼう性または多形性座そう(acne)、老人
性、日照性座そうおよび薬剤性、職業性座そう、 乾せんの広範形および/または重症形、他の角質化障
害、特に魚りんせんおよび魚りんせん症状、 ダリエル(Darier)病、 手掌・足底のたこ、 白板症および白斑性症状、扁平苔せん、 良性、悪性、重症、広範性のあらゆる皮ふ増殖症 の処置に特に適する。
連する皮ふ疾患、および炎症性および/または免疫・ア
レルギー性を示す皮ふ病および他の疾患、特に 一般性、面ぼう性または多形性座そう(acne)、老人
性、日照性座そうおよび薬剤性、職業性座そう、 乾せんの広範形および/または重症形、他の角質化障
害、特に魚りんせんおよび魚りんせん症状、 ダリエル(Darier)病、 手掌・足底のたこ、 白板症および白斑性症状、扁平苔せん、 良性、悪性、重症、広範性のあらゆる皮ふ増殖症 の処置に特に適する。
上記化合物はまた、腫瘍、リューマチ性乾せん、皮ふ
または呼吸器性アトピーの処置、および角膜疾患のよう
な眼科症状の処置に有用である。
または呼吸器性アトピーの処置、および角膜疾患のよう
な眼科症状の処置に有用である。
それ故、この発明は、前記のような式(I)の化合物
またはその塩の少なくとも1種を含む医薬組成物をも目
的とする。
またはその塩の少なくとも1種を含む医薬組成物をも目
的とする。
この発明はまた、医薬として許容される担体中に、式
(I)の化合物および/またはその塩の少なくとも1種
を含む、上記疾患の処置に特に有用な新規医薬組成物を
も目的とする。
(I)の化合物および/またはその塩の少なくとも1種
を含む、上記疾患の処置に特に有用な新規医薬組成物を
も目的とする。
この発明の化合物は、光および酸素に対して良好な安
定性を示す。
定性を示す。
この発明の化合物は、一般に約0.01mg/体重Kg−5mg/
体重Kgの日用量で投与される。
体重Kgの日用量で投与される。
組成物の担体としては、常用されるあらゆる担体を用
いることができ、有効成分は媒質に溶解または分散させ
る。
いることができ、有効成分は媒質に溶解または分散させ
る。
投与は、経腸、非経口、局所または眼内の何れでも実
施できる。経腸の場合、医薬を錠剤、カプセル、糖衣
錠、シロップ、けんだく剤、液剤、散剤、顆粒、乳剤の
形で形成できる。非経口の場合、組成物は注入または注
射用溶液またはけんだく液の形で提供できる。
施できる。経腸の場合、医薬を錠剤、カプセル、糖衣
錠、シロップ、けんだく剤、液剤、散剤、顆粒、乳剤の
形で形成できる。非経口の場合、組成物は注入または注
射用溶液またはけんだく液の形で提供できる。
局所の場合、この発明の化合物に基づく医薬組成物
は、軟膏、チンキ、クリーム、ポマード、粉剤、タンブ
ル、含浸タンポン、液剤、ローション、ゲル、スプレイ
またはけんだく剤の形で提供できる。
は、軟膏、チンキ、クリーム、ポマード、粉剤、タンブ
ル、含浸タンポン、液剤、ローション、ゲル、スプレイ
またはけんだく剤の形で提供できる。
この局所用組成物は、臨床的適応に応じて無水または
水性製剤とすることができる。
水性製剤とすることができる。
眼科用の場合は、原則として点眼剤である。
これらの組成物は、上記のような式(I)の化合物ま
たはその塩を、好ましくは組成物の総重量に対して約0.
0001−5%の濃度で含む。
たはその塩を、好ましくは組成物の総重量に対して約0.
0001−5%の濃度で含む。
この発明による式(I)の化合物はまた、化粧品領
域、特に身体および毛髪の衛生、殊に座そうの傾向があ
る皮ふの処置、毛髪再生、抗脱毛、皮ふおよび毛髪の脂
肪性変容対策、日光の害作用からの保護または生理的乾
燥性皮ふの処置が適応する。
域、特に身体および毛髪の衛生、殊に座そうの傾向があ
る皮ふの処置、毛髪再生、抗脱毛、皮ふおよび毛髪の脂
肪性変容対策、日光の害作用からの保護または生理的乾
燥性皮ふの処置が適応する。
それ故、この発明はまた、化粧的に許容される担体中
に式(I)の化合物またはその塩少なくとも1種を含む
化粧用組成物に関するものであり、この化合物は特にロ
ーション、ゲル、石けんまたはシャンプーの形で提供で
きる。
に式(I)の化合物またはその塩少なくとも1種を含む
化粧用組成物に関するものであり、この化合物は特にロ
ーション、ゲル、石けんまたはシャンプーの形で提供で
きる。
上記化粧用組成物中の式(I)の化合物の濃度は、約
0.0001−0.1重量%、好ましくは0.001−0.01重量%であ
る。
0.0001−0.1重量%、好ましくは0.001−0.01重量%であ
る。
この発明の医薬および化粧組成物は、不活性添加剤ま
たは薬動力学的または化粧的活性成分、特にチアモルホ
リンまたは尿素誘導体のような水補給剤、S−カルボキ
シメチルシステイン、S−ベンジルシステアミン、それ
らの塩および誘導体、チオキソロンまたはベンゾイルペ
ルオキシドのような抗過脂肪剤または抗座そう剤、エリ
スロマイシンおよびそのエステル、ネオマイシン、テト
ラサイクリンまたは4,5−ポリメチレン−3−イソチア
ゾリノンのような抗生物質、「ミノキシジル(Minoxidi
l)」(2,4−ジアミノ−6−ピペリジノピリミジン−3
−オキシド)およびその誘導体、ジアゾキシド(Diazox
ide)(7−クロロ−3−メチル−1,2,4−ベンゾチアジ
アジン−1,1−ジオキシド)およびフェニトイン(Pheny
toin)(5,5−ジフェニルイミダゾリジン−2,4−ジオ
ン)のような毛髪再生促進剤、ステロイド性および非ス
テロイド性抗炎症剤、カロチノイド、および特にβ−カ
ロテン、アントラリンおよびその誘導体、5,8,11,14−
エイコサテトライン酸および5,8,11−エイコサトリイン
酸とそのエステルおよびアミドのような抗乾せん剤を含
むことができる。
たは薬動力学的または化粧的活性成分、特にチアモルホ
リンまたは尿素誘導体のような水補給剤、S−カルボキ
シメチルシステイン、S−ベンジルシステアミン、それ
らの塩および誘導体、チオキソロンまたはベンゾイルペ
ルオキシドのような抗過脂肪剤または抗座そう剤、エリ
スロマイシンおよびそのエステル、ネオマイシン、テト
ラサイクリンまたは4,5−ポリメチレン−3−イソチア
ゾリノンのような抗生物質、「ミノキシジル(Minoxidi
l)」(2,4−ジアミノ−6−ピペリジノピリミジン−3
−オキシド)およびその誘導体、ジアゾキシド(Diazox
ide)(7−クロロ−3−メチル−1,2,4−ベンゾチアジ
アジン−1,1−ジオキシド)およびフェニトイン(Pheny
toin)(5,5−ジフェニルイミダゾリジン−2,4−ジオ
ン)のような毛髪再生促進剤、ステロイド性および非ス
テロイド性抗炎症剤、カロチノイド、および特にβ−カ
ロテン、アントラリンおよびその誘導体、5,8,11,14−
エイコサテトライン酸および5,8,11−エイコサトリイン
酸とそのエステルおよびアミドのような抗乾せん剤を含
むことができる。
この発明の組成物はまた、香味改善剤、保存剤、安定
剤、水分調節剤、pH調節剤、浸透圧調節剤、乳化剤、UV
−AおよびUV−Bフイルター、α−トコフェロール、ブ
チルヒドロキシアニソールまたはブチルヒドロキシトル
エンのような抗酸化剤を含むことができる。
剤、水分調節剤、pH調節剤、浸透圧調節剤、乳化剤、UV
−AおよびUV−Bフイルター、α−トコフェロール、ブ
チルヒドロキシアニソールまたはブチルヒドロキシトル
エンのような抗酸化剤を含むことができる。
[実施例] 以下に、この発明に係る式(I)の活性化合物の製造
法および組成物について若干の実施例を示すが、これら
は説明のためのものであって限定を意図するものではな
い。
法および組成物について若干の実施例を示すが、これら
は説明のためのものであって限定を意図するものではな
い。
[実施例1] 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸メチルの製造 (a)3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ安息香
酸 丸底フラスコ中に、Mg5.4g(225ミリモル)およびテ
トラヒドロフラン30mlを入れた。テトラヒドロフラン30
0ml中に2−アダマンチル−4−ブロモアニソール48.3g
(150ミリモル)およびジブロモエタン6ml(70ミリモ
ル)を含有する溶液を滴下した。2時間還流加熱し、−
70℃に冷却し、その後1時間かけて気体のCO2を導入し
た。再び温度を20℃に上げて維持し、水中に投入し、濃
塩酸を用いてpH=1に酸性化し、その後エチルエーテル
を用いて抽出した。有機層を分取し、硫酸マグネシウム
で乾燥し濃縮した。酢酸エチル中で再結晶後、融点238
−239℃の目的生成物37g(収率86%)を得た。
アミド]安息香酸メチルの製造 (a)3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ安息香
酸 丸底フラスコ中に、Mg5.4g(225ミリモル)およびテ
トラヒドロフラン30mlを入れた。テトラヒドロフラン30
0ml中に2−アダマンチル−4−ブロモアニソール48.3g
(150ミリモル)およびジブロモエタン6ml(70ミリモ
ル)を含有する溶液を滴下した。2時間還流加熱し、−
70℃に冷却し、その後1時間かけて気体のCO2を導入し
た。再び温度を20℃に上げて維持し、水中に投入し、濃
塩酸を用いてpH=1に酸性化し、その後エチルエーテル
を用いて抽出した。有機層を分取し、硫酸マグネシウム
で乾燥し濃縮した。酢酸エチル中で再結晶後、融点238
−239℃の目的生成物37g(収率86%)を得た。
(b)塩化3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベ
ンゾイル、 丸底フラスコ中に、塩化チオニル200mlを入れて、上
で得られた酸35g(122ミリモル)を少量ずつ加えた。気
体の放出が止まるまで還流加熱した。乾固するまで濃縮
し、無水ベンゼン100mlでとかした後、再び乾固するま
で濃縮した。融点153−154℃の目的生成物37g(収率100
%)を得た。
ンゾイル、 丸底フラスコ中に、塩化チオニル200mlを入れて、上
で得られた酸35g(122ミリモル)を少量ずつ加えた。気
体の放出が止まるまで還流加熱した。乾固するまで濃縮
し、無水ベンゼン100mlでとかした後、再び乾固するま
で濃縮した。融点153−154℃の目的生成物37g(収率100
%)を得た。
(c)4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
ベンズアミド]安息香酸メチル 丸底フラスコ中に、p−アミノ安息香酸メチル2.5g
(17ミリモル)、テトラヒドロフラン50mlおよびトリエ
チルアミン2.6ml(18.5ミリモル)を入れた。テトラヒ
ドロフラン50ml中に塩化3−アダマンチル−4−メトキ
シ安息香酸5.64g(18.5ミリモル)を滴下し、室温で2
時間攪拌した。水中に投入し、塩化メチレンで抽出し、
有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮
した。イソプロピルエーテル・酢酸エチル(50:50)の
混合中で再結晶した後、融点179−180℃の目的生成物7.
1g(収率92%)を得た。
ベンズアミド]安息香酸メチル 丸底フラスコ中に、p−アミノ安息香酸メチル2.5g
(17ミリモル)、テトラヒドロフラン50mlおよびトリエ
チルアミン2.6ml(18.5ミリモル)を入れた。テトラヒ
ドロフラン50ml中に塩化3−アダマンチル−4−メトキ
シ安息香酸5.64g(18.5ミリモル)を滴下し、室温で2
時間攪拌した。水中に投入し、塩化メチレンで抽出し、
有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮
した。イソプロピルエーテル・酢酸エチル(50:50)の
混合中で再結晶した後、融点179−180℃の目的生成物7.
1g(収率92%)を得た。
[実施例2] 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸の製造 丸底フラスコ中に、実施例1で得られたエステル6g
(14ミリモル)および2モル・メタノール性ソーダ200m
lを入れた。4時間還流加熱した。乾固するまで濃縮
し、水を用いて再溶解し、塩酸を用いてpH=1に酸性化
し、エーテルで抽出した。有機層を分取し、硫酸マグネ
シウムで乾燥して、濃縮した。酢酸エチル中で再結晶
後、融点286−287℃の目的とする酸4g(収率69%)を得
た。
アミド]安息香酸の製造 丸底フラスコ中に、実施例1で得られたエステル6g
(14ミリモル)および2モル・メタノール性ソーダ200m
lを入れた。4時間還流加熱した。乾固するまで濃縮
し、水を用いて再溶解し、塩酸を用いてpH=1に酸性化
し、エーテルで抽出した。有機層を分取し、硫酸マグネ
シウムで乾燥して、濃縮した。酢酸エチル中で再結晶
後、融点286−287℃の目的とする酸4g(収率69%)を得
た。
[実施例3] 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヒドロキシベン
ズアミド]安息香酸メチルの製造 (a)3−(1−アダマンチル)−4−第3級ブチルジ
メチルシリルオキシ安息香酸 丸底フラスコ中にマグネシウム1.18g(48.8ミリモ
ル)およびTHF20mlを入れた。2−(1−アダマンチ
ル)−4−ブロモフェノールの第3級ブチルジメチルシ
リルエーテル13.7g(32.5ミリモル)を滴下し(ヨーロ
ッパ特許出願第86/400785.1号に記述)、2時間還流加
熱した。−70℃に冷却し、1時間CO2の通気を行った。
再び温度を20℃まで上昇させ、水中に反応物を投入し、
pH=1に(濃HClよって)酸性化し、エチルエーテルで
抽出した。有機層を分取し、水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥して、溶媒を蒸発した。残渣をイソプロピル
エーテル200ml中で還流しながら砕いた。再冷却後、沈
澱物を濾過した。融点245−246℃の3−(1−アダマン
チル)−4−第3級ブチルジメチルシリルオキシ安息香
酸8.20g(65%)を得た。
ズアミド]安息香酸メチルの製造 (a)3−(1−アダマンチル)−4−第3級ブチルジ
メチルシリルオキシ安息香酸 丸底フラスコ中にマグネシウム1.18g(48.8ミリモ
ル)およびTHF20mlを入れた。2−(1−アダマンチ
ル)−4−ブロモフェノールの第3級ブチルジメチルシ
リルエーテル13.7g(32.5ミリモル)を滴下し(ヨーロ
ッパ特許出願第86/400785.1号に記述)、2時間還流加
熱した。−70℃に冷却し、1時間CO2の通気を行った。
再び温度を20℃まで上昇させ、水中に反応物を投入し、
pH=1に(濃HClよって)酸性化し、エチルエーテルで
抽出した。有機層を分取し、水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥して、溶媒を蒸発した。残渣をイソプロピル
エーテル200ml中で還流しながら砕いた。再冷却後、沈
澱物を濾過した。融点245−246℃の3−(1−アダマン
チル)−4−第3級ブチルジメチルシリルオキシ安息香
酸8.20g(65%)を得た。
(b)塩化3−(1−アダマンチル)−4−第3級ブチ
ルジメチルシリルオキシ安息香酸 3(a)によって得られた酸6.45g(16.7ミリモル)
をCH2Cl2・100ml中に懸濁した。ジシクロヘキシルアミ
ン3.3ml(16.7ミリモル)を加えた後、1時間20℃で攪
拌した。そこで塩化チオニル1.35ml(18.4ミリモル)を
加えた。2時間室温で攪拌し、乾固するまで濃縮し、エ
ーテル300mlにとかし、できた塩を濾過した後、エーテ
ル層を蒸発させた。塩化3−(1−アダマンチル)−4
−第3級ブチルジメチルシリルオキシ安息香酸を、合成
の続きにそのまま使用できる固体の形で6.9g(100%)
を得た。
ルジメチルシリルオキシ安息香酸 3(a)によって得られた酸6.45g(16.7ミリモル)
をCH2Cl2・100ml中に懸濁した。ジシクロヘキシルアミ
ン3.3ml(16.7ミリモル)を加えた後、1時間20℃で攪
拌した。そこで塩化チオニル1.35ml(18.4ミリモル)を
加えた。2時間室温で攪拌し、乾固するまで濃縮し、エ
ーテル300mlにとかし、できた塩を濾過した後、エーテ
ル層を蒸発させた。塩化3−(1−アダマンチル)−4
−第3級ブチルジメチルシリルオキシ安息香酸を、合成
の続きにそのまま使用できる固体の形で6.9g(100%)
を得た。
(c)4−[3−(1−アダマンチル)−4−第3級ブ
チル−ジメチルシリルオキシベンズアミド]安息香酸メ
チル 丸底フラスコ中に、p−アミノ安息香酸メチル2.10g
(13.9ミリモル)、トリエチルアミン2.10ml(15.3ミリ
モル)およびTHF50mlを入れた。塩化3−(1−アダマ
ンチル)−4−メトキシベンゾイル6.20g(15.3ミリモ
ル)を滴下した後、室温で4時間攪拌した。
チル−ジメチルシリルオキシベンズアミド]安息香酸メ
チル 丸底フラスコ中に、p−アミノ安息香酸メチル2.10g
(13.9ミリモル)、トリエチルアミン2.10ml(15.3ミリ
モル)およびTHF50mlを入れた。塩化3−(1−アダマ
ンチル)−4−メトキシベンゾイル6.20g(15.3ミリモ
ル)を滴下した後、室温で4時間攪拌した。
水中に反応混合物を投入した後、塩化メチレンで抽出
した。乾燥(MgSO4)し、溶媒を蒸発させた。得られた
固体をジイソプロピルエーテルおよび酢酸エチルの混合
物中で再結晶して、183−184℃で溶融する、目的とする
エステル6.5g(91%)を得た。
した。乾燥(MgSO4)し、溶媒を蒸発させた。得られた
固体をジイソプロピルエーテルおよび酢酸エチルの混合
物中で再結晶して、183−184℃で溶融する、目的とする
エステル6.5g(91%)を得た。
(d)4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヒドロキ
シベンズアミド]安息香酸メチル 丸底フラスコ中に、3(c)によって得られたエステ
ル6.40g(12.3ミリモル)およびTHF75mlを入れた。フッ
化テトラブチルアンモニウム(THF中で1モル)13.5ml
(13.5ミリモル)を滴下で加えた。室温で2時間攪拌
し、次いで水中に反応混合物を投入し、塩化メチレンで
抽出し、有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥し、
その後溶媒を蒸発させた。
シベンズアミド]安息香酸メチル 丸底フラスコ中に、3(c)によって得られたエステ
ル6.40g(12.3ミリモル)およびTHF75mlを入れた。フッ
化テトラブチルアンモニウム(THF中で1モル)13.5ml
(13.5ミリモル)を滴下で加えた。室温で2時間攪拌
し、次いで水中に反応混合物を投入し、塩化メチレンで
抽出し、有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥し、
その後溶媒を蒸発させた。
酢酸エチル200ml(還流)中で得られた固体を粉砕
し、冷却後、濾過した。305−306℃で溶融する4−[3
−(1−アダマンチル)−4−ヒドロキシベンズアミ
ド]安息香酸メチル4.20g(84%)を得た。
し、冷却後、濾過した。305−306℃で溶融する4−[3
−(1−アダマンチル)−4−ヒドロキシベンズアミ
ド]安息香酸メチル4.20g(84%)を得た。
[実施例4] 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヒドロキシベン
ズアミド]安息香酸の製造 2N・メタノール性ソーダ(100ml中に3(d)で得ら
れたエステル3.3g(8.1ミリモル)を含有する懸濁液を1
2時間室温で攪拌した。乾固するまで濃縮し、水でとか
し、その後pH:0に、濃塩酸を用いて酸性化した。固体を
濾過し、水で洗浄し、その後五酸化リン(P2O5)の存在
下、真空中で乾燥した。次に酢酸メチル200ml中で還流
しながら粉砕した。混合物を室温に冷却し、次いで沈澱
物を濾過した。348−350℃で溶融する4−[3−(1−
アダマンチル)−4−ヒドロキシベンズアミド]安息香
酸2.8g(88%)を得た。
ズアミド]安息香酸の製造 2N・メタノール性ソーダ(100ml中に3(d)で得ら
れたエステル3.3g(8.1ミリモル)を含有する懸濁液を1
2時間室温で攪拌した。乾固するまで濃縮し、水でとか
し、その後pH:0に、濃塩酸を用いて酸性化した。固体を
濾過し、水で洗浄し、その後五酸化リン(P2O5)の存在
下、真空中で乾燥した。次に酢酸メチル200ml中で還流
しながら粉砕した。混合物を室温に冷却し、次いで沈澱
物を濾過した。348−350℃で溶融する4−[3−(1−
アダマンチル)−4−ヒドロキシベンズアミド]安息香
酸2.8g(88%)を得た。
[実施例5] 4−[3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−メトキ
シベンズアミド]安息香酸エチルの製造 (a)4−ブロモ−2−(1−メチルシクロヘキシル)
フェノール メチレンシクロヘキサン(0.96g、10ミリモル)、p
−ブロモフェノール(1.73g、10ミリモル)および酸性
樹脂(ダウエックス(Dowex)50×12)(150mg)の混合
物を16時間80℃で加熱した。残渣を二酸化ケイ素のカラ
ム(溶媒CH2Cl2/ヘキサン=50/50)によってクロマトグ
ラフィーすることで精製した。溶媒蒸発によって帯黄色
油状物の形で4−ブロモ−2−(1−メチルシクロヘキ
シル)フェノール0.50g(19%)を得た。
シベンズアミド]安息香酸エチルの製造 (a)4−ブロモ−2−(1−メチルシクロヘキシル)
フェノール メチレンシクロヘキサン(0.96g、10ミリモル)、p
−ブロモフェノール(1.73g、10ミリモル)および酸性
樹脂(ダウエックス(Dowex)50×12)(150mg)の混合
物を16時間80℃で加熱した。残渣を二酸化ケイ素のカラ
ム(溶媒CH2Cl2/ヘキサン=50/50)によってクロマトグ
ラフィーすることで精製した。溶媒蒸発によって帯黄色
油状物の形で4−ブロモ−2−(1−メチルシクロヘキ
シル)フェノール0.50g(19%)を得た。
(b)4−ブロモ−2−(1−メチルシクロヘキシル)
アニソール 4−ブロモ−2−(1−メチルシクロヘキシル)フェ
ノール(9.26g、34.4ミリモル)をTHF50ml中に溶解し
た。0℃に冷却し、少量の水素化ナトリウムを加えた
(油中80%、1.14g、37.8ミリモル)。室温で30分間攪
拌し、よう化メチル5.37g(37.8ミリモル)を滴下し
た。16時間攪拌を続け、水(300ml)を加えた後、エー
テル(3×300ml)で抽出した。有機層を重炭酸ナトリ
ウムの飽和溶液で洗浄し、次に塩化ナトリウムの飽和溶
液で洗浄した。乾燥(MgSO4)し、濾過し、溶媒を蒸発
させた。残渣を二酸化ケイ素のカラムによってクロマト
グラフィーして精製し、ジクロロメタンおよびヘキサン
(20/80)の混合物で溶出した。そして無色油状物の形
で4−ブロモ−2−(1−メチルシクロヘキシル)アニ
ソール9g(92%)を得た。
アニソール 4−ブロモ−2−(1−メチルシクロヘキシル)フェ
ノール(9.26g、34.4ミリモル)をTHF50ml中に溶解し
た。0℃に冷却し、少量の水素化ナトリウムを加えた
(油中80%、1.14g、37.8ミリモル)。室温で30分間攪
拌し、よう化メチル5.37g(37.8ミリモル)を滴下し
た。16時間攪拌を続け、水(300ml)を加えた後、エー
テル(3×300ml)で抽出した。有機層を重炭酸ナトリ
ウムの飽和溶液で洗浄し、次に塩化ナトリウムの飽和溶
液で洗浄した。乾燥(MgSO4)し、濾過し、溶媒を蒸発
させた。残渣を二酸化ケイ素のカラムによってクロマト
グラフィーして精製し、ジクロロメタンおよびヘキサン
(20/80)の混合物で溶出した。そして無色油状物の形
で4−ブロモ−2−(1−メチルシクロヘキシル)アニ
ソール9g(92%)を得た。
(c)3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−メトキ
シ安息香酸 5(b)で得られた化合物を無水THF50ml中に溶解し
た。得られた溶液をマグネシウム(850mg、35ミリモ
ル)および結晶よう素に滴下した。溶液を最初5ミリリ
ットル加えた後還流加熱した。添加を終了後15分間還流
を継続した。そして40℃に冷却し、1時間CO2通気を行
い、次いで6N塩酸中に混合物を加え、エーテル(3×30
0ml)で抽出した。有機層を中性になるまで水で洗浄
し、乾燥(MgSO4)した後、濃縮した。得られた残渣を
ヘキサン中で粉砕し、濾過した後、乾燥した。そして、
199℃で溶融する、3−(1−メチルシクロヘキシル)
−4−メトキシ安息香酸6.50g(82%)を得た。
シ安息香酸 5(b)で得られた化合物を無水THF50ml中に溶解し
た。得られた溶液をマグネシウム(850mg、35ミリモ
ル)および結晶よう素に滴下した。溶液を最初5ミリリ
ットル加えた後還流加熱した。添加を終了後15分間還流
を継続した。そして40℃に冷却し、1時間CO2通気を行
い、次いで6N塩酸中に混合物を加え、エーテル(3×30
0ml)で抽出した。有機層を中性になるまで水で洗浄
し、乾燥(MgSO4)した後、濃縮した。得られた残渣を
ヘキサン中で粉砕し、濾過した後、乾燥した。そして、
199℃で溶融する、3−(1−メチルシクロヘキシル)
−4−メトキシ安息香酸6.50g(82%)を得た。
(d)塩化3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−メ
トキシベンゾイル。
トキシベンゾイル。
丸底フラスコ中に、3−(1−メチルシクロヘキシ
ル)−4−メトキシ安息香酸4.96g(20ミリモル)、ジ
クロロメタン75mlを入れた後、ジシクロヘキシルアミン
4ml(20ミリモル)を加えた。1時間攪拌した。そして
得られた溶液に塩化チオニル(SOCl2)1.45ml(20ミリ
モル)を加えた後、室温で2時間攪拌した。乾固するま
で濃縮し、エーテル20mlでとかし、塩化ジシクロヘキシ
ルアンモニウムクロリドを濾過し、次いで溶媒を濃縮し
た。そして、合成の続きにそのまま使用できる塩化3−
(1−メチルシクロヘキシル)−4−メトキシベンゾイ
ルの組成物5.30g(100%)を得た。
ル)−4−メトキシ安息香酸4.96g(20ミリモル)、ジ
クロロメタン75mlを入れた後、ジシクロヘキシルアミン
4ml(20ミリモル)を加えた。1時間攪拌した。そして
得られた溶液に塩化チオニル(SOCl2)1.45ml(20ミリ
モル)を加えた後、室温で2時間攪拌した。乾固するま
で濃縮し、エーテル20mlでとかし、塩化ジシクロヘキシ
ルアンモニウムクロリドを濾過し、次いで溶媒を濃縮し
た。そして、合成の続きにそのまま使用できる塩化3−
(1−メチルシクロヘキシル)−4−メトキシベンゾイ
ルの組成物5.30g(100%)を得た。
(e)4−[3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−
メトキシベンズアミド]安息香酸エチル 丸底フラスコ中に、p−アミノ安息香酸エチル(3.3g
(20ミリモル)、トリエチルアミン3.1ml(20ミリモ
ル)およびTHF75mlを入れた。5(d)で得られた酸塩
化物5.3g(20ミリモル)をTHF50ml中に溶解して滴下
し、室温で2時間攪拌した。水中に反応混合物を加え、
塩化メチレンで抽出し、有機層を分取し、乾燥(MgS
O4)し、溶媒を蒸発させた。油の形で4−[3−(1−
メチルシクロヘキシル)−4−メトキシベンズアミド]
安息香酸エチル6.30g(80%)を得た。
メトキシベンズアミド]安息香酸エチル 丸底フラスコ中に、p−アミノ安息香酸エチル(3.3g
(20ミリモル)、トリエチルアミン3.1ml(20ミリモ
ル)およびTHF75mlを入れた。5(d)で得られた酸塩
化物5.3g(20ミリモル)をTHF50ml中に溶解して滴下
し、室温で2時間攪拌した。水中に反応混合物を加え、
塩化メチレンで抽出し、有機層を分取し、乾燥(MgS
O4)し、溶媒を蒸発させた。油の形で4−[3−(1−
メチルシクロヘキシル)−4−メトキシベンズアミド]
安息香酸エチル6.30g(80%)を得た。
[実施例6] 4−[3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−メトキ
シベンズアミド]安息香酸の製造 丸底フラスコ中に、(5)eで得られたエステル5.20
g(13.1ミリモル)および2Nメタノール性ソーダ150mlを
入れた。室温で24時間攪拌し、乾固するまで濃縮し、水
でもう一度とかし、濃塩酸を用いてpH0に酸性化し、エ
ーテルで抽出し、乾燥(MgSO4)した後、濃縮した。残
渣をイソプロピルエーテルおよび酢酸エチル(8/2)の
混合物中で再結晶した。230−231℃で溶融する4−[3
−(1−メチルシクロヘキシル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸3.9g(82%)を得た。
シベンズアミド]安息香酸の製造 丸底フラスコ中に、(5)eで得られたエステル5.20
g(13.1ミリモル)および2Nメタノール性ソーダ150mlを
入れた。室温で24時間攪拌し、乾固するまで濃縮し、水
でもう一度とかし、濃塩酸を用いてpH0に酸性化し、エ
ーテルで抽出し、乾燥(MgSO4)した後、濃縮した。残
渣をイソプロピルエーテルおよび酢酸エチル(8/2)の
混合物中で再結晶した。230−231℃で溶融する4−[3
−(1−メチルシクロヘキシル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸3.9g(82%)を得た。
[実施例7] 4−[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシベ
ンズアミド]安息香酸メチルの製造 3(d)で得られたエステル2.00g(5ミリモル)を
ジメチルホルムアミド(DMF)70ml中に溶解し、DMF中に
水素化ナトリウム(油中80%、150mg、5ミリモル)を
含有する懸濁液に滴下した。気体の発生が終了するまで
室温で攪拌し、次いで1−ヨードデカン1.1ml(5ミリ
モル)を加えた後、室温で4時間攪拌した。水中に反応
混合物を加え、エーテルで抽出し、有機層を分取し、水
洗し、乾燥(MgSO4)した後、溶媒を蒸発させた。残渣
を二酸化ケイ素のカラム(溶媒:CH2Cl2)によってクロ
マトグラフィーに付して精製した、そして、106−107℃
で溶融する4−[3−(1−アダマンチル)−4−デシ
ルオキシベンズアミド]安息香酸メチルを得た。
ンズアミド]安息香酸メチルの製造 3(d)で得られたエステル2.00g(5ミリモル)を
ジメチルホルムアミド(DMF)70ml中に溶解し、DMF中に
水素化ナトリウム(油中80%、150mg、5ミリモル)を
含有する懸濁液に滴下した。気体の発生が終了するまで
室温で攪拌し、次いで1−ヨードデカン1.1ml(5ミリ
モル)を加えた後、室温で4時間攪拌した。水中に反応
混合物を加え、エーテルで抽出し、有機層を分取し、水
洗し、乾燥(MgSO4)した後、溶媒を蒸発させた。残渣
を二酸化ケイ素のカラム(溶媒:CH2Cl2)によってクロ
マトグラフィーに付して精製した、そして、106−107℃
で溶融する4−[3−(1−アダマンチル)−4−デシ
ルオキシベンズアミド]安息香酸メチルを得た。
[実施例8] 4−[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシベ
ンズアミド]安息香酸の製造 実施例4と同様の方法によって、7で得られたエステ
ル2.00g(3.67ミリモル)を2Nメタノール性ソーダ100ml
によって48時間処理して、247−248℃で溶融する4−
[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシベンズ
アミド]安息香酸1.8g(95%)を得た。
ンズアミド]安息香酸の製造 実施例4と同様の方法によって、7で得られたエステ
ル2.00g(3.67ミリモル)を2Nメタノール性ソーダ100ml
によって48時間処理して、247−248℃で溶融する4−
[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシベンズ
アミド]安息香酸1.8g(95%)を得た。
[実施例9] 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヘキシルベンズ
アミド]安息香酸メチルの製造 実施例7と同様の方法によって、3(d)で得られた
エステル2.50g(6.2ミリモル)から水素化ナトリウム18
7mg(6.2ミリモル)(油中80%)および0.9ml(1−ヨ
ードヘキサン6.2ミリモル)によって処理し、154−155
℃で溶融する4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヘ
キシルオキシベンズアミド]安息香酸メチル2.9g(96
%)を得た。
アミド]安息香酸メチルの製造 実施例7と同様の方法によって、3(d)で得られた
エステル2.50g(6.2ミリモル)から水素化ナトリウム18
7mg(6.2ミリモル)(油中80%)および0.9ml(1−ヨ
ードヘキサン6.2ミリモル)によって処理し、154−155
℃で溶融する4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヘ
キシルオキシベンズアミド]安息香酸メチル2.9g(96
%)を得た。
[実施例10] 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヘキシルオキシ
ベンズアミド]安息香酸の製造 実施例8と同様の方法によって、9で得られたエステ
ル2.27g(4.6ミリモル)から、256−257℃で溶融する4
−[3−(1−アダマンチル)−4−ヘキシルオキシベ
ンズアミド]安息香酸2.10g(96%)を得た。
ベンズアミド]安息香酸の製造 実施例8と同様の方法によって、9で得られたエステ
ル2.27g(4.6ミリモル)から、256−257℃で溶融する4
−[3−(1−アダマンチル)−4−ヘキシルオキシベ
ンズアミド]安息香酸2.10g(96%)を得た。
[実施例11] 4−[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシベ
ンズアミド]安息香酸メチルの製造 (a)4−ブロモ−2−(1,1−ジメチルデシル)フェ
ノール p−ブロモフェノール(25.85g、149ミリモル)およ
び2−メチル−ウンデカ−1−エン(25.15g、149ミリ
モル)の混合物を酸性樹脂(ダウエックス(Dowex50×1
2.3g)の存在下で48時間、110℃で攪拌した。得られた
混合物を二酸化ケイ素のカラム(溶媒:ジクロロメタ
ン、ヘキサン 50/50)によってクロマトグラフィーに
付した。そして、黄色透明な油の形で4−ブロモ−2−
(1,1−ジメチルデシル)フェノール25.04g(49%)を
得た。
ンズアミド]安息香酸メチルの製造 (a)4−ブロモ−2−(1,1−ジメチルデシル)フェ
ノール p−ブロモフェノール(25.85g、149ミリモル)およ
び2−メチル−ウンデカ−1−エン(25.15g、149ミリ
モル)の混合物を酸性樹脂(ダウエックス(Dowex50×1
2.3g)の存在下で48時間、110℃で攪拌した。得られた
混合物を二酸化ケイ素のカラム(溶媒:ジクロロメタ
ン、ヘキサン 50/50)によってクロマトグラフィーに
付した。そして、黄色透明な油の形で4−ブロモ−2−
(1,1−ジメチルデシル)フェノール25.04g(49%)を
得た。
(b)4−ブロモ−2−(1,1−ジメチルデシル)アニ
ソール THF(200ml)中に11(e)で得られたフェノール(2
4.88g、72.9ミリモル)を含んだ溶液に、水素化ナトリ
ウム2.19g(72.9ミリモル)を少量ずつ加えた(油中80
%)。添加が終了したら、室温で1時間攪拌し、次いで
よう化メチル(10.35g、72.9ミリモル)を滴下した。反
応混合物を室温で2時間攪拌し、溶媒を蒸発し、そして
水(300ml)を加え、エーテル(3×200ml)で抽出し
た。有機層を塩化ナトリウムの飽和溶液を用いて洗浄
し、乾燥(MgSO4)した後、溶媒を蒸発させた。そして
黄色油状物の形で4−ブロモ−2−(1,1−ジメチルデ
シル)アニソールを得た。
ソール THF(200ml)中に11(e)で得られたフェノール(2
4.88g、72.9ミリモル)を含んだ溶液に、水素化ナトリ
ウム2.19g(72.9ミリモル)を少量ずつ加えた(油中80
%)。添加が終了したら、室温で1時間攪拌し、次いで
よう化メチル(10.35g、72.9ミリモル)を滴下した。反
応混合物を室温で2時間攪拌し、溶媒を蒸発し、そして
水(300ml)を加え、エーテル(3×200ml)で抽出し
た。有機層を塩化ナトリウムの飽和溶液を用いて洗浄
し、乾燥(MgSO4)した後、溶媒を蒸発させた。そして
黄色油状物の形で4−ブロモ−2−(1,1−ジメチルデ
シル)アニソールを得た。
(c)3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシ安
息香酸 4−ブロモ−2−(1,1−ジメチルデシル)アニソー
ル(15.72g、44.2ミリモル)をTHF(50ml)中に溶解し
た。この溶液をマグネシウム(1.18g、48.7ミリモル)
およびよう素の結晶に還流しながら、滴下した。添加を
完了した後、30分間還流を続け、次いで−40℃に冷却し
た。THF300mlを加え、その後2時間CO2の気体を通気し
た。反応混合物を塩酸(4N、300ml)溶液中に注ぎ、生
成物をエーテル(3×300ml)によって抽出した。有機
層を中性になるまで水に洗浄し、乾燥(MgSO4)し、次
いで溶媒を蒸発させた。残渣をイソオクタン中で粉砕
し、112℃で溶融する3−(1,1−ジメチルデシル)−4
−メトキシ安息香酸7.25g(51%)を得た。
息香酸 4−ブロモ−2−(1,1−ジメチルデシル)アニソー
ル(15.72g、44.2ミリモル)をTHF(50ml)中に溶解し
た。この溶液をマグネシウム(1.18g、48.7ミリモル)
およびよう素の結晶に還流しながら、滴下した。添加を
完了した後、30分間還流を続け、次いで−40℃に冷却し
た。THF300mlを加え、その後2時間CO2の気体を通気し
た。反応混合物を塩酸(4N、300ml)溶液中に注ぎ、生
成物をエーテル(3×300ml)によって抽出した。有機
層を中性になるまで水に洗浄し、乾燥(MgSO4)し、次
いで溶媒を蒸発させた。残渣をイソオクタン中で粉砕
し、112℃で溶融する3−(1,1−ジメチルデシル)−4
−メトキシ安息香酸7.25g(51%)を得た。
(d)塩化3−(1,1−ジメトキシデシル)−4−メト
キシベンゾイル。
キシベンゾイル。
11(c)で得られた酸(7.18g、22.4ミリモル)をジ
クロロメタン200ml中に懸濁させた。ジクロロヘキシル
アミド(4.06g、22.4ミリモル)を滴下で加えて、次い
で混合物を0℃に冷却した。塩化チオニール(2.66g、2
2.4ミリモル)を加え、室温で16時間攪拌した。形成し
た沈澱物を濾過し、溶媒を蒸発させた。そして、合成の
続きにそのまま利用し得る白色固体の形で塩化3−(1,
1−ジメチルデシル)−4−メトキシベンゾールを定量
的に得た。
クロロメタン200ml中に懸濁させた。ジクロロヘキシル
アミド(4.06g、22.4ミリモル)を滴下で加えて、次い
で混合物を0℃に冷却した。塩化チオニール(2.66g、2
2.4ミリモル)を加え、室温で16時間攪拌した。形成し
た沈澱物を濾過し、溶媒を蒸発させた。そして、合成の
続きにそのまま利用し得る白色固体の形で塩化3−(1,
1−ジメチルデシル)−4−メトキシベンゾールを定量
的に得た。
(e)4−[3−(1,1−ジメチル)−4−メトキシベ
ンズアミド]安息香酸メチル 11(d)で得られた酸塩化物の全量をTHF50ml中に溶
解した。得られた溶液をTHF(100ml)中にp−アミノベ
ンゾ安息香酸メチル(3.39g、22.4ミリモル)およびト
リエチルアミン(2.27g、22.4ミリモル)を含有する溶
液に加えた。室温で1時間攪拌した後、沈澱物を濾過
し、溶媒を蒸発させ、生成物をカラムによってクロマト
グラフィー(溶剤:ジクロロメタン)に付すことによっ
て精製した。溶媒を蒸発させ、得られた固体をヘキサン
中で粉砕し、濾過し乾燥した。120℃で溶融する4−
[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸メチル7.72g(76%)を得た。
ンズアミド]安息香酸メチル 11(d)で得られた酸塩化物の全量をTHF50ml中に溶
解した。得られた溶液をTHF(100ml)中にp−アミノベ
ンゾ安息香酸メチル(3.39g、22.4ミリモル)およびト
リエチルアミン(2.27g、22.4ミリモル)を含有する溶
液に加えた。室温で1時間攪拌した後、沈澱物を濾過
し、溶媒を蒸発させ、生成物をカラムによってクロマト
グラフィー(溶剤:ジクロロメタン)に付すことによっ
て精製した。溶媒を蒸発させ、得られた固体をヘキサン
中で粉砕し、濾過し乾燥した。120℃で溶融する4−
[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸メチル7.72g(76%)を得た。
[実施例12] 4−3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシベン
ズアミド安息香酸の製造 11(e)で得られたエステル(2.5g、5.51ミリモル)
をメタノール110mlと混合した。5Nソーダ11mlを加え、
3日間反応混合物を攪拌した。メタノールを蒸発させ、
4N塩酸(200ml)を加え、生成物をジクロロメタン(3
×300ml)を用いて抽出した。有機層を重炭酸ナトリウ
ムの飽和溶液を、次いで塩化ナトリウムを用いて洗浄し
た。乾燥(MgSO4)し、溶媒を蒸発させた。得られた固
体をヘキサン中で粉砕し、濾過して乾燥した。そして、
177℃で溶融する4−3−(1,1−ジメチルデシル)−4
−メトキシベンズアミド]安息香酸1.57g(65%)を得
た。
ズアミド安息香酸の製造 11(e)で得られたエステル(2.5g、5.51ミリモル)
をメタノール110mlと混合した。5Nソーダ11mlを加え、
3日間反応混合物を攪拌した。メタノールを蒸発させ、
4N塩酸(200ml)を加え、生成物をジクロロメタン(3
×300ml)を用いて抽出した。有機層を重炭酸ナトリウ
ムの飽和溶液を、次いで塩化ナトリウムを用いて洗浄し
た。乾燥(MgSO4)し、溶媒を蒸発させた。得られた固
体をヘキサン中で粉砕し、濾過して乾燥した。そして、
177℃で溶融する4−3−(1,1−ジメチルデシル)−4
−メトキシベンズアミド]安息香酸1.57g(65%)を得
た。
[実施例13] 4−(3−第三級ブチル−4−メトキシベンズアミド)
安息香酸メチルの製造 フランス特許願第85.13747号に記載の3−(第三級ブ
チル)−4−メトキシ安息香酸10.41g(50ミリモル)か
ら製造した3−(第三級ブチル)−4−メトキシ安息香
酸塩化物粗成物をTHF(60ml)に溶解した。THF中の溶液
の状態での4−アミノ安息香酸メチル(7.14g、47.2ミ
リモル)およびトリエチルアミン(4.78g、47.2ミリモ
ル)の混合物に溶液を加えた。3時間室温で攪拌し、形
成した沈澱物を濾過し、溶媒を蒸発させた。水(300m
l)を加え、エーテル(3×200ml)で生成物を抽出し
た。
安息香酸メチルの製造 フランス特許願第85.13747号に記載の3−(第三級ブ
チル)−4−メトキシ安息香酸10.41g(50ミリモル)か
ら製造した3−(第三級ブチル)−4−メトキシ安息香
酸塩化物粗成物をTHF(60ml)に溶解した。THF中の溶液
の状態での4−アミノ安息香酸メチル(7.14g、47.2ミ
リモル)およびトリエチルアミン(4.78g、47.2ミリモ
ル)の混合物に溶液を加えた。3時間室温で攪拌し、形
成した沈澱物を濾過し、溶媒を蒸発させた。水(300m
l)を加え、エーテル(3×200ml)で生成物を抽出し
た。
有機層を重炭酸ナトリウム飽和溶液で、次いで塩化ナ
トリウムで洗浄した。乾燥(MgSO4)し、濾過した後、
溶媒を蒸発させた。得られた固体を、約5%メタノール
を含有するヘキサン中で再結晶した。そして、4−(3
−第三級ブチル−4−メトキシベンズアミド)安息香酸
メチルの結晶14.02g(87%)を得た。
トリウムで洗浄した。乾燥(MgSO4)し、濾過した後、
溶媒を蒸発させた。得られた固体を、約5%メタノール
を含有するヘキサン中で再結晶した。そして、4−(3
−第三級ブチル−4−メトキシベンズアミド)安息香酸
メチルの結晶14.02g(87%)を得た。
[実施例14] 4−(3−第三級ブチル−4−メトキシベンズアミド)
安息香酸の製造 実施例4と同様の方法によって、実施例13で得られた
エステル5g(14.65ミリモル)から250℃で溶融する4−
(3−第三級ブチル−4−メトキシベンズアミド)安息
香酸4.27g(89%)を得た。
安息香酸の製造 実施例4と同様の方法によって、実施例13で得られた
エステル5g(14.65ミリモル)から250℃で溶融する4−
(3−第三級ブチル−4−メトキシベンズアミド)安息
香酸4.27g(89%)を得た。
[実施例15] N−[4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
ベンズアミド]−ベンゾイル]ピロリジンの製造 N−p−アミノベンゾイルピロリジン1.7g(9ミリモ
ル)およびトリエチルアミン1g(10ミリモル)をジクロ
ロメタン30ml中に溶解した。攪拌しながらジクロロメタ
ン60ml中に溶解した塩化3−(1−アダマンチル)−4
−メトキシベンゾイル2.8ml(9ミリモル)を加えた。1
6時間攪拌し、水を加えた後、ジクロロメタンで抽出し
た。水から除去し、塩化メチレンで抽出し、乾燥(MgSO
4)して溶媒を蒸発させた。残渣(黄色の泡状)を酢酸
エチル中で再結晶して239−242℃で溶融するN−[4−
[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズアミ
ド]ベンゾイル]ピロリジン3.0g(73%)を提供した。
ベンズアミド]−ベンゾイル]ピロリジンの製造 N−p−アミノベンゾイルピロリジン1.7g(9ミリモ
ル)およびトリエチルアミン1g(10ミリモル)をジクロ
ロメタン30ml中に溶解した。攪拌しながらジクロロメタ
ン60ml中に溶解した塩化3−(1−アダマンチル)−4
−メトキシベンゾイル2.8ml(9ミリモル)を加えた。1
6時間攪拌し、水を加えた後、ジクロロメタンで抽出し
た。水から除去し、塩化メチレンで抽出し、乾燥(MgSO
4)して溶媒を蒸発させた。残渣(黄色の泡状)を酢酸
エチル中で再結晶して239−242℃で溶融するN−[4−
[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズアミ
ド]ベンゾイル]ピロリジン3.0g(73%)を提供した。
[実施例16] N−[4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
ベンズアミド]ベンゾイル]ピペリジンの製造 実施例15と同様の方法によって、N−[4−アミノベ
ンゾイル]ピペリジンからN−[4−[3−(1−アダ
マンチル)−4−メトキシベンズアミド]ベンゾイル]
ピペリジン1.0g(63%)を得た。219−222℃で溶融。
ベンズアミド]ベンゾイル]ピペリジンの製造 実施例15と同様の方法によって、N−[4−アミノベ
ンゾイル]ピペリジンからN−[4−[3−(1−アダ
マンチル)−4−メトキシベンズアミド]ベンゾイル]
ピペリジン1.0g(63%)を得た。219−222℃で溶融。
[実施例17] 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸モルホリドの製造 実施例15と同様の方法によって、N−[4−アミノベ
ンゾイル]モルホリン3.0g(15ミリモル)から4−[3
−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズアミド]
安息香酸モルホリド5.6g(81%)を得た。238−241℃で
溶融。
アミド]安息香酸モルホリドの製造 実施例15と同様の方法によって、N−[4−アミノベ
ンゾイル]モルホリン3.0g(15ミリモル)から4−[3
−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズアミド]
安息香酸モルホリド5.6g(81%)を得た。238−241℃で
溶融。
[実施例18] 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸第三級ブチルアミドの製造 N−第三級ブチル−4−アミノベンズアミド1.0g(5
ミリモル)から、4−[3−(1−アダマンチル)−4
−メトキシベンズアミド]安息香酸第三級ブチルアミド
1.5g(63%)を得た。融点270−273℃。
アミド]安息香酸第三級ブチルアミドの製造 N−第三級ブチル−4−アミノベンズアミド1.0g(5
ミリモル)から、4−[3−(1−アダマンチル)−4
−メトキシベンズアミド]安息香酸第三級ブチルアミド
1.5g(63%)を得た。融点270−273℃。
[実施例19] 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸エチルアミドの製造 a)4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベ
ンズアミド]安息香酸塩化物 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベン
ズアミド]安息香酸2.0g(5ミリモル)をTHF60ml中に
溶解した。シクロヘキシルアミン1.1g(6ミリモル)を
滴下した。白色沈澱物がすぐに形成した。そして、0℃
に冷却して後、塩化チオーニル0.7g(6ミリモル)を滴
下した。3時間室温で攪拌し、形成した固体を濾過し濾
過物を濃縮した。得られた残渣は合成の続きにそのまま
使用できる。
アミド]安息香酸エチルアミドの製造 a)4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベ
ンズアミド]安息香酸塩化物 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベン
ズアミド]安息香酸2.0g(5ミリモル)をTHF60ml中に
溶解した。シクロヘキシルアミン1.1g(6ミリモル)を
滴下した。白色沈澱物がすぐに形成した。そして、0℃
に冷却して後、塩化チオーニル0.7g(6ミリモル)を滴
下した。3時間室温で攪拌し、形成した固体を濾過し濾
過物を濃縮した。得られた残渣は合成の続きにそのまま
使用できる。
b)4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベ
ンズアミド]安息香酸エチルアミド THF80ml中に得られた酸塩化物粗製物を溶解させ、無
水THF(20ml)中にエチルアミン(0.5g、11ミリモル)
を含む溶液を滴下した。室温で16時間攪拌し、濾過した
後濾液を濃縮した。得られた赤味をおびた残渣をエタノ
ール中で再結晶し、4−[3−(1−アダマンチル)−
4−メトキシベンズアミド]安息香酸エチルアミド0.5g
(24%)を得た。274−277℃で溶融。
ンズアミド]安息香酸エチルアミド THF80ml中に得られた酸塩化物粗製物を溶解させ、無
水THF(20ml)中にエチルアミン(0.5g、11ミリモル)
を含む溶液を滴下した。室温で16時間攪拌し、濾過した
後濾液を濃縮した。得られた赤味をおびた残渣をエタノ
ール中で再結晶し、4−[3−(1−アダマンチル)−
4−メトキシベンズアミド]安息香酸エチルアミド0.5g
(24%)を得た。274−277℃で溶融。
[実施例20] 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド安息香酸アニリド 実施例19に記載したのと同様の操作方法に従ってこの
化合物を得た。265−268℃で溶融する、目的化合物0.7
(30%)を得た。
アミド安息香酸アニリド 実施例19に記載したのと同様の操作方法に従ってこの
化合物を得た。265−268℃で溶融する、目的化合物0.7
(30%)を得た。
[実施例21] 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸ベンシルアミドの製造 実施例19に記載したのと同様の操作方法によってこの
化合物を得た。279−280℃で溶融する、目的化合物0.2g
(9%)を得た。
アミド]安息香酸ベンシルアミドの製造 実施例19に記載したのと同様の操作方法によってこの
化合物を得た。279−280℃で溶融する、目的化合物0.2g
(9%)を得た。
[実施例22] 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸−2−ヒドロキシエチルの製造 実施例19(a)によって、4−[3−(1−アダマン
チル)−4−メトキシベンズアミド]安息香酸から得ら
れた酸塩化物粗成物を、無水THF(20ml)中にエチレン
グリコール(1.4g、22ミリモル)およびピリジン(0.8
g、10ミリモル)を含有する溶液中に溶解した。16時間
室温で攪拌した。反応混合物を濾過し、濾過物を乾固す
るまで濃縮して、ジクロロメタンおよび酢酸エチル(1/
1)の混合物のような溶剤を使用してカラムを通してク
ロマトグラフィーに付して精製することにより帯黄色残
渣を得た。溶媒を蒸発させた後、201−203℃で溶融す
る、目的エステル1.2g(55%)を得た。
アミド]安息香酸−2−ヒドロキシエチルの製造 実施例19(a)によって、4−[3−(1−アダマン
チル)−4−メトキシベンズアミド]安息香酸から得ら
れた酸塩化物粗成物を、無水THF(20ml)中にエチレン
グリコール(1.4g、22ミリモル)およびピリジン(0.8
g、10ミリモル)を含有する溶液中に溶解した。16時間
室温で攪拌した。反応混合物を濾過し、濾過物を乾固す
るまで濃縮して、ジクロロメタンおよび酢酸エチル(1/
1)の混合物のような溶剤を使用してカラムを通してク
ロマトグラフィーに付して精製することにより帯黄色残
渣を得た。溶媒を蒸発させた後、201−203℃で溶融す
る、目的エステル1.2g(55%)を得た。
[実施例23] N−(4−アセチルフェニル)−3−(1−アダマンチ
ル)−4−メトキシベンズアミドの製造 ジクロロメタン(60ml)中に実施例1(b)で得られ
た3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ安息香酸塩
化物5.7gを含有する溶液を、4−アミノアセトフェノン
(2.6g19ミリモル)およびトリエチルアミン(2.1g、21
ミリモル)をジクロロメタン中に含有する混合物に滴下
した。混合物を16時間攪拌した後、水に注ぎジクロロメ
タンを用いて抽出した。有機層を採取し、水洗し、硫酸
マグネシウム上で乾燥してから蒸発させた。得られた残
渣を酢酸エチルで再結晶し、融点200−201℃の白色結晶
の形でN−(4−アセチルフェニル)−3−(1−アダ
マンチル)−4−メトキシベンズアミド3.0g(395)を
得た。
ル)−4−メトキシベンズアミドの製造 ジクロロメタン(60ml)中に実施例1(b)で得られ
た3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ安息香酸塩
化物5.7gを含有する溶液を、4−アミノアセトフェノン
(2.6g19ミリモル)およびトリエチルアミン(2.1g、21
ミリモル)をジクロロメタン中に含有する混合物に滴下
した。混合物を16時間攪拌した後、水に注ぎジクロロメ
タンを用いて抽出した。有機層を採取し、水洗し、硫酸
マグネシウム上で乾燥してから蒸発させた。得られた残
渣を酢酸エチルで再結晶し、融点200−201℃の白色結晶
の形でN−(4−アセチルフェニル)−3−(1−アダ
マンチル)−4−メトキシベンズアミド3.0g(395)を
得た。
[実施例24] N−[4−(1−ヒドロキシエチル)フェニル]−3−
(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズアミドの製
造 実施例23で得られたアミド(0.9g、2ミリモル)をメ
タノール(25ml)中に溶解し、水素化ほう素ナトリウム
0.12g(3ミリモル)で処理した。混合物を室温で2時
間攪拌し、水に注いだ後、エーテルで抽出した。抽出物
を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶媒を蒸発した。得ら
れた残渣を酢酸エチルで再結晶して、融点207−209℃の
N−[4−(1−ヒドロキシエチル)フェニル]−3−
(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズアミド(0.
5g、66%)を得た。
(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズアミドの製
造 実施例23で得られたアミド(0.9g、2ミリモル)をメ
タノール(25ml)中に溶解し、水素化ほう素ナトリウム
0.12g(3ミリモル)で処理した。混合物を室温で2時
間攪拌し、水に注いだ後、エーテルで抽出した。抽出物
を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶媒を蒸発した。得ら
れた残渣を酢酸エチルで再結晶して、融点207−209℃の
N−[4−(1−ヒドロキシエチル)フェニル]−3−
(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズアミド(0.
5g、66%)を得た。
[実施例25] 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸−2−ヒドロキシエチルアミドの製造 実施例19と同様の方法で4−[3−(1−アダマンチ
ル)−4−メトキシベンズアミド]安息香酸−2−ヒド
ロキシエチルアミド(1.1g、50%)を得た。融点265−2
68℃(エタノール・エーテル混合物中で結晶化)。
アミド]安息香酸−2−ヒドロキシエチルアミドの製造 実施例19と同様の方法で4−[3−(1−アダマンチ
ル)−4−メトキシベンズアミド]安息香酸−2−ヒド
ロキシエチルアミド(1.1g、50%)を得た。融点265−2
68℃(エタノール・エーテル混合物中で結晶化)。
[実施例26] 2−ヒドロキシ−4−[3−(1−アダマンチル)−4
−メトキシベンズアミド]安息香酸メチルの製造 a)4−アミノ−2−第三級ブチルジメチルシリルオキ
シ安息香酸メチル。
−メトキシベンズアミド]安息香酸メチルの製造 a)4−アミノ−2−第三級ブチルジメチルシリルオキ
シ安息香酸メチル。
4−アミノ−2−ヒドロキシ安息香酸メチル2.0g(12
ミリモル)を、トリエチルアミン2.8g(28ミリモル)お
よび4−N,N−ジメチルアミノピリジン70mg(0.6ミリモ
ル)を含有するジメチルホルムアミド(DMF)30ml中に
溶解した。DMF40ml中に第三級ブチルジメチルシリルク
ロリド(4.2g、28ミリモル)を含有する溶液を滴下し
た。2時間室温で攪拌した後、8時間100℃に加熱し
た。真空下でDMFを濃縮し、水を注ぎエーテルで抽出し
た。採取した有機層を乾燥して溶媒を蒸発した。合成の
続きにそのまま使用できる4−アミノ−2−第三級ブチ
ルジメチルシリルオキシ安息香酸メチル粗成物を得た。
ミリモル)を、トリエチルアミン2.8g(28ミリモル)お
よび4−N,N−ジメチルアミノピリジン70mg(0.6ミリモ
ル)を含有するジメチルホルムアミド(DMF)30ml中に
溶解した。DMF40ml中に第三級ブチルジメチルシリルク
ロリド(4.2g、28ミリモル)を含有する溶液を滴下し
た。2時間室温で攪拌した後、8時間100℃に加熱し
た。真空下でDMFを濃縮し、水を注ぎエーテルで抽出し
た。採取した有機層を乾燥して溶媒を蒸発した。合成の
続きにそのまま使用できる4−アミノ−2−第三級ブチ
ルジメチルシリルオキシ安息香酸メチル粗成物を得た。
b)2−第三級ブチルジメチルシリルオキシ−4−[3
−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズアミド]
安息香酸メチル 4−アミノ−2−第三級ブチルジメチルシリルオキシ
安息香酸メチル組成物(3.0g、10ミリモル)をトリエチ
ルアミン1.1g(10ミリモル)を含有する無水THF20ml中
に溶解した。無水THF80ml中に4−メトキシ−3−(1
−アダマンチル)塩化ベンゾイルを含有する溶液を滴下
し、反応混合物16時間20℃で攪拌した。乾固するまで濃
縮し、ジクロロメタン100mlで繰り返し、水洗し、乾燥
(MgSO4)をした後、乾燥するまで濃縮した。得られた
残渣をエタノール/エチルエーテル混合物中で再結晶し
た。そして、2−第三級ブチルジメチルシリルオキシ−
4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸メチル2.7g(48%)を得た。融点225
−227℃。
−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズアミド]
安息香酸メチル 4−アミノ−2−第三級ブチルジメチルシリルオキシ
安息香酸メチル組成物(3.0g、10ミリモル)をトリエチ
ルアミン1.1g(10ミリモル)を含有する無水THF20ml中
に溶解した。無水THF80ml中に4−メトキシ−3−(1
−アダマンチル)塩化ベンゾイルを含有する溶液を滴下
し、反応混合物16時間20℃で攪拌した。乾固するまで濃
縮し、ジクロロメタン100mlで繰り返し、水洗し、乾燥
(MgSO4)をした後、乾燥するまで濃縮した。得られた
残渣をエタノール/エチルエーテル混合物中で再結晶し
た。そして、2−第三級ブチルジメチルシリルオキシ−
4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸メチル2.7g(48%)を得た。融点225
−227℃。
c)2−ヒドロキシ−4−[3−(1−アダマンチル)
−4−メトキシベンズアミド]安息香酸メチル 上記(b)で得られたエステル2.7g(5ミリモル)を
THF80ml中に溶解した。THF(6ml)中にフッ化テトラブ
チルアンモニウム1Mを含む溶液を加えた。16時間20℃で
攪拌した(白色沈澱物の生成を観察した)。乾固するま
で濃縮し、水を注いだ後、エーテル(3×100ml)で抽
出した。乾燥(MgSO4)し、乾固するまで濃縮した(2.0
g、95%)。少量のエーテルを加えることによって残渣
を結晶化した。そして、207−209℃で溶融する、2−ヒ
ドロキシ−4−[3−(1−アダマンチル)−4−メト
キシベンズアミド]安息香酸メチル(1.6g、76%)を得
た。
−4−メトキシベンズアミド]安息香酸メチル 上記(b)で得られたエステル2.7g(5ミリモル)を
THF80ml中に溶解した。THF(6ml)中にフッ化テトラブ
チルアンモニウム1Mを含む溶液を加えた。16時間20℃で
攪拌した(白色沈澱物の生成を観察した)。乾固するま
で濃縮し、水を注いだ後、エーテル(3×100ml)で抽
出した。乾燥(MgSO4)し、乾固するまで濃縮した(2.0
g、95%)。少量のエーテルを加えることによって残渣
を結晶化した。そして、207−209℃で溶融する、2−ヒ
ドロキシ−4−[3−(1−アダマンチル)−4−メト
キシベンズアミド]安息香酸メチル(1.6g、76%)を得
た。
[製剤実施例] A.経口法 (a)0.2g錠剤 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸メチル 0.001g アミドン 0.114g リン酸ビカルシウム 0.020g シリカ 0.02g ラクトース 0.030g タルク 0.010g ステアリン酸マグネシウム 0.005g (b)5mlアンプル内服用懸濁液 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸 0.001g グリセリン 0.500g 70%ソルビトール 0.500g サッカリンナトリウム 0.010g パラヒドロキシ安息香酸メチル 0.040g アロマ 少量 精製水 適量 全5ml B.局所法 (a)軟膏 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸 0.020g イソプロピルミリステート 81.700g 液体ワセリン油 9.100g デグサ社によって「アエロシル200」の名で販売されて
いるシリカ 9.180g (b)疎水性無水軟膏 4−[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシベ
ンズアミド]安息香酸 0.10g 白色ワセリン 49.95g 「ミグリオール(Miglyol)812」として、ダイナミック
・ノーベル社によって販売されているカプリ酸およびカ
プリル酸のトリグリセリド 49.95g この軟膏はワセリンおよび「ミグリオール812」を70
℃で混合することにより得られた。その後、40℃/50℃
に加熱しながら超音波槽で入念に分散させながら活性化
合物を導入した。攪拌しながら冷却した。
アミド]安息香酸メチル 0.001g アミドン 0.114g リン酸ビカルシウム 0.020g シリカ 0.02g ラクトース 0.030g タルク 0.010g ステアリン酸マグネシウム 0.005g (b)5mlアンプル内服用懸濁液 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸 0.001g グリセリン 0.500g 70%ソルビトール 0.500g サッカリンナトリウム 0.010g パラヒドロキシ安息香酸メチル 0.040g アロマ 少量 精製水 適量 全5ml B.局所法 (a)軟膏 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸 0.020g イソプロピルミリステート 81.700g 液体ワセリン油 9.100g デグサ社によって「アエロシル200」の名で販売されて
いるシリカ 9.180g (b)疎水性無水軟膏 4−[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシベ
ンズアミド]安息香酸 0.10g 白色ワセリン 49.95g 「ミグリオール(Miglyol)812」として、ダイナミック
・ノーベル社によって販売されているカプリ酸およびカ
プリル酸のトリグリセリド 49.95g この軟膏はワセリンおよび「ミグリオール812」を70
℃で混合することにより得られた。その後、40℃/50℃
に加熱しながら超音波槽で入念に分散させながら活性化
合物を導入した。攪拌しながら冷却した。
この実施例中、活性化合物(0.10g)を4−[3−
(1−アダマンチル)−4−ヘキシルオキシベンズアミ
ド]安息香酸0.5gに置き換え得る。
(1−アダマンチル)−4−ヘキシルオキシベンズアミ
ド]安息香酸0.5gに置き換え得る。
(c)ローション 4−[3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−メトキ
シベンズアミド]安息香酸 0.01g 無水エタノール 30.00g ポリエチレングリコール(400) 69.99g このローションは、ポリエチレングリコール(400)
およびエタノールを混合し、次いで活性化合物を導入し
て超音波槽中でその化合物を可溶化させて得られる。
シベンズアミド]安息香酸 0.01g 無水エタノール 30.00g ポリエチレングリコール(400) 69.99g このローションは、ポリエチレングリコール(400)
およびエタノールを混合し、次いで活性化合物を導入し
て超音波槽中でその化合物を可溶化させて得られる。
(d)油中水性陰イオン性乳剤 ラウリル硫酸ナトリウム 0.784g 1,2−プロパンジオール 1.570g 白色ワセリン 19.502g セチルアルコール 19.504g パラヒドロキシ安息香酸メチル 0.076g パラヒドロキシ安息香酸プロピル 0.074g 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸モルフォリド 0.500g 無菌水 適量加えて全100.00g この乳化剤は、以下のAおよびBの混合物を製造する
ことで得られた。
アミド]安息香酸モルフォリド 0.500g 無菌水 適量加えて全100.00g この乳化剤は、以下のAおよびBの混合物を製造する
ことで得られた。
[混合物A] ラウリル硫酸ナトリウム 1,2−プロパンジオール パラヒドロキシ安息香酸メチル 無菌水 パラヒドロキシ安息香酸メチルを溶解し、超音波で攪
拌した後、75℃で混合物にした。
拌した後、75℃で混合物にした。
[混合物B] 白色ワセリン セチルアルコール パラヒドロキシ安息香酸プロピル パラヒドロキシ安息香酸プロピルを溶解し、超音波で
攪拌した後、75℃で混合物にした。混合物Bに混合物A
を注ぎながら乳剤の生成を行った。室温に冷却後活性化
合物を混入し、ホモジナイザーで十分に攪拌した。乳剤
を調整するまでにトリシリンダーを通した。
攪拌した後、75℃で混合物にした。混合物Bに混合物A
を注ぎながら乳剤の生成を行った。室温に冷却後活性化
合物を混入し、ホモジナイザーで十分に攪拌した。乳剤
を調整するまでにトリシリンダーを通した。
C.化粧用組成物 (a)液体非脂肪クリーム 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヘキシルオキシ
ベンズアミド]安息香酸メチル 1.00g エチレングリコールおよびポリオキシエチレングリコー
ルのステアリン酸パルミット 20.00g C10−C18ポリオキシエチレングリコールの飽和グリセリ
ド 3.00g 液体ワセリン油 3.00g 防腐剤 0.05g 水 適量加えて全100.00g このクリームは、エチレングリコールのステアリン酸
パルミット、ポリオキシエチレングリコールC10−C18ポ
リオキシエチレングリコールの飽和グリセリドおよびワ
セリン油の混合物から70℃で得た。次ぎに活性化合物を
導入し、十分に分散した。脂肪層に、攪拌下水および防
腐剤を70℃にしてから加えた。室温に戻るまで攪拌を続
け、乳剤を得た。
ベンズアミド]安息香酸メチル 1.00g エチレングリコールおよびポリオキシエチレングリコー
ルのステアリン酸パルミット 20.00g C10−C18ポリオキシエチレングリコールの飽和グリセリ
ド 3.00g 液体ワセリン油 3.00g 防腐剤 0.05g 水 適量加えて全100.00g このクリームは、エチレングリコールのステアリン酸
パルミット、ポリオキシエチレングリコールC10−C18ポ
リオキシエチレングリコールの飽和グリセリドおよびワ
セリン油の混合物から70℃で得た。次ぎに活性化合物を
導入し、十分に分散した。脂肪層に、攪拌下水および防
腐剤を70℃にしてから加えた。室温に戻るまで攪拌を続
け、乳剤を得た。
この実施例中で、活性化合物を同量の4−[3−(1
−アダマンチル)−4−メトキベンズアミド]安息香酸
モルホリドに置き換え得る。
−アダマンチル)−4−メトキベンズアミド]安息香酸
モルホリドに置き換え得る。
(b)少量の脂肪を含有するクリーム 4−[3−第三級ブチル−4−メトキシベンズアミド]
安息香酸 1.00g パルミチン酸およびステアリン酸のモノ−、およびジグ
リセリド混合物 15.00g モノステアリン酸ソルビタン 4.00g エチレンオキシド20モルのモノステアリン酸ポリエチレ
ンソルビタン 1.20g 液体ワセリン油 10.00g 防腐剤 0.04g 水 適量加えて全100.00g このクリームは、上に記載の方法と同様の方法によっ
て得られた。
安息香酸 1.00g パルミチン酸およびステアリン酸のモノ−、およびジグ
リセリド混合物 15.00g モノステアリン酸ソルビタン 4.00g エチレンオキシド20モルのモノステアリン酸ポリエチレ
ンソルビタン 1.20g 液体ワセリン油 10.00g 防腐剤 0.04g 水 適量加えて全100.00g このクリームは、上に記載の方法と同様の方法によっ
て得られた。
この実施例中、活性化合物は同量の4−[3−(1−
アダマンチル)−4−メトキシベンズアミド]安息香酸
エチルアミドと置き換え得る。
アダマンチル)−4−メトキシベンズアミド]安息香酸
エチルアミドと置き換え得る。
(c)日焼け止め用油 4−[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシベ
ンズアミド]安息香酸メチル 0.50g 2−オクチルドデカノール 42.00g カプリン酸およびカプリル酸のトリグリセリド 40.00g カプリン酸およびカプリル酸のエステルおよびC12−C18
の飽和脂肪族アルコールの混合物 17.50g (d)有毛頭皮用ローション 4−(3−第三級ブチル−4−メトキシベンズアミド)
安息香酸 0.80g 95%エタノール 83.00g 水 適量加えて全100.00g (e)即時混合性2層シャンプー (i)トリートメント層 4−[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシベ
ンズアミド]安息香酸メチル 0.05g 2−オクチルドデカノール 50.00g カプリン酸およびカプリル酸のトリグリセリド 49.50g (ii)洗浄層 ラウリル硫酸ナトリウムエーテル 50.00g エチレンオキシド7モルのポリオキシエチレングリセリ
ンココエート 5.00g 防腐剤 0.05g 水 適量加えて全100.00g 使用時にトリートメント層10gを洗浄層90gと混合す
る。
ンズアミド]安息香酸メチル 0.50g 2−オクチルドデカノール 42.00g カプリン酸およびカプリル酸のトリグリセリド 40.00g カプリン酸およびカプリル酸のエステルおよびC12−C18
の飽和脂肪族アルコールの混合物 17.50g (d)有毛頭皮用ローション 4−(3−第三級ブチル−4−メトキシベンズアミド)
安息香酸 0.80g 95%エタノール 83.00g 水 適量加えて全100.00g (e)即時混合性2層シャンプー (i)トリートメント層 4−[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシベ
ンズアミド]安息香酸メチル 0.05g 2−オクチルドデカノール 50.00g カプリン酸およびカプリル酸のトリグリセリド 49.50g (ii)洗浄層 ラウリル硫酸ナトリウムエーテル 50.00g エチレンオキシド7モルのポリオキシエチレングリセリ
ンココエート 5.00g 防腐剤 0.05g 水 適量加えて全100.00g 使用時にトリートメント層10gを洗浄層90gと混合す
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 235/64 C07C 235/64 C07F 7/18 C07F 7/18 (72)発明者 ジャーン・ミシェル・ベルナルドン フランス国06650 ニース、ル・ルーレ、 ルート・ド・ニース 89番
Claims (26)
- 【請求項1】下記一般式 [式中、R1は−CH2OH、−CHOHCH3または−COR5、 (R5は水素原子、低級アルキル基、−OR6基または R6は水素原子、低級アルキル基またはモノもしくはポリ
ヒドロキシアルキル基、γ′およびγ″は水素原子、低
級アルキル基、モノもしくはポリヒドロキシアルキル
基、1個以上の置換基を有していてもよいアリールもし
くはベンジル基、アミノ酸もしくはアミノ糖残基、また
は一緒になって複素環を形成する基、 R2は炭素原子数4−12のα,α′−ジ置換アルキル基、
炭素原子数5−12で結合炭素が4級の単環もしくは多環
シクロアルキル基、 R3は水素原子または炭素原子数1−10のアルキル基、 R4は水素原子、低級アルキル基またはヒドロキシ基を意
味する(ただし、R1が−CO2CH3、R2が1−アダマンチ
ル、R3がデシル、R4が3位にあるヒドロキシ基である式
(1)の化合物を除く)] で示される化合物、または上記式[I]の芳香族ベンズ
アミド誘導体においてR6が水素原子の化合物の塩類。 - 【請求項2】式(I)の化合物が塩である場合、アルカ
リ金属塩、アルカリ土類金属塩、亜鉛塩または有機アミ
ン塩である、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 - 【請求項3】低級アルキル基が炭素原子数1−6で、メ
チル、エチル、イソプロピル、ブチルおよび第3級ブチ
ルから選ばれたものである、特許請求の範囲第1項記載
の化合物。 - 【請求項4】モノヒドロキシアルキル基が2−ヒドロキ
シエチル、2−ヒドロキシプロピルまたは3−ヒドロキ
シプロピルである、特許請求の範囲第1項記載の化合
物。 - 【請求項5】ポリヒドロキシアルキル基が炭素原子数3
−6で、ヒドロキシ基2−5個をもち、2,3−ジヒドロ
キシプロピル、2,3,4−トリヒドロキシブチル、2,3,4,5
−テトラヒドロキシペンチルおよびペンタエリスリトー
ルから選ばれたものである、特許請求の範囲第1項記載
の化合物。 - 【請求項6】アリール基がハロゲン原子、ヒドロキシま
たはニトロにより置換されていてもよいフェニル基であ
る、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 - 【請求項7】炭素原子数4−12のα,α′−ジ置換アル
キル基が第3級ブチル、1,1−ジメチルプロピル、1−
メチル−1−エチルプロピル、1−メチル−1−エチル
ヘキシルまたは1,1−ジメチルデシルである、特許請求
の範囲第1項記載の化合物。 - 【請求項8】炭素原子数5−12で結合炭素が4級の単環
もしくは多環シクロアルキルが1−メチルシクロヘキシ
ルまたは1−アダマンチルである、特許請求の範囲第1
項記載の化合物。 - 【請求項9】アミノ酸残基がリジンまたはグリシンから
誘導された基である、特許請求の範囲第1項記載の化合
物。 - 【請求項10】アミノ糖残基がグルコサミン、ガラクト
サミンまたはマンノサミンから誘導された基である、特
許請求の範囲第1項の化合物。 - 【請求項11】γ′およびγ″が一緒になって複素環を
形成し、ピペリジノ、ピペラジノ、モルホリノ、ピロリ
ジノまたは4−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジノか
ら選ばれる、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 - 【請求項12】下記化合物 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸メチル、 N−エチル−4−[3−(1−アダマンチル)−4−メ
トキシベンズアミド]ベンズアミド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヒドロキシベン
ズアミド]安息香酸、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヒドロキシベン
ズアミド]安息香酸メチル、 4−[3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−メトキ
シベンズアミド]安息香酸、 4−[3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−メトキ
シベンズアミド]安息香酸エチル、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシベ
ンズアミド]安息香酸、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシベ
ンズアミド]安息香酸メチル、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヘキシルオキシ
ベンズアミド]安息香酸、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−ヘキシルオキシ
ベンズアミド]安息香酸メチル、 4−[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシベ
ンズアミド]安息香酸、 4−[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシベ
ンズアミド)安息香酸メチル、 4−(3−第3級ブチル−4−メトキシベンズアミド)
安息香酸、 4−(3−第3級ブチル−4−メトキシベンズアミド)
安息香酸メチル、 N−[4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
ベンズアミド]ベンゾイル]ピロリジン、 N−[4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
ベンズアミド]ベンゾイル]ピペリジン、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸モルホリド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸第3級ブチルアミド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸エチルアミド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド)安息香酸アニリド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸ベンジルアミド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸2−ヒドロキシエチル、 N−(4−アセチルフェニル)−3−(1−アダマンチ
ル)−4−メトキシベンズアミド、 N−[4−(1−ヒドロキシエチル)フェニル]−3−
(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズアミド、 4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズ
アミド]安息香酸2−ヒドロキシエチルアミド、または 2−ヒドロキシ−4−[3−(1−アダマンチル)−4
−メトキシベンズアミド]安息香酸メチルである、特許
請求の範囲第1−12項の何れか1項記載の化合物。 - 【請求項13】下記一般式 [式中、R1は−CH2OH、−CHOHCH3または−COR5、 (R5は水素原子、低級アルキル基、−OR6基または R6は水素原子、低級アルキル基またはモノもしくはポリ
ヒドロキシアルキル基、γ′およびγ″は水素原子、低
級アルキル基、モノもしくはポリヒドロキシアルキル
基、1個以上の置換基を有していてもよいアリールもし
くはベンジル基、アミノ酸もしくはアミノ糖残基、また
は一緒になって複素環を形成する基、 R2は炭素原子数4−12のα,α′−ジ置換アルキル基、
炭素原子数5−12で結合炭素が4級の単環もしくは多環
シクロアルキル基、 R3は水素原子または炭素原子数1−10のアルキル基、 R4は水素原子、低級アルキル基またはヒドロキシ基を意
味する(ただし、R1が−CO2CH3、R2が1−アダマンチ
ル、R3がデシル、R4が3位にあるヒドロキシ基である式
(1)の化合物を除く)] で示される化合物の製造方法であって、有機溶媒中、第
3級アミンの存在下、置換安息香酸の活性形、特に、式 で示される酸クロリドと式 で示されるアミン化合物 [上記各式中、R1、R2、R3およびR4は上記の意味] を反応させ、反応を室温で撹拌下に行なうことからなる
方法。 - 【請求項14】R1が−COOR6、R6が低級アルキル基を表
わし、得られたエステルを加水分解して対応する酸を得
る、特許請求の範囲第13項記載の方法。 - 【請求項15】得られた酸を活性化し、ついで式 で示されるアミンにより対応するアミドに変換する、特
許請求の範囲第14項記載の方法。 - 【請求項16】下記一般式 [式中、R1は−CH2OH、−CHOHCH3または−COR5、 (R5は水素原子、低級アルキル基、−OR6基または R6は水素原子、低級アルキル基またはモノもしくはポリ
ヒドロキシアルキル基、γ′およびγ″は水素原子、低
級アルキル基、モノもしくはポリヒドロキシアルキル
基、1個以上の置換基を有していてもよいアリールもし
くはベンジル基、アミノ酸もしくはアミノ糖残基、また
は一緒になって複素環を形成する基、 R2は炭素原子数4−12のα,α′−ジ置換アルキル基、
炭素原子数5−12で結合炭素が4級の単環もしくは多環
シクロアルキル基、 R3は水素原子または炭素原子数1−10のアルキル基、 R4は水素原子、低級アルキル基またはヒドロキシ基を意
味する(ただし、R1が−CO2CH3、R2が1−アダマンチ
ル、R3がデシル、R4が3位にあるヒドロキシ基である式
(1)の化合物を除く)]で示される化合物、または上
記式[I]の芳香族ベンズアミド誘導体においてR6が水
素原子の化合物の塩類を有効成分として含むことを特徴
とする、角化を伴う皮ふ疾患処置剤。 - 【請求項17】約0.01mg/体重Kg−5mg/体重Kgの日用量
で投与するものである、特許請求の範囲第16項記載の処
置剤。 - 【請求項18】経腸、非経腸、局所または眼内投与に適
する、特許請求の範囲第16項記載の処置剤。 - 【請求項19】下記一般式 [式中、R1は−CH2OH、−CHOHCH3または−COR5、 (R5は水素原子、低級アルキル基、−OR6基または R6は水素原子、低級アルキル基またはモノもしくはポリ
ヒドロキシアルキル基、γ′およびγ″は水素原子、低
級アルキル基、モノもしくはポリヒドロキシアルキル
基、1個以上の置換基を有していてもよいアリールもし
くはベンジル基、アミノ酸もしくはアミノ糖残基、また
は一緒になって複素環を形成する基、 R2は炭素原子数4−12のα,α′−ジ置換アルキル基、
炭素原子数5−12で結合炭素が4級の単環もしくは多環
シクロアルキル基、 R3は水素原子または炭素原子数1−10のアルキル基、 R4は水素原子、低級アルキル基またはヒドロキシ基を意
味する(ただし、R1が−CO2CH3、R2が1−アダマンチ
ル、R3がデシル、R4が3位にあるヒドロキシ基である式
(1)の化合物を除く)]で示される化合物、または上
記式[I]の芳香族ベンズアミド誘導体においてR6が水
素原子の化合物の塩類を有効成分として含むことを特徴
とする、角膜疾病に関する眼科疾患処置剤。 - 【請求項20】約0.01mg/体重Kg−5mg/体重Kgの日用量
で投与するものである、特許請求の範囲第19項記載の処
置剤。 - 【請求項21】経腸、非経腸、局所または眼内投与に適
する、特許請求の範囲第19項記載の処置剤。 - 【請求項22】下記一般式 [式中、R1は−CH2OH、−CHOHCH3または−COR5、 (R5は水素原子、低級アルキル基、−OR6基または R6は水素原子、低級アルキル基またはモノもしくはポリ
ヒドロキシアルキル基、γ′およびγ″は水素原子、低
級アルキル基、モノもしくはポリヒドロキシアルキル
基、1個以上の置換基を有していてもよいアリールもし
くはベンジル基、アミノ酸もしくはアミノ糖残基、また
は一緒になって複素環を形成する基、 R2は炭素原子数4−12のα,α′−ジ置換アルキル基、
炭素原子数5−12で結合炭素が4級の単環もしくは多環
シクロアルキル基、 R3は水素原子または炭素原子数1−10のアルキル基、 R4は水素原子、低級アルキル基またはヒドロキシ基を意
味する(ただし、R1が−CO2CH3、R2が1−アダマンチ
ル、R3がデシル、R4が3位にあるヒドロキシ基である式
(1)の化合物を除く)]で示される化合物、または上
記式[I]の芳香族ベンズアミド誘導体においてR6が水
素原子の化合物の塩類を有効成分として含むことを特徴
とする、悪性または良性腫瘍処置剤。 - 【請求項23】約0.01mg/体重Kg−5mg/体重Kgの日用量
で投与するものである、特許請求の範囲第22項記載の処
置剤。 - 【請求項24】経腸、非経腸、局所または眼内投与に適
する、特許請求の範囲第22項記載の処置剤。 - 【請求項25】下記一般式 [式中、R1は−CH2OH、−CHOHCH3または−COR5、 (R5は水素原子、低級アルキル基、−OR6基または R6は水素原子、低級アルキル基またはモノもしくはポリ
ヒドロキシアルキル基、γ′およびγ″は水素原子、低
級アルキル基、モノもしくはポリヒドロキシアルキル
基、1個以上の置換基を有していてもよいアリールもし
くはベンジル基、アミノ酸もしくはアミノ糖残基、また
は一緒になって複素環を形成する基、 R2は炭素原子数4−12のα,α′−ジ置換アルキル基、
炭素原子数5−12で結合炭素が4級の単環もしくは多環
シクロアルキル基、 R3は水素原子または炭素原子数1−10のアルキル基、 R4は水素原子、低級アルキル基またはヒドロキシ基を意
味する(ただし、R1が−CO2CH3、R4が3位にあるヒドロ
キシ基、R2が1−アダマンチル、R3がC10アルキルであ
る式(1)の化合物を除く)]で示される化合物、また
は上記式[I]の芳香族ベンズアミド誘導体においてR6
が水素原子の化合物の塩類の少なくとも1種を含有する
ことを特徴とする、身体および毛髪を健康状態に保持す
る化粧用組成物。 - 【請求項26】式(I)の化合物を0.0001−0.1重量
%、好ましくは0.001−0.01重量%の濃度で含有する、
特許請求の範囲第25項記載の化粧用組成物。
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