JP2696979B2 - 露光用基板 - Google Patents
露光用基板Info
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- JP2696979B2 JP2696979B2 JP21611588A JP21611588A JP2696979B2 JP 2696979 B2 JP2696979 B2 JP 2696979B2 JP 21611588 A JP21611588 A JP 21611588A JP 21611588 A JP21611588 A JP 21611588A JP 2696979 B2 JP2696979 B2 JP 2696979B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- substrate
- cleaning
- exposure substrate
- groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 露光用基板の洗浄時に発生する障害の防止に関し、 露光用基板の外周面に、簡単且つ容易に行える加工に
より溝を形成した露光用基板の提供を目的とし、 半導体装置の製造に用いる露光用基板であって、該露
光用基板の外周面に溝を具備するよう構成する。
より溝を形成した露光用基板の提供を目的とし、 半導体装置の製造に用いる露光用基板であって、該露
光用基板の外周面に溝を具備するよう構成する。
本発明は、露光用基板に係り、特に露光用基板の洗浄
時に発生する障害の防止に関するものである。
時に発生する障害の防止に関するものである。
半導体装置の製造工程において用いられる露光用基板
は、その工程において繰り返し度々洗浄されている。
は、その工程において繰り返し度々洗浄されている。
しかしながら、現状の露光用基板の洗浄工程において
は、洗浄終了後に露光用基板の表面に洗浄液が残留して
乾燥後にシミとなり、この基板を用いてクロムをスパッ
タすると、このシミに起因するピンホールが露光用ブラ
ンクスの表面に発生する。
は、洗浄終了後に露光用基板の表面に洗浄液が残留して
乾燥後にシミとなり、この基板を用いてクロムをスパッ
タすると、このシミに起因するピンホールが露光用ブラ
ンクスの表面に発生する。
以上のような状況から洗浄工程において露光用基板の
表面に洗浄液が残留しない露光用基板が要望されてい
る。
表面に洗浄液が残留しない露光用基板が要望されてい
る。
従来の露光用基板及びその洗浄治具を第３図により詳
細に説明する。
細に説明する。
第３図は従来の露光用基板を洗浄治具にセットした状
態を示す図である。
態を示す図である。
図に示すうように、石英或いはソーダガラスよりなる
露光用基板11は洗浄治具12のガイド12aの間に挿入さ
れ、通常は下部と左右の三個所で支持されている。
露光用基板11は洗浄治具12のガイド12aの間に挿入さ
れ、通常は下部と左右の三個所で支持されている。
このような洗浄治具12を用いて露光用基板11の洗浄を
行った場合には、洗浄工程の最後に露光用基板11の洗浄
を行った洗浄液が、露光用基板11の表面と洗浄治具12の
ガイド12aとが接触している部分に残留し、乾燥後にシ
ミとなって付着する。
行った場合には、洗浄工程の最後に露光用基板11の洗浄
を行った洗浄液が、露光用基板11の表面と洗浄治具12の
ガイド12aとが接触している部分に残留し、乾燥後にシ
ミとなって付着する。
このような露光用基板11に第４図に示すように厚さ1,
000Åのクロム膜11cをスパッタして露光用ブランクスを
製造すると、このシミが原因となりピンホールが発生す
るので露光用ブランクスの製造歩留を低下させている。
000Åのクロム膜11cをスパッタして露光用ブランクスを
製造すると、このシミが原因となりピンホールが発生す
るので露光用ブランクスの製造歩留を低下させている。
以上説明の従来の露光用基板の洗浄工程においては、
洗浄治具のガイドにより露光用基板を支持しているため
に、洗浄治具のガイドと露光用基板の表面の接触部に洗
浄液が残留し、この洗浄液が乾燥すると露光用基板の表
面にシミが生じ、この基板にクロムなどをスパッタして
露光用ブランクスを製造すると、このシミが原因となり
ピンホールが発生するので露光用ブランクスの製造歩留
を低下させているという問題点があった。
洗浄治具のガイドにより露光用基板を支持しているため
に、洗浄治具のガイドと露光用基板の表面の接触部に洗
浄液が残留し、この洗浄液が乾燥すると露光用基板の表
面にシミが生じ、この基板にクロムなどをスパッタして
露光用ブランクスを製造すると、このシミが原因となり
ピンホールが発生するので露光用ブランクスの製造歩留
を低下させているという問題点があった。
本発明は以上のような状況から露光用基板の外周面
に、簡単且つ容易に行える加工により溝を形成した露光
用基板の提供を目的としたものである。
に、簡単且つ容易に行える加工により溝を形成した露光
用基板の提供を目的としたものである。
上記問題点は、半導体装置の製造に用いる露光用基板
の外周面に溝を具備する本発明による露光用基板によっ
て解決される。
の外周面に溝を具備する本発明による露光用基板によっ
て解決される。
即ち本発明においては、露光用基板の外周面に溝を設
け、洗浄工程に用いる洗浄治具に設けたホルダをこの溝
に挿入して露光用基板を支持するので、最終の洗浄工程
において露光用基板の外周面の溝と洗浄治具のホルダが
接触している。このため、たとえその部分に洗浄液が残
留して乾燥後にこの溝にシミが生じることがあっても、
露光用基板の表面には影響が及ばないようにすることが
可能となる。
け、洗浄工程に用いる洗浄治具に設けたホルダをこの溝
に挿入して露光用基板を支持するので、最終の洗浄工程
において露光用基板の外周面の溝と洗浄治具のホルダが
接触している。このため、たとえその部分に洗浄液が残
留して乾燥後にこの溝にシミが生じることがあっても、
露光用基板の表面には影響が及ばないようにすることが
可能となる。
以下第１図〜第２図について本発明の一実施例を説明
する。
する。
第１図（ａ）の平面図及び（ｂ）の側面図に示す本発
明の一実施例の石英よりなる露光用基板１は、厚さが2.
4mmであり、第１図（ｃ）の断面図に示すようにこの露
光用基板１の外周面1bには、入口幅1.4mm、深さ3mm、底
幅1.0mmの溝1aが形成されている。
明の一実施例の石英よりなる露光用基板１は、厚さが2.
4mmであり、第１図（ｃ）の断面図に示すようにこの露
光用基板１の外周面1bには、入口幅1.4mm、深さ3mm、底
幅1.0mmの溝1aが形成されている。
この露光用基板１を洗浄治具２に搭載した状態を第２
図に示す。
図に示す。
第２図（ａ）は平面図、第２図（ｂ）は側面図であ
り、洗浄治具２のホルダ2aが露光用基板１の溝1aに係合
して露光用基板１を保持している。
り、洗浄治具２のホルダ2aが露光用基板１の溝1aに係合
して露光用基板１を保持している。
このように露光用基板１の外周面1bに形成した溝1aに
洗浄治具２のホルダ2aを係合して露光用基板１を保持す
るので、最終洗浄に用いた洗浄液が露光用基板１の溝1a
内に残留し、乾燥してシミになることがあっても、露光
用基板１の表面には影響が及ばないようにすることが可
能となる。
洗浄治具２のホルダ2aを係合して露光用基板１を保持す
るので、最終洗浄に用いた洗浄液が露光用基板１の溝1a
内に残留し、乾燥してシミになることがあっても、露光
用基板１の表面には影響が及ばないようにすることが可
能となる。
以上の説明から明らかなように本発明によれば極めて
簡単な露光用基板の形状の変更により、その形状の変更
に適合した洗浄治具を用いて露光用基板を洗浄するよう
にすれば、洗浄液は露光用基板の外周面に形成した溝に
残留し、露光用基板の表面には残留しないから露光用基
板の表面に悪影響が及ばないようにすることが可能とな
る利点があり、著しい経済的及び、信頼性向上の効果が
期待でき工業的には極めて有用なものである。
簡単な露光用基板の形状の変更により、その形状の変更
に適合した洗浄治具を用いて露光用基板を洗浄するよう
にすれば、洗浄液は露光用基板の外周面に形成した溝に
残留し、露光用基板の表面には残留しないから露光用基
板の表面に悪影響が及ばないようにすることが可能とな
る利点があり、著しい経済的及び、信頼性向上の効果が
期待でき工業的には極めて有用なものである。
第１図は本発明による一実施例を示す図、 第２図は本発明の露光用基板を洗浄治具にセットした状
態を示す図、 第３図は従来の露光用基板を洗浄治具にセットした状態
を示す図、 第４図は露光用ブランクスを示す側断面図、 である。 図において、 １は露光用基板、 1aは溝、 1bは外周面、 ２は洗浄治具、 2aはホルダ、 を示す。
態を示す図、 第３図は従来の露光用基板を洗浄治具にセットした状態
を示す図、 第４図は露光用ブランクスを示す側断面図、 である。 図において、 １は露光用基板、 1aは溝、 1bは外周面、 ２は洗浄治具、 2aはホルダ、 を示す。
Claims (1)
- 【請求項１】半導体装置の製造に用いる露光用基板であ
って、該露光用基板（１）の外周面（1b）に溝（1a）を
具備することを特徴とする露光用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21611588A JP2696979B2 (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 露光用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21611588A JP2696979B2 (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 露光用基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0263120A JPH0263120A (ja) | 1990-03-02 |
| JP2696979B2 true JP2696979B2 (ja) | 1998-01-14 |
Family
ID=16683479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21611588A Expired - Lifetime JP2696979B2 (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 露光用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2696979B2 (ja) |
-
1988
- 1988-08-29 JP JP21611588A patent/JP2696979B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0263120A (ja) | 1990-03-02 |
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