JPH0320737A - フォトマスク - Google Patents
フォトマスクInfo
- Publication number
- JPH0320737A JPH0320737A JP1155388A JP15538889A JPH0320737A JP H0320737 A JPH0320737 A JP H0320737A JP 1155388 A JP1155388 A JP 1155388A JP 15538889 A JP15538889 A JP 15538889A JP H0320737 A JPH0320737 A JP H0320737A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- cover
- pellicle
- thin film
- frame
- Prior art date
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- Granted
Links
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産産業上の利用分野
本発明は、フォトリソグラフィ工程で用いられるフォト
マスクに関するものである。
マスクに関するものである。
従来の技術
近年、半導体製造の歩留シ安定化の一手段として、フォ
トリソグラフィ工程での転写パターン欠陥発生を防止す
るため、マスクにパーティクルが付着することを防止す
るベリクノレ力バーをマスクに装着する方法が用いられ
ている。
トリソグラフィ工程での転写パターン欠陥発生を防止す
るため、マスクにパーティクルが付着することを防止す
るベリクノレ力バーをマスクに装着する方法が用いられ
ている。
以下に従来のペリカル力バー装着フォトマスクについて
説明する。第３図は従来のべリクルカバーのマスクへの
装着例の一つを示すものである。
説明する。第３図は従来のべリクルカバーのマスクへの
装着例の一つを示すものである。
第３図に訃いて、フォトマスク１を構戒する、２はガラ
ス基板、３は金属薄膜、４はペリクルカバーで、５，６
．７はそれぞれペリクルカバー４を構或するフレーム，
透明有機薄膜，粘着剤である。
ス基板、３は金属薄膜、４はペリクルカバーで、５，６
．７はそれぞれペリクルカバー４を構或するフレーム，
透明有機薄膜，粘着剤である。
ペリクルカバー４を装着したフォトマスク１の不注意な
取り扱いによって、指紋等の汚れが付着し照度ムラをか
こしたシ、パターン転写用の紫外光による有機薄膜６の
劣化により透過率が落ちたう有機薄膜６が破れたジして
、フォトマスク１に装着したべリクルカパ−４の貼りか
えが必要になる。
取り扱いによって、指紋等の汚れが付着し照度ムラをか
こしたシ、パターン転写用の紫外光による有機薄膜６の
劣化により透過率が落ちたう有機薄膜６が破れたジして
、フォトマスク１に装着したべリクルカパ−４の貼りか
えが必要になる。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記の従来の構或では、金属薄膜３上に
ペリクルカバー４を装着していた。ペリクルカバー４を
フォトマスク１から剥すのに、剥離治具８をベリクルカ
バ−４のフレーム６の穴や溝にはめ込んで、テコを用い
てフォトマスク１からベリクルカノ＜−４を引き剥がし
ていた。このようなペリクルカバーの剥離方法では、剥
離の際に、剥離治具８をフォトマスク１に接触させねば
彦らず、フォトマスク１の金属薄膜３やガラス基板２に
修正不可能な傷をつけたシ、剥離治具８でペリク〃カバ
ー４のフレーム６の穴や溝にはめ込んでテコを用いて加
えた力によシフレーム６に歪が加わシフレーム５の再使
用が不可能になるという課題があった。
ペリクルカバー４を装着していた。ペリクルカバー４を
フォトマスク１から剥すのに、剥離治具８をベリクルカ
バ−４のフレーム６の穴や溝にはめ込んで、テコを用い
てフォトマスク１からベリクルカノ＜−４を引き剥がし
ていた。このようなペリクルカバーの剥離方法では、剥
離の際に、剥離治具８をフォトマスク１に接触させねば
彦らず、フォトマスク１の金属薄膜３やガラス基板２に
修正不可能な傷をつけたシ、剥離治具８でペリク〃カバ
ー４のフレーム６の穴や溝にはめ込んでテコを用いて加
えた力によシフレーム６に歪が加わシフレーム５の再使
用が不可能になるという課題があった。
本発明は上記従来の課題を解決するもので、マスクに傷
をつけたｂ、ペリクルカバーのフレームに歪を加えたシ
しない、ペリクルカバーのフレームとべリクル力バー剥
離法を提供することを目的とする。
をつけたｂ、ペリクルカバーのフレームに歪を加えたシ
しない、ペリクルカバーのフレームとべリクル力バー剥
離法を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
この目的を達戊するため、本発明のフォトマスクは、ペ
リクルカバーの粘着面がフォトマスクの金属薄膜面に当
たる部分の金属薄膜を除去した形状の金属薄膜パターン
を持つという構戒を有している。
リクルカバーの粘着面がフォトマスクの金属薄膜面に当
たる部分の金属薄膜を除去した形状の金属薄膜パターン
を持つという構戒を有している。
作 用
この構或によって、フォトマスクからペリクルカバーを
剥離するのに、ペリクル力バーを装着したフォトマスク
を、界面活性剤水溶液中に浸漬しテオくト、フォトマス
クのガラス基板面とべリクノレ力バー粘着面の界面に界
面活性剤水溶液がしみ込み、何ら力を加えずに自然剥離
する。したがって、剥離に際してフォトマスクは傷つか
ず、フレームにも歪が加わらない。
剥離するのに、ペリクル力バーを装着したフォトマスク
を、界面活性剤水溶液中に浸漬しテオくト、フォトマス
クのガラス基板面とべリクノレ力バー粘着面の界面に界
面活性剤水溶液がしみ込み、何ら力を加えずに自然剥離
する。したがって、剥離に際してフォトマスクは傷つか
ず、フレームにも歪が加わらない。
実施例
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図は本発明の一実施例に卦けるペリクルカバー装着
マスクの断面図を示すものである。第１図において、９
は、本発明の金属薄膜パターンの一例であり、ペリクル
カバー４のフォトマヌク１への粘着面の形状を包む形状
を持つ。このペリクルカバー４のフォトマスク１からの
剥離手順について説明する。第２図に示すように、界面
活性剤水溶液１ｏ中に、ペリクルカバー４を装着したフ
ォトマスク１を浸漬する。時間の経過とともに、前記フ
ォトマスクのガラス基板面と前記ペリクルカバー粘着面
の界面に界面活性剤水溶液１０がしみ込み、何ら力を加
えずに、自然剥離する，したがって、剥離に際してフォ
トマスクは傷つかず、フレームにも歪が加わらない。
マスクの断面図を示すものである。第１図において、９
は、本発明の金属薄膜パターンの一例であり、ペリクル
カバー４のフォトマヌク１への粘着面の形状を包む形状
を持つ。このペリクルカバー４のフォトマスク１からの
剥離手順について説明する。第２図に示すように、界面
活性剤水溶液１ｏ中に、ペリクルカバー４を装着したフ
ォトマスク１を浸漬する。時間の経過とともに、前記フ
ォトマスクのガラス基板面と前記ペリクルカバー粘着面
の界面に界面活性剤水溶液１０がしみ込み、何ら力を加
えずに、自然剥離する，したがって、剥離に際してフォ
トマスクは傷つかず、フレームにも歪が加わらない。
な釦、界面活性剤水溶液中にべリクル力バー装着フォト
マスク了を浸漬する際、有機薄膜に穴１１をあけ、ペリ
クルカバーの密閉性を破シ、フレーム５の両側から水溶
液をしみ込１せてやると、さらに早く剥離できるのはい
う！でもない。
マスク了を浸漬する際、有機薄膜に穴１１をあけ、ペリ
クルカバーの密閉性を破シ、フレーム５の両側から水溶
液をしみ込１せてやると、さらに早く剥離できるのはい
う！でもない。
発明の効果
以上のように本発明は、ペリク〃装着フォトマスクにお
いて、ベリクμ力バーの粘着面がフォトマスクの金属薄
膜面に当たる部分の金属薄膜を除去した形状の金属薄膜
パターンを持つことによシ、フォトマスクに傷をつけた
り、ペリクルカバーのフレームに歪を加えることなく、
ペリクルカバーのフレームをフォトマスク７から剥離す
ることができる優れたフォトマスクからのべリクルカバ
ー剥離方法を実現できるものである。
いて、ベリクμ力バーの粘着面がフォトマスクの金属薄
膜面に当たる部分の金属薄膜を除去した形状の金属薄膜
パターンを持つことによシ、フォトマスクに傷をつけた
り、ペリクルカバーのフレームに歪を加えることなく、
ペリクルカバーのフレームをフォトマスク７から剥離す
ることができる優れたフォトマスクからのべリクルカバ
ー剥離方法を実現できるものである。
第１図は本発明の一実施例におけるペリクルカバー装着
フォトマスクの斜視断面図、第２図は同実施例における
ペリクルカバー装着フォトマスクを界面活性剤水溶液中
に浸漬したときの断面図、第３図は従来のべリクル力バ
ー装着フォトマスクの斜視断面図である。 １・・・・・・フォトマスク、２・・・・・・ガラス基
板、３・・・・・・金属薄ｍ、４・・・・・・ペリクル
カバー、６・・・・・・フレーム、６・・・・・・透明
有機薄膜、了・・・・・・粘着剤、８・・・・・・剥離
治具、９・・・・・・金属薄膜パターン、１ｏ・・・・
・・界面活性剤水溶液、１１・・・・・・有機薄膜の穴
。
フォトマスクの斜視断面図、第２図は同実施例における
ペリクルカバー装着フォトマスクを界面活性剤水溶液中
に浸漬したときの断面図、第３図は従来のべリクル力バ
ー装着フォトマスクの斜視断面図である。 １・・・・・・フォトマスク、２・・・・・・ガラス基
板、３・・・・・・金属薄ｍ、４・・・・・・ペリクル
カバー、６・・・・・・フレーム、６・・・・・・透明
有機薄膜、了・・・・・・粘着剤、８・・・・・・剥離
治具、９・・・・・・金属薄膜パターン、１ｏ・・・・
・・界面活性剤水溶液、１１・・・・・・有機薄膜の穴
。
Claims (1)
- フォトマスクの金属薄膜からなるパターンを有する面に
ペリクルカバーを装着したフォトマスクにおいて、ペリ
クルカバーの粘着面がフォトマスクの金属薄膜面に当た
る部分の前記金属薄膜を除去した形状の金属薄膜パター
ンを持つことを特徴とするフォトマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15538889A JP2599460B2 (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | フォトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15538889A JP2599460B2 (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | フォトマスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0320737A true JPH0320737A (ja) | 1991-01-29 |
| JP2599460B2 JP2599460B2 (ja) | 1997-04-09 |
Family
ID=15604864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15538889A Expired - Lifetime JP2599460B2 (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | フォトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2599460B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008249754A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 隙間保持冶具及びマスクからペリクルを取り外す方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55121442A (en) * | 1979-03-14 | 1980-09-18 | Mitsubishi Electric Corp | Photomask base plate |
| JPS6075835A (ja) * | 1983-10-03 | 1985-04-30 | Hitachi Ltd | ペリクル |
-
1989
- 1989-06-16 JP JP15538889A patent/JP2599460B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55121442A (en) * | 1979-03-14 | 1980-09-18 | Mitsubishi Electric Corp | Photomask base plate |
| JPS6075835A (ja) * | 1983-10-03 | 1985-04-30 | Hitachi Ltd | ペリクル |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008249754A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 隙間保持冶具及びマスクからペリクルを取り外す方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2599460B2 (ja) | 1997-04-09 |
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