JPS6055344A - ガラスマスク - Google Patents
ガラスマスクInfo
- Publication number
- JPS6055344A JPS6055344A JP58162519A JP16251983A JPS6055344A JP S6055344 A JPS6055344 A JP S6055344A JP 58162519 A JP58162519 A JP 58162519A JP 16251983 A JP16251983 A JP 16251983A JP S6055344 A JPS6055344 A JP S6055344A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- mask
- glass
- dust
- mask pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
- G03F1/48—Protective coatings
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
この発明は、集積回路製造におけるフォトリン工程で使
用されるガラスマスクに関するものである。
用されるガラスマスクに関するものである。
(従来技術)
従来のガラスマスクを第1図に示す。この図のように従
来のガラスマスクは、ガラス基板1上に、金属膜または
金属酸化膜からなるマスクパターン2を形成して構成さ
れる。
来のガラスマスクは、ガラス基板1上に、金属膜または
金属酸化膜からなるマスクパターン2を形成して構成さ
れる。
このようなガラスマスクにおいては、第2図に示すよう
に、マスクパターン2にゴミ3が付着する。また、第3
図に示すように、マスクパターン2に傷によってマスク
パターン欠陥4が生じることがある。そして、これらが
生じた場合、シリコンウェハ上のレジストにマスクパタ
ーン2を転写させると、レジスト上にゴミ3やノ4ター
ン欠陥4も転写され、正常なパターンが得られない。し
たがって、集積回路の歩留り低下につながるという欠点
があった。
に、マスクパターン2にゴミ3が付着する。また、第3
図に示すように、マスクパターン2に傷によってマスク
パターン欠陥4が生じることがある。そして、これらが
生じた場合、シリコンウェハ上のレジストにマスクパタ
ーン2を転写させると、レジスト上にゴミ3やノ4ター
ン欠陥4も転写され、正常なパターンが得られない。し
たがって、集積回路の歩留り低下につながるという欠点
があった。
そこで、ゴミ3に関しては、ガラスマスクを洗浄するこ
とによシ除去している。しかるに、洗浄を行うとマスク
パターン2が薄くなったシ傷つくため、洗浄をくり返す
ことでガラスマスクの寿命が低下してしまう。さらに、
洗浄工程の追加は、生産性の低下につながる。
とによシ除去している。しかるに、洗浄を行うとマスク
パターン2が薄くなったシ傷つくため、洗浄をくり返す
ことでガラスマスクの寿命が低下してしまう。さらに、
洗浄工程の追加は、生産性の低下につながる。
(発明の目的)
この発明は上記の点に鑑みなされたもので、パターン欠
陥の発生を防止でき、しかも付着したゴミがシリコンウ
ェハ上のレジストに転写されるのを防止できるガラスマ
スクを提供することを目的とする。
陥の発生を防止でき、しかも付着したゴミがシリコンウ
ェハ上のレジストに転写されるのを防止できるガラスマ
スクを提供することを目的とする。
(実施例)
以下この発明の一実施例を図面を、参照して説明する。
第4図はこの発明の一実施例を示す断面図である。この
図において、11は第1のガラス基板で、その一方の面
には、金属膜または金属酸化膜からなるマスクツやター
ン12が形成される。このマスクパターン12が形成さ
れた第1のガラス基板11の一方の面には、殆ど密着す
るようにして第2のガラス基板13が重ねられる。そし
て、この第2のガラス基板13と前記第1のガラス基板
11の周辺部は、たとえば接着剤14によシ互いに接着
される。それにより、第1と第2のガラス基板11.1
3間には、ゴミや薬液などが入らなくなる。
図において、11は第1のガラス基板で、その一方の面
には、金属膜または金属酸化膜からなるマスクツやター
ン12が形成される。このマスクパターン12が形成さ
れた第1のガラス基板11の一方の面には、殆ど密着す
るようにして第2のガラス基板13が重ねられる。そし
て、この第2のガラス基板13と前記第1のガラス基板
11の周辺部は、たとえば接着剤14によシ互いに接着
される。それにより、第1と第2のガラス基板11.1
3間には、ゴミや薬液などが入らなくなる。
以上の説明から明らかなように、一実施例では、マスク
パターン12が一対のガラス基板11.13間に存在す
る構造となる。したがって、ガラス基板11.13が防
護体となるから、ガラスマスク取扱い時に起る傷による
マスクパターン12の欠陥()ぐターン欠陥)は発生し
なくなる。
パターン12が一対のガラス基板11.13間に存在す
る構造となる。したがって、ガラス基板11.13が防
護体となるから、ガラスマスク取扱い時に起る傷による
マスクパターン12の欠陥()ぐターン欠陥)は発生し
なくなる。
また、ゴミは直接マスクパターン12に付着せず、たと
えば第5図に示すようにガラス基板13の外側面に付着
する(第5図においては符号15でゴミを示す)ので、
同図に示すように平行光線16を用い−(マスクパター
ン12iシリコンウエハ17上のレジスト18に転写す
る場合に、ゴミ15は転写されなくなる。すなわち、ガ
ラス基板13の外側面にゴミ15が付着した場合、その
ゴミ15とレジスト18の表面の焦点距離fがΔf=〔
d;ガラス基板13の厚さ)/[:n;屈折率〕だけず
れるので、ゴミ15は転写されなくなる。
えば第5図に示すようにガラス基板13の外側面に付着
する(第5図においては符号15でゴミを示す)ので、
同図に示すように平行光線16を用い−(マスクパター
ン12iシリコンウエハ17上のレジスト18に転写す
る場合に、ゴミ15は転写されなくなる。すなわち、ガ
ラス基板13の外側面にゴミ15が付着した場合、その
ゴミ15とレジスト18の表面の焦点距離fがΔf=〔
d;ガラス基板13の厚さ)/[:n;屈折率〕だけず
れるので、ゴミ15は転写されなくなる。
ゆえに、上記一実施例によれば、正常なマスクパターン
12を転写できる。したがって、集積回路の良品歩留シ
を著しく向上させることができる。
12を転写できる。したがって、集積回路の良品歩留シ
を著しく向上させることができる。
また、上述のように、付着したゴミ15が転写されない
ということは、ゴミ15を除去するための洗浄を省略で
きる。したがって、洗浄工程削除により集積回路製造の
生産性の向上を図ることができるとともに、ガラスマス
クの寿命の延長を図ることができる。勿論、この−実施
例のガラスマスクによれば、一対のガラス基板11.1
3の間にマスクパターン12が存在する構造であるから
、たとえ洗浄を行っても、それによシマスクノやターン
12が薄くなったり傷ついたシすることがなく、寿命が
低下することはない。
ということは、ゴミ15を除去するための洗浄を省略で
きる。したがって、洗浄工程削除により集積回路製造の
生産性の向上を図ることができるとともに、ガラスマス
クの寿命の延長を図ることができる。勿論、この−実施
例のガラスマスクによれば、一対のガラス基板11.1
3の間にマスクパターン12が存在する構造であるから
、たとえ洗浄を行っても、それによシマスクノやターン
12が薄くなったり傷ついたシすることがなく、寿命が
低下することはない。
なお、以上のようなこの発明の一実施例のガラスマスク
においてマスクパターン12の製法は、従来の製法と変
わることなく行えることは勿論でちゃ、またガラス基板
11.13を合わせることについても別に特殊な製造は
必要としない。
においてマスクパターン12の製法は、従来の製法と変
わることなく行えることは勿論でちゃ、またガラス基板
11.13を合わせることについても別に特殊な製造は
必要としない。
(発明の効果)
以上詳述したようにこの発明のガラスマスクによれば、
互いに重ねられた一対のガラス基板間においてマスクパ
ターンを設けるようにしたので、寿命の延長を図ること
ができるとともに、正常なパターンをシリコンウェハ上
のレジストに転写して集積回路の良品歩留りを著しく向
上させることができ、さらには集積回路製造の生産性の
同上を図ることができる。
互いに重ねられた一対のガラス基板間においてマスクパ
ターンを設けるようにしたので、寿命の延長を図ること
ができるとともに、正常なパターンをシリコンウェハ上
のレジストに転写して集積回路の良品歩留りを著しく向
上させることができ、さらには集積回路製造の生産性の
同上を図ることができる。
第1図株従来のガラスマスクを示す断面図、第2図はゴ
ミが付着した従来のガラスマスクを示を断面図、第3図
はマスクパターン欠陥が生じた従来のガラスマスクを示
す断面図、第4図はこの発明のガラスマスクの一実施例
を示す断面図、第5図はゴミが付着したこの発明の一実
施例のガラス−r スフK ヨりマスクパターンをシリ
コンウェハ上のレジストに転写する時の状態−を示す断
面図である。 11・・・第1のガラス基板、12・・・マスクパター
ン、13・・・第2のガラス基板。 特許出願人 沖電気工業株式会社 (ほか1名)第 1
図 2 第2図 ス 第5図 1 321−
ミが付着した従来のガラスマスクを示を断面図、第3図
はマスクパターン欠陥が生じた従来のガラスマスクを示
す断面図、第4図はこの発明のガラスマスクの一実施例
を示す断面図、第5図はゴミが付着したこの発明の一実
施例のガラス−r スフK ヨりマスクパターンをシリ
コンウェハ上のレジストに転写する時の状態−を示す断
面図である。 11・・・第1のガラス基板、12・・・マスクパター
ン、13・・・第2のガラス基板。 特許出願人 沖電気工業株式会社 (ほか1名)第 1
図 2 第2図 ス 第5図 1 321−
Claims (1)
- 互いに重ねられた一対のガラス基板間においてマスクパ
ターンを有することを特徴とするガラスマスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58162519A JPS6055344A (ja) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | ガラスマスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58162519A JPS6055344A (ja) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | ガラスマスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6055344A true JPS6055344A (ja) | 1985-03-30 |
Family
ID=15756159
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58162519A Pending JPS6055344A (ja) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | ガラスマスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6055344A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106358397A (zh) * | 2015-07-13 | 2017-01-25 | 加藤电机(香港)有限公司 | 盖体开合装置及具备此盖体开合装置的设备 |
-
1983
- 1983-09-06 JP JP58162519A patent/JPS6055344A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106358397A (zh) * | 2015-07-13 | 2017-01-25 | 加藤电机(香港)有限公司 | 盖体开合装置及具备此盖体开合装置的设备 |
CN106358397B (zh) * | 2015-07-13 | 2020-07-03 | 加藤电机(香港)有限公司 | 盖体开合装置及具备此盖体开合装置的设备 |
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