JP3046880B2 - シリコンウェハ保持用受台 - Google Patents
シリコンウェハ保持用受台Info
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- JP3046880B2 JP3046880B2 JP18098892A JP18098892A JP3046880B2 JP 3046880 B2 JP3046880 B2 JP 3046880B2 JP 18098892 A JP18098892 A JP 18098892A JP 18098892 A JP18098892 A JP 18098892A JP 3046880 B2 JP3046880 B2 JP 3046880B2
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- silicon wafer
- holding
- wafer
- pedestal
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Packaging Of Annular Or Rod-Shaped Articles, Wearing Apparel, Cassettes, Or The Like (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、シリコンウェハを洗
浄する時に用いるシリコンウェハ保持用受台に関するも
のである。
浄する時に用いるシリコンウェハ保持用受台に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】図５は従来のウェハ搬送に供されている
ウェハケースすなわちウェハ搬送用架体の斜視図であ
る。図において、ウェハケース本体１の側面には、シリ
コンウェハ３をチャッキングするための滑り溝２が設け
られている。シリコンウェハ３は向かい合うウェハケー
ス本体１側面の滑り溝２の中に挿入されウェハケース本
体１内に固定され、その後ウェハケース本体１とともに
搬送され洗浄等の処理に供される。
ウェハケースすなわちウェハ搬送用架体の斜視図であ
る。図において、ウェハケース本体１の側面には、シリ
コンウェハ３をチャッキングするための滑り溝２が設け
られている。シリコンウェハ３は向かい合うウェハケー
ス本体１側面の滑り溝２の中に挿入されウェハケース本
体１内に固定され、その後ウェハケース本体１とともに
搬送され洗浄等の処理に供される。
【０００３】従来のウェハケース１は前記のような構造
となっているので、この中に挿入されるシリコンウェハ
３の端部の一部は、必ずウェハケース本体１の滑り溝２
側面と接触する。そのため、シリコンウェハ３は滑り溝
２側面との接触に伴うダメージを被るためシリコンウェ
ハ表面に傷の発生を招くという問題があった。またウェ
ハケース本体１とシリコンウェハ３表面との接触で磨耗
粉が発生したり、あるいは滑り溝２側面からシリコンウ
ェハ３表面へのダストの移着があるという問題があっ
た。またウェハケース本体１内にシリコンウェハ３を納
めた状態で、ＲＣＡ洗浄やＩＰＡ蒸気乾燥等のウェット
処理を行った場合、滑り溝２側面と接触した部分のシリ
コンウェハ３表面との間に薬液によるメニスカスが発生
するため、薬液等が残りやすく、その結果シリコンウェ
ハ表面に洗浄斑や染みが発生するという問題があった。
なお、ＲＣＡ洗浄については、例えば文献(Dabid A Puo
tinen,RCA Review,p.187,June 1970) 等にまたＩＰＡ蒸
気乾燥については、例えば特開昭５８−２０１号公報等
に詳細に記載されている。
となっているので、この中に挿入されるシリコンウェハ
３の端部の一部は、必ずウェハケース本体１の滑り溝２
側面と接触する。そのため、シリコンウェハ３は滑り溝
２側面との接触に伴うダメージを被るためシリコンウェ
ハ表面に傷の発生を招くという問題があった。またウェ
ハケース本体１とシリコンウェハ３表面との接触で磨耗
粉が発生したり、あるいは滑り溝２側面からシリコンウ
ェハ３表面へのダストの移着があるという問題があっ
た。またウェハケース本体１内にシリコンウェハ３を納
めた状態で、ＲＣＡ洗浄やＩＰＡ蒸気乾燥等のウェット
処理を行った場合、滑り溝２側面と接触した部分のシリ
コンウェハ３表面との間に薬液によるメニスカスが発生
するため、薬液等が残りやすく、その結果シリコンウェ
ハ表面に洗浄斑や染みが発生するという問題があった。
なお、ＲＣＡ洗浄については、例えば文献(Dabid A Puo
tinen,RCA Review,p.187,June 1970) 等にまたＩＰＡ蒸
気乾燥については、例えば特開昭５８−２０１号公報等
に詳細に記載されている。
【０００４】このような問題を解決するために図１に示
すような形状の保持台を使用することが考えられる。こ
のような保持台１は、薄いシリコンウェハ３を浅い保持
溝２で（保持溝が深いとシリコンウェハ３上の有効な製
品製造面積が減少する）確実に保持する必要があるた
め、高精度の機械加工を要する。また、保持台材料とし
ては、製品に対して悪影響を与える元素を含むものや、
洗浄等に代表される処理工程で使用される薬液や、処理
ガス等に対し劣化するもの等は用いることはできない。
このような制約に対して、強い機械的強度、耐薬品性お
よびある程度の機械的加工性を有し、かつ、製品に悪影
響を与える元素を含まない材質としては、そう多くな
い。このような材質としては、不純物を含まない石英ガ
ラスを用いるのが一般的である。なぜなら、通常のガラ
スは製品に悪影響を与える不純物が多く、金属はそのも
のが製品に悪影響を与える不純物となり、テフロン等は
機械的強度が弱いためである。
すような形状の保持台を使用することが考えられる。こ
のような保持台１は、薄いシリコンウェハ３を浅い保持
溝２で（保持溝が深いとシリコンウェハ３上の有効な製
品製造面積が減少する）確実に保持する必要があるた
め、高精度の機械加工を要する。また、保持台材料とし
ては、製品に対して悪影響を与える元素を含むものや、
洗浄等に代表される処理工程で使用される薬液や、処理
ガス等に対し劣化するもの等は用いることはできない。
このような制約に対して、強い機械的強度、耐薬品性お
よびある程度の機械的加工性を有し、かつ、製品に悪影
響を与える元素を含まない材質としては、そう多くな
い。このような材質としては、不純物を含まない石英ガ
ラスを用いるのが一般的である。なぜなら、通常のガラ
スは製品に悪影響を与える不純物が多く、金属はそのも
のが製品に悪影響を与える不純物となり、テフロン等は
機械的強度が弱いためである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】図２はこの製品保持用
受台にシリコンウェハを保持したときの斜視図である。
従来の製品保持用受台１は、モース硬度７の石英ガラス
で構成された前記のような構造物であるため、保持溝２
の中に挿入されるモース硬度７のシリコンウェハ３の端
部は必ず保持溝２の側面と接触する。そのため、モース
硬度７のシリコンウェハ３はモース硬度７の保持溝２の
側面と接触摺動しダメージを被るため図４に示すような
接触摺動位置５（シリコンウェハ３の端部）に傷（マイ
クロクラック、結晶のスリップ等）が発生するという問
題があった。
受台にシリコンウェハを保持したときの斜視図である。
従来の製品保持用受台１は、モース硬度７の石英ガラス
で構成された前記のような構造物であるため、保持溝２
の中に挿入されるモース硬度７のシリコンウェハ３の端
部は必ず保持溝２の側面と接触する。そのため、モース
硬度７のシリコンウェハ３はモース硬度７の保持溝２の
側面と接触摺動しダメージを被るため図４に示すような
接触摺動位置５（シリコンウェハ３の端部）に傷（マイ
クロクラック、結晶のスリップ等）が発生するという問
題があった。
【０００６】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、シリコンウェハ端部のウェハ保
持用受台の保持溝との接触摺動に伴うダメージを防止す
ることを目的とする。
ためになされたもので、シリコンウェハ端部のウェハ保
持用受台の保持溝との接触摺動に伴うダメージを防止す
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係るシリコンウ
ェハ保持用受台は、少なくともシリコンウェハとの当接
部分が、シリコンウェハの硬度より軟らかい、ボロンお
よびリンの少なくとも一方を添加したガラスで構成され
たものである。
ェハ保持用受台は、少なくともシリコンウェハとの当接
部分が、シリコンウェハの硬度より軟らかい、ボロンお
よびリンの少なくとも一方を添加したガラスで構成され
たものである。
【０００８】
【作用】本発明は、シリコンウェハ保持用受台の少なく
ともシリコンウェハとの当接部分の構成材料をシリコン
ウェハの硬度より軟らかい、ボロンおよびリンの少なく
とも一方を添加したガラスで構成したため、シリコンウ
ェハ端面と保持溝の側面との接触摺動に伴うダメージは
ほとんど保持溝の側面にかかるようになり、結果的にシ
リコンウェハ端面へのダメージがほとんどなくなり、シ
リコンウェハ端部に傷が発生するという問題がなくな
る。さらに、ボロンやリンを添加したガラスは硬度がシ
リコンウェハの硬度に近いためシリコンウェハとの接触
摺動で削られる量が少なく、しかもシリコンウェハに悪
影響を及ぼしにくい材質であるので、シリコンウェハへ
の悪影響を極力避けることができる。
ともシリコンウェハとの当接部分の構成材料をシリコン
ウェハの硬度より軟らかい、ボロンおよびリンの少なく
とも一方を添加したガラスで構成したため、シリコンウ
ェハ端面と保持溝の側面との接触摺動に伴うダメージは
ほとんど保持溝の側面にかかるようになり、結果的にシ
リコンウェハ端面へのダメージがほとんどなくなり、シ
リコンウェハ端部に傷が発生するという問題がなくな
る。さらに、ボロンやリンを添加したガラスは硬度がシ
リコンウェハの硬度に近いためシリコンウェハとの接触
摺動で削られる量が少なく、しかもシリコンウェハに悪
影響を及ぼしにくい材質であるので、シリコンウェハへ
の悪影響を極力避けることができる。
【０００９】
【実施例】実施例１．図１に示すシリコンウェハ保持用
受台と同じ形状の受台を、モース硬度６のボロンドープ
ドガラスで作成することで実施例１の製品保持用受台を
作成した。
受台と同じ形状の受台を、モース硬度６のボロンドープ
ドガラスで作成することで実施例１の製品保持用受台を
作成した。
【００１０】実施例２．図１に示すシリコンウェハ保持
用受台と同じ形状の受台を、モース硬度５のボロンドー
プドガラスで作成することで実施例２のシリコンウェハ
保持用受台を作成した。
用受台と同じ形状の受台を、モース硬度５のボロンドー
プドガラスで作成することで実施例２のシリコンウェハ
保持用受台を作成した。
【００１１】
【００１２】実施例３． 図３は本発明の他の実施例によるシリコンウェハ保持用
受台の断面図で、モース硬度７の従来の石英ガラス製シ
リコンウェハ保持用受台の表面をシリコンウェハより軟
らかいモース硬度６のボロンドープドガラスのコーティ
ング膜４で覆うことで実施例３のシリコンウェハ保持用
受台を作成した。
受台の断面図で、モース硬度７の従来の石英ガラス製シ
リコンウェハ保持用受台の表面をシリコンウェハより軟
らかいモース硬度６のボロンドープドガラスのコーティ
ング膜４で覆うことで実施例３のシリコンウェハ保持用
受台を作成した。
【００１３】
【００１４】比較例１．図１に示すシリコンウェハ保持
用受台と同じ形状の受台を、従来例と同じモース硬度７
の石英ガラスで作成することで比較例１のシリコンウェ
ハ保持用受台を作成した。
用受台と同じ形状の受台を、従来例と同じモース硬度７
の石英ガラスで作成することで比較例１のシリコンウェ
ハ保持用受台を作成した。
【００１５】比較例２．図３に示すシリコンウェハ保持
用受台と同じ構成の受台において、表面をモース硬度９
のシリコンカーバイドのコーティング膜４で覆うことで
比較例２のシリコンウェハ保持用受台を作成した。
用受台と同じ構成の受台において、表面をモース硬度９
のシリコンカーバイドのコーティング膜４で覆うことで
比較例２のシリコンウェハ保持用受台を作成した。
【００１６】上記実施例１〜実施例３および比較例１〜
比較例２のシリコンウェハ保持用受台に信越シリコン社
製６インチシリコンウェハを同じ状態で１０回脱着させ
（なお１０回の脱着試験後、ウェハ表面のダストを取り
除くために一度ＲＣＡ洗浄をほどこした。ＲＣＡ洗浄に
ついては、例えばDabid A Puotinen,RCA Review,p.187,
June1970等に詳細に記載されている。）、その脱着試験
前後でのシリコンウェハ端面の表面状態（図４に示すよ
うな接触摺動位置５に相当する部分）の変化をノマルス
キー型干渉顕微鏡で観察することで評価した結果を表１
に示す。なお、用いた信越シリコン社製６インチシリコ
ンウェハ（評価に用いた６インチシリコンウェハ全てに
おいて）は、そのオリフラの右側面の端面に若干のマイ
クロクラックを有する（恐らくメーカサイドでのシリコ
ンウェハ保有時に発生したものと思われる）ものの、他
の部分においては、全くマイクロクラック等の傷は観察
されなかった。そのため、今回の実施例１〜実施例３お
よび比較例１〜比較例２の評価に用いたシリコンウェハ
３の端面評価位置（図４に示すような接触摺動位置５に
相当する部分）は、オリフラの右側面の端面位置を除い
た位置でおこなった。
比較例２のシリコンウェハ保持用受台に信越シリコン社
製６インチシリコンウェハを同じ状態で１０回脱着させ
（なお１０回の脱着試験後、ウェハ表面のダストを取り
除くために一度ＲＣＡ洗浄をほどこした。ＲＣＡ洗浄に
ついては、例えばDabid A Puotinen,RCA Review,p.187,
June1970等に詳細に記載されている。）、その脱着試験
前後でのシリコンウェハ端面の表面状態（図４に示すよ
うな接触摺動位置５に相当する部分）の変化をノマルス
キー型干渉顕微鏡で観察することで評価した結果を表１
に示す。なお、用いた信越シリコン社製６インチシリコ
ンウェハ（評価に用いた６インチシリコンウェハ全てに
おいて）は、そのオリフラの右側面の端面に若干のマイ
クロクラックを有する（恐らくメーカサイドでのシリコ
ンウェハ保有時に発生したものと思われる）ものの、他
の部分においては、全くマイクロクラック等の傷は観察
されなかった。そのため、今回の実施例１〜実施例３お
よび比較例１〜比較例２の評価に用いたシリコンウェハ
３の端面評価位置（図４に示すような接触摺動位置５に
相当する部分）は、オリフラの右側面の端面位置を除い
た位置でおこなった。
【００１７】
【表１】
【００１８】表１から、本発明のモース硬度６以下の実
施例１〜実施例３の製品保持用受台を用いた場合、いず
れも１０回の脱着ではシリコンウェハ表面にマイクロク
ラック等の傷の発生が無いことがわかる。一方、モース
硬度７以上の比較例１および比較例２の製品保持用受台
を用いた場合、いずれも１０回の脱着でマイクロクラッ
ク等の傷の発生があることがわかる。
施例１〜実施例３の製品保持用受台を用いた場合、いず
れも１０回の脱着ではシリコンウェハ表面にマイクロク
ラック等の傷の発生が無いことがわかる。一方、モース
硬度７以上の比較例１および比較例２の製品保持用受台
を用いた場合、いずれも１０回の脱着でマイクロクラッ
ク等の傷の発生があることがわかる。
【００１９】なお、製品に悪影響を与えない元素として
は、ボロン、リン、シリコン、酸素、アルゴン、水素、
チッ素等があるが、これらのうち石英ガラスに添加して
硬度を下げるのに有効なものはボロンやリンである。
は、ボロン、リン、シリコン、酸素、アルゴン、水素、
チッ素等があるが、これらのうち石英ガラスに添加して
硬度を下げるのに有効なものはボロンやリンである。
【００２０】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、少な
くともシリコンウェハとの当接部分が、シリコンウェハ
の硬度より軟らかい、ボロンおよびリンの少なくとも一
方を添加したガラスで構成されているので、シリコンウ
ェハへの悪影響を極力避けながら、シリコンウェハ端部
のシリコンウェハ保持用受台の保持溝との接触摺動に伴
うダメージが防止できる。
くともシリコンウェハとの当接部分が、シリコンウェハ
の硬度より軟らかい、ボロンおよびリンの少なくとも一
方を添加したガラスで構成されているので、シリコンウ
ェハへの悪影響を極力避けながら、シリコンウェハ端部
のシリコンウェハ保持用受台の保持溝との接触摺動に伴
うダメージが防止できる。
【図１】この発明によるシリコンウェハ保持用受台を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図２】図１のシリコンウェハ保持用受台にシリコンウ
ェハを保持した状態を示す斜視図である。
ェハを保持した状態を示す斜視図である。
【図３】この発明の他の実施例を示す断面図である。
【図４】シリコンウェハが保持用受台に保持されるとき
に接触摺動により発生するシリコンウェハ端面部分の傷
の発生部を示す正面図である。
に接触摺動により発生するシリコンウェハ端面部分の傷
の発生部を示す正面図である。
【図５】従来のシリコンウェハ搬送用架体を示す斜視図
である。
である。
１ シリコンウェハ保持用受台 ２ 溝 ３ シリコンウェハ ４ コーティング層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−128623（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−134732（ＪＰ，Ａ) 実開 昭63−33624（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304,21/68 B65D 85/00,85/38
Claims (1)
- 【請求項１】 少なくともシリコンウェハとの当接部分
が、シリコンウェハの硬度より軟らかい、ボロンおよび
リンの少なくとも一方を添加したガラスで構成されたシ
リコンウエハ保持用受台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18098892A JP3046880B2 (ja) | 1992-07-08 | 1992-07-08 | シリコンウェハ保持用受台 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18098892A JP3046880B2 (ja) | 1992-07-08 | 1992-07-08 | シリコンウェハ保持用受台 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0629268A JPH0629268A (ja) | 1994-02-04 |
| JP3046880B2 true JP3046880B2 (ja) | 2000-05-29 |
Family
ID=16092781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18098892A Expired - Fee Related JP3046880B2 (ja) | 1992-07-08 | 1992-07-08 | シリコンウェハ保持用受台 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3046880B2 (ja) |
-
1992
- 1992-07-08 JP JP18098892A patent/JP3046880B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0629268A (ja) | 1994-02-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |