JP2692231B2 - フッ素化炭化水素系共沸及び共沸様組成物 - Google Patents
フッ素化炭化水素系共沸及び共沸様組成物Info
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- JP2692231B2 JP2692231B2 JP1020889A JP2088989A JP2692231B2 JP 2692231 B2 JP2692231 B2 JP 2692231B2 JP 1020889 A JP1020889 A JP 1020889A JP 2088989 A JP2088989 A JP 2088989A JP 2692231 B2 JP2692231 B2 JP 2692231B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は，代替フロンとして使用できるとともに溶剤
等として優れた特性を有する新規なフッ素化炭化水素系
共沸及び共沸様組成物に関するものである。
等として優れた特性を有する新規なフッ素化炭化水素系
共沸及び共沸様組成物に関するものである。
［従来の技術］ フッ素化炭化水素系化合物（以下単にフロンという）
は、毒性が少なく不燃で化学的に安定なものが多く、標
準沸点の異なる各種フロンが入手できることから、これ
らの特性を活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるい
は冷媒等として1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオ
ロエタン（R113）が、発泡剤としてトリクロロモノフル
オロメタン（R11）が、プロペラントや冷媒としてジク
ロロジフルオロメタン（R12）が使われている。
は、毒性が少なく不燃で化学的に安定なものが多く、標
準沸点の異なる各種フロンが入手できることから、これ
らの特性を活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるい
は冷媒等として1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオ
ロエタン（R113）が、発泡剤としてトリクロロモノフル
オロメタン（R11）が、プロペラントや冷媒としてジク
ロロジフルオロメタン（R12）が使われている。
［発明が解決しようとする課題］ 化学的に特に安定なR11、R12、R113は対流圏内での寿
命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽光線によ
り分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連鎖反応を
起こし、オゾン層を破壊するとのことから、これら従来
のフロンの使用規制が実施されることとなった。このた
め、これらの従来のフロンに変わり、オゾン層を破壊し
にくい代替フロンの探索が活発に行なわれている。
命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽光線によ
り分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連鎖反応を
起こし、オゾン層を破壊するとのことから、これら従来
のフロンの使用規制が実施されることとなった。このた
め、これらの従来のフロンに変わり、オゾン層を破壊し
にくい代替フロンの探索が活発に行なわれている。
本発明は、従来のフロンと同等な種々の優れた特性を
有しており代替フロンとして有用な炭素数が３の新規な
含水素クロロフルオロプロパン系フロンを含む組成物を
提供することを目的とするものである。
有しており代替フロンとして有用な炭素数が３の新規な
含水素クロロフルオロプロパン系フロンを含む組成物を
提供することを目的とするものである。
［課題を解決するための手段］ 本発明は1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロ
プロパン（R225cb）及びジクロロメタンからなるフッ素
化炭化水素系共沸及び共沸様組成物に関するものであ
る。本発明の組成物は不燃性であるとともに共沸組成が
存在し、特に洗浄溶剤として従来のR113単体よりも洗浄
力が高いため、R113代替として極めて有用なものであ
る。
プロパン（R225cb）及びジクロロメタンからなるフッ素
化炭化水素系共沸及び共沸様組成物に関するものであ
る。本発明の組成物は不燃性であるとともに共沸組成が
存在し、特に洗浄溶剤として従来のR113単体よりも洗浄
力が高いため、R113代替として極めて有用なものであ
る。
更に、本発明の共沸組成物はリサイクルしても組成の
変動がないこと及び共沸様組成物はリサイクルしても組
成の変動が少ないこと、又従来の単一フロンと同じ使い
方ができ、従来技術の大幅な変更を要しないこと等の利
点がある。本発明の組成物としてはR225cbが23〜63重量
％及びジクロロメタンが37〜77重量％の共沸様組成物、
好ましくは、R225cbが33〜53重量％及びジクロロメタン
が47〜67重量％の共沸様組成物であり、さらに好ましく
はR225cbの約43重量％とジクロロメタンの約57重量％か
らなる共沸組成物である。
変動がないこと及び共沸様組成物はリサイクルしても組
成の変動が少ないこと、又従来の単一フロンと同じ使い
方ができ、従来技術の大幅な変更を要しないこと等の利
点がある。本発明の組成物としてはR225cbが23〜63重量
％及びジクロロメタンが37〜77重量％の共沸様組成物、
好ましくは、R225cbが33〜53重量％及びジクロロメタン
が47〜67重量％の共沸様組成物であり、さらに好ましく
はR225cbの約43重量％とジクロロメタンの約57重量％か
らなる共沸組成物である。
本発明の組成物には、用途に応じてその他の成分を更
に添加混合することができる。例えば、溶剤としての用
途においては、ペンタン、イソペンタン、ヘキサン、イ
ソヘキサン、ネオヘキサン、ヘプタン、イソヘプタン、
2,3−ジメチルブタン、シクロペンタン等の炭化水素
類、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン等の
ニトロアルカン類、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルア
ミン等のアミン類、メタノール、エタノール、ｎ−プロ
ピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノ
ール、ｉ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノー
ル等のアルコール類、メチルセロソルブ、テトラヒドロ
フラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケトン
類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステ
ル類、ジクロロメタン、trans−1,2−ジクロロエチレ
ン、cis−1,2−ジクロロエチレン、２−ブロモプロパン
等のハロゲン化炭化水素類、その他、1,1−ジクロロ−
１−フルオロエタン等のR225cb以外のフロン類等を適宜
添加することができる。
に添加混合することができる。例えば、溶剤としての用
途においては、ペンタン、イソペンタン、ヘキサン、イ
ソヘキサン、ネオヘキサン、ヘプタン、イソヘプタン、
2,3−ジメチルブタン、シクロペンタン等の炭化水素
類、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン等の
ニトロアルカン類、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルア
ミン等のアミン類、メタノール、エタノール、ｎ−プロ
ピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノ
ール、ｉ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノー
ル等のアルコール類、メチルセロソルブ、テトラヒドロ
フラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケトン
類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステ
ル類、ジクロロメタン、trans−1,2−ジクロロエチレ
ン、cis−1,2−ジクロロエチレン、２−ブロモプロパン
等のハロゲン化炭化水素類、その他、1,1−ジクロロ−
１−フルオロエタン等のR225cb以外のフロン類等を適宜
添加することができる。
R225cb及びジクロロメタンからなる本発明の共沸及び
共沸様組成物は、従来のフロントと同様、熱媒体や発泡
剤等の各種用途に使用でき、特に溶剤として用いた場
合、従来のR113より高い溶解力を有するため好適であ
る。溶剤の具体的な用途としては、フラックス、グリー
ス、油、ワックス、インキ等の除去剤、塗料用溶剤、抽
出剤、ガラス、セラミックス、プラスチック、ゴム、金
属製各種物品、特にIC部品、電気機器、精密機械、光学
レンズ等の洗浄剤や水切り剤等を挙げることができる。
洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。
共沸様組成物は、従来のフロントと同様、熱媒体や発泡
剤等の各種用途に使用でき、特に溶剤として用いた場
合、従来のR113より高い溶解力を有するため好適であ
る。溶剤の具体的な用途としては、フラックス、グリー
ス、油、ワックス、インキ等の除去剤、塗料用溶剤、抽
出剤、ガラス、セラミックス、プラスチック、ゴム、金
属製各種物品、特にIC部品、電気機器、精密機械、光学
レンズ等の洗浄剤や水切り剤等を挙げることができる。
洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。
［実施例］ 以下に本発明の実施例を示す。
実施例 １ 下記の組成からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラスコ
に入れ、理論段数20段の精留塔を用い、大気圧下で蒸留
を行なった。
に入れ、理論段数20段の精留塔を用い、大気圧下で蒸留
を行なった。
（組成） （重量％） R225cb（沸点55.4℃） 50 ジクロロメタン（沸点39.8℃） 50 その結果、36℃において留分400gを得た。このものを
ガスクロマトグラフで測定した結果、次の組成であっ
た。
ガスクロマトグラフで測定した結果、次の組成であっ
た。
（組成） （重量％） R225cb 43 ジクロロメタン 57 実施例 ２ 本発明の組成物（R225cb/ジクロロメタン＝43重量％/
57重量％）を用いてフラックスの洗浄試験を行なった。
57重量％）を用いてフラックスの洗浄試験を行なった。
プリント基板全面にフラックス（タムラ製作所製タム
ラ−AL−４）を塗布し、200℃の電気炉で２分間焼成
後、本発明の前記組成物に１分間浸漬した。その結果、
フラックスは良好に除去できることが確認された。
ラ−AL−４）を塗布し、200℃の電気炉で２分間焼成
後、本発明の前記組成物に１分間浸漬した。その結果、
フラックスは良好に除去できることが確認された。
実施例 ３ 実施例２の組成物（R225cb/ジクロロメタン＝43重量
％/57重量％）についてタグ式測定法（JIS−K2265）に
従って測定したところ引火点がなく不燃であることが確
認された。
％/57重量％）についてタグ式測定法（JIS−K2265）に
従って測定したところ引火点がなく不燃であることが確
認された。
［発明の効果］ 本発明のフッ素化炭化水素系組成物は、不燃性で従来
のフロン類が有している優れた特性と同等以上の特性を
有する。又、共沸点が存在するため、リサイクル時に組
成変動がなく、従来の単一フロンと同じ使い方でき、従
来技術の大幅な変更を必要とせず、そのまま適用できる
等の利点がある。又、溶剤としてよく使われているR113
単体よりも、フラックスや油等の溶解除去性に優れるた
めR113に替わる洗浄溶剤として好適である。
のフロン類が有している優れた特性と同等以上の特性を
有する。又、共沸点が存在するため、リサイクル時に組
成変動がなく、従来の単一フロンと同じ使い方でき、従
来技術の大幅な変更を必要とせず、そのまま適用できる
等の利点がある。又、溶剤としてよく使われているR113
単体よりも、フラックスや油等の溶解除去性に優れるた
めR113に替わる洗浄溶剤として好適である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｋ 5/04 Ｃ０９Ｋ 5/04 Ｃ１１Ｄ 7/30 Ｃ１１Ｄ 7/30
Claims (3)
- 【請求項１】1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオ
ロプロパン及びジクロロメタンからなるフッ素化炭化水
素系共沸組成物。 - 【請求項２】1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオ
ロプロパン43重量％及びジクロロメタン57重量％からな
る請求項１に記載の組成物。 - 【請求項３】1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオ
ロプロパン23〜63重量％及びジクロロメタン37〜77重量
％からなるフッ素化炭化水素系共沸様組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1020889A JP2692231B2 (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | フッ素化炭化水素系共沸及び共沸様組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1020889A JP2692231B2 (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | フッ素化炭化水素系共沸及び共沸様組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02202833A JPH02202833A (ja) | 1990-08-10 |
| JP2692231B2 true JP2692231B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=12039783
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1020889A Expired - Lifetime JP2692231B2 (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | フッ素化炭化水素系共沸及び共沸様組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2692231B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5196745A (en) * | 1991-08-16 | 1993-03-23 | Massachusetts Institute Of Technology | Magnetic positioning device |
-
1989
- 1989-02-01 JP JP1020889A patent/JP2692231B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02202833A (ja) | 1990-08-10 |
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