JP2684454B2 - 濃度設定方法 - Google Patents
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- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
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- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、例えばレーザービームを走査して感光材料
上に画像を描画するレーザーイメージャに用いる濃度設
定方法に関するものである。
上に画像を描画するレーザーイメージャに用いる濃度設
定方法に関するものである。
[従来の技術] 近年、医療分野においては、人体内部を観察するため
にCT、MR等が使用され、高精細な画像を得ることが可能
となったが、それに伴って画質を損わずにこれらの画像
を記録する必要性が生じている。レーザーイメージャは
画像を画素毎にデジタル化して記憶し、各画素値に比例
した強度でレーザービームを変調しながら感光体上を走
査して記録を行うものであり、画像を各画素毎にデジタ
ル値で記憶しているので、階調補正等の画像処理を施す
ことによって、簡単な操作で常に安定した画像を記録す
ることが可能であるという長所を有し、現在ではレーザ
ーイメージャによって透過型銀塩フィルム上に記録を行
うことによって、最高画質の記録画像が得られている。
にCT、MR等が使用され、高精細な画像を得ることが可能
となったが、それに伴って画質を損わずにこれらの画像
を記録する必要性が生じている。レーザーイメージャは
画像を画素毎にデジタル化して記憶し、各画素値に比例
した強度でレーザービームを変調しながら感光体上を走
査して記録を行うものであり、画像を各画素毎にデジタ
ル値で記憶しているので、階調補正等の画像処理を施す
ことによって、簡単な操作で常に安定した画像を記録す
ることが可能であるという長所を有し、現在ではレーザ
ーイメージャによって透過型銀塩フィルム上に記録を行
うことによって、最高画質の記録画像が得られている。
画像の対象物、或いは観察者の好みに応じて感光材料
の最大濃度値を変更する場合には、レーザービームを直
接変調してその最高強度を押さえると、特に半導体レー
ザー光源の場合には変調光のダイナミックレンジが小さ
くなって、所望の階調濃度が得られなくなる。そこで、
通常はフィルタ等によって光学的にレーザービームの最
高強度を変化しており、例えばフィルタとして偏光素子
に用いて、銀塩フィルム濃度調整用ダイヤルによって偏
光素子を回転して、この偏光素子を通過するレーザービ
ームの強度を変化させている。
の最大濃度値を変更する場合には、レーザービームを直
接変調してその最高強度を押さえると、特に半導体レー
ザー光源の場合には変調光のダイナミックレンジが小さ
くなって、所望の階調濃度が得られなくなる。そこで、
通常はフィルタ等によって光学的にレーザービームの最
高強度を変化しており、例えばフィルタとして偏光素子
に用いて、銀塩フィルム濃度調整用ダイヤルによって偏
光素子を回転して、この偏光素子を通過するレーザービ
ームの強度を変化させている。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら上述の従来例においては、感光材料の濃
度は照射されるレーザービームの光強度と正確には比例
しておらず、温度等の環境、使用する現像液の種類にも
大きく影響を受けるので、レーザーイメージャを使用す
る現場で、濃度調整用ダイアルの目盛を調整する必要が
ある。そこで、従来では調整ダイアルを異なった角度に
回転した状態で、テスト画像を感光材料に記録して現像
し、その濃度を測定して目盛を対応付けするという煩雑
な方法が採られており、簡便に感光材料の濃度を設定す
る方法が要求されている。
度は照射されるレーザービームの光強度と正確には比例
しておらず、温度等の環境、使用する現像液の種類にも
大きく影響を受けるので、レーザーイメージャを使用す
る現場で、濃度調整用ダイアルの目盛を調整する必要が
ある。そこで、従来では調整ダイアルを異なった角度に
回転した状態で、テスト画像を感光材料に記録して現像
し、その濃度を測定して目盛を対応付けするという煩雑
な方法が採られており、簡便に感光材料の濃度を設定す
る方法が要求されている。
本発明の目的は、上述の従来例の欠点を解消し、簡便
にレーザービームの光強度と感光材料濃度との関係を得
ることが可能な濃度設定方法を提供することにある。
にレーザービームの光強度と感光材料濃度との関係を得
ることが可能な濃度設定方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 上述の目的を達成するために、本発明に係る濃度設定
方法においては、レーザー制御手段によって変調制御を
行って光源から発生されるレーザービームを、前記レー
ザー制御手段とは別に設けた光量調整用のフィルタ手段
を介して感光材料に照射し、前記レーザー制御手段によ
って制御変調される前記光源からの前記レーザービーム
の強度を最大にした状態で、前記レーザービームの強度
を前記フィルタ手段によって変更しながら走査し、前記
感光材料上の複数部分を前記レーザービームの光強度を
異ならせてそれぞれ露光した後に、前記感光材料を現像
して前記複数部分のそれぞれの濃度を測定することによ
って、前記レーザービームの前記感光材料上の光強度と
前記感光材料の濃度との関係を求め、該関係を利用して
前記フィルタ手段による前記感光材料上の濃度を設定す
ることを特徴とする。
方法においては、レーザー制御手段によって変調制御を
行って光源から発生されるレーザービームを、前記レー
ザー制御手段とは別に設けた光量調整用のフィルタ手段
を介して感光材料に照射し、前記レーザー制御手段によ
って制御変調される前記光源からの前記レーザービーム
の強度を最大にした状態で、前記レーザービームの強度
を前記フィルタ手段によって変更しながら走査し、前記
感光材料上の複数部分を前記レーザービームの光強度を
異ならせてそれぞれ露光した後に、前記感光材料を現像
して前記複数部分のそれぞれの濃度を測定することによ
って、前記レーザービームの前記感光材料上の光強度と
前記感光材料の濃度との関係を求め、該関係を利用して
前記フィルタ手段による前記感光材料上の濃度を設定す
ることを特徴とする。
[作用] 上述の構成を有する濃度設定方法は、所定の光強度で
光源から発生するレーザービームをフィルタ手段によっ
て光強度変更しながら感光材料上で走査することによっ
て、感光材料上の複数部分をレーザービームの光強度と
異ならせてそれぞれ露光し、現像して各部分の濃度を測
定することによって、レーザービームの光強度と感光材
料の濃度との関係を求める。
光源から発生するレーザービームをフィルタ手段によっ
て光強度変更しながら感光材料上で走査することによっ
て、感光材料上の複数部分をレーザービームの光強度と
異ならせてそれぞれ露光し、現像して各部分の濃度を測
定することによって、レーザービームの光強度と感光材
料の濃度との関係を求める。
[実施例] 本発明を図示の実施例に基づいて詳細に説明する。
第1図は本発明に係る方法を使用するレーザーイメー
ジャの構成図を示し、レーザー制御装置1に接続された
半導体レーザー光源2から出射されるレーザービームの
光路上には、軸をレーザービームの光軸上に配置した円
筒3が設けられ、この円筒3の中央に偏光ビームスプリ
ッタ4が固定されている。更に光路上には、主走査を行
うための回転多面鏡5、Fθレンズ6、折り返しミラー
7が配置されていて、折り返しミラー7の反射方向には
モータ8に連結されたローラ9が配置され、銀塩フィル
ムFを収納するためのサプライマガジン10及びレシーブ
マガジン11がローラ9を挟んで両側に対称的に配置され
ている。レーザービームの主走査位置を検出するため
に、折り返しミラー7の一端部で反射されたレーザービ
ームが到達する位置にミラー12が設けられ、このミラー
12によって反射される方向にはフォトデイテクタ13が設
けられている。一方、円筒3はパルスモータ14の駆動軸
に固定されたプーリ15によって駆動回転するようにされ
ていて、円筒3に取り付けられた図示しないピンを円筒
3の回転初期位置として検出するために、円筒3の近傍
にフォトインタラプタ16が設けられ、このフォトインタ
ラプタ16の出力はパルスモータ制御装置17に接続され、
パルスモータ制御装置17の出力はパルスモータ14に接続
されている。
ジャの構成図を示し、レーザー制御装置1に接続された
半導体レーザー光源2から出射されるレーザービームの
光路上には、軸をレーザービームの光軸上に配置した円
筒3が設けられ、この円筒3の中央に偏光ビームスプリ
ッタ4が固定されている。更に光路上には、主走査を行
うための回転多面鏡5、Fθレンズ6、折り返しミラー
7が配置されていて、折り返しミラー7の反射方向には
モータ8に連結されたローラ9が配置され、銀塩フィル
ムFを収納するためのサプライマガジン10及びレシーブ
マガジン11がローラ9を挟んで両側に対称的に配置され
ている。レーザービームの主走査位置を検出するため
に、折り返しミラー7の一端部で反射されたレーザービ
ームが到達する位置にミラー12が設けられ、このミラー
12によって反射される方向にはフォトデイテクタ13が設
けられている。一方、円筒3はパルスモータ14の駆動軸
に固定されたプーリ15によって駆動回転するようにされ
ていて、円筒3に取り付けられた図示しないピンを円筒
3の回転初期位置として検出するために、円筒3の近傍
にフォトインタラプタ16が設けられ、このフォトインタ
ラプタ16の出力はパルスモータ制御装置17に接続され、
パルスモータ制御装置17の出力はパルスモータ14に接続
されている。
なお、本実施例で使用するパルスモータ14は、例えば
パルスモータ制御装置17から200個のパルスが入力され
ると1回転するものであって、パルスモータ14の軸に固
定されたプーリ15の径と円筒3の径との比は1対2であ
るので、偏光ビームスプリッタ4は400個のパルスで1
回転することになる。円筒3に取り付けられたピンがフ
ォトインタラプタ16の前方を通過する初期位置におい
て、レーザービームの主な偏光成分と偏光ビームスプリ
ッタ4を透過する偏光成分が直交するように、即ちレー
ザービームの透過光強度が最小となるように偏光ビーム
スプリッタ4が円筒3に固定されており、パルスモータ
制御装置17から100個のパルスが入射されると、偏光ビ
ームスプリッタ4が初期位置から90゜回転されて、レー
ザービームの透過光強度が最大となる。
パルスモータ制御装置17から200個のパルスが入力され
ると1回転するものであって、パルスモータ14の軸に固
定されたプーリ15の径と円筒3の径との比は1対2であ
るので、偏光ビームスプリッタ4は400個のパルスで1
回転することになる。円筒3に取り付けられたピンがフ
ォトインタラプタ16の前方を通過する初期位置におい
て、レーザービームの主な偏光成分と偏光ビームスプリ
ッタ4を透過する偏光成分が直交するように、即ちレー
ザービームの透過光強度が最小となるように偏光ビーム
スプリッタ4が円筒3に固定されており、パルスモータ
制御装置17から100個のパルスが入射されると、偏光ビ
ームスプリッタ4が初期位置から90゜回転されて、レー
ザービームの透過光強度が最大となる。
画像は図示しない記憶手段に各画素毎にデジタル値で
記憶されていて、この画素値に比例してレーザー制御装
置1によって制御変調されたレーザービームが半導体レ
ーザー光源2から出射され、光路上を進んで図示しない
コリメータレンズによってほぼ平行光とされ、円筒3内
の偏光ビームスプリッタ4を経た後に、回転する回転多
面鏡5によって主走査され、Fθレンズ6を介した後に
折り返しミラー7で反射される。その反射方向には、図
示しない吸着手段によってサプライマガジン10から取り
出された末露光の銀塩フィルムFが、モータ8によって
駆動されるローラ9によって搬送されており、ローラ9
の回転によって副走査されて、画像が銀塩フィルムF上
に記録され、露光済の銀塩フィルムFは反対側のレシー
ブマガジン11内に収納されてゆく。なお、折り返しミラ
ー7の一端部で反射されたレーザービームは、ミラー12
に到達し、そこで反射された後にフォトディテクタ13に
入射され、主走査の同期を取ることに利用されている。
記憶されていて、この画素値に比例してレーザー制御装
置1によって制御変調されたレーザービームが半導体レ
ーザー光源2から出射され、光路上を進んで図示しない
コリメータレンズによってほぼ平行光とされ、円筒3内
の偏光ビームスプリッタ4を経た後に、回転する回転多
面鏡5によって主走査され、Fθレンズ6を介した後に
折り返しミラー7で反射される。その反射方向には、図
示しない吸着手段によってサプライマガジン10から取り
出された末露光の銀塩フィルムFが、モータ8によって
駆動されるローラ9によって搬送されており、ローラ9
の回転によって副走査されて、画像が銀塩フィルムF上
に記録され、露光済の銀塩フィルムFは反対側のレシー
ブマガジン11内に収納されてゆく。なお、折り返しミラ
ー7の一端部で反射されたレーザービームは、ミラー12
に到達し、そこで反射された後にフォトディテクタ13に
入射され、主走査の同期を取ることに利用されている。
そして、記録対象等の都合によって画像の最大濃度値
の変化する場合には、パルスモータ制御装置17からパル
スを出射してパルスモータ14を駆動回転すると、プーリ
15を介して円筒3及び偏光ビームスプリッタ4が回転さ
れ、偏光ビームスプリッタ4を透過するレーザービーム
の強度を光学的に変化させることができ、結果的に現像
後の画像の最大濃度値が変化することになる。この画像
の最大濃度値と、偏光ビームスプリッタ4の回転角度の
対応関係は一般に比例しないので、以下に述べるように
測定をして得たものを利用する。
の変化する場合には、パルスモータ制御装置17からパル
スを出射してパルスモータ14を駆動回転すると、プーリ
15を介して円筒3及び偏光ビームスプリッタ4が回転さ
れ、偏光ビームスプリッタ4を透過するレーザービーム
の強度を光学的に変化させることができ、結果的に現像
後の画像の最大濃度値が変化することになる。この画像
の最大濃度値と、偏光ビームスプリッタ4の回転角度の
対応関係は一般に比例しないので、以下に述べるように
測定をして得たものを利用する。
本実施例において使用される銀塩フィルムFは、例え
ば約35cm×43cmの半切ネガフィルムであり、1枚の画像
を描画するために約10秒間を要する。そこで、半導体レ
ーザー光源2から出射されるレーザービームの強度を最
大に設定したまま、1枚の画像を記録する10秒間に、パ
ルスモータ制御装置17からパルスモータ14に第2図に示
すような10段階に分けたパルスを入射する。即ち、各段
階において、0.8msecはパルスを入射せずに記録を行
い、0.2msecで10個のパルスを入射する操作を繰り返す
と、偏光ビームスプリッタ4を初期位置から90゜まで9
゜毎に回転することになって、偏光ビームスプリッタ4
を透過するレーザービームの強度が変化され、本実施例
のようにネガフィルムを使用した場合には、第3図に示
すように現像後に濃度が最も低い部分L1から濃度が最も
高い部分L11まで、濃度が11段階に変化するグレイスケ
ールの画像が得られる。この画像の各濃度段階の主走査
線、副走査線の中間位置で濃度計によって濃度を測定
し、その測定値の間を補間すると、第4図に示すような
パルスモータ14のステップ数と画像濃度との関係が簡単
に得られ、これを実際の画像記録時に使用できる。
ば約35cm×43cmの半切ネガフィルムであり、1枚の画像
を描画するために約10秒間を要する。そこで、半導体レ
ーザー光源2から出射されるレーザービームの強度を最
大に設定したまま、1枚の画像を記録する10秒間に、パ
ルスモータ制御装置17からパルスモータ14に第2図に示
すような10段階に分けたパルスを入射する。即ち、各段
階において、0.8msecはパルスを入射せずに記録を行
い、0.2msecで10個のパルスを入射する操作を繰り返す
と、偏光ビームスプリッタ4を初期位置から90゜まで9
゜毎に回転することになって、偏光ビームスプリッタ4
を透過するレーザービームの強度が変化され、本実施例
のようにネガフィルムを使用した場合には、第3図に示
すように現像後に濃度が最も低い部分L1から濃度が最も
高い部分L11まで、濃度が11段階に変化するグレイスケ
ールの画像が得られる。この画像の各濃度段階の主走査
線、副走査線の中間位置で濃度計によって濃度を測定
し、その測定値の間を補間すると、第4図に示すような
パルスモータ14のステップ数と画像濃度との関係が簡単
に得られ、これを実際の画像記録時に使用できる。
偏光ビームスプリッタ4の透過光量は、その回転角度
の正弦関数の2乗に概略比例した量であるが、パルスモ
ータ14のステップ数と画像の最大濃度値との関係はその
ように単純なものではなく、使用するレーザーイメージ
ャの仕様にも依存している。しかし、この方法によれば
仕様によらずに簡便に両者の関係を得ることが可能であ
り、また環境変化、現像機の特性の変化等があった場合
には、手軽な操作によって容易に特性を再測定すること
もできる。
の正弦関数の2乗に概略比例した量であるが、パルスモ
ータ14のステップ数と画像の最大濃度値との関係はその
ように単純なものではなく、使用するレーザーイメージ
ャの仕様にも依存している。しかし、この方法によれば
仕様によらずに簡便に両者の関係を得ることが可能であ
り、また環境変化、現像機の特性の変化等があった場合
には、手軽な操作によって容易に特性を再測定すること
もできる。
測定値間の補間方法としては、例えば測定値誤差を考
慮した最小2乗誤差規範に基づく回帰曲線計算によって
補間する方法があり、第4図はその方法で補間したもの
であるが、その他にも様々な手法がある。実施例のおい
ては明示していないが、実際には濃度測定値を何らかの
入力手段によってレーザーイメージャの記憶手段に記憶
させ、内蔵されたマイクロコンピュータのプログラムに
従って測定値補間を行うことになる。
慮した最小2乗誤差規範に基づく回帰曲線計算によって
補間する方法があり、第4図はその方法で補間したもの
であるが、その他にも様々な手法がある。実施例のおい
ては明示していないが、実際には濃度測定値を何らかの
入力手段によってレーザーイメージャの記憶手段に記憶
させ、内蔵されたマイクロコンピュータのプログラムに
従って測定値補間を行うことになる。
なお、本実施例においては、パルス入力時においても
主走査、副走査を継続しているが、銀塩フィルムFの濃
度測定時にパルス入力時に記録された部位の濃度を使用
しなければ特性測定に支障はなく、パルス入力時には副
走査、つまり銀塩フィルムの搬送を停止するようにして
もよい。
主走査、副走査を継続しているが、銀塩フィルムFの濃
度測定時にパルス入力時に記録された部位の濃度を使用
しなければ特性測定に支障はなく、パルス入力時には副
走査、つまり銀塩フィルムの搬送を停止するようにして
もよい。
また、偏光ビームスプリッタ4の代りに同様に偏光素
子の偏光フィルタ、又はグランデーションを描いたNDフ
ィルタを移動させて使用しても、同様の濃度偏光効果が
得られる。
子の偏光フィルタ、又はグランデーションを描いたNDフ
ィルタを移動させて使用しても、同様の濃度偏光効果が
得られる。
[発明の効果] 以上説明したように本発明に係る濃度設定方法は、所
定の光強度で光源から発生されるレーザービームをフィ
ルタ手段によって光強度を変更しながら感光材料上で走
査することにより、感光材料上の複数部分をレーザービ
ームの光強度を異ならせてそれぞれ露光し、更に現像し
て各部分の濃度を測定することによって、レーザービー
ムの強度と感光材料の濃度との関係を得ており、この得
られた関係を利用することにより感光材料の濃度を自在
に測定可能とする簡単な操作で実施でき、再測定も容易
に行える。また、光強度変更にフィルタ手段を用いるこ
とによって、光源の最低光強度以下の光強度にも設定で
きるため、レーザービームの強度と感光材料の濃度との
関係をより正確かつ詳細に得ることができ、またこれに
基づいて正確かつ詳細に濃度設定を行うことができる。
定の光強度で光源から発生されるレーザービームをフィ
ルタ手段によって光強度を変更しながら感光材料上で走
査することにより、感光材料上の複数部分をレーザービ
ームの光強度を異ならせてそれぞれ露光し、更に現像し
て各部分の濃度を測定することによって、レーザービー
ムの強度と感光材料の濃度との関係を得ており、この得
られた関係を利用することにより感光材料の濃度を自在
に測定可能とする簡単な操作で実施でき、再測定も容易
に行える。また、光強度変更にフィルタ手段を用いるこ
とによって、光源の最低光強度以下の光強度にも設定で
きるため、レーザービームの強度と感光材料の濃度との
関係をより正確かつ詳細に得ることができ、またこれに
基づいて正確かつ詳細に濃度設定を行うことができる。
図面は本発明に係る濃度設定方法の一実施例を示し、第
1図は構成図、第2図は濃度測定時におけるパルスモー
タのステップ数の説明図、第3図は銀塩フィルムの画像
濃度の説明図、第4図はパルスモータのステップ数と画
像濃度との関係図である。 符号1はレーザー制御装置、2は半導体レーザー光源、
3は円筒、4は偏光ビームスプリッタ、9はローラ、14
はパルスモータ、15はプーリ、16はフォトインタラプ
タ、17はパルスモータ制御装置である。
1図は構成図、第2図は濃度測定時におけるパルスモー
タのステップ数の説明図、第3図は銀塩フィルムの画像
濃度の説明図、第4図はパルスモータのステップ数と画
像濃度との関係図である。 符号1はレーザー制御装置、2は半導体レーザー光源、
3は円筒、4は偏光ビームスプリッタ、9はローラ、14
はパルスモータ、15はプーリ、16はフォトインタラプ
タ、17はパルスモータ制御装置である。
Claims (4)
- 【請求項1】レーザー制御手段によって変調制御を行っ
て光源から発生されるレーザービームを、前記レーザー
制御手段とは別に設けた光量調整用のフィルタ手段を介
して感光材料に照射し、前記レーザー制御手段によって
制御変調される前記光源からの前記レーザービームの強
度を最大にした状態で、前記レーザービームの強度を前
記フィルタ手段によって変更しながら走査し、前記感光
材料上の複数部分を前記レーザービームの光強度を異な
らせてそれぞれ露光した後に、前記感光材料を現像して
前記複数部分のそれぞれの濃度を測定することによっ
て、前記レーザービームの前記感光材料上の光強度と前
記感光材料の濃度との関係を求め、該関係を利用して前
記フィルタ手段による前記感光材料上の濃度を設定する
ことを特徴とする濃度設定方法。 - 【請求項2】前記フィルタ手段は回転する偏光ビームス
プリッタとした請求項1に記載の濃度設定方法。 - 【請求項3】前記フィルタ手段は回転する偏光フィルタ
とした請求項1に記載の濃度設定方法。 - 【請求項4】前記フィルタ手段はグラデーションを描い
た移動可能なNDフィルタとした請求項1に記載の濃度設
定方法。
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