JP2619171B2 - 電子写真用有機感光体及びその下地処理方法 - Google Patents
電子写真用有機感光体及びその下地処理方法Info
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- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
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- G03G5/142—Inert intermediate layers
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、レ−ザビ−ムプリン
タの感光ドラム等のように、露光光源としてレーザ等の
可干渉性単色光を用いる形式の電子写真用有機感光体、
及びその下地処理方法に関する。
タの感光ドラム等のように、露光光源としてレーザ等の
可干渉性単色光を用いる形式の電子写真用有機感光体、
及びその下地処理方法に関する。
【０００２】なおこの明細書において、アルミニウムの
語はその合金を含む意味で用いる。
語はその合金を含む意味で用いる。
【０００３】
【従来の技術】一般に、電子写真用感光体は、アルミニ
ウム又はその合金からなる導電性支持体に感光層が被覆
されたものに構成されるが、かかる感光層として、セレ
ン等の無機系光導電材料に代えて有機物系材料を用いた
有機感光体（いわゆるＯＰＣ感光体）が、成膜性、軽量
性、低価格性等の面で優れているところから用いられる
ようになっている。
ウム又はその合金からなる導電性支持体に感光層が被覆
されたものに構成されるが、かかる感光層として、セレ
ン等の無機系光導電材料に代えて有機物系材料を用いた
有機感光体（いわゆるＯＰＣ感光体）が、成膜性、軽量
性、低価格性等の面で優れているところから用いられる
ようになっている。
【０００４】そして、有機感光体の機能、特性をさらに
向上させるために、近時、感光層を電荷発生層（ＣＧ
Ｌ）と電荷輸送層（ＣＴＬ）を有するものに構成した積
層型と称される有機感光体が提供されている。
向上させるために、近時、感光層を電荷発生層（ＣＧ
Ｌ）と電荷輸送層（ＣＴＬ）を有するものに構成した積
層型と称される有機感光体が提供されている。
【０００５】ところで、上記の積層型感光体等の有機感
光体を用いてデジタル画像情報を記録する方法として、
レ−ザビ−ムプリンタ（ＬＢＰ）の場合のように、レ−
ザ光で感光体表面を光学的に走査することにより静電潜
像を記録するものがある。この際のレ−ザとして、一般
に半導体レ−ザ（発光波長６５０〜８２０ｎｍ程度）が
使用される。
光体を用いてデジタル画像情報を記録する方法として、
レ−ザビ−ムプリンタ（ＬＢＰ）の場合のように、レ−
ザ光で感光体表面を光学的に走査することにより静電潜
像を記録するものがある。この際のレ−ザとして、一般
に半導体レ−ザ（発光波長６５０〜８２０ｎｍ程度）が
使用される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、レ−ザ光が可
干渉性の単色光であるが故に、感光層を透過した光の支
持体表面での反射光と、感光層表面での反射光とが干渉
を起こすことがあり、ベタ画像（特に中間調）の場合、
干渉縞状の濃淡ムラが現れるという問題があった。 こ
のため、露光時に導電性支持体表面に到達した入射光を
乱反射させて、支持体表面からの反射光を減少させる目
的で、液体ホ−ニング法（特開昭５０−９８３２７
号）、超仕上げ法（特公昭５０−２７４９６号）等によ
り、支持体表面を粗面化する試みがなされている。
干渉性の単色光であるが故に、感光層を透過した光の支
持体表面での反射光と、感光層表面での反射光とが干渉
を起こすことがあり、ベタ画像（特に中間調）の場合、
干渉縞状の濃淡ムラが現れるという問題があった。 こ
のため、露光時に導電性支持体表面に到達した入射光を
乱反射させて、支持体表面からの反射光を減少させる目
的で、液体ホ−ニング法（特開昭５０−９８３２７
号）、超仕上げ法（特公昭５０−２７４９６号）等によ
り、支持体表面を粗面化する試みがなされている。
【０００７】しかし、実際上支持体表面を均一にして粗
面化することは極めて困難であり、大きなうねりや局部
的な凹凸が発生するため、表面帯電位が低下する等の問
題を生じ、実用的ではなかった。
面化することは極めて困難であり、大きなうねりや局部
的な凹凸が発生するため、表面帯電位が低下する等の問
題を生じ、実用的ではなかった。
【０００８】この発明は、かかる技術的背景に鑑みてな
されたものであって、電子写真用感光体において、レ−
ザ光のような可干渉性の単色光により静電潜像を記録す
る際の干渉による画像の濃淡ムラを防止した有機感光体
を提供することを目的とし、さらにはそのための電子写
真用有機感光体の下地処理方法を提供するものである。
されたものであって、電子写真用感光体において、レ−
ザ光のような可干渉性の単色光により静電潜像を記録す
る際の干渉による画像の濃淡ムラを防止した有機感光体
を提供することを目的とし、さらにはそのための電子写
真用有機感光体の下地処理方法を提供するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の１つは電子写真用有機感光体そのものに
係り、光源として可干渉の単色光が用いられる電子写真
用有機感光体であって、アルミニウム支持体の表面に、
厚さ０．５〜４μｍの発色陽極酸化皮膜と厚さ３〜２０
μｍの硫酸陽極酸化皮膜とが順次的に形成され、該硫酸
陽極酸化皮膜の表面に有機物系材料からなる感光層が形
成されていることを特徴とするものである。
に、この発明の１つは電子写真用有機感光体そのものに
係り、光源として可干渉の単色光が用いられる電子写真
用有機感光体であって、アルミニウム支持体の表面に、
厚さ０．５〜４μｍの発色陽極酸化皮膜と厚さ３〜２０
μｍの硫酸陽極酸化皮膜とが順次的に形成され、該硫酸
陽極酸化皮膜の表面に有機物系材料からなる感光層が形
成されていることを特徴とするものである。
【００１０】他の１つは有機感光体の下地処理方法に係
り、光源として可干渉の単色光が用いられる電子写真用
有機感光体の下地処理方法であって、アルミニウム支持
体を硫酸浴中で陽極酸化処理して、支持体表面に厚さ３
〜２０μｍの硫酸陽極酸化皮膜を形成する工程と、次い
で、発色効果を有する有機酸中で陽極酸化処理して、支
持体表面に厚さ０．５〜４μｍの発色陽極酸化皮膜を形
成する工程とを実施することを特徴とするものである。
り、光源として可干渉の単色光が用いられる電子写真用
有機感光体の下地処理方法であって、アルミニウム支持
体を硫酸浴中で陽極酸化処理して、支持体表面に厚さ３
〜２０μｍの硫酸陽極酸化皮膜を形成する工程と、次い
で、発色効果を有する有機酸中で陽極酸化処理して、支
持体表面に厚さ０．５〜４μｍの発色陽極酸化皮膜を形
成する工程とを実施することを特徴とするものである。
【００１１】上記支持体を構成するアルミニウム材の種
類は特に限定されるものではなく、切削性、強度、硬さ
等を考慮して各種アルミニウム材の中から適宜のものを
選択使用することができる。一般的には、純アルミニウ
ム系、Ａ３０００系、Ａ６０００系等のアルミニウム展
伸材が好適に用いられる。
類は特に限定されるものではなく、切削性、強度、硬さ
等を考慮して各種アルミニウム材の中から適宜のものを
選択使用することができる。一般的には、純アルミニウ
ム系、Ａ３０００系、Ａ６０００系等のアルミニウム展
伸材が好適に用いられる。
【００１２】上記アルミニウム支持体に、まず硫酸法に
よる陽極酸化処理を施して、支持体表面に硫酸陽極酸化
皮膜を形成する。ここに、硫酸陽極酸化処理を施すの
は、硫酸陽極酸化皮膜によって感光層と支持体との密着
性を付与するとともに電荷注入防止性を向上するためで
ある。かかる硫酸陽極酸化皮膜の厚さは３〜２０μｍに
規定されなければならない。３μｍ未満では感光層との
密着性や電荷注入防止性等に劣るものとなるからであ
る。一方、２０μｍを超えてもこれら効果の格別な増大
を期待し得ず、むしろ処理エネルギ−や処理時間の増大
による生産性の低下原因となるのみならず、皮膜の孔中
のイオンが増加し、画像にノイズが生じやすくなるから
である。特に好ましくは、５〜１０μｍの厚さとするの
が良い。硫酸陽極酸化処理の他の処理条件については特
に規定されることはない。
よる陽極酸化処理を施して、支持体表面に硫酸陽極酸化
皮膜を形成する。ここに、硫酸陽極酸化処理を施すの
は、硫酸陽極酸化皮膜によって感光層と支持体との密着
性を付与するとともに電荷注入防止性を向上するためで
ある。かかる硫酸陽極酸化皮膜の厚さは３〜２０μｍに
規定されなければならない。３μｍ未満では感光層との
密着性や電荷注入防止性等に劣るものとなるからであ
る。一方、２０μｍを超えてもこれら効果の格別な増大
を期待し得ず、むしろ処理エネルギ−や処理時間の増大
による生産性の低下原因となるのみならず、皮膜の孔中
のイオンが増加し、画像にノイズが生じやすくなるから
である。特に好ましくは、５〜１０μｍの厚さとするの
が良い。硫酸陽極酸化処理の他の処理条件については特
に規定されることはない。
【００１３】なお、上記陽極酸化処理前に、要すればア
ルミニウム支持体に脱脂、水洗、エッチング等の前処理
を施すものとしても良い。
ルミニウム支持体に脱脂、水洗、エッチング等の前処理
を施すものとしても良い。
【００１４】続いて次に、発色効果を有する有機酸中で
陽極酸化処理を実施する。この処理により、図１に示す
ように、アルミニウム支持体（１）と硫酸陽極酸化皮膜
（２）との間に発色陽極酸化皮膜（３）が成長し、硫酸
陽極酸化皮膜（２）は発色陽極酸化皮膜（３）の表面に
被覆された状態となる。ここに、発色陽極酸化皮膜
（３）を形成するのは、該発色陽極酸化皮膜（３）と硫
酸陽極酸化皮膜（２）との界面が、図２に示すように一
様な粗面化状態となることから、表面帯電位の低下を招
くことなく支持体表面への入射光あるいは支持体表面か
らの反射光を不規則に屈折させて感光層表面の反射光と
の干渉を抑制し得るからである。さらにはまた、発色陽
極酸化皮膜（３）の着色により入射光あるいは反射光の
一部を吸収することによっても干渉を抑制し得るからで
ある。かかる干渉抑制効果を有効に発揮させるために
は、発色陽極酸化皮膜の膜厚はこれを０．５〜４μｍに
設定しなければならない。０．５μｍ未満の膜厚では上
記干渉抑制効果に乏しいものとなる。一方、４μｍを越
える膜厚を確保しても上記効果が飽和し、処理エネルギ
の無駄となる。発色陽極酸化皮膜の特に好ましい膜厚は
０．５〜３μｍである。
陽極酸化処理を実施する。この処理により、図１に示す
ように、アルミニウム支持体（１）と硫酸陽極酸化皮膜
（２）との間に発色陽極酸化皮膜（３）が成長し、硫酸
陽極酸化皮膜（２）は発色陽極酸化皮膜（３）の表面に
被覆された状態となる。ここに、発色陽極酸化皮膜
（３）を形成するのは、該発色陽極酸化皮膜（３）と硫
酸陽極酸化皮膜（２）との界面が、図２に示すように一
様な粗面化状態となることから、表面帯電位の低下を招
くことなく支持体表面への入射光あるいは支持体表面か
らの反射光を不規則に屈折させて感光層表面の反射光と
の干渉を抑制し得るからである。さらにはまた、発色陽
極酸化皮膜（３）の着色により入射光あるいは反射光の
一部を吸収することによっても干渉を抑制し得るからで
ある。かかる干渉抑制効果を有効に発揮させるために
は、発色陽極酸化皮膜の膜厚はこれを０．５〜４μｍに
設定しなければならない。０．５μｍ未満の膜厚では上
記干渉抑制効果に乏しいものとなる。一方、４μｍを越
える膜厚を確保しても上記効果が飽和し、処理エネルギ
の無駄となる。発色陽極酸化皮膜の特に好ましい膜厚は
０．５〜３μｍである。
【００１５】上記発色陽極酸化皮膜（３）を形成するた
めの処理液は、発色効果を有する有機酸であればその具
体的種類を問わないが、一例としては蓚酸、マレイン
酸、フェノールスルホン酸、スルホフタル酸、スルホサ
リチル酸、クレゾールスルホン酸等を挙げ得る。また、
これらの有機酸は単独で用いても良いし、２種以上を混
合して用いても良い。また、発色効果を有する有機酸と
硫酸等を混合して用いても良い。濃度、液温等の他の処
理条件は特に限定されることはない。
めの処理液は、発色効果を有する有機酸であればその具
体的種類を問わないが、一例としては蓚酸、マレイン
酸、フェノールスルホン酸、スルホフタル酸、スルホサ
リチル酸、クレゾールスルホン酸等を挙げ得る。また、
これらの有機酸は単独で用いても良いし、２種以上を混
合して用いても良い。また、発色効果を有する有機酸と
硫酸等を混合して用いても良い。濃度、液温等の他の処
理条件は特に限定されることはない。
【００１６】なお、画像安定化のために上記陽極酸化処
理後に酢酸ニッケル溶液等に浸漬して封孔処理を実施す
ることも、画像ノイズを減少し得る点で推奨される。
理後に酢酸ニッケル溶液等に浸漬して封孔処理を実施す
ることも、画像ノイズを減少し得る点で推奨される。
【００１７】以上のような下地処理の施された導電性支
持体には、続いて、有機物系材料からなる感光層（４）
として、例えば電荷発生層と電荷輸送層を有する積層型
感光層を被覆形成する。かかる感光層の材料は、従来か
ら知られているものを適宜用いれば良い。例えば、電荷
発生層に用いる光導電体としては、フタロシアニン、ア
ゾ、キナクリドン、多環キノン、ペリレン、インジゴ、
ベンズイミダゾ−ルなどの各種有機顔料を使用すること
ができる。なかでも、無金属フタロシアニン、銅、塩化
インジウム、塩化ガリウム、スズ、オキシチタニウム、
亜鉛、バナジウムなどの金属、又はその酸化物、塩化物
の配位したフタロシアニン類、モノアゾ、ビスアゾ、ト
リスアゾ、ポリアゾ類などのアゾ顔料が好ましい。
持体には、続いて、有機物系材料からなる感光層（４）
として、例えば電荷発生層と電荷輸送層を有する積層型
感光層を被覆形成する。かかる感光層の材料は、従来か
ら知られているものを適宜用いれば良い。例えば、電荷
発生層に用いる光導電体としては、フタロシアニン、ア
ゾ、キナクリドン、多環キノン、ペリレン、インジゴ、
ベンズイミダゾ−ルなどの各種有機顔料を使用すること
ができる。なかでも、無金属フタロシアニン、銅、塩化
インジウム、塩化ガリウム、スズ、オキシチタニウム、
亜鉛、バナジウムなどの金属、又はその酸化物、塩化物
の配位したフタロシアニン類、モノアゾ、ビスアゾ、ト
リスアゾ、ポリアゾ類などのアゾ顔料が好ましい。
【００１８】電荷発生層はこれらの物質の均一層として
あるいはバインダ−中に微粒子分散した状態で形成され
る。ここで使用されるバインダ−樹脂としてはポリビニ
ルブチラ−ル、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリエ
ステル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸
ビニル、ポリ塩化ビニル、メチルセルロ−ス、ポリカ−
ボネ−ト樹脂などを挙げうる。バインダ−樹脂１００重
量部中、上記光導電体を２０〜３００重量部含有させる
ことが好ましく、特に３０〜１５０重量部が好ましい。
この様な電荷発生層の膜厚は通常５μｍ以下、好ましく
は０．０１〜１μｍが適当である。
あるいはバインダ−中に微粒子分散した状態で形成され
る。ここで使用されるバインダ−樹脂としてはポリビニ
ルブチラ−ル、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリエ
ステル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸
ビニル、ポリ塩化ビニル、メチルセルロ−ス、ポリカ−
ボネ−ト樹脂などを挙げうる。バインダ−樹脂１００重
量部中、上記光導電体を２０〜３００重量部含有させる
ことが好ましく、特に３０〜１５０重量部が好ましい。
この様な電荷発生層の膜厚は通常５μｍ以下、好ましく
は０．０１〜１μｍが適当である。
【００１９】前記電荷輸送層中に用いる電荷輸送材料と
しては、ポリビニルカルバゾ−ル、ポリビニルピレン、
ポリアセナフチレンなどの高分子化合物又は、各種ピラ
ゾリン誘導体、オキサゾ−ル誘導体、ヒドラゾン誘導
体、スチルベン誘導体などの低分子化合物を使用でき
る。これらの電荷輸送材料と共に必要に応じてバインダ
−樹脂が配合される。
しては、ポリビニルカルバゾ−ル、ポリビニルピレン、
ポリアセナフチレンなどの高分子化合物又は、各種ピラ
ゾリン誘導体、オキサゾ−ル誘導体、ヒドラゾン誘導
体、スチルベン誘導体などの低分子化合物を使用でき
る。これらの電荷輸送材料と共に必要に応じてバインダ
−樹脂が配合される。
【００２０】好ましいバインダ−樹脂としては、ポリメ
チルメタクリレ−ト、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルな
どのビニル重合体及びその共重合体、ポリカ−ボネ−
ト、ポリエステル、ポリサルホン、フェノキシ樹脂、エ
ポキシ樹脂、シリコン樹脂などを挙げうる。またこれら
の部分的架橋硬化物も使用される。上記電荷輸送材料
を、バインダ−樹脂１００重量部中に３０〜２００重量
部、特に５０〜１５０重量部含有させることが好まし
い。
チルメタクリレ−ト、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルな
どのビニル重合体及びその共重合体、ポリカ−ボネ−
ト、ポリエステル、ポリサルホン、フェノキシ樹脂、エ
ポキシ樹脂、シリコン樹脂などを挙げうる。またこれら
の部分的架橋硬化物も使用される。上記電荷輸送材料
を、バインダ−樹脂１００重量部中に３０〜２００重量
部、特に５０〜１５０重量部含有させることが好まし
い。
【００２１】また電荷輸送層には、必要に応じて酸化防
止剤、増感剤などの各種添加剤を含んでいても良い。
止剤、増感剤などの各種添加剤を含んでいても良い。
【００２２】電荷輸送層の膜厚は通常１０〜４０μｍ、
好ましくは１０〜２５μｍの厚みで使用される。
好ましくは１０〜２５μｍの厚みで使用される。
【００２３】
【作用】アルミニウム支持体（１）を硫酸浴中で陽極酸
化処理する工程と、発色効果を有する有機酸中で陽極酸
化処理する工程とを順次的に実施することにより、アル
ミニウム支持体（１）の表面に、厚さ０．５〜４μｍの
発色陽極酸化皮膜（３）と厚さ３〜２０μｍの硫酸陽極
酸化皮膜（１）とが順次的に形成されているから、発色
陽極酸化皮膜（３）と硫酸陽極酸化皮膜（２）との界面
が一様な粗面化状態となる。このため、支持体表面への
入射光あるいは支持体表面からの反射光が不規則に屈折
して感光層表面の反射光との干渉が抑制される。しかも
また、発色陽極酸化皮膜（３）は着色状態にあるから、
入射光あるいは反射光の一部が吸収されることによって
も干渉が抑制される。
化処理する工程と、発色効果を有する有機酸中で陽極酸
化処理する工程とを順次的に実施することにより、アル
ミニウム支持体（１）の表面に、厚さ０．５〜４μｍの
発色陽極酸化皮膜（３）と厚さ３〜２０μｍの硫酸陽極
酸化皮膜（１）とが順次的に形成されているから、発色
陽極酸化皮膜（３）と硫酸陽極酸化皮膜（２）との界面
が一様な粗面化状態となる。このため、支持体表面への
入射光あるいは支持体表面からの反射光が不規則に屈折
して感光層表面の反射光との干渉が抑制される。しかも
また、発色陽極酸化皮膜（３）は着色状態にあるから、
入射光あるいは反射光の一部が吸収されることによって
も干渉が抑制される。
【００２４】また、硫酸陽極酸化皮膜（２）の存在によ
り、支持体（１）と感光層（４）との密着性、電荷注入
防止性が向上する。
り、支持体（１）と感光層（４）との密着性、電荷注入
防止性が向上する。
【００２５】
【発明の効果】この発明は、上述の次第で、アルミニウ
ム支持体を硫酸浴中で陽極酸化処理する工程と、発色効
果を有する有機酸中で陽極酸化処理する工程とを順次的
に実施することにより、アルミニウム支持体の表面に、
厚さ０．５〜４μｍの発色陽極酸化皮膜と厚さ３〜２０
μｍの硫酸陽極酸化皮膜とが順次的に形成され、しかも
発色陽極酸化皮膜と硫酸陽極酸化皮膜との界面が一様な
粗面化状態となっている。このため、支持体表面への入
射光あるいは支持体表面からの反射光を不規則に屈折さ
せることができ、感光層表面の反射光との干渉を抑制す
ることができる。かつまた、発色陽極酸化皮膜は着色状
態にあるから、入射光あるいは反射光の一部を吸収する
ことができ、益々干渉を抑制することができる。その結
果、レーザ光の如き可干渉性の単色光で感光体表面を走
査して静電潜像を記録する方式の有機感光体において、
支持体表面からの反射光と感光層表面での反射光との干
渉に起因して生じていたベタ画像（特に中間調）の干渉
縞状の濃淡ムラの発生を抑制することができ、画像品質
を向上することができる。もとより、所定厚さの硫酸陽
極酸化皮膜の存在により、支持体と感光層との密着性、
電荷注入防止性を向上しうる。
ム支持体を硫酸浴中で陽極酸化処理する工程と、発色効
果を有する有機酸中で陽極酸化処理する工程とを順次的
に実施することにより、アルミニウム支持体の表面に、
厚さ０．５〜４μｍの発色陽極酸化皮膜と厚さ３〜２０
μｍの硫酸陽極酸化皮膜とが順次的に形成され、しかも
発色陽極酸化皮膜と硫酸陽極酸化皮膜との界面が一様な
粗面化状態となっている。このため、支持体表面への入
射光あるいは支持体表面からの反射光を不規則に屈折さ
せることができ、感光層表面の反射光との干渉を抑制す
ることができる。かつまた、発色陽極酸化皮膜は着色状
態にあるから、入射光あるいは反射光の一部を吸収する
ことができ、益々干渉を抑制することができる。その結
果、レーザ光の如き可干渉性の単色光で感光体表面を走
査して静電潜像を記録する方式の有機感光体において、
支持体表面からの反射光と感光層表面での反射光との干
渉に起因して生じていたベタ画像（特に中間調）の干渉
縞状の濃淡ムラの発生を抑制することができ、画像品質
を向上することができる。もとより、所定厚さの硫酸陽
極酸化皮膜の存在により、支持体と感光層との密着性、
電荷注入防止性を向上しうる。
【００２６】しかも、従来の液体ホーニング法や超仕上
げ法と異なり、アルミニウム支持体表面を粗面化するも
のではないから、表面帯電位の低下等の問題を派生する
ことなく、レーザ光等の乱反射効果を得ることができ
る。
げ法と異なり、アルミニウム支持体表面を粗面化するも
のではないから、表面帯電位の低下等の問題を派生する
ことなく、レーザ光等の乱反射効果を得ることができ
る。
【００２７】
【実施例】Ａ３００３−Ｈ14の引抜管を４個用意し、こ
れら管材を表面粗さ０．５Ｓに切削したものをアルミニ
ウム支持体として用いた。
れら管材を表面粗さ０．５Ｓに切削したものをアルミニ
ウム支持体として用いた。
【００２８】そして、上記各支持体に前処理を行った。
前処理は脱脂（使用界面活性剤：ＪＣＢ−１２Ａ（日本
シービーケミカル社製）、３０ｇ／ｌ、６５℃×５
分）、水洗、中和（ＨＮＯ3 、１３ｗ／ｖ％、常温×２
分）、水洗の順次的実施により行った。
前処理は脱脂（使用界面活性剤：ＪＣＢ−１２Ａ（日本
シービーケミカル社製）、３０ｇ／ｌ、６５℃×５
分）、水洗、中和（ＨＮＯ3 、１３ｗ／ｖ％、常温×２
分）、水洗の順次的実施により行った。
【００２９】次いで、それぞれの支持体につき以下の下
地処理を行った。
地処理を行った。
【００３０】（比較例１） 硫酸１４０ｇ／ｌ、２０℃、１Ａ／ｄｍ2 ×２０分の条
件で硫酸陽極酸化処理を行った。得られた硫酸陽極酸化
皮膜の厚さは６μｍであった。
件で硫酸陽極酸化処理を行った。得られた硫酸陽極酸化
皮膜の厚さは６μｍであった。
【００３１】（実施例１） 上記比較例１と同一条件で硫酸陽極酸化処理を行った
後、マレイン酸１００ｇ／ｌ、硫酸５ｇ／ｌ、２０℃で
２Ａ／ｄｍ2 ×５分の条件で陽極酸化処理を行い、厚さ
３μｍの発色陽極酸化皮膜を形成した。
後、マレイン酸１００ｇ／ｌ、硫酸５ｇ／ｌ、２０℃で
２Ａ／ｄｍ2 ×５分の条件で陽極酸化処理を行い、厚さ
３μｍの発色陽極酸化皮膜を形成した。
【００３２】（実施例２） 上記比較例１と同一条件で硫酸陽極酸化処理を行った
後、スルホサリチル酸１００ｇ／ｌ、硫酸５ｇ／ｌを含
む２０℃の処理液で、２Ａ／ｄｍ2 ×５分の条件で陽極
酸化処理を行い、厚さ３μｍの発色陽極酸化皮膜を形成
した。
後、スルホサリチル酸１００ｇ／ｌ、硫酸５ｇ／ｌを含
む２０℃の処理液で、２Ａ／ｄｍ2 ×５分の条件で陽極
酸化処理を行い、厚さ３μｍの発色陽極酸化皮膜を形成
した。
【００３３】（実施例３） 上記比較例１と同一条件で硫酸陽極酸化処理を行った
後、スルホフタル酸１００ｇ／ｌ、硫酸５ｇ／ｌを含む
２０℃の処理液で、２Ａ／ｄｍ2 ×５分の条件で陽極酸
化処理を行い、厚さ３μｍの発色陽極酸化皮膜を形成し
た。
後、スルホフタル酸１００ｇ／ｌ、硫酸５ｇ／ｌを含む
２０℃の処理液で、２Ａ／ｄｍ2 ×５分の条件で陽極酸
化処理を行い、厚さ３μｍの発色陽極酸化皮膜を形成し
た。
【００３４】上記の各下地処理を終了した後、後処理と
して２度の水洗、酢酸ニッケル封孔（１０ｇ／ｌ、８０
℃×５分）及び沸水封孔処理（９５℃×５分）を順次的
に行った。
して２度の水洗、酢酸ニッケル封孔（１０ｇ／ｌ、８０
℃×５分）及び沸水封孔処理（９５℃×５分）を順次的
に行った。
【００３５】上記工程を終了した実施例１〜３のアルミ
ニウム支持体の陽極酸化皮膜断面を拡大したところ、図
１のように硫酸陽極酸化皮膜と発色陽極酸化皮膜との界
面が粗面化状態となっていた。
ニウム支持体の陽極酸化皮膜断面を拡大したところ、図
１のように硫酸陽極酸化皮膜と発色陽極酸化皮膜との界
面が粗面化状態となっていた。
【００３６】次に、各支持体表面に電荷発生層と電荷輸
送層とを有する感光層を以下のようにして被覆形成し
た。即ち、ＣＧＬ層は、無金属フタロシアニンをテトラ
ヒドロフランにて４％に希釈して、膜厚が約０．５μｍ
になるように塗工し乾燥して形成した。次に、ＣＴ剤
（ヒドラゾン化合物）とＣＴ樹脂（ポリカーボネート）
を１：２の比率で塩化メチレンに溶解して、膜厚が約２
０μｍになるように塗工し乾燥してＣＴＬ層とした。
送層とを有する感光層を以下のようにして被覆形成し
た。即ち、ＣＧＬ層は、無金属フタロシアニンをテトラ
ヒドロフランにて４％に希釈して、膜厚が約０．５μｍ
になるように塗工し乾燥して形成した。次に、ＣＴ剤
（ヒドラゾン化合物）とＣＴ樹脂（ポリカーボネート）
を１：２の比率で塩化メチレンに溶解して、膜厚が約２
０μｍになるように塗工し乾燥してＣＴＬ層とした。
【００３７】上記により得た各種感光体につき、画像試
験を行った。画像試験は、上記感光体をレーザビームプ
リンターに取付け、ドットパターンによる中間調の画像
を出し、干渉縞状のムラの有無を評価した。その結果、
下地処理が硫酸陽極酸化処理のみである比較例１では干
渉縞が認められたのに対し、硫酸陽極酸化処理に加えて
発色効果のある有機酸を用いて陽極酸化処理した実施例
１〜３ではまったく認められなかった。
験を行った。画像試験は、上記感光体をレーザビームプ
リンターに取付け、ドットパターンによる中間調の画像
を出し、干渉縞状のムラの有無を評価した。その結果、
下地処理が硫酸陽極酸化処理のみである比較例１では干
渉縞が認められたのに対し、硫酸陽極酸化処理に加えて
発色効果のある有機酸を用いて陽極酸化処理した実施例
１〜３ではまったく認められなかった。
【００３８】従って、本発明によれば干渉縞状の濃淡ム
ラを抑制できることがわかる。
ラを抑制できることがわかる。
【図１】この発明に係る電子写真用有機感光体の断面図
である。
である。
【図２】図１に示した感光体の硫酸陽極酸化皮膜と発色
陽極酸化皮膜との界面付近を示す拡大断面図である。
陽極酸化皮膜との界面付近を示す拡大断面図である。
１…アルミニウム支持体 ２…硫酸陽極酸化皮膜 ３…発色陽極酸化皮膜 ４…感光層
Claims (2)
- 【請求項１】 光源として可干渉の単色光が用いられる
電子写真用有機感光体であって、アルミニウム支持体
（１）の表面に、厚さ０．５〜４μｍの発色陽極酸化皮
膜（３）と厚さ３〜２０μｍの硫酸陽極酸化皮膜（２）
とが順次的に形成され、該硫酸陽極酸化皮膜（２）の表
面に有機物系材料からなる感光層（４）が形成されてい
ることを特徴とする電子写真用有機感光体。 - 【請求項２】 光源として可干渉の単色光が用いられる
電子写真用有機感光体の下地処理方法であって、 アルミニウム支持体（１）を硫酸浴中で陽極酸化処理し
て、支持体表面に厚さ３〜２０μｍの硫酸陽極酸化皮膜
（２）を形成する工程と、 次いで、発色効果を有する有機酸中で陽極酸化処理し
て、支持体表面に厚さ０．５〜４μｍの発色陽極酸化皮
膜（３）を形成する工程とを実施することを特徴とする
電子写真用有機感光体の下地処理方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4004685A JP2619171B2 (ja) | 1992-01-14 | 1992-01-14 | 電子写真用有機感光体及びその下地処理方法 |
| EP93300090A EP0551988B1 (en) | 1992-01-14 | 1993-01-07 | Organic photosensitive device for electrophotography and a method of processing a substrate of the device |
| DE69321376T DE69321376T2 (de) | 1992-01-14 | 1993-01-07 | Organisch-lichtempfindliches Element für die Elektrophotographie und eine Herstellungsmethode für hierbei verwendete Substrate |
| US08/001,539 US5358812A (en) | 1992-01-14 | 1993-01-07 | Organic photosensitive device for electrophotography and a method of processing a substrate of the device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4004685A JP2619171B2 (ja) | 1992-01-14 | 1992-01-14 | 電子写真用有機感光体及びその下地処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05188620A JPH05188620A (ja) | 1993-07-30 |
| JP2619171B2 true JP2619171B2 (ja) | 1997-06-11 |
Family
ID=11590751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4004685A Expired - Fee Related JP2619171B2 (ja) | 1992-01-14 | 1992-01-14 | 電子写真用有機感光体及びその下地処理方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5358812A (ja) |
| EP (1) | EP0551988B1 (ja) |
| JP (1) | JP2619171B2 (ja) |
| DE (1) | DE69321376T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| DE102011009303A1 (de) | 2010-09-24 | 2012-03-29 | Andocksysteme G. Untch Gmbh | Mehrfachklappenvorrichtung für ein kontaminationsfreies Verbinden zweier Gebinde oder Leitungen sowie Passiv- und Aktivklappe hierfür |
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|---|---|---|---|---|
| BE622409A (ja) * | 1961-09-13 | |||
| JPS5729595A (en) * | 1980-07-28 | 1982-02-17 | Mitsubishi Alum Co Ltd | Formation of colored film of aluminum |
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| JPH01205091A (ja) * | 1988-02-12 | 1989-08-17 | Showa Alum Corp | 接着構造用Ａｌ合金製自転車フレーム部材の表面処理方法 |
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| JP2705098B2 (ja) * | 1988-04-26 | 1998-01-26 | ミノルタ株式会社 | 積層型感光体 |
| JPH02270130A (ja) * | 1989-04-10 | 1990-11-05 | Sony Corp | ハードディスク用基板及びその製造方法 |
| JPH03109570A (ja) * | 1989-09-25 | 1991-05-09 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体及びその製造方法 |
| JPH07120058B2 (ja) * | 1989-09-25 | 1995-12-20 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
| JPH03109569A (ja) * | 1989-09-25 | 1991-05-09 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体及びその製造方法 |
-
1992
- 1992-01-14 JP JP4004685A patent/JP2619171B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-01-07 US US08/001,539 patent/US5358812A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-01-07 EP EP93300090A patent/EP0551988B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-01-07 DE DE69321376T patent/DE69321376T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05188620A (ja) | 1993-07-30 |
| DE69321376T2 (de) | 1999-03-11 |
| EP0551988B1 (en) | 1998-10-07 |
| US5358812A (en) | 1994-10-25 |
| DE69321376D1 (de) | 1998-11-12 |
| EP0551988A1 (en) | 1993-07-21 |
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