JP3107658B2 - 電子写真用有機感光体の下地処理方法 - Google Patents
電子写真用有機感光体の下地処理方法Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、レ−ザビ−ムプリン
タの感光ドラム等のように、露光光源としてレーザ等の
可干渉性単色光を用いる形式の電子写真用有機感光体、
及びその下地処理方法に関する。
タの感光ドラム等のように、露光光源としてレーザ等の
可干渉性単色光を用いる形式の電子写真用有機感光体、
及びその下地処理方法に関する。
【0002】なおこの明細書において、アルミニウムの
語はその合金を含む意味で用いる。
語はその合金を含む意味で用いる。
【0003】
【従来の技術】一般に、電子写真用感光体は、アルミニ
ウム又はその合金からなる導電性支持体に感光層が被覆
されたものに構成されるが、かかる感光層として、セレ
ン等の無機系光導電材料に代えて有機物系材料を用いた
有機感光体(いわゆるOPC感光体)が、成膜性、軽量
性、低価格性等の面で優れているところから用いられる
ようになっている。
ウム又はその合金からなる導電性支持体に感光層が被覆
されたものに構成されるが、かかる感光層として、セレ
ン等の無機系光導電材料に代えて有機物系材料を用いた
有機感光体(いわゆるOPC感光体)が、成膜性、軽量
性、低価格性等の面で優れているところから用いられる
ようになっている。
【0004】そして、有機感光体の機能、特性をさらに
向上させるために、近時、感光層を電荷発生層(CG
L)と電荷輸送層(CTL)を有するものに構成した積
層型と称される有機感光体が提供されている。
向上させるために、近時、感光層を電荷発生層(CG
L)と電荷輸送層(CTL)を有するものに構成した積
層型と称される有機感光体が提供されている。
【0005】ところで、上記の積層型感光体等の有機感
光体を用いてデジタル画像情報を記録する方法として、
レ−ザビ−ムプリンタ(LBP)の場合のように、レ−
ザ光で感光体表面を光学的に走査することにより静電潜
像を記録するものがある。この際のレ−ザとして、一般
に半導体レ−ザ(発光波長650〜820nm程度)が
使用される。
光体を用いてデジタル画像情報を記録する方法として、
レ−ザビ−ムプリンタ(LBP)の場合のように、レ−
ザ光で感光体表面を光学的に走査することにより静電潜
像を記録するものがある。この際のレ−ザとして、一般
に半導体レ−ザ(発光波長650〜820nm程度)が
使用される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、レ−ザ光が可
干渉性の単色光であるが故に、感光層を透過した光の支
持体表面での反射光と、感光層表面での反射光とが干渉
を起こすことがあり、ベタ画像(特に中間調)の場合、
干渉縞状の濃淡ムラが現れるという問題があった。
干渉性の単色光であるが故に、感光層を透過した光の支
持体表面での反射光と、感光層表面での反射光とが干渉
を起こすことがあり、ベタ画像(特に中間調)の場合、
干渉縞状の濃淡ムラが現れるという問題があった。
【0007】このため、露光時に導電性支持体表面に到
達した入射光を乱反射させて、支持体表面からの反射光
を減少させる目的で、液体ホ−ニング法(特開昭50−
98327号)、超仕上げ法(特公昭50−27496
号)等により、支持体表面を粗面化する試みがなされて
いる。
達した入射光を乱反射させて、支持体表面からの反射光
を減少させる目的で、液体ホ−ニング法(特開昭50−
98327号)、超仕上げ法(特公昭50−27496
号)等により、支持体表面を粗面化する試みがなされて
いる。
【0008】しかし、これらの方法では支持体表面を均
一に粗面化することは実際上極めて困難であり、大きな
うねりや局部的な凹凸が発生するため、表面帯電位が低
下する等の問題を生じ、実用的ではなかった。
一に粗面化することは実際上極めて困難であり、大きな
うねりや局部的な凹凸が発生するため、表面帯電位が低
下する等の問題を生じ、実用的ではなかった。
【0009】この発明は、かかる技術的背景に鑑みてな
されたものであって、電子写真用感光体において、レ−
ザ光のような可干渉性の単色光により静電潜像を記録す
る際の干渉による画像の濃淡ムラを防止した有機感光体
を提供することを目的とし、そのためにアルミニウム支
持体表面を均一に粗面化しうる電子写真用有機感光体の
下地処理方法を提供するものである。
されたものであって、電子写真用感光体において、レ−
ザ光のような可干渉性の単色光により静電潜像を記録す
る際の干渉による画像の濃淡ムラを防止した有機感光体
を提供することを目的とし、そのためにアルミニウム支
持体表面を均一に粗面化しうる電子写真用有機感光体の
下地処理方法を提供するものである。
【0010】上記目的を達成するために、この発明は、
光源として可干渉性の単色光が用いられる電子写真用有
機感光体の下地処理方法であって、NaF、KF、Li
Fの1種または2種以上を5〜50g/1含有するNa
OH水溶液にてアルミニウム支持体をエッチング処理す
る工程を含むことを特徴とするものである。
光源として可干渉性の単色光が用いられる電子写真用有
機感光体の下地処理方法であって、NaF、KF、Li
Fの1種または2種以上を5〜50g/1含有するNa
OH水溶液にてアルミニウム支持体をエッチング処理す
る工程を含むことを特徴とするものである。
【0011】上記支持体を構成するアルミニウム材の種
類は特に限定されるものではなく、切削性、強度、硬さ
等を考慮して各種アルミニウム材の中から適宜のものを
選択使用することができる。一般的には、純アルミニウ
ム系、A3000系、A6000系等のアルミニウム展
伸材が好適に用いられる。
類は特に限定されるものではなく、切削性、強度、硬さ
等を考慮して各種アルミニウム材の中から適宜のものを
選択使用することができる。一般的には、純アルミニウ
ム系、A3000系、A6000系等のアルミニウム展
伸材が好適に用いられる。
【0012】上記アルミニウム支持体に、一般には、感
光層と支持体との密着性の付与、電化注入防止性の向上
等を目的として、陽極酸化処理を施して陽極酸化皮膜を
形成するが、この発明では陽極酸化処理の前処理とし
て、NaF、KF、LiFの1種または2種以上を含有
するNaOH水溶液に支持体表面を接触させてエッチン
グ処理を実施する。これは、アルミニウム支持体表面を
エッチングにより均一に粗面化して支持体表面への入射
光を不規則に散乱させることにより、感光層表面の反射
光との干渉を抑制するためである。即ち、NaOH水溶
液を用いることで、アルミニウム支持体の表面がエッチ
ングされるとともに、水溶液中に含有されたNaF(フ
ッ化ナトリウム)、KF(フッ化カリウム)、LiF
(フッ化リチウム)が粗面の程度をより細かくするよう
に作用し、アルミニウム支持体表面が均一微細に粗面化
されたいわゆる梨地状態となる。かかる作用効果の点で
NaF、KF、LiFは相互に均等物であり、少なくと
も1種が含有されれば良いが、水溶液中の合計含有量が
5g/l未満では上記の微細粗面化の効果に乏しい。一
方、50g/lを越えると反応が激しくなり、大きな凹
凸が発生する等の欠点を派生する。従ってNaOH水溶
液中に含有されるNaF、KF、LiFの1種または2
種以上の合計含有量は5〜50g/l(リットル)とし
なければならない。特に好ましい含有量は10〜30g
/lである。
光層と支持体との密着性の付与、電化注入防止性の向上
等を目的として、陽極酸化処理を施して陽極酸化皮膜を
形成するが、この発明では陽極酸化処理の前処理とし
て、NaF、KF、LiFの1種または2種以上を含有
するNaOH水溶液に支持体表面を接触させてエッチン
グ処理を実施する。これは、アルミニウム支持体表面を
エッチングにより均一に粗面化して支持体表面への入射
光を不規則に散乱させることにより、感光層表面の反射
光との干渉を抑制するためである。即ち、NaOH水溶
液を用いることで、アルミニウム支持体の表面がエッチ
ングされるとともに、水溶液中に含有されたNaF(フ
ッ化ナトリウム)、KF(フッ化カリウム)、LiF
(フッ化リチウム)が粗面の程度をより細かくするよう
に作用し、アルミニウム支持体表面が均一微細に粗面化
されたいわゆる梨地状態となる。かかる作用効果の点で
NaF、KF、LiFは相互に均等物であり、少なくと
も1種が含有されれば良いが、水溶液中の合計含有量が
5g/l未満では上記の微細粗面化の効果に乏しい。一
方、50g/lを越えると反応が激しくなり、大きな凹
凸が発生する等の欠点を派生する。従ってNaOH水溶
液中に含有されるNaF、KF、LiFの1種または2
種以上の合計含有量は5〜50g/l(リットル)とし
なければならない。特に好ましい含有量は10〜30g
/lである。
【0013】また、水溶液中のNaOH量は5〜100
g/lとするのがよい。5g/l未満では支持体表面の
エッチングによる粗面化を十分に進行させることができ
ないおそれがあり、一方100g/lを越えるとエッチ
ングが進行し過ぎて支持体表面に大きなうねりや局部的
な凹凸を生じる危険がある。特に好ましいNaOHの含
有量は10〜50g/lである。また、NaOH水溶液
の温度は30〜50℃に、エッチング時間は10秒以上
3分以下に設定するのが良い。温度が30℃未満、エッ
チング時間が10秒未満では、十分な粗面化を行うこと
ができない恐れがある。一方、50℃を越える温度、3
分を越えるエッチング時間ではやはり粗面化の程度が進
み過ぎる危険がある。特に好ましい液温、エッチング時
間は30〜40℃、30秒〜2分である。
g/lとするのがよい。5g/l未満では支持体表面の
エッチングによる粗面化を十分に進行させることができ
ないおそれがあり、一方100g/lを越えるとエッチ
ングが進行し過ぎて支持体表面に大きなうねりや局部的
な凹凸を生じる危険がある。特に好ましいNaOHの含
有量は10〜50g/lである。また、NaOH水溶液
の温度は30〜50℃に、エッチング時間は10秒以上
3分以下に設定するのが良い。温度が30℃未満、エッ
チング時間が10秒未満では、十分な粗面化を行うこと
ができない恐れがある。一方、50℃を越える温度、3
分を越えるエッチング時間ではやはり粗面化の程度が進
み過ぎる危険がある。特に好ましい液温、エッチング時
間は30〜40℃、30秒〜2分である。
【0014】なお、上記のエッチング処理に先立ち、要
すればアルミニウム支持体に脱脂、水洗等の処理を施す
ものとしても良い。
すればアルミニウム支持体に脱脂、水洗等の処理を施す
ものとしても良い。
【0015】上記エッチング処理後に行う陽極酸化処理
の条件は特に限定されることはないが、一般的には、硫
酸陽極酸化処理により行われ、硫酸皮膜の膜厚は1〜2
0μm程度に設定される。
の条件は特に限定されることはないが、一般的には、硫
酸陽極酸化処理により行われ、硫酸皮膜の膜厚は1〜2
0μm程度に設定される。
【0016】なお、画像安定化のために前記陽極酸化処
理後に酢酸ニッケル溶液等に浸漬して封孔処理を実施す
ることも、画像ノイズを減少し得る点で推奨される。
理後に酢酸ニッケル溶液等に浸漬して封孔処理を実施す
ることも、画像ノイズを減少し得る点で推奨される。
【0017】以上のような下地処理の施された導電性支
持体には、続いて、有機物系材料からなる感光層とし
て、例えば電荷発生層と電荷輸送層を有する積層型感光
層を被覆形成する。かかる感光層の材料は、従来から知
られているものを適宜用いれば良い。例えば、電荷発生
層に用いる光導電体としては、フタロシアニン、アゾ、
キナクリドン、多環キノン、ペリレン、インジゴ、ベン
ズイミダゾ−ルなどの各種有機顔料を使用することがで
きる。なかでも、無金属フタロシアニン、銅、塩化イン
ジウム、塩化ガリウム、スズ、オキシチタニウム、亜
鉛、バナジウムなどの金属、又はその酸化物、塩化物の
配位したフタロシアニン類、モノアゾ、ビスアゾ、トリ
スアゾ、ポリアゾ類などのアゾ顔料が好ましい。
持体には、続いて、有機物系材料からなる感光層とし
て、例えば電荷発生層と電荷輸送層を有する積層型感光
層を被覆形成する。かかる感光層の材料は、従来から知
られているものを適宜用いれば良い。例えば、電荷発生
層に用いる光導電体としては、フタロシアニン、アゾ、
キナクリドン、多環キノン、ペリレン、インジゴ、ベン
ズイミダゾ−ルなどの各種有機顔料を使用することがで
きる。なかでも、無金属フタロシアニン、銅、塩化イン
ジウム、塩化ガリウム、スズ、オキシチタニウム、亜
鉛、バナジウムなどの金属、又はその酸化物、塩化物の
配位したフタロシアニン類、モノアゾ、ビスアゾ、トリ
スアゾ、ポリアゾ類などのアゾ顔料が好ましい。
【0018】電荷発生層はこれらの物質の均一層として
あるいはバインダ−中に微粒子分散した状態で形成され
る。ここで使用されるバインダ−樹脂としてはポリビニ
ルブチラ−ル、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリエ
ステル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸
ビニル、ポリ塩化ビニル、メチルセルロ−ス、ポリカ−
ボネ−ト樹脂などを挙げうる。バインダ−樹脂100重
量部中、上記光導電体を20〜300重量部含有させる
ことが好ましく、特に30〜150重量部が好ましい。
この様な電荷発生層の膜厚は通常5μm以下、好ましく
は0.01〜1μmが適当である。
あるいはバインダ−中に微粒子分散した状態で形成され
る。ここで使用されるバインダ−樹脂としてはポリビニ
ルブチラ−ル、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリエ
ステル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸
ビニル、ポリ塩化ビニル、メチルセルロ−ス、ポリカ−
ボネ−ト樹脂などを挙げうる。バインダ−樹脂100重
量部中、上記光導電体を20〜300重量部含有させる
ことが好ましく、特に30〜150重量部が好ましい。
この様な電荷発生層の膜厚は通常5μm以下、好ましく
は0.01〜1μmが適当である。
【0019】前記電荷輸送層中に用いる電荷輸送材料と
しては、ポリビニルカルバゾ−ル、ポリビニルピレン、
ポリアセナフチレンなどの高分子化合物又は、各種ピラ
ゾリン誘導体、オキサゾ−ル誘導体、ヒドラゾン誘導
体、スチルベン誘導体などの低分子化合物を使用でき
る。これらの電荷輸送材料と共に必要に応じてバインダ
−樹脂が配合される。
しては、ポリビニルカルバゾ−ル、ポリビニルピレン、
ポリアセナフチレンなどの高分子化合物又は、各種ピラ
ゾリン誘導体、オキサゾ−ル誘導体、ヒドラゾン誘導
体、スチルベン誘導体などの低分子化合物を使用でき
る。これらの電荷輸送材料と共に必要に応じてバインダ
−樹脂が配合される。
【0020】好ましいバインダ−樹脂としては、ポリメ
チルメタクリレ−ト、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルな
どのビニル重合体及びその共重合体、ポリカ−ボネ−
ト、ポリエステル、ポリサルホン、フェノキシ樹脂、エ
ポキシ樹脂、シリコン樹脂などを挙げうる。またこれら
の部分的架橋硬化物も使用される。上記電荷輸送材料
を、バインダ−樹脂100重量部中に30〜200重量
部、特に50〜150重量部含有させることが好まし
い。
チルメタクリレ−ト、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルな
どのビニル重合体及びその共重合体、ポリカ−ボネ−
ト、ポリエステル、ポリサルホン、フェノキシ樹脂、エ
ポキシ樹脂、シリコン樹脂などを挙げうる。またこれら
の部分的架橋硬化物も使用される。上記電荷輸送材料
を、バインダ−樹脂100重量部中に30〜200重量
部、特に50〜150重量部含有させることが好まし
い。
【0021】また電荷輸送層には、必要に応じて酸化防
止剤、増感剤などの各種添加剤を含んでいても良い。
止剤、増感剤などの各種添加剤を含んでいても良い。
【0022】電荷輸送層の膜厚は通常10〜40μm、
好ましくは10〜25μmの厚みで使用される。
好ましくは10〜25μmの厚みで使用される。
【0023】
【作用】NaF、KF、LiFの1種または2種以上を
所定量含有するNaOH水溶液にてアルミニウム支持体
表面をエッチングするから、溶液中のこれらNaF、K
F、LiFにより支持体表面が微細均一に粗面化され
る。このため、支持体表面への入射光が支持体表面で乱
反射され、感光層表面の反射光との干渉が抑制される。
また、陽極酸化皮膜の存在により、支持体と感光層との
密着性、電荷注入防止性が向上する。
所定量含有するNaOH水溶液にてアルミニウム支持体
表面をエッチングするから、溶液中のこれらNaF、K
F、LiFにより支持体表面が微細均一に粗面化され
る。このため、支持体表面への入射光が支持体表面で乱
反射され、感光層表面の反射光との干渉が抑制される。
また、陽極酸化皮膜の存在により、支持体と感光層との
密着性、電荷注入防止性が向上する。
【0024】
【発明の効果】この発明は、上述の次第で、光源として
可干渉性の単色光が用いられる電子写真用有機感光体の
下地処理方法であって、NaF、KF、LiFの1種ま
たは2種以上を5〜50g/l含有するNa0H水溶液
にてアルミニウム支持体をエッチング処理する工程と、
次いで、アルミニウム支持体を陽極酸化処理する工程と
を含むことを特徴とするものであるから、大きなうねり
や局部的な凹凸を生じることなく、アルミニウム支持体
表面を微細均一に粗面化することができる。このため、
支持体表面への入射光を不規則に散乱させることがで
き、感光層表面の反射光との干渉を抑制することができ
る。その結果、レーザ光の如き可干渉性の単色光で感光
体表面を走査して静電潜像を記録する方式の有機感光体
において、支持体表面からの反射光と感光層表面での反
射光との干渉に起因して生じていたベタ画像(特に中間
調)の干渉縞状の濃淡ムラの発生を抑制することがで
き、画像品質を向上することができる。しかも、所定溶
液でのエッチング処理による極めて簡単な処理操作で濃
淡ムラの発生を確実に防止できる。もとより、陽極酸化
皮膜の存在により、支持体と感光層との密着性、電荷注
入防止性は良好に確保されたものとなる。
可干渉性の単色光が用いられる電子写真用有機感光体の
下地処理方法であって、NaF、KF、LiFの1種ま
たは2種以上を5〜50g/l含有するNa0H水溶液
にてアルミニウム支持体をエッチング処理する工程と、
次いで、アルミニウム支持体を陽極酸化処理する工程と
を含むことを特徴とするものであるから、大きなうねり
や局部的な凹凸を生じることなく、アルミニウム支持体
表面を微細均一に粗面化することができる。このため、
支持体表面への入射光を不規則に散乱させることがで
き、感光層表面の反射光との干渉を抑制することができ
る。その結果、レーザ光の如き可干渉性の単色光で感光
体表面を走査して静電潜像を記録する方式の有機感光体
において、支持体表面からの反射光と感光層表面での反
射光との干渉に起因して生じていたベタ画像(特に中間
調)の干渉縞状の濃淡ムラの発生を抑制することがで
き、画像品質を向上することができる。しかも、所定溶
液でのエッチング処理による極めて簡単な処理操作で濃
淡ムラの発生を確実に防止できる。もとより、陽極酸化
皮膜の存在により、支持体と感光層との密着性、電荷注
入防止性は良好に確保されたものとなる。
【0025】
【実施例】A3003−H14の引抜管を複数個用意し、
これら管材を表面粗さ0.5Sに切削したものをアルミ
ニウム支持体として用いた。
これら管材を表面粗さ0.5Sに切削したものをアルミ
ニウム支持体として用いた。
【0026】そして、上記各支持体に、脱脂(使用界面
活性剤:JCB−12A(日本シービーケミカル社
製)、30g/l、65℃×5分)、水洗(井水、3
分)の各処理を行ったのち、表1に示すようなNa0H
水溶液、処理条件にてエッチング処理を行った。なお、
試料No1の支持体についてはエッチング処理は行わな
かった。
活性剤:JCB−12A(日本シービーケミカル社
製)、30g/l、65℃×5分)、水洗(井水、3
分)の各処理を行ったのち、表1に示すようなNa0H
水溶液、処理条件にてエッチング処理を行った。なお、
試料No1の支持体についてはエッチング処理は行わな
かった。
【0027】次に、上記エッチング処理後、アルミニウ
ム支持体を水洗(井水、3分)したのち、電解液として
濃度13%、液温20℃の硫酸を用い、電流密度1A/
dm2 、処理時間30分にて陽極酸化処理を行った。
ム支持体を水洗(井水、3分)したのち、電解液として
濃度13%、液温20℃の硫酸を用い、電流密度1A/
dm2 、処理時間30分にて陽極酸化処理を行った。
【0028】上記の下地処理を終了した後、後処理とし
て2度の水洗(井水、3分)、酢酸ニッケル封孔(酢酸
Ni5g/l、50℃×5分)、水洗(井水、3分)及
び湯洗(純水、60℃、3分)を順次的に行った。
て2度の水洗(井水、3分)、酢酸ニッケル封孔(酢酸
Ni5g/l、50℃×5分)、水洗(井水、3分)及
び湯洗(純水、60℃、3分)を順次的に行った。
【0029】上記工程を終了したのち、各アルミニウム
支持体表面に電荷発生層と電荷輸送層とを有する感光層
を以下のようにして被覆形成した。即ち、CGL層は、
無金属フタロシアニンをテトラヒドロフランにて4%に
希釈して、膜厚が約0.5μmになるように塗工し乾燥
して形成した。次に、CT剤(ヒドラゾン化合物)とC
T樹脂(ポリカーボネート)を1:2の比率で塩化メチ
レンに溶解して、膜厚が約20μmになるように塗工し
乾燥してCTL層とした。
支持体表面に電荷発生層と電荷輸送層とを有する感光層
を以下のようにして被覆形成した。即ち、CGL層は、
無金属フタロシアニンをテトラヒドロフランにて4%に
希釈して、膜厚が約0.5μmになるように塗工し乾燥
して形成した。次に、CT剤(ヒドラゾン化合物)とC
T樹脂(ポリカーボネート)を1:2の比率で塩化メチ
レンに溶解して、膜厚が約20μmになるように塗工し
乾燥してCTL層とした。
【0030】上記により得た各種感光体につき、画像試
験を行った。画像試験は、上記感光体をレーザビームプ
リンターに取付け、ドットパターンによる中間調の画像
を出し、干渉縞状のムラの有無を評価した。その結果を
表1に併せて示す。
験を行った。画像試験は、上記感光体をレーザビームプ
リンターに取付け、ドットパターンによる中間調の画像
を出し、干渉縞状のムラの有無を評価した。その結果を
表1に併せて示す。
【0031】
【表1】 上記表1の結果から、エッチング処理を行わなかった比
較例No1やNaF、KF、LiFをまったく含まない
比較例No2では干渉縞状の濃淡ムラを生じる一方、本
発明によればこれを抑制できることがわかる。また、比
較例No11はエッチング後の表面粗度が大きく、感光層
塗工時の塗膜厚ムラを生じており、NaF等が50g/
lを越えるとエッチングが過度に進行して微細粗面化を
実現できないことも確認し得た。
較例No1やNaF、KF、LiFをまったく含まない
比較例No2では干渉縞状の濃淡ムラを生じる一方、本
発明によればこれを抑制できることがわかる。また、比
較例No11はエッチング後の表面粗度が大きく、感光層
塗工時の塗膜厚ムラを生じており、NaF等が50g/
lを越えるとエッチングが過度に進行して微細粗面化を
実現できないことも確認し得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03G 5/00 101 G03G 5/10 G03G 5/14 101
Claims (2)
- 【請求項1】 光源として可干渉性の単色光が用いられ
る電子写真用有機感光体の下地処理方法であって、 NaF、KF、LiFの1種または2種以上を5〜50
g/1含有するNaOH水溶液にてアルミニウム支持体
をエッチング処理する工程を含むことを特徴とする電子
写真用有機感光体の下地処理方法。 - 【請求項2】 エッチング処理後、アルミニウム支持体
を陽極酸化処理する請求項1に記載の電子写真用有機感
光体の下地処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04251205A JP3107658B2 (ja) | 1992-09-21 | 1992-09-21 | 電子写真用有機感光体の下地処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04251205A JP3107658B2 (ja) | 1992-09-21 | 1992-09-21 | 電子写真用有機感光体の下地処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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