JPS61157687A - 電子写真感光体用基体の洗浄方法 - Google Patents
電子写真感光体用基体の洗浄方法Info
- Publication number
- JPS61157687A JPS61157687A JP28049284A JP28049284A JPS61157687A JP S61157687 A JPS61157687 A JP S61157687A JP 28049284 A JP28049284 A JP 28049284A JP 28049284 A JP28049284 A JP 28049284A JP S61157687 A JPS61157687 A JP S61157687A
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- JP
- Japan
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- substrate
- etching
- cleaning
- sensitive body
- compounds
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
- G03G5/102—Bases for charge-receiving or other layers consisting of or comprising metals
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子写真機等に用いられる電子写真感光体の製
造工程における感光体用基体の洗浄方法に関する。
造工程における感光体用基体の洗浄方法に関する。
電子複写機、レーザプリンタ等電子写真法を利用した各
種の記録装置に用いられる電子写真感光体は導電性基体
上に光導電性有機化合物、セレＸ硫化カドミウム、酸化
亜鉛等の光導電体を含む感光層を塗布、蒸着等の方法に
よって被着して形成されている。
種の記録装置に用いられる電子写真感光体は導電性基体
上に光導電性有機化合物、セレＸ硫化カドミウム、酸化
亜鉛等の光導電体を含む感光層を塗布、蒸着等の方法に
よって被着して形成されている。
導電性基体（以下単に基体と言う）にはアルミニウムを
主成分とした金属等が多く用いられ、インパクト、深絞
り、引抜き、鋳造等各種の方法によって成形された後、
切削、研磨等の加工によって仕上げられる。” かくして得られた基体には加工の過程で使用され、形成
された油脂類、切削屑、研磨屑等の異物が付着しており
感光層を被着する前にこれら異物を除去する必要がある
。
主成分とした金属等が多く用いられ、インパクト、深絞
り、引抜き、鋳造等各種の方法によって成形された後、
切削、研磨等の加工によって仕上げられる。” かくして得られた基体には加工の過程で使用され、形成
された油脂類、切削屑、研磨屑等の異物が付着しており
感光層を被着する前にこれら異物を除去する必要がある
。
油脂による汚れはトリクレン等の有機溶媒で洗浄するこ
とにより効果的に除去することができるが切削屑、研磨
屑等の微細な固形付着物を除去することは困難であった
。
とにより効果的に除去することができるが切削屑、研磨
屑等の微細な固形付着物を除去することは困難であった
。
切削屑、研磨屑等を除去するにはアルカリ水溶液で洗浄
することが極めて有効であることはよく知られていると
ころであるが、アルカリ洗浄した基体を用いて作成した
感光体はその感光特性が不安定で一定の品質のものが得
難いという問題があった。
することが極めて有効であることはよく知られていると
ころであるが、アルカリ洗浄した基体を用いて作成した
感光体はその感光特性が不安定で一定の品質のものが得
難いという問題があった。
本発明者等は種々検討の結果、アルカリ洗浄の際、基体
表面が被るエツチングの程度によって得られる感光体の
電子写真特性すなわち帯電電位、及びその暗減衰等が太
き（変化することが明らかとなり、更にアルミニウムを
生成分とする基体の場合エツチングによって除去される
基体六面の素材重量（以下エツチング量と言う）がＬ
ｍｙ ／ ｄ７ＦＬ″乃至５０■／ ｄ７％であるとき
最も良好な特性が安定して得られることを知り本発明に
至ったものである。
表面が被るエツチングの程度によって得られる感光体の
電子写真特性すなわち帯電電位、及びその暗減衰等が太
き（変化することが明らかとなり、更にアルミニウムを
生成分とする基体の場合エツチングによって除去される
基体六面の素材重量（以下エツチング量と言う）がＬ
ｍｙ ／ ｄ７ＦＬ″乃至５０■／ ｄ７％であるとき
最も良好な特性が安定して得られることを知り本発明に
至ったものである。
エツチング重量１ ｒｒｖ、ｔ ／ ｄｉ！以下では基
体表面の清浄化が不充分であり異物の残留による感光層
の欠陥或いはエツチングの不均一による帯電電位の均−
性低下等の問題が発生する。またエツチング重量５０〜
／ ｄ７５以上の過度エツチングが行われた場合帯電電
位の低下、暗減衰の増加、帯電均一性の低下等が生じ好
ましい結果が得られない。
体表面の清浄化が不充分であり異物の残留による感光層
の欠陥或いはエツチングの不均一による帯電電位の均−
性低下等の問題が発生する。またエツチング重量５０〜
／ ｄ７５以上の過度エツチングが行われた場合帯電電
位の低下、暗減衰の増加、帯電均一性の低下等が生じ好
ましい結果が得られない。
本発明の方法に用いられるアルカリはアルミニウムを主
成分とした金属の表面をエツチングし得る比較的強いア
ルカリ性を有する化合物を任意に用いることができるが
実用上好ましいものとしては水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナト
リウム、リン酸カリウム等が挙げられる。
成分とした金属の表面をエツチングし得る比較的強いア
ルカリ性を有する化合物を任意に用いることができるが
実用上好ましいものとしては水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナト
リウム、リン酸カリウム等が挙げられる。
基体表面をエツチング洗浄するには一定温度。
濃度を一定に保ったアルカリ溶液に基体を一定時間浸漬
すればよい。アルカリの濃度、液温、時間等の処理条件
はアルカリの複類、基体の材質等によって異なるのでエ
ツチング量が本発明の範囲内の一定目標値となるよう実
験によりて適宜設定すればよい。
すればよい。アルカリの濃度、液温、時間等の処理条件
はアルカリの複類、基体の材質等によって異なるのでエ
ツチング量が本発明の範囲内の一定目標値となるよう実
験によりて適宜設定すればよい。
本発明のアルカリ溶液によるエツチング洗浄）Ｌ単独に
行ってもよいが、有機溶媒、酸、純水等を用いた他の洗
浄過程と組合わせて実施することがより好ましく、有機
溶媒、アルカリ、純水、酸、純水、又は有機溶媒、純水
、アルカリ、純水、酸、純水の順序で洗浄を行なうこと
が最も好ましい。
行ってもよいが、有機溶媒、酸、純水等を用いた他の洗
浄過程と組合わせて実施することがより好ましく、有機
溶媒、アルカリ、純水、酸、純水、又は有機溶媒、純水
、アルカリ、純水、酸、純水の順序で洗浄を行なうこと
が最も好ましい。
前記洗浄に好ましく用いられる有機溶媒としては例えば
トリクレン等の塩素置換炭化水素類、フレオン等のフッ
素置換炭化水素類等が挙げられる。
トリクレン等の塩素置換炭化水素類、フレオン等のフッ
素置換炭化水素類等が挙げられる。
また酸としては硝酸、塩酸、硫酸、燐酸等の稀釈液が好
ましく用いられる。
ましく用いられる。
本発明の方法によって得られる基体には各種公知の電子
写真感光層を被着して電子写真感光体を作製することが
できる。ここに使用される感光層の組成層構成について
は特に限定されるものではないが、本発明によって得ら
れた基体の特徴は有機光導伝体を用いた感光層を用いた
場合特に発揮され高い性能を有する感光体を得ることが
できる。
写真感光層を被着して電子写真感光体を作製することが
できる。ここに使用される感光層の組成層構成について
は特に限定されるものではないが、本発明によって得ら
れた基体の特徴は有機光導伝体を用いた感光層を用いた
場合特に発揮され高い性能を有する感光体を得ることが
できる。
有機光導電体を用いた感光層を形成する場合の塗布液成
分としては溶媒としてはｎ−ブチルアミン、ジエチルア
ミン、エチレンジアミン、インプロパツールアミン、ト
リエタノールアミン、トリエチレンジアミン、へ、Ｎ−
ジメチルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン
、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロホルム、１．２−ジクロロエタン、ジクロロメタ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エ
タノール、インプロパツール、酢酸エチル、酢酸ブチル
、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、メチルセロソルブアセテート等が挙げられる
。また、溶解に溶解せしめる塗膜材料としてはアゾ化合
物、キノン化合物、フタロシアニン化合物、トリアゾー
ル化合物、オキサジアゾール化合物、イミダゾール化合
物、ピラゾリン化合物、トリアリールアルカン化合物、
フェニレンジアミン化合物、ヒドラゾ／化合物、アミノ
置換カルコン化合物、トリアリールアミン化合物、カル
バゾール化合物、スチルベン化合物等の素材及び、バイ
ンダーとしてポリカーボネート、ポリエステル、メタク
リル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリスチレン、ポリビニルアセテート、ポリ
ビニルブチラール、スチレン共重合体、虐化ビニルー酢
酸ビニル共重合体等、更にその他の各種添加剤が挙げら
れる。
分としては溶媒としてはｎ−ブチルアミン、ジエチルア
ミン、エチレンジアミン、インプロパツールアミン、ト
リエタノールアミン、トリエチレンジアミン、へ、Ｎ−
ジメチルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン
、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロホルム、１．２−ジクロロエタン、ジクロロメタ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エ
タノール、インプロパツール、酢酸エチル、酢酸ブチル
、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、メチルセロソルブアセテート等が挙げられる
。また、溶解に溶解せしめる塗膜材料としてはアゾ化合
物、キノン化合物、フタロシアニン化合物、トリアゾー
ル化合物、オキサジアゾール化合物、イミダゾール化合
物、ピラゾリン化合物、トリアリールアルカン化合物、
フェニレンジアミン化合物、ヒドラゾ／化合物、アミノ
置換カルコン化合物、トリアリールアミン化合物、カル
バゾール化合物、スチルベン化合物等の素材及び、バイ
ンダーとしてポリカーボネート、ポリエステル、メタク
リル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリスチレン、ポリビニルアセテート、ポリ
ビニルブチラール、スチレン共重合体、虐化ビニルー酢
酸ビニル共重合体等、更にその他の各種添加剤が挙げら
れる。
また形成する感光層は電荷発生機能と電荷輸送機能を一
層にもたせた単層型のもめでも両機能を分離した機能分
離型の多層構造のものであってもよい。
層にもたせた単層型のもめでも両機能を分離した機能分
離型の多層構造のものであってもよい。
以下実施例によって本発明を具体的に説明するが洗浄処
理の材料、条件、得られた基体に被着する感光層の組成
等はこれに限定されるものではない。
理の材料、条件、得られた基体に被着する感光層の組成
等はこれに限定されるものではない。
外径８０顛、長さ３１４顛の円筒状アルミニウム製基体
５本を準備し、予め重量を計量した。
５本を準備し、予め重量を計量した。
上記基体をｓｏ ’ｃに保ったトリクレン浴でＩ秒、ト
リクレン還流蒸気浴で加秒洗浄脱脂しこ後、濃度５％、
浴温４０℃の水酸化ナトリウム洗浄液中でエツチング洗
浄した。洗浄時間は第り表に示すように０秒（洗浄なし
）より錦紗の間５段階に変化させ、それぞれ試料Ａｌ−
Ａ３とした。エツチング洗浄した各試料は純水でアルカ
リを除き濃度１５チ、浴温δ℃の硝酸浴ＶＣ３０秒間浸
漬して中和し、更に純水槽を３槽通して洗浄した後乾燥
して洗浄済基体を得た。各基体を再計量し処理前の重量
と比較してエツチング量を求めたところ第１表の値が得
られた。試料／Ｉ６２．３．４はエツチング量が本発明
の範囲にある試料であり、試料４１及び／Ｉ６５は本発
明の範囲外にある対比試料である。
リクレン還流蒸気浴で加秒洗浄脱脂しこ後、濃度５％、
浴温４０℃の水酸化ナトリウム洗浄液中でエツチング洗
浄した。洗浄時間は第り表に示すように０秒（洗浄なし
）より錦紗の間５段階に変化させ、それぞれ試料Ａｌ−
Ａ３とした。エツチング洗浄した各試料は純水でアルカ
リを除き濃度１５チ、浴温δ℃の硝酸浴ＶＣ３０秒間浸
漬して中和し、更に純水槽を３槽通して洗浄した後乾燥
して洗浄済基体を得た。各基体を再計量し処理前の重量
と比較してエツチング量を求めたところ第１表の値が得
られた。試料／Ｉ６２．３．４はエツチング量が本発明
の範囲にある試料であり、試料４１及び／Ｉ６５は本発
明の範囲外にある対比試料である。
第 １ 表
得られた洗浄済基体にアンスアンスロン顔料を主要成分
とする電荷発生層及びカルバゾール誘導体とポリカーボ
ネート樹脂を主要成分とする電荷輸送層を順に塗布し感
光体を作成した。得られた感光体を電子複写機Ｕ −Ｂ
ｉｘ −１２００（小西六写真工業■製）Ｋ装着し、原
稿として反射濃度１．３の黒色紙を用いたときの感光体
面の平均帯電電位ｖｂ、感光体周方向における帯電電位
の偏差ＶｂＲ１帯電後５秒放置後の電位保持率ＶｂＤ
（％）、及び実写性能を比較し第２表の結果を得た。
とする電荷発生層及びカルバゾール誘導体とポリカーボ
ネート樹脂を主要成分とする電荷輸送層を順に塗布し感
光体を作成した。得られた感光体を電子複写機Ｕ −Ｂ
ｉｘ −１２００（小西六写真工業■製）Ｋ装着し、原
稿として反射濃度１．３の黒色紙を用いたときの感光体
面の平均帯電電位ｖｂ、感光体周方向における帯電電位
の偏差ＶｂＲ１帯電後５秒放置後の電位保持率ＶｂＤ
（％）、及び実写性能を比較し第２表の結果を得た。
第 ２ 表
第２表に見られるように本発明の方法による試料／Ｖｉ
２〜４は帯電電位及び電位保持率が高く、その感光体上
での偏差与壬経が少く良好な画像を与えたのく対し、対
比試料Ａｔでは電位の偏差が見が大きく実写画像にも濃
淡のむらが発生した。
２〜４は帯電電位及び電位保持率が高く、その感光体上
での偏差与壬経が少く良好な画像を与えたのく対し、対
比試料Ａｔでは電位の偏差が見が大きく実写画像にも濃
淡のむらが発生した。
また感光体を詳細に点検したところ残留異物に原因する
感光層の塗布欠陥が認められた。
感光層の塗布欠陥が認められた。
また対比試料／１６５では帯電電位及び電位保持率が低
下し電位の偏差が増大して感光体としての性能が著しく
低下し、実写・画像の濃淡むらも発生した。
下し電位の偏差が増大して感光体としての性能が著しく
低下し、実写・画像の濃淡むらも発生した。
上記実施例にも舅もかなように、本発明の洗浄方法によ
り清浄度が高く且つ感光層の性能を低下させることのな
いすぐれた電子写真感光体用基体を安定に製造すること
が可能となった。
り清浄度が高く且つ感光層の性能を低下させることのな
いすぐれた電子写真感光体用基体を安定に製造すること
が可能となった。
Claims (1)
- アルミニウムを主成分とする電子写真感光体用基体の表
面をアルカリ水溶液を用いてエッチングする工程を含む
電子写真感光体用基体の洗浄方法において、前記エッチ
ング工程によって除去される基体表面の素材重量が１ｍ
ｇ／ｄｍ＾２乃至５０ｍｇ／ｄｍ＾２であることを特徴
とする電子写真感光体用基体の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28049284A JPS61157687A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | 電子写真感光体用基体の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28049284A JPS61157687A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | 電子写真感光体用基体の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61157687A true JPS61157687A (ja) | 1986-07-17 |
Family
ID=17625832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28049284A Pending JPS61157687A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | 電子写真感光体用基体の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61157687A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0282262A (ja) * | 1988-09-20 | 1990-03-22 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
| JPH04125363U (ja) * | 1991-04-29 | 1992-11-16 | 清吉 角 | 屋根の融雪装置 |
| JP2007334270A (ja) * | 2006-06-19 | 2007-12-27 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体用基体の洗浄方法及び電子写真感光体 |
-
1984
- 1984-12-28 JP JP28049284A patent/JPS61157687A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0282262A (ja) * | 1988-09-20 | 1990-03-22 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
| JPH04125363U (ja) * | 1991-04-29 | 1992-11-16 | 清吉 角 | 屋根の融雪装置 |
| JP2007334270A (ja) * | 2006-06-19 | 2007-12-27 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体用基体の洗浄方法及び電子写真感光体 |
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