JP2936743B2 - 電子写真感光体用基体およびその製造方法 - Google Patents
電子写真感光体用基体およびその製造方法Info
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- JP2936743B2 JP2936743B2 JP2246991A JP2246991A JP2936743B2 JP 2936743 B2 JP2936743 B2 JP 2936743B2 JP 2246991 A JP2246991 A JP 2246991A JP 2246991 A JP2246991 A JP 2246991A JP 2936743 B2 JP2936743 B2 JP 2936743B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はレーザ光などの可干渉
性光を露光に用いる電子写真応用機器に搭載される有機
電子写真感光体の導電性基体およびその製造方法に関す
る。
性光を露光に用いる電子写真応用機器に搭載される有機
電子写真感光体の導電性基体およびその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】ＰＰＣやノンインパクトプリンター（Ｎ
ＩＰ）に代表される電子写真応用機器は、ＯＡ機器市場
の伸展に支えられて大幅な技術革新を遂げた。これらの
機器に用いられる感光体についても、感光材料としてセ
レンやその合金などのような無機系材料を用いるものに
かわり、有機系材料を用いるものが主流となりつつあ
る。
ＩＰ）に代表される電子写真応用機器は、ＯＡ機器市場
の伸展に支えられて大幅な技術革新を遂げた。これらの
機器に用いられる感光体についても、感光材料としてセ
レンやその合金などのような無機系材料を用いるものに
かわり、有機系材料を用いるものが主流となりつつあ
る。
【０００３】感光材料が積層される導電性基体は、セレ
ン系感光体の場合は表面が平滑に機械加工されたアルミ
ニウムあるいはアルミニウム合金が用いられることが多
いが、有機感光体の場合にはセレン系で使用されるもの
と同等の基体の他に、基体からの電荷注入を制限するた
め基体表面に薄い絶縁層を設けたものもよく用いられ
る。これは感光体を搭載する装置側の条件、特に現像部
に用いられる方式に大きく依存しており、俗に１．５成
分と呼ばれる，一成分系トナーにキャリアを加えて用い
る現像システムで使用される感光体には不可欠なものと
なっている。
ン系感光体の場合は表面が平滑に機械加工されたアルミ
ニウムあるいはアルミニウム合金が用いられることが多
いが、有機感光体の場合にはセレン系で使用されるもの
と同等の基体の他に、基体からの電荷注入を制限するた
め基体表面に薄い絶縁層を設けたものもよく用いられ
る。これは感光体を搭載する装置側の条件、特に現像部
に用いられる方式に大きく依存しており、俗に１．５成
分と呼ばれる，一成分系トナーにキャリアを加えて用い
る現像システムで使用される感光体には不可欠なものと
なっている。
【０００４】この絶縁膜には有機系材料や無機系材料な
ど種々のものが用いられる。基体素材にはアルミニウム
あるいはアルミニウム合金が多用されるが、その場合に
は絶縁膜としてアルミニウムの陽極酸化皮膜を用いるこ
とが公知であり皮膜形成条件などに関して種々の特許が
公告，公開されている。例えば、特開昭６２−４９６１
８号公報，特開昭５８−４４５２５号公報，特開昭５８
−１００１３８号公報，特開昭５９−７８３５４号公
報，特開昭５９−１５８号公報，特開昭５９−１５７６
５２号公報，特開昭６１−１４０９４７号公報，特開昭
６１−１９８２４３号公報，特開昭６１−１９８２４４
号公報，特開昭６１−１９８２４５号公報，特開昭６１
−１９８２４６号公報，特開昭６３−１１６１６０号公
報，特開昭６１−１１６１６１号公報，特開昭６３−１
１６１６２号公報，特開昭６３−１１６１６３号公報，
特開昭６３−１１６１６４号公報，特開昭６３−１７９
３６５号公報，特開昭６３−２１４７５９号公報，特開
昭６３−２９８２５０号公報，特開昭６３−３１１２６
０号公報，特開昭６３−３１１２６１号公報，特開昭６
３−３１１２６２号公報，特開昭６３−３１４５５５号
公報，特開昭６３−３１６０６０号公報，特開平１−２
９８５２号公報，特開平１−７９７５４号公報，特開平
１−７９７５５号公報，特開平１−１０８５５０号公
報，特開平１−１０８５５１号公報，特開平１−１１４
８５２号公報，特開平１−１１４８５３号公報，特開平
１−１１４８５４号公報，特開平１−１１４８５５号公
報，特開平１−１１６５５７号公報，特開平１−１３１
５７１号公報，特開平１−１３８５６４号公報，特開平
１−１８８８６０号公報，特開平１−２４４４６９号公
報，特開平１−２７４１５７号公報，特開平１−２７４
１５７号公報，特開平１−２８０７６８号公報，特開平
１−２８８８６２号公報，特開平１−３１２５５３号公
報，特開平１−３１２５５４号公報，特開平２−５０６
８号公報，特開平２−７０７０号公報などがある。これ
らは全て、種々の成膜条件により成膜された陽極酸化皮
膜をそのまま、もしくはその上に何らかの層を積層して
用いるものである。
ど種々のものが用いられる。基体素材にはアルミニウム
あるいはアルミニウム合金が多用されるが、その場合に
は絶縁膜としてアルミニウムの陽極酸化皮膜を用いるこ
とが公知であり皮膜形成条件などに関して種々の特許が
公告，公開されている。例えば、特開昭６２−４９６１
８号公報，特開昭５８−４４５２５号公報，特開昭５８
−１００１３８号公報，特開昭５９−７８３５４号公
報，特開昭５９−１５８号公報，特開昭５９−１５７６
５２号公報，特開昭６１−１４０９４７号公報，特開昭
６１−１９８２４３号公報，特開昭６１−１９８２４４
号公報，特開昭６１−１９８２４５号公報，特開昭６１
−１９８２４６号公報，特開昭６３−１１６１６０号公
報，特開昭６１−１１６１６１号公報，特開昭６３−１
１６１６２号公報，特開昭６３−１１６１６３号公報，
特開昭６３−１１６１６４号公報，特開昭６３−１７９
３６５号公報，特開昭６３−２１４７５９号公報，特開
昭６３−２９８２５０号公報，特開昭６３−３１１２６
０号公報，特開昭６３−３１１２６１号公報，特開昭６
３−３１１２６２号公報，特開昭６３−３１４５５５号
公報，特開昭６３−３１６０６０号公報，特開平１−２
９８５２号公報，特開平１−７９７５４号公報，特開平
１−７９７５５号公報，特開平１−１０８５５０号公
報，特開平１−１０８５５１号公報，特開平１−１１４
８５２号公報，特開平１−１１４８５３号公報，特開平
１−１１４８５４号公報，特開平１−１１４８５５号公
報，特開平１−１１６５５７号公報，特開平１−１３１
５７１号公報，特開平１−１３８５６４号公報，特開平
１−１８８８６０号公報，特開平１−２４４４６９号公
報，特開平１−２７４１５７号公報，特開平１−２７４
１５７号公報，特開平１−２８０７６８号公報，特開平
１−２８８８６２号公報，特開平１−３１２５５３号公
報，特開平１−３１２５５４号公報，特開平２−５０６
８号公報，特開平２−７０７０号公報などがある。これ
らは全て、種々の成膜条件により成膜された陽極酸化皮
膜をそのまま、もしくはその上に何らかの層を積層して
用いるものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】アルミニウムの陽極酸
化皮膜成膜条件のうち、電解時の液温や電流の調整およ
び封孔剤の選択により可視光に透明な陽極酸化皮膜が生
成される。このよう膜は封孔後の最表面が微視的に見て
非常に平滑となる。これは、塗布法を用いて製造する有
機系感光体にとっては非常に有利である。すなわち、浸
漬塗布法によって形成される膜の均一性は、基体の表面
が均一であればあるほど向上するからである。しかしな
がら、この特徴はレーザーダイオード（ＬＤ）を光源と
して用いるノンインパクトプリンター用の感光体におい
ては障害となる。陽極酸化皮膜の表面が非常に平滑であ
るため、波長の揃った単色光であるＬＤ光は陽極酸化皮
膜の表面とその底面とで反射し、それぞれの反射光が干
渉を起こして画像上に濃淡パターンが繰り返される縞状
の濃淡ムラを生じるという問題が発生する。調査の結
果、このムラは陽極酸化皮膜の膜厚ムラに対応すること
が判明した。さらに、繰り返される濃淡縞パターンは陽
極酸化皮膜の膜厚差が約０．４μｍで１本発生すること
も判明した。すなわち、濃淡縞パターンを無くすために
は陽極酸化皮膜の膜厚偏差を０．４μｍ以下にすれば良
いのであるが、これは陽極酸化皮膜成膜における工程能
力をはるかに超えるものである。
化皮膜成膜条件のうち、電解時の液温や電流の調整およ
び封孔剤の選択により可視光に透明な陽極酸化皮膜が生
成される。このよう膜は封孔後の最表面が微視的に見て
非常に平滑となる。これは、塗布法を用いて製造する有
機系感光体にとっては非常に有利である。すなわち、浸
漬塗布法によって形成される膜の均一性は、基体の表面
が均一であればあるほど向上するからである。しかしな
がら、この特徴はレーザーダイオード（ＬＤ）を光源と
して用いるノンインパクトプリンター用の感光体におい
ては障害となる。陽極酸化皮膜の表面が非常に平滑であ
るため、波長の揃った単色光であるＬＤ光は陽極酸化皮
膜の表面とその底面とで反射し、それぞれの反射光が干
渉を起こして画像上に濃淡パターンが繰り返される縞状
の濃淡ムラを生じるという問題が発生する。調査の結
果、このムラは陽極酸化皮膜の膜厚ムラに対応すること
が判明した。さらに、繰り返される濃淡縞パターンは陽
極酸化皮膜の膜厚差が約０．４μｍで１本発生すること
も判明した。すなわち、濃淡縞パターンを無くすために
は陽極酸化皮膜の膜厚偏差を０．４μｍ以下にすれば良
いのであるが、これは陽極酸化皮膜成膜における工程能
力をはるかに超えるものである。
【０００６】この発明は、上述の点に鑑みてなされたも
のであって、塗工性を損なうことなく、かつＬＤ光のよ
うな可干渉性光を露光に用いる電子写真応用機器に搭載
される電子写真感光体に用いても光干渉に起因する濃淡
縞パターンを防ぐことができる電子写真感光体用基体を
提供することを解決しようとする課題とする。
のであって、塗工性を損なうことなく、かつＬＤ光のよ
うな可干渉性光を露光に用いる電子写真応用機器に搭載
される電子写真感光体に用いても光干渉に起因する濃淡
縞パターンを防ぐことができる電子写真感光体用基体を
提供することを解決しようとする課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
によれば、アルミニウムまたはアルミニウム合金からな
る基体の表面に陽極酸化アルミニウム皮膜を備えてなる
電子写真感光体用基体において、前記陽極酸化アルミニ
ウム皮膜の表面部に光吸収物質が含有されており、か
つ、この基体の可干渉性光に対する反射率が５５％以上
８０％以下の範囲内である電子写真感光体用基体とする
ことによって解決される。
によれば、アルミニウムまたはアルミニウム合金からな
る基体の表面に陽極酸化アルミニウム皮膜を備えてなる
電子写真感光体用基体において、前記陽極酸化アルミニ
ウム皮膜の表面部に光吸収物質が含有されており、か
つ、この基体の可干渉性光に対する反射率が５５％以上
８０％以下の範囲内である電子写真感光体用基体とする
ことによって解決される。
【０００８】上述のような基体は、アルミニウムまたは
アルミニウム合金からなる基体の表面に陽極酸化により
酸化アルミニウム皮膜を形成し、この酸化アルミニウム
皮膜に光吸収物質を含有させた後、封孔処理を施すこと
によって作製することができる。
アルミニウム合金からなる基体の表面に陽極酸化により
酸化アルミニウム皮膜を形成し、この酸化アルミニウム
皮膜に光吸収物質を含有させた後、封孔処理を施すこと
によって作製することができる。
【０００９】光吸収物質としては有機染料を用いると好
適である。
適である。
【００１０】
【作用】図１は、この発明による基体を用いた感光体に
可干渉性光，例えばＬＤ光が入射したときの基体での反
射の状態を示す説明図、図２は従来の基体を用いた感光
体に可干渉性光が入射したときの基体での反射の状態を
示す説明図である。
可干渉性光，例えばＬＤ光が入射したときの基体での反
射の状態を示す説明図、図２は従来の基体を用いた感光
体に可干渉性光が入射したときの基体での反射の状態を
示す説明図である。
【００１１】従来の感光体においては、図２に示すよう
に、アルミニウム基体２の表面に透明な陽極酸化皮膜３
ｂを形成してなる基体１ｂ上に設けられている感光層４
を透過して基体１ｂに入射してくる入射光１００，２０
０は陽極酸化皮膜３ｂの平滑な表面とアルミニウム基体
２の表面とで反射して、それぞれ反射光１０１，１０２
および２０１，２０２となる。入射光１００，２００の
入射位置の陽極酸化皮膜３ｂの膜厚をそれぞれｄ1 ，ｄ
2 とすると反射光１０１と反射光１０２との間には２ｄ
1 の光路差，反射光２０１と反射光２０２との間には２
ｄ2 の光路差があり位相差が生じ、反射光１０１と反射
光１０２，反射光２０１と反射光２０２とがそれぞれ干
渉することになり、光路差に応じてこれらの反射光が強
め合ったり弱め合ったりすることになる。従って、陽極
酸化皮膜３ｂに膜厚偏差があると、反射光が強め合うと
ころと弱め合うところとが生じ、これらの反射光が感光
層に入射していくことにより感光層でのキャリア発生に
強弱が生じ画像上に縞状の濃淡ムラが発生する。
に、アルミニウム基体２の表面に透明な陽極酸化皮膜３
ｂを形成してなる基体１ｂ上に設けられている感光層４
を透過して基体１ｂに入射してくる入射光１００，２０
０は陽極酸化皮膜３ｂの平滑な表面とアルミニウム基体
２の表面とで反射して、それぞれ反射光１０１，１０２
および２０１，２０２となる。入射光１００，２００の
入射位置の陽極酸化皮膜３ｂの膜厚をそれぞれｄ1 ，ｄ
2 とすると反射光１０１と反射光１０２との間には２ｄ
1 の光路差，反射光２０１と反射光２０２との間には２
ｄ2 の光路差があり位相差が生じ、反射光１０１と反射
光１０２，反射光２０１と反射光２０２とがそれぞれ干
渉することになり、光路差に応じてこれらの反射光が強
め合ったり弱め合ったりすることになる。従って、陽極
酸化皮膜３ｂに膜厚偏差があると、反射光が強め合うと
ころと弱め合うところとが生じ、これらの反射光が感光
層に入射していくことにより感光層でのキャリア発生に
強弱が生じ画像上に縞状の濃淡ムラが発生する。
【００１２】一方、この発明による感光体においては、
図１に示すように、アルミニウム基体２の表面にその表
面部５に光吸収物質を含有する陽極酸化皮膜３ａを形成
した基体１ａを用いる。このために、感光層４を透過し
て基体１ａに入射してくる入射光１０，２０の陽極酸化
皮膜３ａの表面での反射光１１，１２およびアルミニウ
ム基体２の表面での反射光は弱められ、それぞれの干渉
が低減され、陽極酸化皮膜３ａに図２の陽極酸化皮膜３
ｂと同様の膜厚偏差があっても画像上の縞状の濃淡ムラ
の発生を防ぐことができる。このとき、基体１ａの可干
渉性の入射光に対する反射率〔入射光（１０，２０）に
対する陽極酸化皮膜３ａの表面での反射光（反射光１
１，２１）とアルミニウム基体２の表面で反射し陽極酸
化皮膜３ａを透過してでてくる反射光（反射光１２，２
２）とを加えた光の比率（％）〕が５５％以上８０％以
下の範囲内にあると好適である。この反射率は陽極酸化
皮膜表面部に含有させる光吸収物質の材質および含有量
により制御することができる。
図１に示すように、アルミニウム基体２の表面にその表
面部５に光吸収物質を含有する陽極酸化皮膜３ａを形成
した基体１ａを用いる。このために、感光層４を透過し
て基体１ａに入射してくる入射光１０，２０の陽極酸化
皮膜３ａの表面での反射光１１，１２およびアルミニウ
ム基体２の表面での反射光は弱められ、それぞれの干渉
が低減され、陽極酸化皮膜３ａに図２の陽極酸化皮膜３
ｂと同様の膜厚偏差があっても画像上の縞状の濃淡ムラ
の発生を防ぐことができる。このとき、基体１ａの可干
渉性の入射光に対する反射率〔入射光（１０，２０）に
対する陽極酸化皮膜３ａの表面での反射光（反射光１
１，２１）とアルミニウム基体２の表面で反射し陽極酸
化皮膜３ａを透過してでてくる反射光（反射光１２，２
２）とを加えた光の比率（％）〕が５５％以上８０％以
下の範囲内にあると好適である。この反射率は陽極酸化
皮膜表面部に含有させる光吸収物質の材質および含有量
により制御することができる。
【００１３】この発明の電子写真感光体用基体はアルミ
ニウムまたはアルミニウム合金からなる基体表面に陽極
酸化により酸化アルミニウム皮膜を形成し、この皮膜に
光吸収物質を含有させた後封孔処理を施すことによって
好適に作製できる。封孔処理前の陽極酸化アルミニウム
皮膜表面はポーラスであるから光吸収物質を容易に含有
させることができ、続いて封孔処理を施すことにより固
定することができる。光吸収物質としては有機染料を用
いると好適であり、この場合には、染料の種類、染料を
溶剤，例えば水に溶解したときの濃度、染料溶液への皮
膜の含浸時間などを制御することにより、適切な反射率
の基体を得ることができる。
ニウムまたはアルミニウム合金からなる基体表面に陽極
酸化により酸化アルミニウム皮膜を形成し、この皮膜に
光吸収物質を含有させた後封孔処理を施すことによって
好適に作製できる。封孔処理前の陽極酸化アルミニウム
皮膜表面はポーラスであるから光吸収物質を容易に含有
させることができ、続いて封孔処理を施すことにより固
定することができる。光吸収物質としては有機染料を用
いると好適であり、この場合には、染料の種類、染料を
溶剤，例えば水に溶解したときの濃度、染料溶液への皮
膜の含浸時間などを制御することにより、適切な反射率
の基体を得ることができる。
【００１４】
【実施例】以下、この発明の実施例について詳細に説明
する。
する。
【００１５】１０％のＨ2 ＳＯ4 溶液を電解質溶液と
し、この中に所要の形状に加工され清浄化されたアルミ
ニウム合金円筒の基体を浸漬し、電流密度１Ａ／ｄｍ2
で１０分間陽極酸化処理を施した。この表面に陽極酸化
皮膜が形成された基体を有機染料の水溶液中に１分間浸
漬して陽極酸化皮膜表面部に有機溶剤を含浸させる。有
機染料としては、奥野製薬工業（株）製のＴＡＣ ＢＬ
ＵＥ−ＳＬＨを用い、水溶液の染料濃度を表１に示すよ
うに６種類に変化させ、それぞれの水溶液に浸漬して６
種類のNo.1〜No.6の基体を作製した。これらの基体を温
度９０℃の酢酸ニッケル溶液中に２０分間浸漬して封孔
処理を施し、温度１５０℃で３時間乾燥して電子写真感
光体用基体とした。これらの基体表面のＬＤ光に対する
反射率を測定したところ、それぞれ表１に示す値であっ
た。
し、この中に所要の形状に加工され清浄化されたアルミ
ニウム合金円筒の基体を浸漬し、電流密度１Ａ／ｄｍ2
で１０分間陽極酸化処理を施した。この表面に陽極酸化
皮膜が形成された基体を有機染料の水溶液中に１分間浸
漬して陽極酸化皮膜表面部に有機溶剤を含浸させる。有
機染料としては、奥野製薬工業（株）製のＴＡＣ ＢＬ
ＵＥ−ＳＬＨを用い、水溶液の染料濃度を表１に示すよ
うに６種類に変化させ、それぞれの水溶液に浸漬して６
種類のNo.1〜No.6の基体を作製した。これらの基体を温
度９０℃の酢酸ニッケル溶液中に２０分間浸漬して封孔
処理を施し、温度１５０℃で３時間乾燥して電子写真感
光体用基体とした。これらの基体表面のＬＤ光に対する
反射率を測定したところ、それぞれ表１に示す値であっ
た。
【００１６】これらの基体上に、フタロシアニン顔料を
電荷発生物質とし、結着剤，例えば塩化ビニル樹脂とと
も有機溶剤に分散・溶解させた塗布液を浸漬塗布して膜
厚０．５μｍの電荷発生層を形成し、続いてその上に、
ヒドラゾン化合物を電荷輸送物質とし結着剤，例えばポ
リカーボネートとともに有機溶剤に溶解させた塗布液を
浸漬塗布して膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成して反射
率の異なる６種類の基体を用いた電子写真感光体を作製
した。
電荷発生物質とし、結着剤，例えば塩化ビニル樹脂とと
も有機溶剤に分散・溶解させた塗布液を浸漬塗布して膜
厚０．５μｍの電荷発生層を形成し、続いてその上に、
ヒドラゾン化合物を電荷輸送物質とし結着剤，例えばポ
リカーボネートとともに有機溶剤に溶解させた塗布液を
浸漬塗布して膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成して反射
率の異なる６種類の基体を用いた電子写真感光体を作製
した。
【００１７】これらの感光体について、市販の半導体レ
ーザプリンタを用いて画像出しを行い、干渉に起因する
縞状の濃淡ムラの発生を調べた。その結果を基体の陽極
酸化皮膜の表面部に染料を含浸させるために用いた水溶
液の染料濃度、基体のＬＤ光に対する反射率と対応させ
て表１に示す。また、基体表面への電荷発生層の塗布性
も同じく表１に示す。
ーザプリンタを用いて画像出しを行い、干渉に起因する
縞状の濃淡ムラの発生を調べた。その結果を基体の陽極
酸化皮膜の表面部に染料を含浸させるために用いた水溶
液の染料濃度、基体のＬＤ光に対する反射率と対応させ
て表１に示す。また、基体表面への電荷発生層の塗布性
も同じく表１に示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】表１より、基体のLＤ光に対する反射率が
５５％以上８０％以下の範囲内にある基体を用いて作成
した有機感光体はＬＤ光を露光光として用いる半導体レ
ーザプリンタに用いた場合、干渉に起因する縞状の濃淡
ムラの発生しない良好な画像が得られることが判る。こ
のような反射率は、実施例の有機染料の場合には、陽極
酸化アルミニウム皮膜形成後の基体を染料濃度２％以下
の水溶液中に１分間浸漬し、皮膜表面部に染料を含浸さ
せることにより得られる。反射率は皮膜表面部の染料含
有量により決まるものであるから染料濃度を一定として
浸漬時間を変えてもよい。
５５％以上８０％以下の範囲内にある基体を用いて作成
した有機感光体はＬＤ光を露光光として用いる半導体レ
ーザプリンタに用いた場合、干渉に起因する縞状の濃淡
ムラの発生しない良好な画像が得られることが判る。こ
のような反射率は、実施例の有機染料の場合には、陽極
酸化アルミニウム皮膜形成後の基体を染料濃度２％以下
の水溶液中に１分間浸漬し、皮膜表面部に染料を含浸さ
せることにより得られる。反射率は皮膜表面部の染料含
有量により決まるものであるから染料濃度を一定として
浸漬時間を変えてもよい。
【００２０】基体の陽極酸化アルミニウム皮膜表面部に
含有させるものは実施例の有機染料に限られるものでは
なく、他の染料、さらには染料以外の光吸収物質でもよ
い。基体の反射率が５５％以上８０％以下の範囲内とな
るように含有させることが必要である。
含有させるものは実施例の有機染料に限られるものでは
なく、他の染料、さらには染料以外の光吸収物質でもよ
い。基体の反射率が５５％以上８０％以下の範囲内とな
るように含有させることが必要である。
【００２１】
【発明の効果】この発明によれば、アルミニウムまたは
アルミニウム合金からなる基体の表面に陽極酸化アルミ
ニウム皮膜を備えてなる電子写真感光体用基体におい
て、前記陽極酸化アルミニウム皮膜の表面部に光吸収物
質を含有させ、この基体の可干渉性光に対する反射率が
５０％以上８０％以下の範囲内となるようにする。この
ような基体を用いることにより、その上に有機感光層を
塗布性良く形成して電子写真感光体を作製することがで
き、得られた感光体は可干渉性光を露光に用いる電子写
真応用機器に搭載して、光干渉に起因する縞状の濃淡ム
ラの発生しない良好な画像を得ることができる。
アルミニウム合金からなる基体の表面に陽極酸化アルミ
ニウム皮膜を備えてなる電子写真感光体用基体におい
て、前記陽極酸化アルミニウム皮膜の表面部に光吸収物
質を含有させ、この基体の可干渉性光に対する反射率が
５０％以上８０％以下の範囲内となるようにする。この
ような基体を用いることにより、その上に有機感光層を
塗布性良く形成して電子写真感光体を作製することがで
き、得られた感光体は可干渉性光を露光に用いる電子写
真応用機器に搭載して、光干渉に起因する縞状の濃淡ム
ラの発生しない良好な画像を得ることができる。
【００２２】基体の陽極酸化アルミニウム皮膜の表面部
に光吸収物質を含有させるためには、アルミニウムまた
はアルミニウム合金からなる基体の表面に陽極酸化によ
り酸化アルミニウム皮膜を形成し、その皮膜表面部に光
吸収物質を含有させた後、封孔処理を施す工程を採ると
好適である。陽極酸化アルミニウム皮膜の表面部はポー
ラスであり光吸収物質を容易に含有させることができ、
その後封孔処理を行うことにより光吸収物質を固定する
ことができ、安定な反射率を有する電子写真感光体用基
体が得られる。
に光吸収物質を含有させるためには、アルミニウムまた
はアルミニウム合金からなる基体の表面に陽極酸化によ
り酸化アルミニウム皮膜を形成し、その皮膜表面部に光
吸収物質を含有させた後、封孔処理を施す工程を採ると
好適である。陽極酸化アルミニウム皮膜の表面部はポー
ラスであり光吸収物質を容易に含有させることができ、
その後封孔処理を行うことにより光吸収物質を固定する
ことができ、安定な反射率を有する電子写真感光体用基
体が得られる。
【図１】この発明による基体を用いた感光体の基体での
可干渉性光の反射の状態を示す説明図
可干渉性光の反射の状態を示す説明図
【図２】従来の基体を用いた感光体の基体での可干渉性
光の反射の状態を示す説明図
光の反射の状態を示す説明図
１ａ 基体 ２ アルミニウム基体 ３ａ 陽極酸化皮膜 ４ 感光層 ５ 陽極酸化皮膜表面部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03G 5/00 - 5/16
Claims (2)
- 【請求項１】アルミニウムまたはアルミニウム合金から
なる基体の表面に陽極酸化アルミニウム皮膜を備えてな
る電子写真感光体用基体において、前記陽極酸化アルミ
ニウム皮膜の表面部に光吸収物質が含有されており、か
つ、この基体の可干渉性光に対する反射率が５５％以上
８０％以下の範囲内であることを特徴とする電子写真感
光体用基体。 - 【請求項２】光吸収物質が有機染料であることを特徴と
する請求項１記載の電子写真感光体用基体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2246991A JP2936743B2 (ja) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | 電子写真感光体用基体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2246991A JP2936743B2 (ja) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | 電子写真感光体用基体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04263266A JPH04263266A (ja) | 1992-09-18 |
| JP2936743B2 true JP2936743B2 (ja) | 1999-08-23 |
Family
ID=12083567
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2246991A Expired - Fee Related JP2936743B2 (ja) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | 電子写真感光体用基体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2936743B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2661572B2 (ja) * | 1994-12-27 | 1997-10-08 | 日本電気株式会社 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
-
1991
- 1991-02-18 JP JP2246991A patent/JP2936743B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04263266A (ja) | 1992-09-18 |
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