JP2619062B2 - 電極基板及び液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
電極基板及び液晶表示装置の製造方法Info
- Publication number
- JP2619062B2 JP2619062B2 JP1192503A JP19250389A JP2619062B2 JP 2619062 B2 JP2619062 B2 JP 2619062B2 JP 1192503 A JP1192503 A JP 1192503A JP 19250389 A JP19250389 A JP 19250389A JP 2619062 B2 JP2619062 B2 JP 2619062B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- light
- electrode substrate
- forming
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は液晶表示装置の製造方法に係り、特に液晶表
示装置のカラーフィルタの製造方法に関する。
示装置のカラーフィルタの製造方法に関する。
（従来の技術） 従来、液晶表示装置は、フォトリソグラフィ工程の繰
り返しによってカラーフィルタを製造していたため、生
産性は悪く製造コストも高いものとなっていた。これは
カラーフィルタが液晶表示装置の各画素に対応して高い
精度が必要であること、また配向膜等の設置に対しての
良好な表面性が必要であること等の厳しい要求によるも
のであった。
り返しによってカラーフィルタを製造していたため、生
産性は悪く製造コストも高いものとなっていた。これは
カラーフィルタが液晶表示装置の各画素に対応して高い
精度が必要であること、また配向膜等の設置に対しての
良好な表面性が必要であること等の厳しい要求によるも
のであった。
そこで安価に製造するために、カラーフィルタを印刷
法にて製造することが考えられた。カラーフィルタを印
刷法にて製造すると表面性に問題が残るが、カラーフィ
ルタ上にオーバコート層を設置したり、また例えば特開
昭61−3123号公報に開示されているように研磨する等し
てこの問題を解決した。
法にて製造することが考えられた。カラーフィルタを印
刷法にて製造すると表面性に問題が残るが、カラーフィ
ルタ上にオーバコート層を設置したり、また例えば特開
昭61−3123号公報に開示されているように研磨する等し
てこの問題を解決した。
（発明が解決しようとする課題） 一般にカラーフィルタはコントラスト向上の目的で各
画素周辺に遮光部が設けられているが、遮光部は格子状
の形状であるため、微細な格子状の形状を印刷法にて製
造しようとすると、開口部までも塗り潰してしまい歩留
が悪いものとなってしまう。このため、カラーフィルタ
の色部あるいは遮光部等全て印刷法にて製造すること
は、技術的に困難であった。
画素周辺に遮光部が設けられているが、遮光部は格子状
の形状であるため、微細な格子状の形状を印刷法にて製
造しようとすると、開口部までも塗り潰してしまい歩留
が悪いものとなってしまう。このため、カラーフィルタ
の色部あるいは遮光部等全て印刷法にて製造すること
は、技術的に困難であった。
このため各画素周辺に設けられる格子状の遮光部の製
造に関しては、フォトリソグラフィ技術に頼らざるを得
なかった。
造に関しては、フォトリソグラフィ技術に頼らざるを得
なかった。
そこで本発明は上記の課題に鑑みなされたもので、フ
ォトリソグラフィ等の複雑な工程を必要とせず、量産が
容易で良好な表示画像が得られる液晶表示装置の製造方
法を提供することを目的とする。
ォトリソグラフィ等の複雑な工程を必要とせず、量産が
容易で良好な表示画像が得られる液晶表示装置の製造方
法を提供することを目的とする。
［発明の構成］ （課題を解決するための手段） 本発明の液晶表示装置の製造方法は、特にオーバコー
ト層或いはアンダーコート層を介して電極を形成し、こ
の後熱処理を行ない、電極から露出するオーバコート層
或いはアンダーコート層を着色して画素周辺に配置され
る遮光部を形成することを特徴とする。
ト層或いはアンダーコート層を介して電極を形成し、こ
の後熱処理を行ない、電極から露出するオーバコート層
或いはアンダーコート層を着色して画素周辺に配置され
る遮光部を形成することを特徴とする。
（作 用） 本発明者は種々の実験から、エポキシ等の透明樹脂は
熱処理することにより着色し、遮光効果を生じることを
見い出した。第３図は熱処理により着色されたエポキシ
樹脂膜の等エルネギ（光エネルギ一定の場合）の分光透
過率を示したもので、横軸に透過光の波長を、縦軸に光
透過率をとったものである。
熱処理することにより着色し、遮光効果を生じることを
見い出した。第３図は熱処理により着色されたエポキシ
樹脂膜の等エルネギ（光エネルギ一定の場合）の分光透
過率を示したもので、横軸に透過光の波長を、縦軸に光
透過率をとったものである。
同図は、エポキシ樹脂を、大気中で250℃、１時間の
条件で熱処理したもので、曲線（ａ）は1.0ミクロンの
膜厚で、曲線（ｂ）は2.0ミクロンの膜厚で、また曲線
（ｃ）は4.0ミクロンの膜厚で形成したものを示す。
条件で熱処理したもので、曲線（ａ）は1.0ミクロンの
膜厚で、曲線（ｂ）は2.0ミクロンの膜厚で、また曲線
（ｃ）は4.0ミクロンの膜厚で形成したものを示す。
液晶表示装置のバックライトは３波長蛍光管が一般的
に使用されており、色温度の設定は500゜K〜10000゜Kの
ものが多用されている。このような場合、短波長成分の
エネルギが大きく長波長成分のエネルギは小さく、遮光
効果は短波長領域の光吸収効果が決定される。この図か
ら熱処理条件にもよるが、例えばエポキシ系樹脂では1.
0ミクロン以上の膜厚があれば十分な遮光効果が得られ
ることがわかる。
に使用されており、色温度の設定は500゜K〜10000゜Kの
ものが多用されている。このような場合、短波長成分の
エネルギが大きく長波長成分のエネルギは小さく、遮光
効果は短波長領域の光吸収効果が決定される。この図か
ら熱処理条件にもよるが、例えばエポキシ系樹脂では1.
0ミクロン以上の膜厚があれば十分な遮光効果が得られ
ることがわかる。
そしてこのように着色した樹脂は光遮断能力があるこ
とから、この着色された樹脂を液晶表示装置の非変調光
遮断に利用すれば、表示品位を向上できる。
とから、この着色された樹脂を液晶表示装置の非変調光
遮断に利用すれば、表示品位を向上できる。
そこで種々の実験の結果から、液晶表示装置の各画素
周辺部に良好に遮光部を形成する方法として、光透過性
基板上に色部と、この色部上に透明樹脂から成るオーバ
コート層を形成し、更にオーバコート層上に所定形状の
透明電極を形成した後に熱処理することにより、透明電
極が設置されていない領域のオーバコート層が黒色化し
て遮光部となることを見い出した。
周辺部に良好に遮光部を形成する方法として、光透過性
基板上に色部と、この色部上に透明樹脂から成るオーバ
コート層を形成し、更にオーバコート層上に所定形状の
透明電極を形成した後に熱処理することにより、透明電
極が設置されていない領域のオーバコート層が黒色化し
て遮光部となることを見い出した。
このようにして液晶表示装置を製造することにより、
画素となる電極の周辺部には遮光部が精度良く、しかも
容易に製造することができる。そしてオーバコート層に
使用される透明樹脂の選定により、耐熱性にも優れ長期
間にわたり、透明電極下の透明樹脂は着色することのな
い良好な表示が可能な液晶表示装置とすることができ
る。
画素となる電極の周辺部には遮光部が精度良く、しかも
容易に製造することができる。そしてオーバコート層に
使用される透明樹脂の選定により、耐熱性にも優れ長期
間にわたり、透明電極下の透明樹脂は着色することのな
い良好な表示が可能な液晶表示装置とすることができ
る。
本発明で使用する透明樹脂としては種々のものが考え
られるが、表面性あるいは耐熱性、耐薬品性等の点を考
慮するとエポキシ系の樹脂が好ましい。例えばアクリル
系樹脂では、表面に透明電極をスパッタリング等によっ
て形成しようとするとシワ状になったり、また酸素等の
外気を遮断する能力がないため、配向膜のベーキングな
どの熱処理工程でカラーフィルタに劣化が生じてしま
う。これに対してエポキシ系の樹脂は、酸素遮断能力が
高く、また耐熱性、耐薬品性にも優れているため本発明
に使用する樹脂としては好ましい。
られるが、表面性あるいは耐熱性、耐薬品性等の点を考
慮するとエポキシ系の樹脂が好ましい。例えばアクリル
系樹脂では、表面に透明電極をスパッタリング等によっ
て形成しようとするとシワ状になったり、また酸素等の
外気を遮断する能力がないため、配向膜のベーキングな
どの熱処理工程でカラーフィルタに劣化が生じてしま
う。これに対してエポキシ系の樹脂は、酸素遮断能力が
高く、また耐熱性、耐薬品性にも優れているため本発明
に使用する樹脂としては好ましい。
このようにしてカラーフィルタを製造することによ
り、画素周辺部は真に正しい精度で遮光部にて覆われて
十分な遮光効果を得ることができる。また透明電極形成
時の１回のフォトリソグラフィ工程のみによってカラー
フィルタを製造できるため、生産性を向上させると共に
低コスト化を実現できる。
り、画素周辺部は真に正しい精度で遮光部にて覆われて
十分な遮光効果を得ることができる。また透明電極形成
時の１回のフォトリソグラフィ工程のみによってカラー
フィルタを製造できるため、生産性を向上させると共に
低コスト化を実現できる。
また、色部の製造方法には、電着法、染色法、印刷法
あるいは顔料分散法等の種々の方法が考えられるが、耐
熱性あるいは生産性等を考慮すると印刷法が好ましい。
印刷法にて製造される色部は顔料の選択によって200℃
以上の高い耐熱性を有するものとすることができる。
あるいは顔料分散法等の種々の方法が考えられるが、耐
熱性あるいは生産性等を考慮すると印刷法が好ましい。
印刷法にて製造される色部は顔料の選択によって200℃
以上の高い耐熱性を有するものとすることができる。
（実施例１） 以下、本発明の第１の実施例を図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本実施例で製造される光透過型アクティブマ
トリックス液晶表示装置の特に液晶セル部分の概略断面
図を示すものであり、これを参照して本実施例の液晶表
示装置を説明する。
トリックス液晶表示装置の特に液晶セル部分の概略断面
図を示すものであり、これを参照して本実施例の液晶表
示装置を説明する。
この液晶表図装置の液晶セルは、ガラスから成る一対
の光透過性基板（11），（51）上に第１の透明電極（2
1）あるいは第２の透明電極（61）が夫々形成されて成
る第１の電極基板（41）と第２の電極基板（71）に液晶
組成物（91）が挟持されて成っている。そしてこれら電
極基板（41），（71）の液晶組成物（91）を挟持してい
ない面には夫々偏光板（31），（65）が設置されてい
る。そしてこのような液晶セルの各電極基板（41），
（71）は各電極に表示用の電圧を印加する駆動手段に接
続されて液晶表示装置は構成されている。
の光透過性基板（11），（51）上に第１の透明電極（2
1）あるいは第２の透明電極（61）が夫々形成されて成
る第１の電極基板（41）と第２の電極基板（71）に液晶
組成物（91）が挟持されて成っている。そしてこれら電
極基板（41），（71）の液晶組成物（91）を挟持してい
ない面には夫々偏光板（31），（65）が設置されてい
る。そしてこのような液晶セルの各電極基板（41），
（71）は各電極に表示用の電圧を印加する駆動手段に接
続されて液晶表示装置は構成されている。
この第１の電極基板（41）は次のような構造になって
いる。
いる。
光透過性基板（11）上に所定間隔でストライプ状に第
１の遮光部（13）が形成されており、この間に複数の色
部（15）が設置されカラーフィルタ（16）が形成されて
いる。そしてカラーフィルタ（16）上には接着層（17）
を介してオーバコート層（19）が、更にこのオーバコー
ト層（19）上には前述の第１の遮光部（13）と直交する
ようにストライプ状の第１の透明電極（21）が設置され
ている。
１の遮光部（13）が形成されており、この間に複数の色
部（15）が設置されカラーフィルタ（16）が形成されて
いる。そしてカラーフィルタ（16）上には接着層（17）
を介してオーバコート層（19）が、更にこのオーバコー
ト層（19）上には前述の第１の遮光部（13）と直交する
ようにストライプ状の第１の透明電極（21）が設置され
ている。
そしてストライプ状に形成された第１の電極（21）の
間に位置するオーバコート層（19）は、着色化され第２
の遮光部（図示せず）を形成している。更に、第１の透
明電極（21）上に配向膜（29）が設置されて第１の電極
基板（41）は構成されている。
間に位置するオーバコート層（19）は、着色化され第２
の遮光部（図示せず）を形成している。更に、第１の透
明電極（21）上に配向膜（29）が設置されて第１の電極
基板（41）は構成されている。
次に第２の電極基板（71）は、光透過性基板（51）上
に互いに直交するように形成された複数の走査電極（図
示せず）と複数の信号電極（図示せず）と、これらの各
交点に配置されたアクティブ素子として薄膜トランジス
タ（55）を介して信号電極と接続された画素電極（59）
から成る第２の透明電極（61）と、この第２の透明電極
（61）上に形成される配向膜（63）とによって構成され
ている。なお、図中（53）は薄膜トランジスタ（55）の
ゲート電極である。
に互いに直交するように形成された複数の走査電極（図
示せず）と複数の信号電極（図示せず）と、これらの各
交点に配置されたアクティブ素子として薄膜トランジス
タ（55）を介して信号電極と接続された画素電極（59）
から成る第２の透明電極（61）と、この第２の透明電極
（61）上に形成される配向膜（63）とによって構成され
ている。なお、図中（53）は薄膜トランジスタ（55）の
ゲート電極である。
次に、このような液晶表示装置の製造方法を第２図を
参照して説明する。
参照して説明する。
第２図（ａ）に示すように、例えばガラス基板から成
る光透過性基板（11）上に印刷法により90ミクロン間隔
で20ミクロンの幅を有するように複数本の第１の遮光部
（13）を印刷形成する。ここでは印刷板として取扱いの
容易な水無し平板を用い、カーボンブラック含有の塗料
を使用し印刷形成した。この時、第１の遮光部（13）の
膜厚は顔料の濃度にもよるが、1.5〜2.0ミクロンの膜厚
が表面性を考慮すると好ましい。
る光透過性基板（11）上に印刷法により90ミクロン間隔
で20ミクロンの幅を有するように複数本の第１の遮光部
（13）を印刷形成する。ここでは印刷板として取扱いの
容易な水無し平板を用い、カーボンブラック含有の塗料
を使用し印刷形成した。この時、第１の遮光部（13）の
膜厚は顔料の濃度にもよるが、1.5〜2.0ミクロンの膜厚
が表面性を考慮すると好ましい。
この第１の遮光部（13）をベーキングし硬化させた後
に、第２図（ｂ）に示すように各第１の遮光部（13）の
間隔間に100ミクロン幅の印刷板を用いて赤（Ｒ），緑
（Ｇ）青（Ｂ）の色部（15a），（15b），（15c）を各
色毎にストライプ状に印刷し、一色の印刷が完了する毎
にベーキングしてインキを固化してカラーフィルタ（1
6）を形成する。ここで印刷板としては、扱い易く十分
なパターン形状のものが得られる水無し平板を使用し
た。
に、第２図（ｂ）に示すように各第１の遮光部（13）の
間隔間に100ミクロン幅の印刷板を用いて赤（Ｒ），緑
（Ｇ）青（Ｂ）の色部（15a），（15b），（15c）を各
色毎にストライプ状に印刷し、一色の印刷が完了する毎
にベーキングしてインキを固化してカラーフィルタ（1
6）を形成する。ここで印刷板としては、扱い易く十分
なパターン形状のものが得られる水無し平板を使用し
た。
次に、第２図（ｃ）に示すようにカラーフィルタ（1
6）上に、後工程で使用するエポキシ樹脂と良好な濡れ
性を示すアクリル樹脂を接着層（17）として0.1ミクロ
ンの膜厚で形成し、この接着層（17）上にエポキシ樹脂
から成るオーバコート層（19）を2.0ミクロンの膜厚で
形成する。前述したように印刷法によって形成されるカ
ラーフィルタ（16）には2.0〜3.0ミクロン程度の凹凸が
あるため、オーバコート層（19）の膜厚を2.0〜3.0ミク
ロン程度とすることによりオーバコート層（19）上の表
面性を良好なものにできる。このオーバコート層（19）
の膜厚が2.0ミクロン以下であると、十分な表面性が得
にくく、また10.0ミクロン以上であると第１の電極基板
（41）が厚くなり、非変調光を招きコントラストの低下
の原因となる。このようなことから接着層（17）の膜厚
も薄ければ薄い程良く、十分な接着強度が得られる0.1
〜0.2ミクロン程度の膜圧があれば十分である。なお、
必要に応じてオーバコート層（19）の表面をポリッシン
グにより研磨して平滑化しても良い。
6）上に、後工程で使用するエポキシ樹脂と良好な濡れ
性を示すアクリル樹脂を接着層（17）として0.1ミクロ
ンの膜厚で形成し、この接着層（17）上にエポキシ樹脂
から成るオーバコート層（19）を2.0ミクロンの膜厚で
形成する。前述したように印刷法によって形成されるカ
ラーフィルタ（16）には2.0〜3.0ミクロン程度の凹凸が
あるため、オーバコート層（19）の膜厚を2.0〜3.0ミク
ロン程度とすることによりオーバコート層（19）上の表
面性を良好なものにできる。このオーバコート層（19）
の膜厚が2.0ミクロン以下であると、十分な表面性が得
にくく、また10.0ミクロン以上であると第１の電極基板
（41）が厚くなり、非変調光を招きコントラストの低下
の原因となる。このようなことから接着層（17）の膜厚
も薄ければ薄い程良く、十分な接着強度が得られる0.1
〜0.2ミクロン程度の膜圧があれば十分である。なお、
必要に応じてオーバコート層（19）の表面をポリッシン
グにより研磨して平滑化しても良い。
ここではオーバコート層（19）としてエポキシ系の樹
脂を使用したが、エポキシ系の樹脂の中でも特に酸素遮
断能力が優れているものを選定して使用した。オーバコ
ート層（19）の酸素遮断能力が優れていると、カラーフ
ィルタ（16）が酸化して劣化することを防ぎ、長期間に
わたって良好なカラーフィルタ（16）の分光特性を保つ
ことができる。
脂を使用したが、エポキシ系の樹脂の中でも特に酸素遮
断能力が優れているものを選定して使用した。オーバコ
ート層（19）の酸素遮断能力が優れていると、カラーフ
ィルタ（16）が酸化して劣化することを防ぎ、長期間に
わたって良好なカラーフィルタ（16）の分光特性を保つ
ことができる。
上記の工程が完了した後、オーバコート層（19）上に
透明電極（21）を設置するために、マグネトロンスパッ
タ装置内に設置し、I.T.O.（Indium Tin Oxide）を500
オングストロームの膜厚に成膜し、第２図（ｄ）に示す
ように第１の遮光部（13）と直交するような開口を有し
たストライプ状にパターニングして第１の透明電極（2
1）を形成する。
透明電極（21）を設置するために、マグネトロンスパッ
タ装置内に設置し、I.T.O.（Indium Tin Oxide）を500
オングストロームの膜厚に成膜し、第２図（ｄ）に示す
ように第１の遮光部（13）と直交するような開口を有し
たストライプ状にパターニングして第１の透明電極（2
1）を形成する。
このパターニングには、例えばポジレジスト（OFPR−
800東京応化製）を塗布し所定形状に露光・現像し、Fe2
Cl3を含むCHl系エッチャントに浸してエッチングし、更
にレジスト膜を剥離してパターンを形成することができ
る。
800東京応化製）を塗布し所定形状に露光・現像し、Fe2
Cl3を含むCHl系エッチャントに浸してエッチングし、更
にレジスト膜を剥離してパターンを形成することができ
る。
次にオーバコート層（19）を大気中で250℃で１時間
熱処理を行なう。この熱処理により第１の透明電極（2
1）の設置されていない領域のオーバコート層（19）は
酸素と反応して徐々に黒色化され、第２図（ｅ）に示す
ように第２の遮光部（23）を形成する。また上部に第１
の透明電極（21）が設置されている部分のオーバコート
層（19）は、耐熱性が高いことも含めて第１の透明電極
（21）によって酸素が遮断されるため着色することはな
い。
熱処理を行なう。この熱処理により第１の透明電極（2
1）の設置されていない領域のオーバコート層（19）は
酸素と反応して徐々に黒色化され、第２図（ｅ）に示す
ように第２の遮光部（23）を形成する。また上部に第１
の透明電極（21）が設置されている部分のオーバコート
層（19）は、耐熱性が高いことも含めて第１の透明電極
（21）によって酸素が遮断されるため着色することはな
い。
このようにしてストライプ状の第１の遮光部（13）と
これと交差するストライプ状の第２の遮光部（23）を形
成することにより、実質的に画素部分周辺に格子状の遮
光部を形成することができる。また第２の遮光部（23）
を上記したように形成することにより、第１の透明電極
（21）の設置を第１の遮光部（13）に対して直交するよ
うに位置合せするだけで良いため、歩留り向上にもつな
がる。
これと交差するストライプ状の第２の遮光部（23）を形
成することにより、実質的に画素部分周辺に格子状の遮
光部を形成することができる。また第２の遮光部（23）
を上記したように形成することにより、第１の透明電極
（21）の設置を第１の遮光部（13）に対して直交するよ
うに位置合せするだけで良いため、歩留り向上にもつな
がる。
この後、高分子樹脂から成る配向膜（29）を塗布・焼
成して第１の電極基板（41）を形成する。ここでの配向
膜（29）の焼成温度は、オーバコート層（19）に酸素遮
断能力に優れたエポキシ系樹脂を使用していることから
も、十分に高い温度で焼成することができ、従来のよう
に、色部の耐熱性を考慮して低温で焼成する必要はない
ため、生産性あるいは歩留りを向上させることができ
る。
成して第１の電極基板（41）を形成する。ここでの配向
膜（29）の焼成温度は、オーバコート層（19）に酸素遮
断能力に優れたエポキシ系樹脂を使用していることから
も、十分に高い温度で焼成することができ、従来のよう
に、色部の耐熱性を考慮して低温で焼成する必要はない
ため、生産性あるいは歩留りを向上させることができ
る。
このようにして製造された第１の電極基板（41）と別
途製造された第２の電極基板（71）とを対向させ、周囲
をシール剤にて封止して液晶セルとし、両基板間に液晶
物質中にカイラル剤が添加されて成る液晶組成物（91）
を挟持させ、更に第１の透明電極（21）あるいは第２の
電極基板の信号電極、走査電極と、これらの電極駆動手
段と個々にボンディングして液晶表示装置とした。
途製造された第２の電極基板（71）とを対向させ、周囲
をシール剤にて封止して液晶セルとし、両基板間に液晶
物質中にカイラル剤が添加されて成る液晶組成物（91）
を挟持させ、更に第１の透明電極（21）あるいは第２の
電極基板の信号電極、走査電極と、これらの電極駆動手
段と個々にボンディングして液晶表示装置とした。
このように本実施例の液晶表示装置では、ストライプ
状の第１の遮光部（13）とストライプ状の第２の遮光部
（23）を互いに直交するように形成して格子状の遮光部
とするため、従来のように開口部を有する格子状に印刷
する必要がないため、開口部を塗り潰すことがなく製造
歩留りを格段に向上させることができる。また、第１の
透明電極（21）をマスクとして第２の遮光部（23）を形
成することにより、画素周辺に精度良く遮光部を形成す
ることができる。
状の第１の遮光部（13）とストライプ状の第２の遮光部
（23）を互いに直交するように形成して格子状の遮光部
とするため、従来のように開口部を有する格子状に印刷
する必要がないため、開口部を塗り潰すことがなく製造
歩留りを格段に向上させることができる。また、第１の
透明電極（21）をマスクとして第２の遮光部（23）を形
成することにより、画素周辺に精度良く遮光部を形成す
ることができる。
更に、多数回のフォトリソグラフィ工程の必要ではな
く、高い生産性で液晶表示装置を製造することができ
る。
く、高い生産性で液晶表示装置を製造することができ
る。
また本実施例では第２の電極基板（61）に形成した画
素電極（59）と対向する共通電極である第１の透明電極
（21）を第２の遮光部（23）を形成するためストライプ
状の形状としたが、第１の透明電極（21）の断線等によ
る悪影響を避けるため、再びスパッタリングによって例
えばI.T.O.を第１の透明電極（21）上全面に設置しても
良い。
素電極（59）と対向する共通電極である第１の透明電極
（21）を第２の遮光部（23）を形成するためストライプ
状の形状としたが、第１の透明電極（21）の断線等によ
る悪影響を避けるため、再びスパッタリングによって例
えばI.T.O.を第１の透明電極（21）上全面に設置しても
良い。
なお、上記実施例では、色部の間に第１の遮光部を形
成し、オーバコート層及びストライプ状の色部と交差す
るストライプ状の電極を形成した後、オーバコート層の
熱処理によりストライプ状の第２の遮光部を形成した。
しかし本発明はこれに限らず、第１の遮光部を設けるこ
となく、第２の遮光部のみを設けたものであっても良
い。好ましくはこの場合、第１の透明電極を画素に対応
した島状に形成し、各島の周囲にオーバコート層を熱処
理により格子状に黒化し、更にこの後、島状の透明電極
を相互に電気的に接続するように再度全面に或いはスト
ライプ状に透明導電薄膜を形成する。
成し、オーバコート層及びストライプ状の色部と交差す
るストライプ状の電極を形成した後、オーバコート層の
熱処理によりストライプ状の第２の遮光部を形成した。
しかし本発明はこれに限らず、第１の遮光部を設けるこ
となく、第２の遮光部のみを設けたものであっても良
い。好ましくはこの場合、第１の透明電極を画素に対応
した島状に形成し、各島の周囲にオーバコート層を熱処
理により格子状に黒化し、更にこの後、島状の透明電極
を相互に電気的に接続するように再度全面に或いはスト
ライプ状に透明導電薄膜を形成する。
（実施例２） 上記実施例では光透過型アクティブマトリックス液晶
表示装置を例にとって説明したが、本発明はこれに限る
ことなく、例えば上記実施例における第２の電極基板
（71）の電極（61）を、カラーフィルタを形成した第１
の電極基板（41）のストライプ状の第１の透明電極（2
1）と直交するストライプ状の電極とした単純マトリッ
クス型液晶表示装置であっても良い。
表示装置を例にとって説明したが、本発明はこれに限る
ことなく、例えば上記実施例における第２の電極基板
（71）の電極（61）を、カラーフィルタを形成した第１
の電極基板（41）のストライプ状の第１の透明電極（2
1）と直交するストライプ状の電極とした単純マトリッ
クス型液晶表示装置であっても良い。
更には、単純マトリックス型液晶表示装置の場合は、
色部を形成した第１の電極基板と色部を形成しない第２
の電極基板の夫々に、ストライプ状の透明電極のアンダ
ーコート層として樹脂層を設け、ストライプ状の透明電
極から露出する樹脂層を熱処理して着色し、各々が直交
するストライプ状の遮光部を形成するようにしても良
い。
色部を形成した第１の電極基板と色部を形成しない第２
の電極基板の夫々に、ストライプ状の透明電極のアンダ
ーコート層として樹脂層を設け、ストライプ状の透明電
極から露出する樹脂層を熱処理して着色し、各々が直交
するストライプ状の遮光部を形成するようにしても良
い。
以下、本発明の第２の実施例を図面を参照して説明す
る。
る。
第４図は本実施例で製造される単純マトリックス形液
晶表示装置の特に液晶セル部分の概略断面図を示すもの
であり、これを参照して本実施例の液晶表示装置を説明
する。
晶表示装置の特に液晶セル部分の概略断面図を示すもの
であり、これを参照して本実施例の液晶表示装置を説明
する。
この液晶表示装置の液晶セルは、ガラスから成る一対
の光透過性基板（11），（51）上に第１の透明電極（2
1）あるいは第２の透明電極（61）が夫々形成されて成
る第１の電極基板（41）と第２の電極基板（71）に液晶
組成物（91）が挟持されて成っている。そしてこれら電
極基板（41），（71）の液晶組成物（91）を挟持してい
ない面には夫々偏光板（31），（65）が設置されてい
る。そしてこのような液晶セルの各電極基板（41），
（71）は、各電極に表示用の電圧を印加する駆動手段に
接続されて液晶表示装置は構成されている。
の光透過性基板（11），（51）上に第１の透明電極（2
1）あるいは第２の透明電極（61）が夫々形成されて成
る第１の電極基板（41）と第２の電極基板（71）に液晶
組成物（91）が挟持されて成っている。そしてこれら電
極基板（41），（71）の液晶組成物（91）を挟持してい
ない面には夫々偏光板（31），（65）が設置されてい
る。そしてこのような液晶セルの各電極基板（41），
（71）は、各電極に表示用の電圧を印加する駆動手段に
接続されて液晶表示装置は構成されている。
この第１の電極基板（41）は次のような構造になって
いる。
いる。
光透過性基板（11）上に所定間隔でストライプ状の複
数の色部（15）が設置されカラーフィルタ（16）が形成
されている。そしてカラーフィルタ（16）上には接着層
（17）を介してオーバート層（19）が、更にこのオーバ
コート層（19）上には色部と直交するようにストライプ
状の第１の透明電極（21）が設置されている。
数の色部（15）が設置されカラーフィルタ（16）が形成
されている。そしてカラーフィルタ（16）上には接着層
（17）を介してオーバート層（19）が、更にこのオーバ
コート層（19）上には色部と直交するようにストライプ
状の第１の透明電極（21）が設置されている。
そしてストライプ状に形成された第１の電極（21）の
間に相当するオーバコート層（19）が黒色化されてお
り、第１の遮光部（図示せず）が形成されている。更
に、このような第１の透明電極（21）上に配向膜（29）
が設置されて第１の電極基板（41）は構成されている。
間に相当するオーバコート層（19）が黒色化されてお
り、第１の遮光部（図示せず）が形成されている。更
に、このような第１の透明電極（21）上に配向膜（29）
が設置されて第１の電極基板（41）は構成されている。
次に第２の電極基板（71）は、光透過性基板（51）上
に接着層（80）及びアンダーコート層（81）を介してス
トライプ状の第２の透明電極（61）が形成されている。
第２の透明電極（61）間のアンダーコート層（81）は黒
色化され第２の遮光部（83）となっている。また第２の
透明電極（61）とアンダーコート層（81）上には配向膜
（63）が形成されている。
に接着層（80）及びアンダーコート層（81）を介してス
トライプ状の第２の透明電極（61）が形成されている。
第２の透明電極（61）間のアンダーコート層（81）は黒
色化され第２の遮光部（83）となっている。また第２の
透明電極（61）とアンダーコート層（81）上には配向膜
（63）が形成されている。
次に、このような液晶表示装置の製造方法を第５図を
参照して説明する。
参照して説明する。
第５図（ａ）に示すように110ミクロン間隔で100ミク
ロン幅の印刷板を用いて赤（Ｒ），緑（Ｇ）青（Ｂ）の
色部（15a），（15b），（15c）を各色毎にストライプ
状に印刷し、一色の印刷が完了する毎にベーキングして
インキを固化してカラーフィルタ（16）を形成する。こ
こで印刷板としては、扱い易く十分なパターン形状のも
のが得られる水無し平板を使用した。
ロン幅の印刷板を用いて赤（Ｒ），緑（Ｇ）青（Ｂ）の
色部（15a），（15b），（15c）を各色毎にストライプ
状に印刷し、一色の印刷が完了する毎にベーキングして
インキを固化してカラーフィルタ（16）を形成する。こ
こで印刷板としては、扱い易く十分なパターン形状のも
のが得られる水無し平板を使用した。
次に、第５図（ｂ）に示すようにカラーフィルタ（1
6）上に、後工程で使用するエポキシ樹脂と良好な濡れ
性を示すアクリル樹脂を接着層（17）として0.1ミクロ
ンの膜厚で形成し、この接着層（17）上にエポキシ樹脂
から成るオーバコート層（19）を2.0ミクロンの膜厚で
形成する。
6）上に、後工程で使用するエポキシ樹脂と良好な濡れ
性を示すアクリル樹脂を接着層（17）として0.1ミクロ
ンの膜厚で形成し、この接着層（17）上にエポキシ樹脂
から成るオーバコート層（19）を2.0ミクロンの膜厚で
形成する。
ここではオーバコート層（19）としてエポキシ系の樹
脂を使用したが、エポキシ系の樹脂の中でも特に酸素遮
断能力が優れているものを選定して使用した。オーバコ
ート層（19）の酸素遮断能力が優れていると、カラーフ
ィルタ（16）が酸化して劣化することを防ぎ、長期間に
わたって良好なカラーフィルタ（16）の分光特性を保つ
ことができる。
脂を使用したが、エポキシ系の樹脂の中でも特に酸素遮
断能力が優れているものを選定して使用した。オーバコ
ート層（19）の酸素遮断能力が優れていると、カラーフ
ィルタ（16）が酸化して劣化することを防ぎ、長期間に
わたって良好なカラーフィルタ（16）の分光特性を保つ
ことができる。
上記の工程が完了した後、オーバコート層（19）上に
透明電極（21）を設置するために、マグネトロンスパッ
タ装置内に設置し、I.T.O.を2000オングストロームの膜
厚に成膜し、第５図（ｃ）に示すようにストライプ状色
部と直交するような開口を有したストライプ状にパター
ニングして第１の透明電極（21）を形成する。
透明電極（21）を設置するために、マグネトロンスパッ
タ装置内に設置し、I.T.O.を2000オングストロームの膜
厚に成膜し、第５図（ｃ）に示すようにストライプ状色
部と直交するような開口を有したストライプ状にパター
ニングして第１の透明電極（21）を形成する。
このパターニングには、例えばポジレジスト（OFPR−
800東京応化製）を塗布し所定形状に露光・現像し、Fe2
Cl3を含むHCl系エッチャントに浸してエッチングし、更
にレジスト膜を剥離してパターンを形成することができ
る。
800東京応化製）を塗布し所定形状に露光・現像し、Fe2
Cl3を含むHCl系エッチャントに浸してエッチングし、更
にレジスト膜を剥離してパターンを形成することができ
る。
次にこのようにして製造された第１の透明電極（21）
表面を大気中で250℃で１時間熱処理を行なう。この熱
処理により第１の透明電極（21）の設置されていない領
域とオーバコート層（19）は酸素と反応して徐々に着色
黒化され、第５図（ｄ）に示すように第１の遮光部（2
3）を形成する。また上部に第１の透明電極（21）が設
置されている部分のオーバコート層（19）は、耐熱性が
高いことも含めて第１の透明電極（21）によって酸素が
遮断されるため着色することはない。
表面を大気中で250℃で１時間熱処理を行なう。この熱
処理により第１の透明電極（21）の設置されていない領
域とオーバコート層（19）は酸素と反応して徐々に着色
黒化され、第５図（ｄ）に示すように第１の遮光部（2
3）を形成する。また上部に第１の透明電極（21）が設
置されている部分のオーバコート層（19）は、耐熱性が
高いことも含めて第１の透明電極（21）によって酸素が
遮断されるため着色することはない。
このようにしてストライプ状の第１の遮光部（23）を
形成することにより、実質的に画素部分を区切る一方向
の遮光部を形成することができる。
形成することにより、実質的に画素部分を区切る一方向
の遮光部を形成することができる。
この後、高分子樹脂から成る配向膜（29）を塗布・焼
成して第１の電極基板（41）を形成する。ここでの配向
膜（29）の焼成温度は、オーバコート層（19）に酸素遮
断能力に優れたエポキシ系樹脂を使用していることから
も、十分に高い温度で焼成することができ、従来のよう
に低温で焼成する必要はないため、生産性あるいは歩留
りを向上させることができる。
成して第１の電極基板（41）を形成する。ここでの配向
膜（29）の焼成温度は、オーバコート層（19）に酸素遮
断能力に優れたエポキシ系樹脂を使用していることから
も、十分に高い温度で焼成することができ、従来のよう
に低温で焼成する必要はないため、生産性あるいは歩留
りを向上させることができる。
次に第２の電極基板について説明する。
第２の電極基板（71）は第１の電極基板（41）からカ
ラーフィルタを取除いたものと同等である。第４図に示
すように、光透過性基板（51）上にエポキシ樹脂と良好
な濡れ性を示すアクリル樹脂を接着層（80）として0.1
ミクロンの膜厚で形成し、この接着層（80）上にエポキ
シ樹脂から成るアンダーコート層（81）を2.0ミクロン
の膜厚で形成する。
ラーフィルタを取除いたものと同等である。第４図に示
すように、光透過性基板（51）上にエポキシ樹脂と良好
な濡れ性を示すアクリル樹脂を接着層（80）として0.1
ミクロンの膜厚で形成し、この接着層（80）上にエポキ
シ樹脂から成るアンダーコート層（81）を2.0ミクロン
の膜厚で形成する。
上記の工程が完了した後、アンダーコート層（81）上
に透明電極（61）を設置するために、マグネトロンスパ
ッタ装置内に設置し、I.T.O.を2000オングストロームの
膜厚に成膜し、ストライプ状の第１の透明電極（21）と
直交するような開口を有したストライプ状にパターニン
グして第２の透明電極（61）を形成する。
に透明電極（61）を設置するために、マグネトロンスパ
ッタ装置内に設置し、I.T.O.を2000オングストロームの
膜厚に成膜し、ストライプ状の第１の透明電極（21）と
直交するような開口を有したストライプ状にパターニン
グして第２の透明電極（61）を形成する。
次にこのようにして製造された基板を大気中で250℃
で１時間熱処理を行なう。この熱処理により第２の透明
電極（61）の設置されていないアンダーコート層（81）
は酸素と反応して徐々に着色し黒色化され、第２の遮光
部（82）を形成する。第２の透明電極（61）が設置され
ている部分のアンダーコート層（81）は、耐熱性が高い
ことも含めて第２の透明電極（61）によって酸素が遮断
されるため着色することはない。
で１時間熱処理を行なう。この熱処理により第２の透明
電極（61）の設置されていないアンダーコート層（81）
は酸素と反応して徐々に着色し黒色化され、第２の遮光
部（82）を形成する。第２の透明電極（61）が設置され
ている部分のアンダーコート層（81）は、耐熱性が高い
ことも含めて第２の透明電極（61）によって酸素が遮断
されるため着色することはない。
このようにしてストライプ状の第１の遮光部とこれに
交差するストライプ状の第２の遮光部（82）を形成する
ことにより、実質的に画素部分周辺に格子状の遮光部を
形成することができる。
交差するストライプ状の第２の遮光部（82）を形成する
ことにより、実質的に画素部分周辺に格子状の遮光部を
形成することができる。
この後、高分子樹脂から成る配向膜（63）を塗布・焼
成して第２の電極基板（71）を形成する。
成して第２の電極基板（71）を形成する。
このようにして製造された第１の電極基板（41）と第
２の電極基板（71）とを対向させ、周囲をシール剤にて
封止して液晶セルとし、両基板間に液晶物質中にカイラ
ル剤が添加されて成る液晶組成物（91）を挟持させ、更
に第１の透明電極（21）及び第２の透明電極（61）と電
極駆動手段とを個々に接続して液晶表示装置とした。
２の電極基板（71）とを対向させ、周囲をシール剤にて
封止して液晶セルとし、両基板間に液晶物質中にカイラ
ル剤が添加されて成る液晶組成物（91）を挟持させ、更
に第１の透明電極（21）及び第２の透明電極（61）と電
極駆動手段とを個々に接続して液晶表示装置とした。
このように本実施例の液晶表示装置では、ストライプ
状の第１の遮光部（13）とストライプ状の第２の遮光部
（82）を互いに直交するように形成して格子状の遮光部
とするため、従来のように開口部を有する格子状に印刷
する必要がないため、開口部を塗り潰すことがなく製造
歩留りを格段に向上させることができる。また、第１及
び第２の透明電極（21）（61）をマスクとして第１及び
第２の遮光部（13）（82）を形成することにより、画素
周辺に精度良く遮光部を形成することができる。
状の第１の遮光部（13）とストライプ状の第２の遮光部
（82）を互いに直交するように形成して格子状の遮光部
とするため、従来のように開口部を有する格子状に印刷
する必要がないため、開口部を塗り潰すことがなく製造
歩留りを格段に向上させることができる。また、第１及
び第２の透明電極（21）（61）をマスクとして第１及び
第２の遮光部（13）（82）を形成することにより、画素
周辺に精度良く遮光部を形成することができる。
更に、多数回のフォトリソグラフィ工程の必要ではな
く、高い生産性で液晶表示装置を製造することができ
る。
く、高い生産性で液晶表示装置を製造することができ
る。
また本実施例では第１の電極基板の透明電極を色部の
ストライプと直交するように形成したが、平行になるよ
うにしても良い。この場合は勿論のこと第２の電極基板
の透明電極は第１の透明電極と交差するように形成す
る。
ストライプと直交するように形成したが、平行になるよ
うにしても良い。この場合は勿論のこと第２の電極基板
の透明電極は第１の透明電極と交差するように形成す
る。
［発明の効果］ 以上、詳述してきたように、本発明の液晶表示装置の
製造方法は、特にそのカラーフィルタ部分の製造を容易
なものとすることにより、低コストで生産性の向上を可
能なものとした。また、このようにして製造される液晶
表示装置は、耐熱性あるいは耐久性に優れており、長期
間にわたり高画質な画像を表示することができる。
製造方法は、特にそのカラーフィルタ部分の製造を容易
なものとすることにより、低コストで生産性の向上を可
能なものとした。また、このようにして製造される液晶
表示装置は、耐熱性あるいは耐久性に優れており、長期
間にわたり高画質な画像を表示することができる。
第１図は本発明の一実施例に係る液晶表示装置の特に液
晶セル部分の概略断面図、第２図は第１図における液晶
表示装置の製造プロセス図、第３図は黒化されたエポキ
シ樹脂の光透過率を示す図、第４図は本発明の他の実施
例に係る液晶表示装置の特に液晶セル部分の概略断面
図、第５図は第４図における液晶表示装置の製造プロセ
ス図である。 （11），（51）……光透過性基板 （13）……第１の遮光部 （16）……カラーフィルタ （19）……オーバコート層 （23）（82）……第２の遮光部 （71）……第２の電極基板 （81）……アンダーコート層 （91）……液晶組成物
晶セル部分の概略断面図、第２図は第１図における液晶
表示装置の製造プロセス図、第３図は黒化されたエポキ
シ樹脂の光透過率を示す図、第４図は本発明の他の実施
例に係る液晶表示装置の特に液晶セル部分の概略断面
図、第５図は第４図における液晶表示装置の製造プロセ
ス図である。 （11），（51）……光透過性基板 （13）……第１の遮光部 （16）……カラーフィルタ （19）……オーバコート層 （23）（82）……第２の遮光部 （71）……第２の電極基板 （81）……アンダーコート層 （91）……液晶組成物
Claims (11)
- 【請求項１】光透過性基板上に複数の色部及び遮光部が
形成されてなるカラーフィルタを備えた電極基板の製造
方法において、 光透過性基板上に複数のストライプ状の色部及びこの色
部間に第１の遮光部を形成する工程と、この色部及び遮
光部上にオーバーコート層を形成する工程と、このオー
バーコート層上にストライプ状の透明電極を形成する工
程と、前記透明電極が設置されていない領域の前記オー
バーコート層を着色化し第２の遮光部を形成する熱処理
工程とを具備したことを特徴とする電極基板の製造方
法。 - 【請求項２】光透過性基板上に複数の色部が形成されて
なるカラーフィルタを備えた電極基板の製造方法におい
て、 光透過性基板上に複数の色部を形成する工程と、この色
部上にオーバーコート層を形成する工程と、このオーバ
ーコート層上に所定形状の透明電極を形成する工程と、
前記透明電極が設置されていない領域の前記オーバーコ
ート層を着色化する熱処理工程とを具備したことを特徴
とする電極基板の製造方法。 - 【請求項３】透明電極を有する電極基板の製造方法にお
いて、 光透過性基板上にアンダーコート層を形成し、このアン
ダーコート層上に所定形状の透明電極を形成した後、前
記アンダーコート層の熱処理により透明電極に覆われて
いない領域のアンダーコート層を着色化することを特徴
とする電極基板の製造方法。 - 【請求項４】透明電極を有する電極基板の製造方法にお
いて、 光透過性基板上にエポキシ樹脂からなるアンダーコート
層を形成し、このアンダーコート層上に所定形状の透明
電極を形成した後、酸素雰囲気中で熱処理することを特
徴とする電極基板の製造方法。 - 【請求項５】光透過性基板上に複数の色部及び遮光部が
形成されてなるカラーフィルタを備えた第１の電極基板
と、この第１の電極基板に対向して設けられた第２の電
極基板と、前記第１の電極基板と前記第２の電極基板と
に狭持された液晶組成物と、前記第１の電極基板及び前
記第２の電極基板に駆動電圧を供給する駆動手段とを備
えた液晶表示装置の製造方法において、 光透過性基板上に複数のストライプ状の色部及びこの色
部間に第１の遮光部を形成する工程と、この色部及び遮
光部上にオーバーコート層を形成する工程と、このオー
バーコート層上に前記ストライプ状の色部と交差するス
トライプ状の透明電極を形成する工程と、前記透明電極
が設置されていない領域の前記オーバーコート層を着色
化し第２の遮光部を形成する熱処理工程とを具備したこ
とを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項６】光透過性基板上に複数の色部が形成されて
なるカラーフィルタを備えた第１の電極基板と、この第
１の電極基板に対向して設けられた第２の電極基板と、
前記第１の電極基板と前記第２の電極基板とに狭持され
た液晶組成物と、前記第１の電極基板及び前記第２の電
極基板に駆動電圧を供給する駆動手段とを備えた液晶表
示装置の製造方法において、 光透過性基板上に複数の色部を形成する工程と、この色
部上にオーバーコート層を形成する工程と、このオーバ
ーコート層上に所定形状の透明電極を形成する工程と、
前記透明電極が設置されていない領域の前記オーバーコ
ート層を着色化する熱処理工程とを具備したことを特徴
とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項７】前記色部がストライプ状であり、前記透明
電極がストライプ状色部と交差するストライプ状電極で
ある請求項６記載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項８】前記色部がストライプ状であり、前記透明
電極がストライプ状色部と平行するストライプ状電極で
ある請求項６記載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項９】光透過性基板上に複数の色部が形成されて
なるカラーフィルタを備えた第１の電極基板と、この第
１の電極基板に対向して設けられた第２の電極基板と、
前記第１の電極基板と前記第２の電極基板とに狭持され
た液晶組成物と、前記第１の電極基板及び前記第２の電
極基板に駆動電圧を供給する駆動手段とを備えた液晶表
示装置の製造方法において、 光透過性基板上に複数の色部を形成する工程と、この色
部上にオーバーコート層を形成する工程と、このオーバ
ーコート層上に各画素を対応した透明電極を形成する工
程と、前記透明電極が設置されていない領域の前記オー
バーコート層を着色化する熱処理工程と、前記各画素に
対応した透明電極上及びオーバーコート層上に各透明電
極間を電気的に接続する透明導電性薄膜を形成する工程
を具備したことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項１０】複数の色部が形成されたカラーフィルタ
と、それぞれ内面に透明電極を有する第１及び第２の電
極基板と、前記第１の電極基板と前記第２の電極基板と
に狭持された液晶組成物と、前記第１の電極基板及び前
記第２の電極基板に駆動電圧を供給する駆動手段とを備
えた液晶表示装置の製造方法において、 第１または第２の電極基板は光透過性基板上にアンダー
コート層を形成し、このアンダーコート層上に所定形状
の透明電極を形成した後、前記アンダーコート層の熱処
理により透明電極に覆われていない領域のアンダーコー
ト層を着色化することを特徴とする液晶表示装置の製造
方法。 - 【請求項１１】それぞれ内面に透明電極を有する第１の
及び第２の電極基板と、前記第１の電極基板と前記第２
の電極基板とに狭持された液晶組成物と、前記第１の電
極基板及び前記第２の電極基板に駆動電圧を供給する駆
動手段とを備えた液晶表示装置の製造方法において、 第１または第２の電極基板は光透過性基板上にエポキシ
樹脂からなるアンダーコート層を形成し、このアンダー
コート層上に所定形状の透明電極を形成した後、酸素雰
囲気中で熱処理することを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019890019865A KR930010664B1 (ko) | 1989-03-15 | 1989-12-27 | 액정표시장치의 제조방법 |
| DE69020603T DE69020603T2 (de) | 1989-03-15 | 1990-03-13 | Verfahren zur Herstellung einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung. |
| EP94113250A EP0631171B1 (en) | 1989-03-15 | 1990-03-13 | Method of manufacturing a liquid crystal display device |
| EP90104746A EP0387805B1 (en) | 1989-03-15 | 1990-03-13 | Method of manufacturing liquid crystal display device |
| DE69031352T DE69031352T2 (de) | 1989-03-15 | 1990-03-13 | Verfahren zur Herstellung einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung |
| US08/156,796 US5358810A (en) | 1989-03-15 | 1993-11-23 | Method of manufacturing liquid crystal display device |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6074289 | 1989-03-15 | ||
| JP1-60742 | 1989-03-15 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH037911A JPH037911A (ja) | 1991-01-16 |
| JP2619062B2 true JP2619062B2 (ja) | 1997-06-11 |
Family
ID=13151019
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1192503A Expired - Fee Related JP2619062B2 (ja) | 1989-03-15 | 1989-07-27 | 電極基板及び液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0631171B1 (ja) |
| JP (1) | JP2619062B2 (ja) |
| KR (1) | KR930010664B1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106405919A (zh) * | 2015-08-03 | 2017-02-15 | 株式会社日本显示器 | 显示装置以及滤色器基板 |
| KR20190054484A (ko) * | 2017-11-13 | 2019-05-22 | 엘지이노텍 주식회사 | 광 제어 부재 및 이를 포함하는 표시 장치 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0499979A3 (en) | 1991-02-16 | 1993-06-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electro-optical device |
| JP2849008B2 (ja) * | 1992-11-02 | 1999-01-20 | 三容真空工業株式会社 | カラー液晶表示装置 |
| EP0603866B1 (en) * | 1992-12-25 | 2002-07-24 | Sony Corporation | Active matrix substrate |
| JP3232866B2 (ja) * | 1994-04-06 | 2001-11-26 | 株式会社日立製作所 | カラー液晶表示装置の製造方法 |
| KR19980060793A (ko) * | 1996-12-31 | 1998-10-07 | 손욱 | 액정 표시 소자 |
| JP3695415B2 (ja) | 2002-04-10 | 2005-09-14 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学パネル用基板、その製造方法、及び電気光学パネル、並びにその製造方法 |
| DE60336060D1 (de) | 2002-07-10 | 2011-03-31 | Donaldson Co Inc | Gefaltetes filtermaterial und verfahren zu dessen herstellung |
| JP2006243261A (ja) * | 2005-03-02 | 2006-09-14 | Sony Corp | 液晶パネル、画像表示装置及び投射型画像表示装置 |
| KR20070039237A (ko) * | 2005-10-07 | 2007-04-11 | 삼성전자주식회사 | 표시판 및 그 제조 방법 |
| KR100890894B1 (ko) * | 2007-08-02 | 2009-04-03 | (주)케이.티.씨 | 세혈 방전가공장치 |
| CN102561460A (zh) * | 2010-12-15 | 2012-07-11 | 广州星辰热能科技有限公司 | 一种智能变频恒压供水系统 |
| KR20130020313A (ko) * | 2011-08-19 | 2013-02-27 | 삼성전기주식회사 | 터치센서 및 그 제조방법 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5868720A (ja) * | 1981-10-20 | 1983-04-23 | Sharp Corp | 液晶表示装置とその製造方法 |
| JPS613123A (ja) * | 1984-06-15 | 1986-01-09 | Sony Corp | 液晶カラ−表示素子の製造方法 |
| JPS63180933A (ja) * | 1987-01-21 | 1988-07-26 | Alps Electric Co Ltd | Ｓｔｎ型液晶表示素子 |
| JPS63180934A (ja) * | 1987-01-22 | 1988-07-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置およびその製造方法 |
-
1989
- 1989-07-27 JP JP1192503A patent/JP2619062B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1989-12-27 KR KR1019890019865A patent/KR930010664B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1990
- 1990-03-13 EP EP94113250A patent/EP0631171B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106405919A (zh) * | 2015-08-03 | 2017-02-15 | 株式会社日本显示器 | 显示装置以及滤色器基板 |
| KR20190054484A (ko) * | 2017-11-13 | 2019-05-22 | 엘지이노텍 주식회사 | 광 제어 부재 및 이를 포함하는 표시 장치 |
| KR102404742B1 (ko) * | 2017-11-13 | 2022-06-07 | 엘지이노텍 주식회사 | 광 제어 부재 및 이를 포함하는 표시 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0631171A1 (en) | 1994-12-28 |
| KR900014925A (ko) | 1990-10-25 |
| KR930010664B1 (ko) | 1993-11-05 |
| JPH037911A (ja) | 1991-01-16 |
| EP0631171B1 (en) | 1997-08-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2619062B2 (ja) | 電極基板及び液晶表示装置の製造方法 | |
| US5358810A (en) | Method of manufacturing liquid crystal display device | |
| US5936694A (en) | Liquid crystal device and process for producing same | |
| JP3210791B2 (ja) | カラー液晶表示装置の製造方法 | |
| KR100677062B1 (ko) | 편광기능이 구비된 컬러필터 기판 및 그 제조 방법 | |
| JP3879144B2 (ja) | カラーフィルター | |
| JP2001183513A (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法、カラー液晶表示装置 | |
| KR100764591B1 (ko) | 필름 전사법에 의한 액정표시장치용 컬러필터 기판 및그의 제조방법 | |
| JP4689943B2 (ja) | エレクトロクロミック表示装置およびその製造方法 | |
| JPH0338574B2 (ja) | ||
| JPH0895024A (ja) | カラーフィルター、その製造方法、及び同カラーフィルターを組込んだ液晶表示パネル | |
| JP2537562B2 (ja) | 液晶表示装置のカラ―フィルタ―層の製造方法 | |
| EP0387805B1 (en) | Method of manufacturing liquid crystal display device | |
| JPH11119207A (ja) | カラーフィルタ基板及び該基板を用いた液晶素子 | |
| JP2606162B2 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
| JP2001166316A (ja) | カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子 | |
| JPH06138456A (ja) | カラー液晶表示素子 | |
| JPH04355406A (ja) | カラーフィルタとその製造方法 | |
| JP2000284110A (ja) | 液晶用カラーフィルター、その製造方法及び液晶表示装置 | |
| JP3188288B2 (ja) | カラーフィルタ及びその製造方法並びに液晶表示パネル | |
| JPH09203807A (ja) | カラーフィルターおよびカラー液晶表示装置 | |
| JP2845559B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
| JPH07146407A (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| JP2001228468A (ja) | カラー液晶表示素子の製造方法 | |
| JPH08179305A (ja) | 液晶表示素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |