JP2001228468A - カラー液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
カラー液晶表示素子の製造方法Info
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- JP2001228468A JP2001228468A JP2000036124A JP2000036124A JP2001228468A JP 2001228468 A JP2001228468 A JP 2001228468A JP 2000036124 A JP2000036124 A JP 2000036124A JP 2000036124 A JP2000036124 A JP 2000036124A JP 2001228468 A JP2001228468 A JP 2001228468A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 表示品位の高いカラー液晶表示素子の製造方
法を提供する。 【解決手段】 一対の電極付き基板間に液晶を狭持して
なる液晶表示素子において、少なくとも一方の基板は、
フィルムまたは、プラスチック基板からなり、前記液晶
表示素子を作製した後、フィルムまたは、プラスチック
基板からなる一方の基板の透明電極形成面の反対面にカ
ラーフィルタ層を形成する工程と、ＥＢ（電子線）照
射、またはＥＢ（電子線）照射及び熱処理する工程とを
有する。
法を提供する。 【解決手段】 一対の電極付き基板間に液晶を狭持して
なる液晶表示素子において、少なくとも一方の基板は、
フィルムまたは、プラスチック基板からなり、前記液晶
表示素子を作製した後、フィルムまたは、プラスチック
基板からなる一方の基板の透明電極形成面の反対面にカ
ラーフィルタ層を形成する工程と、ＥＢ（電子線）照
射、またはＥＢ（電子線）照射及び熱処理する工程とを
有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はカラー液晶表示素子
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図３は従来のカラー液晶表示素子の構成
を示す断面図であり、図３において、３０ａ、３０ｂは
透明ガラス基板、３１〜３３は透明ガラス基板３０ａ表
面にそれぞれ形成されたＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）
用カラーフィルタ、３４はＢＬ（黒）マトリクス、３９
はカラーフィルター３１〜３３及びＢＬ（黒）マトリク
ス３４を覆う透光性樹脂層、３６，３７はストライプ電
極、３８は液晶層、３５はシール樹脂である。ここで、
透明ガラス基板３０ａ、カラーフィルタ３１〜３３、Ｂ
Ｌ（黒）マトリクス３４及び透光性樹脂層３９によりカ
ラーフィルタ層４０（カラーフィルタ３１〜３３，ＢＬ
（黒）マトリクス３４，透光性樹脂層３９）付き基板４
１が構成されている。また、カラーフィルタ３１〜３３
は一般には印刷式、染色式、顔料分散式、及び電着式、
インクジェット式等の方法で形成されるが、ここでは、
最も低コスト化が可能な印刷式によって形成されてい
る。またストライプ電極３６はカラーフィルタ付き基板
４１の主面である透光性樹脂層３９の表面に形成されて
いる。
を示す断面図であり、図３において、３０ａ、３０ｂは
透明ガラス基板、３１〜３３は透明ガラス基板３０ａ表
面にそれぞれ形成されたＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）
用カラーフィルタ、３４はＢＬ（黒）マトリクス、３９
はカラーフィルター３１〜３３及びＢＬ（黒）マトリク
ス３４を覆う透光性樹脂層、３６，３７はストライプ電
極、３８は液晶層、３５はシール樹脂である。ここで、
透明ガラス基板３０ａ、カラーフィルタ３１〜３３、Ｂ
Ｌ（黒）マトリクス３４及び透光性樹脂層３９によりカ
ラーフィルタ層４０（カラーフィルタ３１〜３３，ＢＬ
（黒）マトリクス３４，透光性樹脂層３９）付き基板４
１が構成されている。また、カラーフィルタ３１〜３３
は一般には印刷式、染色式、顔料分散式、及び電着式、
インクジェット式等の方法で形成されるが、ここでは、
最も低コスト化が可能な印刷式によって形成されてい
る。またストライプ電極３６はカラーフィルタ付き基板
４１の主面である透光性樹脂層３９の表面に形成されて
いる。
【０００３】染色式は、ガラス基板上に染色用の材料で
ある水溶性高分子材料を塗布し、これをリソグラフィ−
工程により所望の形状にパターンニングした後、得られ
たパターンにを染色液に浸漬工程着色されたパターンを
得る。
ある水溶性高分子材料を塗布し、これをリソグラフィ−
工程により所望の形状にパターンニングした後、得られ
たパターンにを染色液に浸漬工程着色されたパターンを
得る。
【０００４】顔料分散式は、基板上に顔料を分散した感
光性樹脂層を形成し、これをパターンニングすることに
より単色のパターンを得る。
光性樹脂層を形成し、これをパターンニングすることに
より単色のパターンを得る。
【０００５】電着式は、基板上に電極をパターンニング
し、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬し
て色を電着し、最後に焼成する。
し、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬し
て色を電着し、最後に焼成する。
【０００６】印刷式は、熱硬化型の樹脂に顔料を分散さ
せ、Ｒ，Ｇ，Ｂ、ＢＬを塗り分けた後、樹脂を熱硬化さ
せることにより着色層を形成するのが一般的である。
せ、Ｒ，Ｇ，Ｂ、ＢＬを塗り分けた後、樹脂を熱硬化さ
せることにより着色層を形成するのが一般的である。
【０００７】図３に示すように、印刷式で形成したカラ
ーフィルタ３１〜３３の表面は約１μｍの凹凸を有して
おり、この表面凹凸を有する透明ガラス基板３０ａをそ
のまま利用して液晶表示素子を作製した場合、光学的な
複屈折原理と位相差板を利用して表示を行う液晶表示素
子では、前記表面凹凸のために色むらが発生するという
不具合を発生してしまう。
ーフィルタ３１〜３３の表面は約１μｍの凹凸を有して
おり、この表面凹凸を有する透明ガラス基板３０ａをそ
のまま利用して液晶表示素子を作製した場合、光学的な
複屈折原理と位相差板を利用して表示を行う液晶表示素
子では、前記表面凹凸のために色むらが発生するという
不具合を発生してしまう。
【０００８】このため、カラーフィルタ３１〜３３及び
ＢＬ（黒）マトリクス３４を形成した後に、このカラー
フィルタ３１〜３３及びＢＬ（黒）マトリクス３４を透
光性樹脂層３９で被覆し、透光性樹脂層３９の表面を例
えば表面研磨等の方法で平坦化して、透光性樹脂層３９
の表面平滑度を０．１〜０．２μｍに保持している。ま
たＩＴＯ形成工程、配向膜形成工程において、耐熱性、
耐薬品性において必要特性を満足し、表示品位の高いカ
ラーフィルタ層付き基板を得るために２００℃以上の熱
硬化処理を行う。
ＢＬ（黒）マトリクス３４を形成した後に、このカラー
フィルタ３１〜３３及びＢＬ（黒）マトリクス３４を透
光性樹脂層３９で被覆し、透光性樹脂層３９の表面を例
えば表面研磨等の方法で平坦化して、透光性樹脂層３９
の表面平滑度を０．１〜０．２μｍに保持している。ま
たＩＴＯ形成工程、配向膜形成工程において、耐熱性、
耐薬品性において必要特性を満足し、表示品位の高いカ
ラーフィルタ層付き基板を得るために２００℃以上の熱
硬化処理を行う。
【０００９】いずれの方式においても、平坦化、カラー
フィルタの保護といった目的から着色層上に透光性樹脂
層３９を形成するのが一般的である。
フィルタの保護といった目的から着色層上に透光性樹脂
層３９を形成するのが一般的である。
【００１０】また、透光性樹脂層３９は熱硬化型樹脂で
あり、２００℃以上の熱硬化により形成するのが一般的
である。
あり、２００℃以上の熱硬化により形成するのが一般的
である。
【００１１】また、低温形成が特徴であるインクジェッ
ト方式においては、特開昭５９−７５２０５号公報、特
開昭６３−２３５９０１号公報あるいは特開平１−２１
７０２０号公報等には、インクジェット方式を用いたカ
ラーフィルタを製造する方法が記載されているが、また
十分満足できるものは得られていない。とりわけ従来か
ら用いられているインク着色層の耐熱性、耐溶剤性が低
いためにＩＴＯ形成工程、配向膜工程においてプロセス
的な制約を受けるのである。
ト方式においては、特開昭５９−７５２０５号公報、特
開昭６３−２３５９０１号公報あるいは特開平１−２１
７０２０号公報等には、インクジェット方式を用いたカ
ラーフィルタを製造する方法が記載されているが、また
十分満足できるものは得られていない。とりわけ従来か
ら用いられているインク着色層の耐熱性、耐溶剤性が低
いためにＩＴＯ形成工程、配向膜工程においてプロセス
的な制約を受けるのである。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フィル
ム、またはプラスチック基板を用いた液晶表示素子の場
合、フィルム、プラスチック基板の耐熱性が低いため、
カラーフィルタ層に２００℃以上の熱硬化処理を行うこ
とが出来ない。
ム、またはプラスチック基板を用いた液晶表示素子の場
合、フィルム、プラスチック基板の耐熱性が低いため、
カラーフィルタ層に２００℃以上の熱硬化処理を行うこ
とが出来ない。
【００１３】そのため、カラーフィルタ層の耐熱性、耐
薬品性が悪化し、ＩＴＯ形成工程、配向膜形成工程にお
いて、信頼性の高いカラーフィルタ付き基板を得ること
が出来ないといった問題が発生した。
薬品性が悪化し、ＩＴＯ形成工程、配向膜形成工程にお
いて、信頼性の高いカラーフィルタ付き基板を得ること
が出来ないといった問題が発生した。
【００１４】また、フィルム、またはプラスチック基板
はガラス基板と比較して熱膨張係数が1桁以上大きいた
め、製造工程中の基板の熱変形によりカラーフィルタの
寸法が変わるといった問題が発生した。
はガラス基板と比較して熱膨張係数が1桁以上大きいた
め、製造工程中の基板の熱変形によりカラーフィルタの
寸法が変わるといった問題が発生した。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明にかかるカラー液
晶表示素子の製造方法は、一対の電極付き基板間に液晶
を狭持してなる液晶表示素子において、少なくとも一方
の基板は、フィルムまたは、プラスチック基板からな
り、前記液晶表示素子を作製した後、フィルムまたは、
プラスチック基板からなる一方の基板の透明電極形成面
の反対面にカラーフィルタ層を形成する工程と、ＥＢ
（電子線）照射、またはＥＢ（電子線）照射及び熱処理
する工程と、を有することを特徴とする。
晶表示素子の製造方法は、一対の電極付き基板間に液晶
を狭持してなる液晶表示素子において、少なくとも一方
の基板は、フィルムまたは、プラスチック基板からな
り、前記液晶表示素子を作製した後、フィルムまたは、
プラスチック基板からなる一方の基板の透明電極形成面
の反対面にカラーフィルタ層を形成する工程と、ＥＢ
（電子線）照射、またはＥＢ（電子線）照射及び熱処理
する工程と、を有することを特徴とする。
【００１６】本発明にかかるカラー液晶表示素子の製造
方法は、一対の電極付き基板間に液晶を狭持してなる液
晶表示素子において、少なくとも一方の基板は、フィル
ムまたは、プラスチック基板からなり、前記液晶表示素
子を作製した後、フィルムまたは、プラスチック基板か
らなる一方の基板の透明電極形成面の反対面にカラーフ
ィルタ層を形成するので、従来のように、液晶を狭持す
る２枚の透明基板の内側面（液晶側表面）の平滑化工程
を行うことなく、カラー液晶表示素子を簡略化した工程
により製造することができる。
方法は、一対の電極付き基板間に液晶を狭持してなる液
晶表示素子において、少なくとも一方の基板は、フィル
ムまたは、プラスチック基板からなり、前記液晶表示素
子を作製した後、フィルムまたは、プラスチック基板か
らなる一方の基板の透明電極形成面の反対面にカラーフ
ィルタ層を形成するので、従来のように、液晶を狭持す
る２枚の透明基板の内側面（液晶側表面）の平滑化工程
を行うことなく、カラー液晶表示素子を簡略化した工程
により製造することができる。
【００１７】また、ＥＢ（電子線）照射／またはEB（電
子線）照射及び２００℃以下の熱処理工程によってカラ
ーフィルタ及び／または透光性樹脂を硬化することによ
り、カラーフィルタ層の寸法変形のない表示品位の高い
カラー液晶表示素子を製造することが出来る。
子線）照射及び２００℃以下の熱処理工程によってカラ
ーフィルタ及び／または透光性樹脂を硬化することによ
り、カラーフィルタ層の寸法変形のない表示品位の高い
カラー液晶表示素子を製造することが出来る。
【００１８】また、ＥＢ（電子線）照射によって、カラ
ーフィルタ層表面の架橋密度が高くなり、硬度、及び耐
薬品性が改善されるといった効果もある。
ーフィルタ層表面の架橋密度が高くなり、硬度、及び耐
薬品性が改善されるといった効果もある。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。
て説明する。
【００２０】本発明の請求項１記載の発明は、一対の電
極付き基板間に液晶を狭持してなる液晶表示素子におい
て、少なくとも一方の基板は、フィルムまたは、プラス
チック基板からなり、前記液晶表示素子を作製した後、
フィルムまたは、プラスチック基板からなる一方の基板
の透明電極形成面の反対面にカラーフィルタを形成する
工程と、ＥＢ（電子線）照射、またはＥＢ（電子線）照
射及び熱処理する工程と、を有することを特徴とする液
晶表示素子の製造方法である。
極付き基板間に液晶を狭持してなる液晶表示素子におい
て、少なくとも一方の基板は、フィルムまたは、プラス
チック基板からなり、前記液晶表示素子を作製した後、
フィルムまたは、プラスチック基板からなる一方の基板
の透明電極形成面の反対面にカラーフィルタを形成する
工程と、ＥＢ（電子線）照射、またはＥＢ（電子線）照
射及び熱処理する工程と、を有することを特徴とする液
晶表示素子の製造方法である。
【００２１】本発明の請求項２記載の発明は、一対の電
極付き基板間に液晶を狭持してなる液晶表示素子におい
て、少なくとも一方の基板は、フィルムまたは、プラス
チック基板からなり、前記液晶表示素子を作製した後、
フィルムまたは、プラスチック基板からなる一方の基板
の透明電極形成面の反対面にカラーフィルタ及び前記カ
ラーフィルタ上に透光性樹脂層を形成する工程と、ＥＢ
（電子線）照射、またはＥＢ（電子線）照射及び熱処理
する工程と、を有することを特徴とする液晶表示素子の
製造方法である。
極付き基板間に液晶を狭持してなる液晶表示素子におい
て、少なくとも一方の基板は、フィルムまたは、プラス
チック基板からなり、前記液晶表示素子を作製した後、
フィルムまたは、プラスチック基板からなる一方の基板
の透明電極形成面の反対面にカラーフィルタ及び前記カ
ラーフィルタ上に透光性樹脂層を形成する工程と、ＥＢ
（電子線）照射、またはＥＢ（電子線）照射及び熱処理
する工程と、を有することを特徴とする液晶表示素子の
製造方法である。
【００２２】本発明の請求項３記載の発明は、一対の電
極付き基板間に液晶を狭持してなる液晶表示素子におい
て、少なくとも一方の基板は、フィルムまたは、プラス
チック基板からなり、前記液晶表示素子を作製した後、
フィルムまたは、プラスチック基板からなる一方の基板
の透明電極形成面の反対面に複数の着色された材料を印
刷法により所定のパターンに印刷する工程と、ＥＢ（電
子線）照射、またはＥＢ（電子線）照射及び熱処理する
工程と、を有することを特徴とする液晶表示素子の製造
方法である。
極付き基板間に液晶を狭持してなる液晶表示素子におい
て、少なくとも一方の基板は、フィルムまたは、プラス
チック基板からなり、前記液晶表示素子を作製した後、
フィルムまたは、プラスチック基板からなる一方の基板
の透明電極形成面の反対面に複数の着色された材料を印
刷法により所定のパターンに印刷する工程と、ＥＢ（電
子線）照射、またはＥＢ（電子線）照射及び熱処理する
工程と、を有することを特徴とする液晶表示素子の製造
方法である。
【００２３】本発明の請求項４記載の発明は、一対の電
極付き基板間に液晶を狭持してなる液晶表示素子におい
て、少なくとも一方の基板は、フィルムまたは、プラス
チック基板からなり、前記液晶表示素子を作製した後、
フィルムまたは、プラスチック基板からなる一方の基板
の透明電極形成面の反対面に複数の着色された材料を印
刷法により所定のパターンに印刷する工程と、前記着色
された材料上に透光性樹脂層を形成する工程と、ＥＢ
（電子線）照射、またはＥＢ（電子線）照射及び熱処理
する工程と、を有することを特徴とする液晶表示素子の
製造方法である。
極付き基板間に液晶を狭持してなる液晶表示素子におい
て、少なくとも一方の基板は、フィルムまたは、プラス
チック基板からなり、前記液晶表示素子を作製した後、
フィルムまたは、プラスチック基板からなる一方の基板
の透明電極形成面の反対面に複数の着色された材料を印
刷法により所定のパターンに印刷する工程と、前記着色
された材料上に透光性樹脂層を形成する工程と、ＥＢ
（電子線）照射、またはＥＢ（電子線）照射及び熱処理
する工程と、を有することを特徴とする液晶表示素子の
製造方法である。
【００２４】本発明の請求項５記載の発明は、一対の基
板間に液晶を狭持してなるアクティブマトリクス型液晶
表示素子において、少なくとも一方の基板は、フィルム
または、プラスチック基板からなり、前記液晶表示素子
を作製した後、フィルムまたは、プラスチック基板から
なる一方の基板の透明電極形成面の反対面にカラーフィ
ルタを形成する工程と、ＥＢ（電子線）照射、またはＥ
Ｂ（電子線）照射及び熱処理する工程と、を有すること
を特徴とする液晶表示素子の製造方法である。
板間に液晶を狭持してなるアクティブマトリクス型液晶
表示素子において、少なくとも一方の基板は、フィルム
または、プラスチック基板からなり、前記液晶表示素子
を作製した後、フィルムまたは、プラスチック基板から
なる一方の基板の透明電極形成面の反対面にカラーフィ
ルタを形成する工程と、ＥＢ（電子線）照射、またはＥ
Ｂ（電子線）照射及び熱処理する工程と、を有すること
を特徴とする液晶表示素子の製造方法である。
【００２５】本発明の請求項６記載の発明は、一対の基
板間に液晶を狭持してなるアクティブマトリクス型液晶
表示素子において、少なくとも一方の基板は、フィルム
または、プラスチック基板からなり、前記液晶表示素子
を作製した後、フィルムまたは、プラスチック基板から
なる一方の基板の透明電極形成面の反対面にカラーフィ
ルタを形成する工程と、前記カラーフィルタ上に透光性
樹脂層を形成する工程と、ＥＢ（電子線）照射、または
ＥＢ（電子線）照射及び熱処理する工程と、を有するこ
とを特徴とする液晶表示素子の製造方法である。
板間に液晶を狭持してなるアクティブマトリクス型液晶
表示素子において、少なくとも一方の基板は、フィルム
または、プラスチック基板からなり、前記液晶表示素子
を作製した後、フィルムまたは、プラスチック基板から
なる一方の基板の透明電極形成面の反対面にカラーフィ
ルタを形成する工程と、前記カラーフィルタ上に透光性
樹脂層を形成する工程と、ＥＢ（電子線）照射、または
ＥＢ（電子線）照射及び熱処理する工程と、を有するこ
とを特徴とする液晶表示素子の製造方法である。
【００２６】本発明の請求項７記載の発明は、一対の基
板間に液晶を狭持してなるアクティブマトリクス型液晶
表示素子において、少なくとも一方の基板は、フィルム
または、プラスチック基板からなり、前記液晶表示素子
を作製した後、フィルムまたは、プラスチック基板から
なる一方の基板の透明電極形成面の反対面に複数の着色
された材料を印刷法により所定のパターンに印刷する工
程と、ＥＢ（電子線）照射、またはＥＢ（電子線）照射
及び熱処理する工程と、を有することを特徴とする液晶
表示素子の製造方法である。
板間に液晶を狭持してなるアクティブマトリクス型液晶
表示素子において、少なくとも一方の基板は、フィルム
または、プラスチック基板からなり、前記液晶表示素子
を作製した後、フィルムまたは、プラスチック基板から
なる一方の基板の透明電極形成面の反対面に複数の着色
された材料を印刷法により所定のパターンに印刷する工
程と、ＥＢ（電子線）照射、またはＥＢ（電子線）照射
及び熱処理する工程と、を有することを特徴とする液晶
表示素子の製造方法である。
【００２７】本発明の請求項８記載の発明は、一対の基
板間に液晶を狭持してなるアクティブマトリクス型液晶
表示素子において、少なくとも一方の基板は、フィルム
または、プラスチック基板からなり、前記液晶表示素子
を作製した後、フィルムまたは、プラスチック基板から
なる一方の基板の透明電極形成面の反対面に複数の着色
された材料を印刷法により所定のパターンに印刷する工
程と、前記複数の着色された材料上に透光性樹脂層を形
成する工程と、ＥＢ（電子線）照射、またはＥＢ（電子
線）照射及び熱処理する工程と、を有することを特徴と
する液晶表示素子の製造方法である。
板間に液晶を狭持してなるアクティブマトリクス型液晶
表示素子において、少なくとも一方の基板は、フィルム
または、プラスチック基板からなり、前記液晶表示素子
を作製した後、フィルムまたは、プラスチック基板から
なる一方の基板の透明電極形成面の反対面に複数の着色
された材料を印刷法により所定のパターンに印刷する工
程と、前記複数の着色された材料上に透光性樹脂層を形
成する工程と、ＥＢ（電子線）照射、またはＥＢ（電子
線）照射及び熱処理する工程と、を有することを特徴と
する液晶表示素子の製造方法である。
【００２８】本発明の請求項９記載の発明は、前記熱処
理温度は２００℃以下であることを特徴とする請求項１
から８記載の液晶表示素子の製造方法である。
理温度は２００℃以下であることを特徴とする請求項１
から８記載の液晶表示素子の製造方法である。
【００２９】（実施の形態１）図１は、本発明の実施の
形態１による透過型カラー液晶表示素子の製造方法によ
り得られたカラー液晶表示素子の構成を示す断面図であ
り、図１において、１０ａ、１０ｂは例えばアクリル系
樹脂からなる可撓性を有する透明プラスチック基板、１
１〜１３は透明プラスチックフィルム基板１０ａの表面
にそれぞれ形成されたＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）用
カラーフィルタ、１５はシール樹脂、１６、１７はスト
ライプ用透明電極、１８は液晶層である。ここで、可撓
性を有するプラスチックフィルム基板１０ａ、１０ｂの
厚さは、０．１ｍｍ、液晶層の厚さは約６μｍ、ストラ
イプ状透明電極１６，１７の膜厚は約０．２μｍであ
る。
形態１による透過型カラー液晶表示素子の製造方法によ
り得られたカラー液晶表示素子の構成を示す断面図であ
り、図１において、１０ａ、１０ｂは例えばアクリル系
樹脂からなる可撓性を有する透明プラスチック基板、１
１〜１３は透明プラスチックフィルム基板１０ａの表面
にそれぞれ形成されたＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）用
カラーフィルタ、１５はシール樹脂、１６、１７はスト
ライプ用透明電極、１８は液晶層である。ここで、可撓
性を有するプラスチックフィルム基板１０ａ、１０ｂの
厚さは、０．１ｍｍ、液晶層の厚さは約６μｍ、ストラ
イプ状透明電極１６，１７の膜厚は約０．２μｍであ
る。
【００３０】本実施の形態では、先ず透明プラスチック
フィルム基板１０ａ、１０ｂのそれぞれの主面に例えば
錫添加酸インジウム（ＩＴＯ）からなるストライプ状透
明電極１６、１７を形成する。次に、透明プラスチック
フィルム基板１０ａ、１０ｂの互いの電極形成面を図示
しないスペーサを介して所定の間隙を空けて対向させ、
シール樹脂１５によって接着する。次に、このようにし
て形成された空セルの前記間隙に液晶１８を封入して液
晶素子本体（液晶パネル）を完成する。次に、この液晶
素子本体（液晶パネル）の透明プラスチックフィルム基
板１０ａの外側面に印刷法により着色された材料を印刷
し、１５０℃５時間の熱処理後、ＥＢ照射（加速電圧
Ｖ：１５０ｋＶ 照射時間０．５秒）によりＲ（赤）１
１、Ｇ（緑）１２、Ｂ（青）１３からなるカラーフィル
タ層２０を形成する。
フィルム基板１０ａ、１０ｂのそれぞれの主面に例えば
錫添加酸インジウム（ＩＴＯ）からなるストライプ状透
明電極１６、１７を形成する。次に、透明プラスチック
フィルム基板１０ａ、１０ｂの互いの電極形成面を図示
しないスペーサを介して所定の間隙を空けて対向させ、
シール樹脂１５によって接着する。次に、このようにし
て形成された空セルの前記間隙に液晶１８を封入して液
晶素子本体（液晶パネル）を完成する。次に、この液晶
素子本体（液晶パネル）の透明プラスチックフィルム基
板１０ａの外側面に印刷法により着色された材料を印刷
し、１５０℃５時間の熱処理後、ＥＢ照射（加速電圧
Ｖ：１５０ｋＶ 照射時間０．５秒）によりＲ（赤）１
１、Ｇ（緑）１２、Ｂ（青）１３からなるカラーフィル
タ層２０を形成する。
【００３１】前記のように、透明プラスチックフィルム
基板１０ａ、１１ｂの厚さが約０．１ｍｍ、液晶層１８
の層厚が約６μｍ、ストライプ状透明電極１６，１７の
膜厚が約０．２μｍで、液晶素子本体（液晶パネル）全
体の厚さが約０．２ｍｍである。かかるカラーフィルタ
の形成工程では、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラ
ーフィルタ１１〜１３を、表示電極となるストライプ状
透明電極１７と空間的に重なるように配置形成する。
を、表示電極となる。
基板１０ａ、１１ｂの厚さが約０．１ｍｍ、液晶層１８
の層厚が約６μｍ、ストライプ状透明電極１６，１７の
膜厚が約０．２μｍで、液晶素子本体（液晶パネル）全
体の厚さが約０．２ｍｍである。かかるカラーフィルタ
の形成工程では、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラ
ーフィルタ１１〜１３を、表示電極となるストライプ状
透明電極１７と空間的に重なるように配置形成する。
を、表示電極となる。
【００３２】上記製造方法により、カラーフィルタ１１
〜１３の寸法変化のない表示品位の高いカラー液晶表示
素子を製造することが出来る。
〜１３の寸法変化のない表示品位の高いカラー液晶表示
素子を製造することが出来る。
【００３３】また、カラーフィルタの架橋密度が高くな
り、硬度、及び耐薬品性が向上し、用途によっては、カ
ラーフィルタの保護層（透光性樹脂層３９）を省くこと
ができる。
り、硬度、及び耐薬品性が向上し、用途によっては、カ
ラーフィルタの保護層（透光性樹脂層３９）を省くこと
ができる。
【００３４】（実施の形態２）図２は、本発明の実施の
形態１による透過型カラー液晶表示素子の製造方法によ
り得られたカラー液晶表示素子の構成を示す断面図であ
り、図において、１０ａ、１０ｂは例えばアクリル系樹
脂からなる可撓性を有する透明プラスチック基板、１１
〜１３は透明プラスチックフィルム基板１０ａの表面に
それぞれ形成されたＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）用カ
ラーフィルタ、１５はシール樹脂、１６、１７はストラ
イプ用透明電極、１８は液晶層である。ここで、可撓性
を有するプラスチックフィルム基板１０ａ、１０ｂの厚
さは、０．１ｍｍ、液晶層の厚さは約６μｍ、ストライ
プ状透明電極１６，１７の膜厚は約０．２μｍである。
形態１による透過型カラー液晶表示素子の製造方法によ
り得られたカラー液晶表示素子の構成を示す断面図であ
り、図において、１０ａ、１０ｂは例えばアクリル系樹
脂からなる可撓性を有する透明プラスチック基板、１１
〜１３は透明プラスチックフィルム基板１０ａの表面に
それぞれ形成されたＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）用カ
ラーフィルタ、１５はシール樹脂、１６、１７はストラ
イプ用透明電極、１８は液晶層である。ここで、可撓性
を有するプラスチックフィルム基板１０ａ、１０ｂの厚
さは、０．１ｍｍ、液晶層の厚さは約６μｍ、ストライ
プ状透明電極１６，１７の膜厚は約０．２μｍである。
【００３５】本実施の形態では、先ず透明プラスチック
フィルム基板１０ａ、１０ｂのそれぞれの主面に例えば
錫添加酸インジウム（ＩＴＯ）からなるストライプ状透
明電極１６、１７を形成する。次に、透明プラスチック
フィルム基板１０ａ、１０ｂの互いの電極形成面を図示
しないスペーサを介して所定の間隙を空けて対向させ、
シール樹脂１５によって接着する。次に、このようにし
て形成された空セルの前記間隙に液晶１８を封入して液
晶素子本体（液晶パネル）を完成する。次に、この液晶
素子本体（液晶パネル）の透明プラスチックフィルム基
板１０ａの外側面に印刷法により着色された材料を印刷
し、１５０℃５時間の熱処理を行いＲ（赤）１１、Ｇ
（緑）１２、Ｂ（青）１３及びＢＬ（黒）１４からなる
カラーフィルタ層２０を形成する。その後、透光性樹脂
層３９を塗布後１５０℃４時間の熱処理、及びＥＢ照射
（加速電圧Ｖ：１５０ｋＶ 照射時間０．５秒）によ
り、カラーフィルタ１１〜１４、及び透光性樹脂層３９
の硬化を行う。
フィルム基板１０ａ、１０ｂのそれぞれの主面に例えば
錫添加酸インジウム（ＩＴＯ）からなるストライプ状透
明電極１６、１７を形成する。次に、透明プラスチック
フィルム基板１０ａ、１０ｂの互いの電極形成面を図示
しないスペーサを介して所定の間隙を空けて対向させ、
シール樹脂１５によって接着する。次に、このようにし
て形成された空セルの前記間隙に液晶１８を封入して液
晶素子本体（液晶パネル）を完成する。次に、この液晶
素子本体（液晶パネル）の透明プラスチックフィルム基
板１０ａの外側面に印刷法により着色された材料を印刷
し、１５０℃５時間の熱処理を行いＲ（赤）１１、Ｇ
（緑）１２、Ｂ（青）１３及びＢＬ（黒）１４からなる
カラーフィルタ層２０を形成する。その後、透光性樹脂
層３９を塗布後１５０℃４時間の熱処理、及びＥＢ照射
（加速電圧Ｖ：１５０ｋＶ 照射時間０．５秒）によ
り、カラーフィルタ１１〜１４、及び透光性樹脂層３９
の硬化を行う。
【００３６】前記のように、透明プラスチックフィルム
基板１０ａ、１１ｂの厚さが約０．１ｍｍ、液晶層１８
の層厚が約６μｍ、ストライプ状透明電極１６，１７の
膜厚が約０．２μｍで、液晶素子本体（液晶パネル）全
体の厚さが約０．２ｍｍである。かかるカラーフィルタ
の形成工程では、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、ＢＬ
（黒）マトリクスのカラーフィルタ１１〜１４を、表示
電極となるストライプ状透明電極１７と空間的に重なる
ように配置形成する。
基板１０ａ、１１ｂの厚さが約０．１ｍｍ、液晶層１８
の層厚が約６μｍ、ストライプ状透明電極１６，１７の
膜厚が約０．２μｍで、液晶素子本体（液晶パネル）全
体の厚さが約０．２ｍｍである。かかるカラーフィルタ
の形成工程では、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、ＢＬ
（黒）マトリクスのカラーフィルタ１１〜１４を、表示
電極となるストライプ状透明電極１７と空間的に重なる
ように配置形成する。
【００３７】上記製造方法によって、従来のように、液
晶を狭持する２枚の透明基板の内側面（液晶側表面）の
平滑化工程を行うことなく、カラー液晶表示素子を簡略
化した工程により製造することができる。
晶を狭持する２枚の透明基板の内側面（液晶側表面）の
平滑化工程を行うことなく、カラー液晶表示素子を簡略
化した工程により製造することができる。
【００３８】また、カラーフィルタの寸法変形のない表
示品位の高いカラー液晶表示素子を製造することが出来
る。
示品位の高いカラー液晶表示素子を製造することが出来
る。
【００３９】また、カラーフィルタ１１〜１４、及び透
光性樹脂層３９の架橋密度が高くなり、硬度、及び耐薬
品性が向上する。
光性樹脂層３９の架橋密度が高くなり、硬度、及び耐薬
品性が向上する。
【００４０】なお、本発明にかかる液晶表示素子では、
プラスチックフィルム基板１０ａ、１０ｂは、上記材料
に限らないものとし、プラスチックフィルム基板外側面
（電極形成面の反対面）にあらかじめ、例えば、有機材
料、無機材料（SiOX等）の薄膜が積層されていても構わ
ないものとする。
プラスチックフィルム基板１０ａ、１０ｂは、上記材料
に限らないものとし、プラスチックフィルム基板外側面
（電極形成面の反対面）にあらかじめ、例えば、有機材
料、無機材料（SiOX等）の薄膜が積層されていても構わ
ないものとする。
【００４１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかるカ
ラー液晶表示素子の製造方法によれば、液晶表示素子本
体、すなわち、２枚の透明基板間に液晶層が封入されて
なる基板体の作製後、この液晶液晶表示素子本体の一方
の外側面にカラーフィルタを形成することにより、従来
のように、液晶を狭持する２枚の透明基板の内側面（液
晶側表面）の平滑化工程を行うことなく、カラー液晶表
示素子を簡略化した工程により製造することができる。
ラー液晶表示素子の製造方法によれば、液晶表示素子本
体、すなわち、２枚の透明基板間に液晶層が封入されて
なる基板体の作製後、この液晶液晶表示素子本体の一方
の外側面にカラーフィルタを形成することにより、従来
のように、液晶を狭持する２枚の透明基板の内側面（液
晶側表面）の平滑化工程を行うことなく、カラー液晶表
示素子を簡略化した工程により製造することができる。
【００４２】また、ＥＢ照射／またはＥＢ照射及び２０
０℃以下の熱処理により、熱処理によるカラーフィルタ
の寸法変形のない表示品位の高いカラー液晶表示素子を
製造することが出来る。
０℃以下の熱処理により、熱処理によるカラーフィルタ
の寸法変形のない表示品位の高いカラー液晶表示素子を
製造することが出来る。
【００４３】また、カラーフィルタの架橋密度が高くな
り、硬度、及び耐薬品性が向上し、用途によっては、カ
ラーフィルタの保護層（透光性樹脂層３９）を省くこと
ができる。
り、硬度、及び耐薬品性が向上し、用途によっては、カ
ラーフィルタの保護層（透光性樹脂層３９）を省くこと
ができる。
【００４４】また、本発明にかかるカラー液晶表示素子
の製造方法によれば、液晶表示素子本体、すなわち、２
枚の透明基板間に液晶層が封入されてなる基板体の作製
後、この液晶液晶表示素子本体の一方の外側面にカラー
フィルタ１１〜１４、及び前記カラーフィルタ上に透光
性樹脂層３９を形成し、２００℃以下の熱処理及び／ま
たはＥＢ照射によりカラーフィルタ１１〜１４及び／ま
たは透光性樹脂３９を硬化することにより、熱処理によ
るカラーフィルタの寸法変形のない表示品位の高いカラ
ー液晶表示素子を製造することが出来る。
の製造方法によれば、液晶表示素子本体、すなわち、２
枚の透明基板間に液晶層が封入されてなる基板体の作製
後、この液晶液晶表示素子本体の一方の外側面にカラー
フィルタ１１〜１４、及び前記カラーフィルタ上に透光
性樹脂層３９を形成し、２００℃以下の熱処理及び／ま
たはＥＢ照射によりカラーフィルタ１１〜１４及び／ま
たは透光性樹脂３９を硬化することにより、熱処理によ
るカラーフィルタの寸法変形のない表示品位の高いカラ
ー液晶表示素子を製造することが出来る。
【００４５】また、カラーフィルタ層２０の架橋密度が
高くなり、硬度、及び耐薬品性が改善されるといった効
果もある。
高くなり、硬度、及び耐薬品性が改善されるといった効
果もある。
【図１】本発明の実施の形態１による透過型カラー液晶
表示素子の製造方法により得られたカラー液晶表示装置
の構成を示す断面図
表示素子の製造方法により得られたカラー液晶表示装置
の構成を示す断面図
【図２】本発明の実施の形態２による透過型カラー液晶
表示素子の製造方法により得られたカラー液晶表示装置
の構成を示す断面図
表示素子の製造方法により得られたカラー液晶表示装置
の構成を示す断面図
【図３】従来のカラー液晶表示素子の構成を示す断面図
１０ａ，１０ｂ プラスチックフィルム基板 １１，３１ Ｒ（赤）用カラーフィルタ １２，３２ Ｇ（緑）用カラーフィルタ １３，３３ Ｂ（青）用カラーフィルタ １４，３４ ＢＬ（黒）マトリクス １５，３５ シ−ル樹脂 １６，１７，３６，３７ 透明電極 １８，３８ 液晶層 １９，３９ 透光性樹脂 ２０，４０ カラーフィルタ層 ２１，４１ カラーフィルタ層付き基板 ３０ａ，３０ｂ ガラス基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小川 一文 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 BA55 BB02 BB15 BB42 2H091 FA02X FA02Z FC12 FC22 FC23 GA01 GA13 LA02 LA16
Claims (9)
- 【請求項１】 一対の電極付き基板間に液晶を狭持して
なる液晶表示素子において、少なくとも一方の基板は、
フィルムまたは、プラスチック基板からなり、前記液晶
表示素子を作製した後、フィルムまたは、プラスチック
基板からなる一方の基板の透明電極形成面の反対面にカ
ラーフィルタを形成する工程と、ＥＢ（電子線）照射、
またはＥＢ（電子線）照射及び熱処理する工程と、を有
することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項２】 一対の電極付き基板間に液晶を狭持して
なる液晶表示素子において、少なくとも一方の基板は、
フィルムまたは、プラスチック基板からなり、前記液晶
表示素子を作製した後、フィルムまたは、プラスチック
基板からなる一方の基板の透明電極形成面の反対面にカ
ラーフィルタを形成する工程と、前記カラーフィルタ上
に透光性樹脂層を形成する工程と、ＥＢ（電子線）照
射、またはＥＢ（電子線）照射及び熱処理する工程と、
を有することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項３】 一対の電極付き基板間に液晶を狭持して
なる液晶表示素子において、少なくとも一方の基板は、
フィルムまたは、プラスチック基板からなり、前記液晶
表示素子を作製した後、フィルムまたは、プラスチック
基板からなる一方の基板の透明電極形成面の反対面に複
数の着色された材料を印刷法により所定のパターンに印
刷する工程と、ＥＢ（電子線）照射、またはＥＢ（電子
線）照射及び熱処理する工程と、を有することを特徴と
する液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項４】 一対の電極付き基板間に液晶を狭持して
なる液晶表示素子において、少なくとも一方の基板は、
フィルムまたは、プラスチック基板からなり、前記液晶
表示素子を作製した後、フィルムまたは、プラスチック
基板からなる一方の基板の透明電極形成面の反対面に複
数の着色された材料を印刷法により所定のパターンに印
刷する工程と、前記着色された材料上に透光性樹脂層を
形成する工程と、ＥＢ（電子線）照射、またはＥＢ（電
子線）照射及び熱処理する工程と、を有することを特徴
とする液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項５】 一対の基板間に液晶を狭持してなるアク
ティブマトリクス型液晶表示素子において、少なくとも
一方の基板は、フィルムまたは、プラスチック基板から
なり、前記液晶表示素子を作製した後、フィルムまた
は、プラスチック基板からなる一方の基板の透明電極形
成面の反対面にカラーフィルタを形成する工程と、ＥＢ
（電子線）照射、またはＥＢ（電子線）照射及び熱処理
する工程と、を有することを特徴とする液晶表示素子の
製造方法。 - 【請求項６】 一対の基板間に液晶を狭持してなるアク
ティブマトリクス型液晶表示素子において、少なくとも
一方の基板は、フィルムまたは、プラスチック基板から
なり、前記液晶表示素子を作製した後、フィルムまた
は、プラスチック基板からなる一方の基板の透明電極形
成面の反対面にカラーフィルタを形成する工程と、前記
カラーフィルタ上に透光性樹脂層を形成する工程と、Ｅ
Ｂ（電子線）照射、またはＥＢ（電子線）照射及び熱処
理する工程と、を有することを特徴とする液晶表示素子
の製造方法。 - 【請求項７】 一対の基板間に液晶を狭持してなるアク
ティブマトリクス型液晶表示素子において、少なくとも
一方の基板は、フィルムまたは、プラスチック基板から
なり、前記液晶表示素子を作製した後、フィルムまた
は、プラスチック基板からなる一方の基板の透明電極形
成面の反対面に複数の着色された材料を印刷法により所
定のパターンに印刷する工程と、ＥＢ（電子線）照射、
またはＥＢ（電子線）照射及び熱処理する工程と、を有
することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項８】 一対の基板間に液晶を狭持してなるアク
ティブマトリクス型液晶表示素子において、少なくとも
一方の基板は、フィルムまたは、プラスチック基板から
なり、前記液晶表示素子を作製した後、フィルムまた
は、プラスチック基板からなる一方の基板の透明電極形
成面の反対面に複数の着色された材料を印刷法により所
定のパターンに印刷する工程と、前記複数の着色された
材料上に透光性樹脂層を形成する工程と、ＥＢ（電子
線）照射、またはＥＢ（電子線）照射及び熱処理する工
程と、を有することを特徴とする液晶表示素子の製造方
法。 - 【請求項９】 前記熱処理温度は２００℃以下であるこ
とを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の液晶
表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000036124A JP2001228468A (ja) | 2000-02-15 | 2000-02-15 | カラー液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000036124A JP2001228468A (ja) | 2000-02-15 | 2000-02-15 | カラー液晶表示素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001228468A true JP2001228468A (ja) | 2001-08-24 |
Family
ID=18560207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000036124A Pending JP2001228468A (ja) | 2000-02-15 | 2000-02-15 | カラー液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001228468A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007298632A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタの製造方法、カラーディスプレイの製造方法、カラーディスプレイの製造装置及び電子機器 |
| JP2007322784A (ja) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Bridgestone Corp | 情報表示用パネルおよびその製造方法 |
| CN102385211A (zh) * | 2010-09-01 | 2012-03-21 | 财团法人工业技术研究院 | 显示装置 |
| TWI424243B (zh) * | 2010-08-16 | 2014-01-21 | Ind Tech Res Inst | 顯示裝置 |
-
2000
- 2000-02-15 JP JP2000036124A patent/JP2001228468A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007298632A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタの製造方法、カラーディスプレイの製造方法、カラーディスプレイの製造装置及び電子機器 |
| JP2007322784A (ja) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Bridgestone Corp | 情報表示用パネルおよびその製造方法 |
| TWI424243B (zh) * | 2010-08-16 | 2014-01-21 | Ind Tech Res Inst | 顯示裝置 |
| CN102385211A (zh) * | 2010-09-01 | 2012-03-21 | 财团法人工业技术研究院 | 显示装置 |
| CN102385211B (zh) * | 2010-09-01 | 2014-01-01 | 财团法人工业技术研究院 | 显示装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20061109 |