JP2588283B2 - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents
樹脂封止型半導体装置Info
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- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 35
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- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、樹脂封止型半導体装置、特に一枚のリード
ルレームに複数種類の面積の異なるベッドを多数備え、
この各ベッドの上にパワートランジスタやダイオード、
更にはIC等の種々の、更には大きさの異なる半導体素子
を夫々マウントし樹脂封止して構成した、いわゆるパワ
ーハイブリッドIC等の樹脂封止型半導体装置に関する。
ルレームに複数種類の面積の異なるベッドを多数備え、
この各ベッドの上にパワートランジスタやダイオード、
更にはIC等の種々の、更には大きさの異なる半導体素子
を夫々マウントし樹脂封止して構成した、いわゆるパワ
ーハイブリッドIC等の樹脂封止型半導体装置に関する。
(従来の技術) 上記、一枚のリードフレームに複数のベットを設け、
この各ベッドの上の夫々に半導体素子をマウントし樹脂
封止して構成した樹脂封止型半導体装置としては、一般
にトランジスタアレイが主であり、この種のトランジス
タアレイにおいては、第6図に示すように、単一種類の
同じ面積のベッド3,3…を有するリードフレーム1が一
般に使用されていた。
この各ベッドの上の夫々に半導体素子をマウントし樹脂
封止して構成した樹脂封止型半導体装置としては、一般
にトランジスタアレイが主であり、この種のトランジス
タアレイにおいては、第6図に示すように、単一種類の
同じ面積のベッド3,3…を有するリードフレーム1が一
般に使用されていた。
即ち、このリードフレーム1は、複数のリード2と、
同じ面積の複数のベッド3と、枠体4とから構成され、
この各ベッド3の上に同じ大きさのトランジスタ(半導
体素子)を夫々マウントし、このトランジスタの各電極
及び各リード2のインナーリード部2aとの間を金属細線
で夫々接続配線した後、必要に応じてヒートシンク5を
埋設した状態で、モールド樹脂6によって樹脂封止する
ことにより、第3図及び第4図に示すように、リード2
のアウターリード2bを外部に露出させた樹脂封止型半導
体装置7が構成されていた。
同じ面積の複数のベッド3と、枠体4とから構成され、
この各ベッド3の上に同じ大きさのトランジスタ(半導
体素子)を夫々マウントし、このトランジスタの各電極
及び各リード2のインナーリード部2aとの間を金属細線
で夫々接続配線した後、必要に応じてヒートシンク5を
埋設した状態で、モールド樹脂6によって樹脂封止する
ことにより、第3図及び第4図に示すように、リード2
のアウターリード2bを外部に露出させた樹脂封止型半導
体装置7が構成されていた。
ここに、上記モールド樹脂6により樹脂封止は、上記
半導体素子をマウントし接続配線を施した後のリードフ
レーム1を樹脂成形用金型のキャビティ内に、必要に応
じてヒートシンク5等と共に配置し、このキャビティ内
にモールド樹脂6を注入することによって行われている
が、このモールド樹脂6を注入するための注入ゲート8
は、一般に中央から左右の一方に寄った位置に設けら
れ、これによって対角線状に徐々にモールド樹脂6が充
填されるようなされていた。
半導体素子をマウントし接続配線を施した後のリードフ
レーム1を樹脂成形用金型のキャビティ内に、必要に応
じてヒートシンク5等と共に配置し、このキャビティ内
にモールド樹脂6を注入することによって行われている
が、このモールド樹脂6を注入するための注入ゲート8
は、一般に中央から左右の一方に寄った位置に設けら
れ、これによって対角線状に徐々にモールド樹脂6が充
填されるようなされていた。
なお、上記ヒートシンク5には取付け用穴5aが設けら
れて、取付けの便が図られるようなされている。
れて、取付けの便が図られるようなされている。
近年、この種の樹脂封止型半導体装置にあっては、例
えば、大きさの異なるパワートランジスタを組合わせて
構成したものや、パワートランジスタとダイオードとを
組合わせて構成したもの、更にはパワートランジスタと
ICなどを組合わせて構成したもの等の、いわゆる複合パ
ッケージで、かつ高密度に実装できるようにしたものに
対する要請が高まっている。
えば、大きさの異なるパワートランジスタを組合わせて
構成したものや、パワートランジスタとダイオードとを
組合わせて構成したもの、更にはパワートランジスタと
ICなどを組合わせて構成したもの等の、いわゆる複合パ
ッケージで、かつ高密度に実装できるようにしたものに
対する要請が高まっている。
この場合、例えば、第2図及び第5図に示すように、
半導体素子をマウントするベッド面積もこのマウントす
る半導体素子の種類や大きさに伴って異なる。
半導体素子をマウントするベッド面積もこのマウントす
る半導体素子の種類や大きさに伴って異なる。
(発明が解決しようとする課題) ここに、このような異なる面積の複数種類のベッドを
有するリードフレームを上記従来例のようにこの面積の
大小に拘らずゲートの位置を一定となしたままモールド
樹脂を注入して樹脂封止すると、面積の小さなベッドの
下側には樹脂が流れ易くて容易に充填できるものの、面
積の大きなベッドの下側にあっては、樹脂が流れにくく
て樹脂が充填され難く、ここにボイドが残ってしまうこ
とがあるといった問題点があった。
有するリードフレームを上記従来例のようにこの面積の
大小に拘らずゲートの位置を一定となしたままモールド
樹脂を注入して樹脂封止すると、面積の小さなベッドの
下側には樹脂が流れ易くて容易に充填できるものの、面
積の大きなベッドの下側にあっては、樹脂が流れにくく
て樹脂が充填され難く、ここにボイドが残ってしまうこ
とがあるといった問題点があった。
なお、ベッドの下側にボイドが残ってしまうと、例え
ばヒートシンクを備えたものであっては、ベッドとヒー
トシンクとの間の絶縁耐圧が低くなって、通常はAC1500
V×1分程度の絶縁耐圧が必要であっても、例えばAC300
V〜400V×1分程度の耐圧しか得られずに不良となって
しまう。
ばヒートシンクを備えたものであっては、ベッドとヒー
トシンクとの間の絶縁耐圧が低くなって、通常はAC1500
V×1分程度の絶縁耐圧が必要であっても、例えばAC300
V〜400V×1分程度の耐圧しか得られずに不良となって
しまう。
本発明は上記に鑑み、面積の大きさが異なる複数種類
のベッドを多数有するリードフレームを備えた半導体装
置であっても、特に大きな面積のベッドの下側に樹脂を
ボイドを発生させることなく充填せることにより、ボイ
ドの発生を極力防止して絶縁耐圧の向上を図ったものを
提供することを目的とする。
のベッドを多数有するリードフレームを備えた半導体装
置であっても、特に大きな面積のベッドの下側に樹脂を
ボイドを発生させることなく充填せることにより、ボイ
ドの発生を極力防止して絶縁耐圧の向上を図ったものを
提供することを目的とする。
〔発明の構成〕 (課題を解決するための手段) 上記目的を達成するため、本発明に係る半導体装置
は、最小面積のベッドと1個の広面積のベッドあるいは
2個以上の互いに隣接して配列された広面積のベッドと
を備えたリードフレームの各ベッド上に半導体素子を夫
々マウントし、この各半導体素子の各電極とリードフレ
ームのインナーリードとの間を金属細線で接続配線し、
モールド樹脂を注入するための注入ゲートの配置位置を
上記広面積のベッドの略中心近傍に設定し、樹脂封止し
て構成したものである。
は、最小面積のベッドと1個の広面積のベッドあるいは
2個以上の互いに隣接して配列された広面積のベッドと
を備えたリードフレームの各ベッド上に半導体素子を夫
々マウントし、この各半導体素子の各電極とリードフレ
ームのインナーリードとの間を金属細線で接続配線し、
モールド樹脂を注入するための注入ゲートの配置位置を
上記広面積のベッドの略中心近傍に設定し、樹脂封止し
て構成したものである。
(作 用) 上記のように構成した本発明によれば、半導体素子を
マウントして接続配線を施したリードフレームを金型内
に配置して樹脂封止する際、先ず大きな面積のベッドの
下側から樹脂が充填されることになり、これによって大
きな面積のベッドの下側にボイドが残ってしまうことを
確実に防止することができる。
マウントして接続配線を施したリードフレームを金型内
に配置して樹脂封止する際、先ず大きな面積のベッドの
下側から樹脂が充填されることになり、これによって大
きな面積のベッドの下側にボイドが残ってしまうことを
確実に防止することができる。
(実施例) 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図乃至第4図は第1の実施例を示すもので、リー
ドフレーム10は、複数のリード12と、左右対称に配置さ
れた夫々異なる面積の3種類ベッド13a,13b,13cと枠体1
4とから構成されている。
ドフレーム10は、複数のリード12と、左右対称に配置さ
れた夫々異なる面積の3種類ベッド13a,13b,13cと枠体1
4とから構成されている。
この中央部に位置する最も大きな面積のベッド13a
は、例えば大型のトランジスタ等の半導体素子19aを、
この外側の最も小さな面積のベッド13bは、例えばIC等
の半導体素子19bを、外側の中間の面積のベッド13cは、
例えば小型のトランジスタ等の半導体素子19cを夫々マ
ウントするためのものであり、これらのベッド13a,13b,
13cはここにマウントする半導体素子19a,19b,19cの大き
さに見合った大きさに形成されている。
は、例えば大型のトランジスタ等の半導体素子19aを、
この外側の最も小さな面積のベッド13bは、例えばIC等
の半導体素子19bを、外側の中間の面積のベッド13cは、
例えば小型のトランジスタ等の半導体素子19cを夫々マ
ウントするためのものであり、これらのベッド13a,13b,
13cはここにマウントする半導体素子19a,19b,19cの大き
さに見合った大きさに形成されている。
このリードフレーム10は、上記のように、ここに搭載
すべき半導体素子19a,19b,19c等の組合わせによりパタ
ーン化されており、エッチングまたはプレス加工によっ
て作られている。
すべき半導体素子19a,19b,19c等の組合わせによりパタ
ーン化されており、エッチングまたはプレス加工によっ
て作られている。
この各ベッド13a,13b,13cの上には、上記複数種類の
半導体素子19a,19b,19cが夫々マウントされ、この各半
導体素子19a,19b,19cの各電極間、及び半導体素子19a,1
9b,19cと各リード12のインナーリード14aとの間は、金
属細線20によって接続配線されている。
半導体素子19a,19b,19cが夫々マウントされ、この各半
導体素子19a,19b,19cの各電極間、及び半導体素子19a,1
9b,19cと各リード12のインナーリード14aとの間は、金
属細線20によって接続配線されている。
そして、樹脂成形用金型(図示せず)内にヒートシン
ク5を落し込み、上記接続配線済みのリードフレーム10
をこの金型内に納め、トランスファーモールド法等によ
り樹脂封止して、第3図及び第4図に示すような、リー
ド12,12…のアウターリード12b,12b…を外部に露出させ
た状態でモールド樹脂6によって樹脂封止された樹脂封
止型半導体装置17を構成するのであるが、これを次のよ
うにして行う。
ク5を落し込み、上記接続配線済みのリードフレーム10
をこの金型内に納め、トランスファーモールド法等によ
り樹脂封止して、第3図及び第4図に示すような、リー
ド12,12…のアウターリード12b,12b…を外部に露出させ
た状態でモールド樹脂6によって樹脂封止された樹脂封
止型半導体装置17を構成するのであるが、これを次のよ
うにして行う。
即ち、上記リードフレーム10は左右対称で中央部に面
積の大きなベッド13aが配置されているため、この面積
の大きなベッド13aの付近、つまり、本実施例では幅方
向中央部に、モールド樹脂6を注入するための注入ゲー
ト18を配置し、このゲートからモールド樹脂6を金型内
に注入するのである。
積の大きなベッド13aが配置されているため、この面積
の大きなベッド13aの付近、つまり、本実施例では幅方
向中央部に、モールド樹脂6を注入するための注入ゲー
ト18を配置し、このゲートからモールド樹脂6を金型内
に注入するのである。
この注入ゲート18の大きさは、例えば幅3.0〜4.0mm、
深さ0.4〜0.5mm程度であり、これは上記従来例及び下記
の他の実施例においても同様である。
深さ0.4〜0.5mm程度であり、これは上記従来例及び下記
の他の実施例においても同様である。
このように、面積の大きなベッド13aの付近に注入ゲ
ート18を設けることにより、この下側にボイドが残って
しまうことなく、モールド樹脂6が充填されるようなさ
れている。
ート18を設けることにより、この下側にボイドが残って
しまうことなく、モールド樹脂6が充填されるようなさ
れている。
なお、このように中央部に注入ゲート18を設けると、
モールド樹脂6は左右に広がって下方両端部の方向に、
即ち2方向に向かってモールド樹脂6が流れることにな
るが、この種の半導体装置の場合、ベッドの下側にモー
ルド樹脂をボイドを残すことなく確実に充填させること
の方が重要であり、また金属細線が一般に通常のIC等と
比較して太く、この金属細線の流れの心配はない。
モールド樹脂6は左右に広がって下方両端部の方向に、
即ち2方向に向かってモールド樹脂6が流れることにな
るが、この種の半導体装置の場合、ベッドの下側にモー
ルド樹脂をボイドを残すことなく確実に充填させること
の方が重要であり、また金属細線が一般に通常のIC等と
比較して太く、この金属細線の流れの心配はない。
これにより、第3図及び第4図に示す半導体装置17を
得るのである。
得るのである。
第5図は第2の実施例を示すもので、上記実施例と異
なり、リードフレーム21は、複数のリード22、マウント
するトランジスタやIC、更にはダイオード等の半導体素
子の種類や大きさ等に合わせた面積の異なる複数種類の
ベッド23a,23b,23c…及び枠体24から構成されている。
なり、リードフレーム21は、複数のリード22、マウント
するトランジスタやIC、更にはダイオード等の半導体素
子の種類や大きさ等に合わせた面積の異なる複数種類の
ベッド23a,23b,23c…及び枠体24から構成されている。
そして、このベッド23a,23b,23c…の内、左側の大き
な面積のベッド23a及び23bの下面にボイドを残すことな
く、確実にモールド樹脂が充填できるように、モールド
樹脂6の注入ゲート28は中央やや左側に設けられてい
る。
な面積のベッド23a及び23bの下面にボイドを残すことな
く、確実にモールド樹脂が充填できるように、モールド
樹脂6の注入ゲート28は中央やや左側に設けられてい
る。
このように大きな面積のベッド23a,23bが集まってい
るやや左寄りに注入ゲート28を設け、モールド樹脂6に
よって樹脂封止して半導体装置を構成することにより、
例えば上記従来例のようにやや右寄りにゲートを設けた
場合、耐圧AC1500V×1分以下の耐圧不良が2〜3%程
度発生していたが、この耐圧不良の発生率を0.1〜0.2%
程度に激減させることができることが確かめられてい
る。
るやや左寄りに注入ゲート28を設け、モールド樹脂6に
よって樹脂封止して半導体装置を構成することにより、
例えば上記従来例のようにやや右寄りにゲートを設けた
場合、耐圧AC1500V×1分以下の耐圧不良が2〜3%程
度発生していたが、この耐圧不良の発生率を0.1〜0.2%
程度に激減させることができることが確かめられてい
る。
なお、上記実施例においては、ヒートシンク5を備え
た半導体装置を示しているが、ヒートシンクの無い半導
体装置にも適用できることは勿論である。
た半導体装置を示しているが、ヒートシンクの無い半導
体装置にも適用できることは勿論である。
本発明は上記のような構成であるので、金型の形状を
変更したりリードフレームのベッドを曲げたりゲートの
形状や寸法を変更することなく、この位置を変更して選
択するだけで、例えば絶縁耐圧AC1500V×1分以下の不
良発生率を大幅に減少させることができ、これにより、
ベッド面積を異なる組合わせのリードフレームでも、必
要な絶縁耐圧を得ることができ、これによって応用製品
の範囲を著しく広げることができるといった効果があ
る。
変更したりリードフレームのベッドを曲げたりゲートの
形状や寸法を変更することなく、この位置を変更して選
択するだけで、例えば絶縁耐圧AC1500V×1分以下の不
良発生率を大幅に減少させることができ、これにより、
ベッド面積を異なる組合わせのリードフレームでも、必
要な絶縁耐圧を得ることができ、これによって応用製品
の範囲を著しく広げることができるといった効果があ
る。
第1図乃至第4図は本発明の一実施例を示し、第1図は
接続配線後のリードフレームとゲートの位置関係を示す
平面図、第2図は接続配線前のリードフレームとゲート
の位置関係を示す平面図、第3図は樹脂封止後の半導体
装置の平面図、第4図はその側面図、第5図は他の実施
例の第2図相当図、第6図は従来例を示す第2図相当図
である。 1,10,21……リードグレーム、2,12,22……リード、3,1
3,23……ベッド、5……ヒートシンク、6……モールド
樹脂、7,17……半導体装置、8,18,28……注入ゲート,19
……半導体素子、20……金属細線。
接続配線後のリードフレームとゲートの位置関係を示す
平面図、第2図は接続配線前のリードフレームとゲート
の位置関係を示す平面図、第3図は樹脂封止後の半導体
装置の平面図、第4図はその側面図、第5図は他の実施
例の第2図相当図、第6図は従来例を示す第2図相当図
である。 1,10,21……リードグレーム、2,12,22……リード、3,1
3,23……ベッド、5……ヒートシンク、6……モールド
樹脂、7,17……半導体装置、8,18,28……注入ゲート,19
……半導体素子、20……金属細線。
Claims (1)
- 【請求項1】最小面積のベッドと1個の広面積のベッド
あるいは2個以上の互いに隣接して配列された広面積の
ベッドとを備えたリードフレームの各ベッド上に半導体
素子を夫々マウントし、この各半導体素子の各電極とリ
ードフレームのインナーリードとの間を金属細線で接続
配線し、モールド樹脂を注入するための注入ゲートの配
置位置を上記広面積のベッドの略中心近傍に設定し、樹
脂封止して構成したことを特徴とする樹脂封止型半導体
装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1254663A JP2588283B2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | 樹脂封止型半導体装置 |
DE69014059T DE69014059T2 (de) | 1989-09-29 | 1990-09-28 | Apparat zum Herstellen von Halbleiteranordnungen. |
KR1019900015503A KR930004254B1 (ko) | 1989-09-28 | 1990-09-28 | 수지봉합형 반도체장치 |
EP90118679A EP0420267B1 (en) | 1989-09-29 | 1990-09-28 | Apparatus for producing semiconductor devices |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1254663A JP2588283B2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | 樹脂封止型半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03116845A JPH03116845A (ja) | 1991-05-17 |
JP2588283B2 true JP2588283B2 (ja) | 1997-03-05 |
Family
ID=17268138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1254663A Expired - Lifetime JP2588283B2 (ja) | 1989-09-28 | 1989-09-29 | 樹脂封止型半導体装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
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