JP2576773B2 - マルチフィンガー型電界効果トランジスタ - Google Patents

マルチフィンガー型電界効果トランジスタ

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JP2576773B2
JP2576773B2 JP5271095A JP27109593A JP2576773B2 JP 2576773 B2 JP2576773 B2 JP 2576773B2 JP 5271095 A JP5271095 A JP 5271095A JP 27109593 A JP27109593 A JP 27109593A JP 2576773 B2 JP2576773 B2 JP 2576773B2
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裕 山口
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はマルチフィンガー型電界
効果トランジスタ(以下マルチフィンガーFETと記
す)に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のマルチフィンガーFETは、図3
に示すように、半絶縁性GaAs基板上に形成された活
性層上に櫛の歯状に配置されたゲート電極フィンガー部
2およびゲート電極フィンガー部2を挟んで対向させた
ドレイン電極フィンガー部3およびソース電極フィンガ
ー部4と、これらにそれぞれ接続したゲート電極引出部
2a,ドレイン電極引出部3a,ソース電極引出部4a
とを有し、半絶縁性GaAs基板に設けたバイアホール
9を介してソース電極引出部4aと裏面電極とを接続し
て接地していた。
【0003】マイクロ波帯,ミリ波帯のFETは、フィ
ンガー長が長くなると、ゲート電極フィンガーでの位相
ずれによる高周波特性の劣化や、チャネル温度の不均一
性の増大、活性層の材料的プロセス的不均一性の増大に
よる利得の低下等の問題が起こるので、ゲート幅を大き
くしたい場合には、マルチフィンガー構造にすることが
一般的に行われている。
【0004】通常増幅器などの回路を構成する場合に
は、入力インピーダンスが高く、高利得が得られるソー
ス接地回路を使用する場合が多いが、ソースインダクタ
ンスが大きいと、利得が低下することが知られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】この従来のマルチフィ
ンガーFETは、ソース電極フィンガー部の先端には何
も接続されず開放となっているので、ソース電極フィン
ガー部の先端から接地端までの経路が長くなりこの区間
のインダクタンスが低減されないという問題があった。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明のマルチフィンガ
ーFETは、半導体基板上に櫛の歯状に配置したゲート
電極フィンガー部と、前記ゲート電極フィンガー部を挟
んで対向させ櫛の歯状に配置したドレイン電極フィンガ
ー部およびソース電極フィンガー部を有するマルチフィ
ンガー型電界効果トランジスタにおいて、前記ソース電
極フィンガー部の各先端下の前記半導体基板上に形成し
且つその上に設けた絶縁膜のスルーホールを介して前記
ソース電極フィンガー部の各先端およびソース電極引出
部のそれぞれに電気的に接続した帯状電極を備えてい
る。
【0007】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
【0008】図1(a),(b)は本発明の一実施例を
示す半導体チップの平面図およびA−A′線断面図であ
る。
【0009】図1(a),(b)に示すように、半絶縁
性GaAs基板1に形成した活性層の表面にショットキ
ー接合を有して櫛の歯状に形成したゲート電極フィンガ
ー部2と、このゲート電極フィンガー部2を挟んで対向
させたドレイン電極フィンガー部3およびソース電極フ
ィンガー部4とを有し、ソース電極フィンガー部4の各
先端の下面の半絶縁性GaAs基板1の表面に活性層か
ら隔離され且つソース電極フィンガー部4の各先端およ
びドレイン電極フィンガー部3のそれぞれと交差する金
膜等からなる帯状電極5を形成し帯状電極5の上に形成
した絶縁膜6に設けたスルーホール7を介して帯状電極
5と各ソース電極フィンガー部4およびソース電極引出
部4aのそれぞれを接続する。なお、ドレイン電極フィ
ンガー部3に接続してゲート電極フィンガー部2および
ソース電極フィンガー部4の先端側に引出されたドレイ
ン電極引出部3aの反対側にゲート電極フィンガー部2
に接続されたゲート電極引出部2aが形成されその上に
絶縁膜を介してソース電極フィンガー部4aに接続され
たソース電極引出部4aが横断して形成され、半絶縁性
GaAs基板1の裏面には裏面電極8が形成され半絶縁
性GaAs基板1に形成されたバイアホール(図示せ
ず)を介してソース電極引出部4aに接続されている。
【0010】図2(a),(b)は本発明の一実施例の
ソースインダクタンスを示す等価回路図および従来の電
界効果トランジスタのソースインダクタンスを示す等価
回路図である。
【0011】図2(a)に示すように、本発明の実施例
によればA点から接地までの最短経路は、インダクタン
ス51−32を通る経路となるが、図2(b)に示すよ
うに従来例ではA点から接地までの最短経路はインダク
タンス41−21−31を通る経路となり、本発明の方
がソース電極フィンガー部のインダクタンス41を通ら
ない分短くでき、ソースインダクタンスを減少できる。
同様にB点やC点から接地までの最短経路も、本発明で
はソース電極フィンガー部を通らない分短くでき、ソー
スインダクタンスを減少できる。
【0012】なお、本実施例ではドレイン電極の下の層
に設けた帯状電極によりソース電極先端部を接続してい
るが、ドレイン電極をまたぐエアブリッジ配線でも同等
の効果を得られる。
【0013】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、マルチフ
ィンガーFETの全てのソース電極フィンガー部の先端
をソース電極引出部に接続することにより、ソース電極
フィンガー部の先端からソース電極引出部の接地端まで
の経路を短くすることができ、ソースインダクタンスを
30〜70%減少させることができるという効果を有す
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す半導体チップの平面図
およびA−A′線断面図。
【図2】本発明の一実施例のソースインダクタンスを示
す等価回路図および従来例のソースインダクタンスを示
す等価回路図。
【図3】従来のマルチフィンガーFETの一例を示す平
面図。
【符号の説明】
1 半絶縁性GaAs基板 2 ゲート電極フィンガー部 2a ゲート電極引出部 3 ドレイン電極フィンガー部 3a ドレイン電極引出部 4 ソース電極フィンガー部 4a ソース電極引出部 5 帯状電極 6 絶縁膜 7 スルーホール 8 裏面電極 9 バイアホール

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体基板上に櫛の歯状に配置したゲー
    ト電極フィンガー部と、前記ゲート電極フィンガー部を
    挟んで対向させ櫛の歯状に配置したドレイン電極フィン
    ガー部およびソース電極フィンガー部を有するマルチフ
    ィンガー型電界効果トランジスタにおいて、前記ソース
    電極フィンガー部の各先端下の前記半導体基板上に形成
    し且つその上に設けた絶縁膜のスルーホールを介して前
    記ソース電極フィンガー部の各先端およびソース電極引
    出部のそれぞれに電気的に接続した帯状電極を備えたこ
    とを特徴とするマルチフィンガー型電界効果トランジス
    タ。
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CN101877385A (zh) * 2010-04-04 2010-11-03 兰州大学 一种梳状源极叠层结构有机场效应管

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JP5843703B2 (ja) * 2012-06-15 2016-01-13 株式会社東芝 高周波半導体用パッケージ

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