JP2543821Y2 - 走査タイミング信号発生装置 - Google Patents
走査タイミング信号発生装置Info
- Publication number
- JP2543821Y2 JP2543821Y2 JP1995013825U JP1382595U JP2543821Y2 JP 2543821 Y2 JP2543821 Y2 JP 2543821Y2 JP 1995013825 U JP1995013825 U JP 1995013825U JP 1382595 U JP1382595 U JP 1382595U JP 2543821 Y2 JP2543821 Y2 JP 2543821Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- signal
- reference beam
- scan line
- mask
- along
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N1/053—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position in main scanning direction, e.g. synchronisation of line start or picture elements in a line
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/113—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using oscillating or rotating mirrors
- H04N1/1135—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using oscillating or rotating mirrors for the main-scan only
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04701—Detection of scanning velocity or position
- H04N2201/0471—Detection of scanning velocity or position using dedicated detectors
- H04N2201/04712—Detection of scanning velocity or position using dedicated detectors using unbroken arrays of detectors, i.e. detectors mounted on the same substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04701—Detection of scanning velocity or position
- H04N2201/04734—Detecting at frequent intervals, e.g. once per line for sub-scan control
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04701—Detection of scanning velocity or position
- H04N2201/04744—Detection of scanning velocity or position by detecting the scanned beam or a reference beam
- H04N2201/04746—Detection of scanning velocity or position by detecting the scanned beam or a reference beam after modulation by a grating, mask or the like
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【０００１】
【考案の属する技術分野】本考案は、レーザーラスター
スキャナーにおける走査基準信号又はタイミング信号を
発生させるシステムに関し、特に、レーザーラスタース
キャナーにおいて、廉価にタイミング信号を発生させ得
る装置に関する。
スキャナーにおける走査基準信号又はタイミング信号を
発生させるシステムに関し、特に、レーザーラスタース
キャナーにおいて、廉価にタイミング信号を発生させ得
る装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】高精細度プロッター、プリンタ等の高速
光学走査システムは、周知である。これらの装置は、直
接描画システムであり、フィルムを横切る露光ビームを
ラスター走査し、そのフィルムをマスクに加工すること
によって、プリント回路基板アートワーク及び印刷図版
の製造に用いられる。
光学走査システムは、周知である。これらの装置は、直
接描画システムであり、フィルムを横切る露光ビームを
ラスター走査し、そのフィルムをマスクに加工すること
によって、プリント回路基板アートワーク及び印刷図版
の製造に用いられる。
【０００３】本出願の譲受人であるガーバー・サイエン
ティフィック・インスツルメント・カンパニーにより市
販されているような、典型的システムは、磁気テープ駆
動装置、ハードディスク、コンピュータ、インターアク
ティブグラフィック端末、イメージプロセッサ、基板の
位置決めのための可動描画プラテンを有する光学テーブ
ル、及び高精細度レーザースキャナーを含む。典型的シ
ステムは、更に、メディアキャリッジ及びコンピュータ
支援設計システムのデータを直接的にプラテン回路基板
アートワークに移送するか、字体、グラフィック及びハ
ーフトーンイメージを印刷基板アートワークに移送する
際に必要となる電子系をも含む。
ティフィック・インスツルメント・カンパニーにより市
販されているような、典型的システムは、磁気テープ駆
動装置、ハードディスク、コンピュータ、インターアク
ティブグラフィック端末、イメージプロセッサ、基板の
位置決めのための可動描画プラテンを有する光学テーブ
ル、及び高精細度レーザースキャナーを含む。典型的シ
ステムは、更に、メディアキャリッジ及びコンピュータ
支援設計システムのデータを直接的にプラテン回路基板
アートワークに移送するか、字体、グラフィック及びハ
ーフトーンイメージを印刷基板アートワークに移送する
際に必要となる電子系をも含む。
【０００４】操作時において、直接描画システムは、描
画プラテン上に、上面に感光性ポリマーを有するアルミ
ニウムの平面基板（グラフィックアートの場合）、銅ク
ラッド誘電体（プリント回路基板の場合）を受け入れる
べく配置される。コンピュータは、基板の予め選定され
た部分を露光するために、通常レーザーにより供せられ
る光学ビームの強度を変調する。
画プラテン上に、上面に感光性ポリマーを有するアルミ
ニウムの平面基板（グラフィックアートの場合）、銅ク
ラッド誘電体（プリント回路基板の場合）を受け入れる
べく配置される。コンピュータは、基板の予め選定され
た部分を露光するために、通常レーザーにより供せられ
る光学ビームの強度を変調する。
【０００５】典型的には、通常、露光ビームと同時に、
走査タイミング信号を発生させ、基板上の露光、即ち描
画ビームの位置を正確に制御するために、第２の基準ビ
ームが走査される。平面フィールド走査システムが、時
々使用され、ビームを小さなポケットに集光させ、基準
マスクと基板を各々横切るビームの同時走査が遂行され
る。基板に描画する際、しばしば描画プラテンを案内す
るため高精度のエアベアリングが使用される。
走査タイミング信号を発生させ、基板上の露光、即ち描
画ビームの位置を正確に制御するために、第２の基準ビ
ームが走査される。平面フィールド走査システムが、時
々使用され、ビームを小さなポケットに集光させ、基準
マスクと基板を各々横切るビームの同時走査が遂行され
る。基板に描画する際、しばしば描画プラテンを案内す
るため高精度のエアベアリングが使用される。
【０００６】基準ビームは、典型的には、基板上の透明
及び不透明バーの直線的配列、即ち、約０．０２５ｍｍ
透明部分／約０．０２５ｍｍ不透明部分というようなも
のからなる高精細度ターゲットを走査する。このターゲ
ットによる変調の後、光は、基準マスクの後方に位置す
る光学ファイバーの直線的配列によって典型的に集光さ
れ、走査線に揃えられる。基準ビームが走査線を横切り
ターゲットによって変調されるとき、光は、前記光学フ
ァイバーに入り、単数又は複数の光検出器により受け取
られる。コントローラは、光検出器からの出力信号を用
いてクロック信号を発生する。
及び不透明バーの直線的配列、即ち、約０．０２５ｍｍ
透明部分／約０．０２５ｍｍ不透明部分というようなも
のからなる高精細度ターゲットを走査する。このターゲ
ットによる変調の後、光は、基準マスクの後方に位置す
る光学ファイバーの直線的配列によって典型的に集光さ
れ、走査線に揃えられる。基準ビームが走査線を横切り
ターゲットによって変調されるとき、光は、前記光学フ
ァイバーに入り、単数又は複数の光検出器により受け取
られる。コントローラは、光検出器からの出力信号を用
いてクロック信号を発生する。
【０００７】光学ファイバーの配列は、通常の走査線の
長さ約５０．８ｃｍにわたり伸長するために、多くの光
学ファイバーから構成されねばならない。その上、異な
るファイバーによってひき起こされる不均一な減衰は、
タイミング誤差の原因になる。大きなラスタースキャナ
ーにおける既知の走査タイミング信号発生装置は、この
ため高価であると共に、エラーを発生し易い。
長さ約５０．８ｃｍにわたり伸長するために、多くの光
学ファイバーから構成されねばならない。その上、異な
るファイバーによってひき起こされる不均一な減衰は、
タイミング誤差の原因になる。大きなラスタースキャナ
ーにおける既知の走査タイミング信号発生装置は、この
ため高価であると共に、エラーを発生し易い。
【０００８】
【考案が解決しようとする課題】本考案の目的は、光検
出を促進するために変調した基準ビームを拡散すること
によりタイミング信号を発生させる装置を提供すること
である。本考案の他の目的の一つは、簡単で廉価な形態
のタイミング信号を発生させ得るレーザーラスタースキ
ャナーを提供することである。
出を促進するために変調した基準ビームを拡散すること
によりタイミング信号を発生させる装置を提供すること
である。本考案の他の目的の一つは、簡単で廉価な形態
のタイミング信号を発生させ得るレーザーラスタースキ
ャナーを提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本考案によれば、基準ビ
ーム及び露光ビームを同時に各々の走査線に沿って走査
を行うレーザーラスタースキャナーにおいて、基準ビー
ムは、間隔をもって配置された透明領域を有する基準マ
スクを横切って走査し、露光ビームは、基板を横切って
走査する。このスキャナーにおいて、ビームの位置を表
示する信号を発生する装置が、基準走査線に沿って基準
ビームを受ける基準マスクの後に配置される光学的拡散
器、及び拡散エネルギーを抑制するための透明な光パイ
プコレクタを含む。検出器の配列は、光学コレクタの後
方に位置すると共に、基準ビームの走査線に沿って間隔
を置いて配置される複数の光検出器を含む。この光検出
器は、変調された基準ビームを受け取り相当する電気信
号を発生する。
ーム及び露光ビームを同時に各々の走査線に沿って走査
を行うレーザーラスタースキャナーにおいて、基準ビー
ムは、間隔をもって配置された透明領域を有する基準マ
スクを横切って走査し、露光ビームは、基板を横切って
走査する。このスキャナーにおいて、ビームの位置を表
示する信号を発生する装置が、基準走査線に沿って基準
ビームを受ける基準マスクの後に配置される光学的拡散
器、及び拡散エネルギーを抑制するための透明な光パイ
プコレクタを含む。検出器の配列は、光学コレクタの後
方に位置すると共に、基準ビームの走査線に沿って間隔
を置いて配置される複数の光検出器を含む。この光検出
器は、変調された基準ビームを受け取り相当する電気信
号を発生する。
【００１０】
【考案の実施の形態】図１を参照すると、図１にはレー
ザーラスタースキャナー１０の概略平面図が示される。
スキャナー１０は、ケース１２内に収納される。好まし
くは、サイオニクス（Ｃｙｏｎｉｃｓ）３Ｍのアルゴン
レーザーである光源１４から光ビーム１６が供給され
る。光ビーム１６は、先ず回転鏡１８に受け取られ、光
ビーム形成光学系２０へと伝えられる。光ビーム形成光
学系２０としては、通常のものが利用可能であり、特定
の用途における必要に応じ、帯域レンズ、発散レンズ、
ピンホール、及びトランスフォームレンズ組立体により
構成することができる。
ザーラスタースキャナー１０の概略平面図が示される。
スキャナー１０は、ケース１２内に収納される。好まし
くは、サイオニクス（Ｃｙｏｎｉｃｓ）３Ｍのアルゴン
レーザーである光源１４から光ビーム１６が供給され
る。光ビーム１６は、先ず回転鏡１８に受け取られ、光
ビーム形成光学系２０へと伝えられる。光ビーム形成光
学系２０としては、通常のものが利用可能であり、特定
の用途における必要に応じ、帯域レンズ、発散レンズ、
ピンホール、及びトランスフォームレンズ組立体により
構成することができる。
【００１１】生成されたビームは、第１ビームスプリッ
タ２２により受け取られ、基準ビーム２４と露光ビーム
２６に分割される。露光ビーム２６は、通常の音響光学
変調器２８に受け取られ、そこでコントローラ３２から
オンライン３０を経て入力される制御信号に応じて変調
される。同様に、基準ビーム２４は、第２の回転鏡３４
により曲げられ、基準ビーム形成光学系３６へ送られ
る。光学系３６は、レンズや前に詳述したビーム形成の
ための他の構成要素から構成される。
タ２２により受け取られ、基準ビーム２４と露光ビーム
２６に分割される。露光ビーム２６は、通常の音響光学
変調器２８に受け取られ、そこでコントローラ３２から
オンライン３０を経て入力される制御信号に応じて変調
される。同様に、基準ビーム２４は、第２の回転鏡３４
により曲げられ、基準ビーム形成光学系３６へ送られ
る。光学系３６は、レンズや前に詳述したビーム形成の
ための他の構成要素から構成される。
【００１２】基準ビーム２４は、隔壁３８の開口を通過
し、露光ビーム２６は、開口４０を通過する。基準ビー
ム２４は、回転鏡４２に受け取られ、ビーム混合器４４
へ送られる。ビーム混合器４４には、露光ビームも入力
され、その出力である組合わせビームは、プリズム組立
体４８のコリメータレンズ４６へと送られる。従来よく
行われるように、組立せビームは、スピンドル組立体５
２上に収納される光学的多角体５０へと送られる。多角
体は、コントローラ３２からオンライン５６により送ら
れる制御信号に応答して軸５４の回りに通常の形態で回
転する。
し、露光ビーム２６は、開口４０を通過する。基準ビー
ム２４は、回転鏡４２に受け取られ、ビーム混合器４４
へ送られる。ビーム混合器４４には、露光ビームも入力
され、その出力である組合わせビームは、プリズム組立
体４８のコリメータレンズ４６へと送られる。従来よく
行われるように、組立せビームは、スピンドル組立体５
２上に収納される光学的多角体５０へと送られる。多角
体は、コントローラ３２からオンライン５６により送ら
れる制御信号に応答して軸５４の回りに通常の形態で回
転する。
【００１３】ビームは、多角体の表面から放出され、通
常のシータスキャンレンズ５８により受け取られる。露
光ビーム２６は、最終折りたたみ鏡６０に受け取られ、
スキャナーの位置する平面外に位置する描画プラテン
（本考案の構成部分でないため図示省略）へと送られ
る。基準ビーム２４は、同時に、基準マスク６２へと送
られ、最終的には光検出器組立体６４によって受け取ら
れる。光検出器組立体６４は、受け取った基準ビームを
表す信号をオンライン６６を介してコントローラに供給
し、タイミング及び走査ビームの変調を制御する。多角
体５０の回転の結果、露光ビーム及び基準ビームは、各
々、描画プラテン及び基準マスクを横切って走査され
る。
常のシータスキャンレンズ５８により受け取られる。露
光ビーム２６は、最終折りたたみ鏡６０に受け取られ、
スキャナーの位置する平面外に位置する描画プラテン
（本考案の構成部分でないため図示省略）へと送られ
る。基準ビーム２４は、同時に、基準マスク６２へと送
られ、最終的には光検出器組立体６４によって受け取ら
れる。光検出器組立体６４は、受け取った基準ビームを
表す信号をオンライン６６を介してコントローラに供給
し、タイミング及び走査ビームの変調を制御する。多角
体５０の回転の結果、露光ビーム及び基準ビームは、各
々、描画プラテン及び基準マスクを横切って走査され
る。
【００１４】コントローラは、好ましい実施例において
は、ここで詳細に述べる機能を実現できる充分なプロセ
ッサ及びメモリから構成される。上述のように、コント
ローラは、多角体スキャナーの回転を監視すると共に、
音響光学変調器２８へ信号を供給する。
は、ここで詳細に述べる機能を実現できる充分なプロセ
ッサ及びメモリから構成される。上述のように、コント
ローラは、多角体スキャナーの回転を監視すると共に、
音響光学変調器２８へ信号を供給する。
【００１５】基準マスクの光学的配置は、交互の光学的
透過領域及び反射領域により構成される。従って、多角
体の回転に伴ってマスクを横切って基準ビームが走査さ
れ、光検出器配列は、変調された光学ビームを受け取
る。ビームの変調信号は、ビーム位置を表す。光検出器
システムの出力信号は、コントローラによってクロック
又はタイミング信号を発生させるのに用いられる。走査
方向のアートワーク寸法は、変調器によって供給される
変調の率の関数（結局は、クロック信号の周波数の関
数）であるので、クロック信号の周期の増大は、結果と
して、走査線に沿ったアートワークの寸法の比例的増大
をもたらす。
透過領域及び反射領域により構成される。従って、多角
体の回転に伴ってマスクを横切って基準ビームが走査さ
れ、光検出器配列は、変調された光学ビームを受け取
る。ビームの変調信号は、ビーム位置を表す。光検出器
システムの出力信号は、コントローラによってクロック
又はタイミング信号を発生させるのに用いられる。走査
方向のアートワーク寸法は、変調器によって供給される
変調の率の関数（結局は、クロック信号の周波数の関
数）であるので、クロック信号の周期の増大は、結果と
して、走査線に沿ったアートワークの寸法の比例的増大
をもたらす。
【００１６】既知のレーザー走査システムでは、基準ビ
ームを検出機構で受け取る。この検出機構は、基準マス
クを含み、基準マスクの後方に光学ファイバーの直線的
配列が配置される。光学ファイバーの配列は、直線的空
間分布を単数又は複数の光検出器が位置する円形へと変
換するものである。周知のように、基準マスクは、交互
に反射、透過領域を生成する不透明バーの配列で構成さ
れる。変調された基準信号は、光検出器で受け取られ、
最終的には、走査タイミング信号を発生させるのに用い
られる。変調された基準ビームは、光学信号を含む。こ
の信号は、極めて大きい高さに対する長さ比を有する。
何故ならば、基準ビームの寸法は、約５０ｃｍの走査長
と比較するとき、極めて小さいものにすぎないからであ
る。光ファイバーの束の質及び整列性が決定的に重要で
ある。何故ならファイバーの透過率の変化が走査タイミ
ング情報のエラーの原因となるからである。
ームを検出機構で受け取る。この検出機構は、基準マス
クを含み、基準マスクの後方に光学ファイバーの直線的
配列が配置される。光学ファイバーの配列は、直線的空
間分布を単数又は複数の光検出器が位置する円形へと変
換するものである。周知のように、基準マスクは、交互
に反射、透過領域を生成する不透明バーの配列で構成さ
れる。変調された基準信号は、光検出器で受け取られ、
最終的には、走査タイミング信号を発生させるのに用い
られる。変調された基準ビームは、光学信号を含む。こ
の信号は、極めて大きい高さに対する長さ比を有する。
何故ならば、基準ビームの寸法は、約５０ｃｍの走査長
と比較するとき、極めて小さいものにすぎないからであ
る。光ファイバーの束の質及び整列性が決定的に重要で
ある。何故ならファイバーの透過率の変化が走査タイミ
ング情報のエラーの原因となるからである。
【００１７】一旦変調された基準ビームが基準マスクか
ら出ると、基準ビーム中の情報は、記号化される。光学
ファイバーの役割は、単に、光学信号を光検出器に送る
便利な構成を提供することにある。ビームの基準マスク
に対する位置関係を保持する必要はない。何故なら、ビ
ームの位置情報は、全て強度の変化として記号化されて
いるからである。
ら出ると、基準ビーム中の情報は、記号化される。光学
ファイバーの役割は、単に、光学信号を光検出器に送る
便利な構成を提供することにある。ビームの基準マスク
に対する位置関係を保持する必要はない。何故なら、ビ
ームの位置情報は、全て強度の変化として記号化されて
いるからである。
【００１８】図２を参照すると、図２は、図１の検出器
組立体６４の部分透視図を示す。基準マスク６２は、１
つの要素６８を有し、その要素６８上に光学的変調を発
生させる間隔を置いたバーが形成される。バーは基板で
あるところの要素６８の表裏どちらの面に存在してもか
まわない。基準ビームは、該ビームを変調するガラス要
素を通過する。何故なら、基準ビームは、検出器に沿っ
て縦方向に走査されるからである。変調された基準ビー
ムは、ビームを広げる作用をなす拡散体７０に受け取ら
れる。拡散体７０は、通常の曇りガラスであることが望
ましいが、他のタイプの光学的拡散体でも等しく置換可
能である。拡散され、変調された基準ビームは、好まし
い実施例では、ビームを直接的に光検出器配列７４へ送
る、光パイプ等の、光学コレクタ又は集光ガイド７２に
よって受け取られる。
組立体６４の部分透視図を示す。基準マスク６２は、１
つの要素６８を有し、その要素６８上に光学的変調を発
生させる間隔を置いたバーが形成される。バーは基板で
あるところの要素６８の表裏どちらの面に存在してもか
まわない。基準ビームは、該ビームを変調するガラス要
素を通過する。何故なら、基準ビームは、検出器に沿っ
て縦方向に走査されるからである。変調された基準ビー
ムは、ビームを広げる作用をなす拡散体７０に受け取ら
れる。拡散体７０は、通常の曇りガラスであることが望
ましいが、他のタイプの光学的拡散体でも等しく置換可
能である。拡散され、変調された基準ビームは、好まし
い実施例では、ビームを直接的に光検出器配列７４へ送
る、光パイプ等の、光学コレクタ又は集光ガイド７２に
よって受け取られる。
【００１９】光検出器配列７４は、プリント基板上に配
置され、約２．５４ｃｍの間隔をもって配置された光検
出器の列により構成される。光検出器の分離幅は、基準
マスクの透明領域の分離幅と比べ極めて大きい。典型的
には、光検出器の分離幅は、基準マスクの透明領域の分
離幅の約１０００倍にも達する。好ましい実施例におい
ては、光学拡散体は、変調された基準ビームをコレクタ
ーの長さ全体に渡るほど拡散し、拡散され変調された基
準ビームが少なくとも２つの光検出器に、ビームが光検
出器配列の長さに沿って横切る際に、どの位置でも同時
に当たることを可能とする。図３に詳細に示すように、
集光ガイド７２は、内面反射によって垂直面内でのビー
ム７５の発散を抑制する。このことにより全ての放射
は、垂直寸法内に集められる。
置され、約２．５４ｃｍの間隔をもって配置された光検
出器の列により構成される。光検出器の分離幅は、基準
マスクの透明領域の分離幅と比べ極めて大きい。典型的
には、光検出器の分離幅は、基準マスクの透明領域の分
離幅の約１０００倍にも達する。好ましい実施例におい
ては、光学拡散体は、変調された基準ビームをコレクタ
ーの長さ全体に渡るほど拡散し、拡散され変調された基
準ビームが少なくとも２つの光検出器に、ビームが光検
出器配列の長さに沿って横切る際に、どの位置でも同時
に当たることを可能とする。図３に詳細に示すように、
集光ガイド７２は、内面反射によって垂直面内でのビー
ム７５の発散を抑制する。このことにより全ての放射
は、垂直寸法内に集められる。
【００２０】図４は、図３の検出器組立体の部分平面図
であり、基準ビームが集光ガイドを横切る際の基準ビー
ムの拡散する角度７６を示すものである。光検出器配列
からの出力電気信号は、個々の光検出器出力の総和とし
て時間的に正弦波状に変化する電気信号となり、コント
ローラ内の適切な回路に受け取られ、コントローラによ
って前述の形態で基板を走査するに用いられるタイミン
グ信号へと再変換される。
であり、基準ビームが集光ガイドを横切る際の基準ビー
ムの拡散する角度７６を示すものである。光検出器配列
からの出力電気信号は、個々の光検出器出力の総和とし
て時間的に正弦波状に変化する電気信号となり、コント
ローラ内の適切な回路に受け取られ、コントローラによ
って前述の形態で基板を走査するに用いられるタイミン
グ信号へと再変換される。
【００２１】本考案の光検出器組立体の各要素が廉価で
あり、光学ファイバーの直線配列によって必要とされて
いた極めて精度の高い要求が不要となることは、当業者
にとって明らかであろう。変調された基準ビームの拡散
によっていかなる情報も失われることもないので、拡散
体の使用によりファイバーの光学的束と、従来は変調さ
れた基準ビームの受取りのために必要とされていた広範
囲の高速光検出器の排除が可能となった。この点が、従
来技術と本考案を比較した場合の大きな特徴である。以
上の説明は、好ましい実施例に基づいて行ったが、本考
案の精神と範囲から外れることなく、多様の変更、省
略、付加を行い得ることは、当業者にとって自明であろ
う。
あり、光学ファイバーの直線配列によって必要とされて
いた極めて精度の高い要求が不要となることは、当業者
にとって明らかであろう。変調された基準ビームの拡散
によっていかなる情報も失われることもないので、拡散
体の使用によりファイバーの光学的束と、従来は変調さ
れた基準ビームの受取りのために必要とされていた広範
囲の高速光検出器の排除が可能となった。この点が、従
来技術と本考案を比較した場合の大きな特徴である。以
上の説明は、好ましい実施例に基づいて行ったが、本考
案の精神と範囲から外れることなく、多様の変更、省
略、付加を行い得ることは、当業者にとって自明であろ
う。
【図１】本考案によるタイミング信号発生装置を有する
レーザーラスタースキャナーの概略図。
レーザーラスタースキャナーの概略図。
【図２】図１に示したレーザーラスタースキャナーの部
分透視図。
分透視図。
【図３】代表的光ビーム通過路を示す図２の検出器組立
体の側面図。
体の側面図。
【図４】基準ビームの拡散角を示す図３の検出器組立体
の平面図である。
の平面図である。
１０：レーザーラスタースキャナー、２４：基準ビー
ム、２６：露光ビーム、３２：コントローラ、６２：基
準マスク、７０：拡散手段、７４：検出手段。
ム、２６：露光ビーム、３２：コントローラ、６２：基
準マスク、７０：拡散手段、７４：検出手段。
Claims (5)
- 【請求項１】 基準ビーム（２４）が、間隔を置いて配
置される光学的透明領域を備えた基準マスク（６２）を
横切って、また露光ビーム（２６）が、基板を横切っ
て、各々の走査線に沿って同時に走査されるレーザーラ
スタースキャナー（１０）において両ビームの走査率を
表す信号を発生する信号発生装置（６４）であって、 基準マスク（６２）に整合されかつその後方に配置さ
れ、基準ビーム（２４）を基準走査線にほぼ沿うように
抑制しながら光学的に拡散させる伝達拡散手段（７
０）、及び伝達拡散手段に整合されかつその後方に配置
され、基準走査線に沿って間隔をおいて配置される複数
の光検出器を含む検出手段（７４）を有し、検出手段
（７４）は、拡散された基準ビーム（２４）を少なくと
も２つの光検出器により受け取り基準ビームと等価の電
気信号を供給する手段であることを特徴とする信号発生
装置。 - 【請求項２】 前記光検出器は、基準マスク（６２）の
光学的透明領域の分離幅の約１０００倍の分離幅を有す
ることを特徴とする請求項１に記載の信号発生装置。 - 【請求項３】 基準ビーム（２４）が、間隔を置いて配
置される光学的透明領域を備えた基準マスク（６２）を
横切って、また露光ビーム（２６）が、基板を横切っ
て、各々の走査線に沿って同時に走査されると共に、光
検出器信号を受け取り走査タイミング信号を発生し、走
査タイミング信号に従って基準ビーム（２４）及び露光
ビーム（２６）を走査するコントローラ（３２）を有す
るレーザーラスタースキャナー（１０）における信号発
生装置（６４）であって、 基準マスク（６２）に整合されかつその後方に配置さ
れ、基準ビーム（２４）を基準走査線にほぼ沿うように
抑制しながら光学的に拡散させる伝達拡散手段（７
０）、及び伝達拡散手段に整合されかつその後方に配置
され、基準走査線に沿って間隔をおいて配置され出力が
電気的に加算される複数の光検出器を含む検出手段（７
４）を有し、検出手段（７４）は、拡散された基準ビー
ム（２４）を少なくとも２つの光検出器により受け取
り、走査線に沿って基準ビームの位置を表示する対応す
る電気信号を発生することを特徴とする信号発生装置。 - 【請求項４】 前記光検出器は、基準マスク（６２）の
光学的透明領域の分離幅の約１０００倍の分離幅を有す
ることを特徴とする請求項３に記載の信号発生装置。 - 【請求項５】 前記光検出器の信号は、立上り時間の変
動する正弦波信号であり、前記コントローラは、光検出
器の信号をデジタルクロック信号に変換するものである
ことを特徴とする請求項３に記載の信号発生装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/260,117 US4866464A (en) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | Method and apparatus for generating a scan timing signal with diffuser and detector array |
| US260117 | 1988-10-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH081101U JPH081101U (ja) | 1996-07-02 |
| JP2543821Y2 true JP2543821Y2 (ja) | 1997-08-13 |
Family
ID=22987839
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1270158A Pending JPH02186546A (ja) | 1988-10-20 | 1989-10-17 | 走査タイミング信号発生装置及び方法 |
| JP1995013825U Expired - Lifetime JP2543821Y2 (ja) | 1988-10-20 | 1995-12-28 | 走査タイミング信号発生装置 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1270158A Pending JPH02186546A (ja) | 1988-10-20 | 1989-10-17 | 走査タイミング信号発生装置及び方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4866464A (ja) |
| JP (2) | JPH02186546A (ja) |
| DE (1) | DE3933062A1 (ja) |
| FR (1) | FR2638590B1 (ja) |
| GB (1) | GB2224177B (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55171042U (ja) * | 1979-05-25 | 1980-12-08 | ||
| US5247373A (en) * | 1989-09-14 | 1993-09-21 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Scanning optical system |
| IL94308A0 (en) * | 1990-05-07 | 1991-03-10 | Scitex Corp Ltd | Laser scanning apparatus |
| US5291392A (en) * | 1992-02-19 | 1994-03-01 | Gerber Systems Corporation | Method and apparatus for enhancing the accuracy of scanner systems |
| US5546217A (en) * | 1993-11-05 | 1996-08-13 | Decagon Devices, Inc. | Laser scanning apparatus |
| US5910651A (en) * | 1997-07-15 | 1999-06-08 | Gerber Systems Corporation | Method and apparatus for image nonlinearity compensation in scanning systems |
| US5973839A (en) * | 1998-03-05 | 1999-10-26 | Hewlett-Packard Company | Optical homogenizer |
| US7806585B2 (en) * | 2007-06-22 | 2010-10-05 | Decagon Devices, Inc. | Apparatus, method, and system for measuring water activity and weight |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4081842A (en) * | 1976-06-14 | 1978-03-28 | Eocom Corporation | Facsimile system |
| US4127781A (en) * | 1977-06-22 | 1978-11-28 | Hughes Aircraft Company | Scan mirror position determining system |
| JPS5737887A (en) * | 1980-08-19 | 1982-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image reader |
| JPS6028468B2 (ja) * | 1980-10-30 | 1985-07-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線画像情報読取方法および装置 |
| JPS57163086A (en) * | 1981-03-27 | 1982-10-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Beam scanning type marking device |
| JPS5851385A (ja) * | 1981-09-24 | 1983-03-26 | Hitachi Ltd | 光電変換装置 |
| JPS5981616A (ja) * | 1982-10-30 | 1984-05-11 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 記録装置 |
| JPS5981969A (ja) * | 1982-11-02 | 1984-05-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光検出装置 |
| DE3407981C2 (de) * | 1983-03-24 | 1986-12-18 | Dainippon Screen Seizo K.K., Kyoto | Verfahren zum Aufzeichnen eines Bildes auf einem photoempfindlichen Material und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| JPS6197619A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学式リニアエンコ−ダ |
| JPS6349515U (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-04 |
-
1988
- 1988-10-20 US US07/260,117 patent/US4866464A/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-09-13 GB GB8920709A patent/GB2224177B/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-04 DE DE3933062A patent/DE3933062A1/de active Granted
- 1989-10-17 JP JP1270158A patent/JPH02186546A/ja active Pending
- 1989-10-19 FR FR898913675A patent/FR2638590B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-12-28 JP JP1995013825U patent/JP2543821Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4866464A (en) | 1989-09-12 |
| JPH02186546A (ja) | 1990-07-20 |
| DE3933062A1 (de) | 1990-04-26 |
| DE3933062C2 (ja) | 1992-06-17 |
| GB2224177A (en) | 1990-04-25 |
| FR2638590A1 (fr) | 1990-05-04 |
| GB8920709D0 (en) | 1989-10-25 |
| FR2638590B1 (fr) | 1992-09-04 |
| GB2224177B (en) | 1993-03-24 |
| JPH081101U (ja) | 1996-07-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6515734B1 (en) | Exposure apparatus | |
| US4978970A (en) | Scanning/recording system with plural beam overlap without interference | |
| US4668080A (en) | Method and apparatus for forming large area high resolution patterns | |
| JP2543821Y2 (ja) | 走査タイミング信号発生装置 | |
| US4393411A (en) | Laser read-write system for the production of engravings | |
| EP0100610B1 (en) | Illumination system | |
| US4999648A (en) | Non-contact optical print head for image writing apparatus | |
| JPH0370206B2 (ja) | ||
| JPH0687097B2 (ja) | 受動的な反射面追跡型レーザ・ラスタ・スキャナ | |
| EP0137559A1 (en) | Exposure device | |
| JP2572991B2 (ja) | 画像形成装置 | |
| US4251806A (en) | Message character image projection control system | |
| JPS62127708A (ja) | レ−ザ走査装置 | |
| JP2001045242A (ja) | 一体型位置検出装置を備えている撮像装置 | |
| JPS63156293A (ja) | レ−ザ光走査装置 | |
| JPH01237615A (ja) | 画像走査記録装置のレーザ露光方法 | |
| JPH02259717A (ja) | フィルムプリンタの光ビーム走査ユニット | |
| JPH01254802A (ja) | 露光用位置合わせ装置 | |
| JPH08221787A (ja) | 光情報処理装置 | |
| JP2005031232A (ja) | パターン描画装置 | |
| JPS60124939A (ja) | レ−ザ露光装置 | |
| JPS63150775A (ja) | レ−ザ光走査装置 | |
| JPH10178526A (ja) | 反射光学ユニット及びスキャナー光学系 | |
| Hebert | Point-of-sale scanner: designed for production | |
| JPS62125319A (ja) | パタ−ン描画装置 |