JPS62125319A - パタ−ン描画装置 - Google Patents
パタ−ン描画装置Info
- Publication number
- JPS62125319A JPS62125319A JP60266326A JP26632685A JPS62125319A JP S62125319 A JPS62125319 A JP S62125319A JP 60266326 A JP60266326 A JP 60266326A JP 26632685 A JP26632685 A JP 26632685A JP S62125319 A JPS62125319 A JP S62125319A
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- JP
- Japan
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- dust
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- reference scale
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- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野）
本発明は、パターン描画装置に関し、特にそのクロック
信号生成用基準スケールへの塵埃の付着を防止したパタ
ーン描画装置に関する。
信号生成用基準スケールへの塵埃の付着を防止したパタ
ーン描画装置に関する。
（発明の背景）
従来のレーザビームパターン描画装置においては、光ビ
ームを回転多面鏡等の光偏向装置によって走査し、プリ
ント基板等の上に所望のパターンが描画されるように構
成されている。第６図はこのようなパターン描画装置の
一例を示し、レーザ光源１から出射されたレーザビーム
は参照ビーム生成手段としてのビームスプリッタ２によ
り描画用の光ビームＢ１と参照ビームＢ２に分割される
。描画用の光ビームＢｌは描画ビーム生成手段としての
光変調器３によって強度変調された後に、また参照ビー
ムＢ２はそのままビームエクスパンダ４に入射され、そ
れらビームの幅が拡大される。次いでそれらのビームＢ
ｌ、Ｂ２は、走査手段としての回転多面鏡５の反射方向
、すなわち矢印Ａ方向の回転によって反射・偏向され、
結像レンズ６により集光されて反射鏡１３の所定位置に
入射される。反射鏡１３に水平に入射されたビームＢｌ
、Ｂ２は下方に向きが変えられ、描画用の光ビームＢｌ
は１次元移動ステージ７上の感光材８の上に結像され、
光変調器３の働きにより明減しなからＸ方向に直線走査
される。この主走査方向のビーム走査に同期して移動ス
テージ７が副走査方向であるＹ方向に移動され、以って
、２次元パターンが感光材８上に描画される。
ームを回転多面鏡等の光偏向装置によって走査し、プリ
ント基板等の上に所望のパターンが描画されるように構
成されている。第６図はこのようなパターン描画装置の
一例を示し、レーザ光源１から出射されたレーザビーム
は参照ビーム生成手段としてのビームスプリッタ２によ
り描画用の光ビームＢ１と参照ビームＢ２に分割される
。描画用の光ビームＢｌは描画ビーム生成手段としての
光変調器３によって強度変調された後に、また参照ビー
ムＢ２はそのままビームエクスパンダ４に入射され、そ
れらビームの幅が拡大される。次いでそれらのビームＢ
ｌ、Ｂ２は、走査手段としての回転多面鏡５の反射方向
、すなわち矢印Ａ方向の回転によって反射・偏向され、
結像レンズ６により集光されて反射鏡１３の所定位置に
入射される。反射鏡１３に水平に入射されたビームＢｌ
、Ｂ２は下方に向きが変えられ、描画用の光ビームＢｌ
は１次元移動ステージ７上の感光材８の上に結像され、
光変調器３の働きにより明減しなからＸ方向に直線走査
される。この主走査方向のビーム走査に同期して移動ス
テージ７が副走査方向であるＹ方向に移動され、以って
、２次元パターンが感光材８上に描画される。
一方、反射鏡１３で下向きに反射された参照ビームＢ２
は、描画用の光ビームＢｌの感光材上の走査位置から離
れて配置された反射鏡９でＹ方向に反射される０反射鏡
９からＹ方向に離間した位置には基準スケール１０がＸ
方向に延在して配設されている。
は、描画用の光ビームＢｌの感光材上の走査位置から離
れて配置された反射鏡９でＹ方向に反射される０反射鏡
９からＹ方向に離間した位置には基準スケール１０がＸ
方向に延在して配設されている。
なお、スケール１０は、詳述はしないが、参照ビームＢ
２が透過する受光部としての透過部とビームＢ２が透過
しない反射部とを有しており、スケール１０上の参照ビ
ームＢ２の入射位置に応じて明滅する光パルス信号をこ
のスケールｌＯを介して得ることができる。更にまた本
例ではスケール１０の後方にはライトガイド１１が配置
され、スケール１０を通過して得られる光パルス信号は
フォトマルチプライヤ等の光検出器１２に導かれ、ここ
で、上記パルス信号と等しい周期でオン争オフする変調
用クロック信号が生成されて光変調器３に供給されるよ
うにしである。なお、ＣＣＤ等の受光型光学素子アレイ
によりスケールｌＯを構成してもよく、この場合、参照
ビームＢ２はＣＣＤ等のアレイで受光される。また参照
ビームＢ２はレーザ光源ｌとは別設した別の光源から常
時発生するようにしても同様である。ただしビームＢ１
とＢ２は同時に回転多面鏡５に入射させる必要がある。
２が透過する受光部としての透過部とビームＢ２が透過
しない反射部とを有しており、スケール１０上の参照ビ
ームＢ２の入射位置に応じて明滅する光パルス信号をこ
のスケールｌＯを介して得ることができる。更にまた本
例ではスケール１０の後方にはライトガイド１１が配置
され、スケール１０を通過して得られる光パルス信号は
フォトマルチプライヤ等の光検出器１２に導かれ、ここ
で、上記パルス信号と等しい周期でオン争オフする変調
用クロック信号が生成されて光変調器３に供給されるよ
うにしである。なお、ＣＣＤ等の受光型光学素子アレイ
によりスケールｌＯを構成してもよく、この場合、参照
ビームＢ２はＣＣＤ等のアレイで受光される。また参照
ビームＢ２はレーザ光源ｌとは別設した別の光源から常
時発生するようにしても同様である。ただしビームＢ１
とＢ２は同時に回転多面鏡５に入射させる必要がある。
従来のこの種のパターン描画装置においては、クロック
信号に同期して、描画すべきパターンの描画データに相
応して光ビームが変調されるものであって、光ビームの
走査装置を検出するためのモータとして使用される上記
の光パルス信号をクロック信号として用いることにより
主走査方向の位置精度が保証されている。しかるに、上
述した基準スケール１０に塵埃等が付着すると、その付
着した透過部から参照ビームＢ２が透過しなかったり、
あるいは透過してもその光量が減少し、正確なりロック
信号が得られないという問題がある。
信号に同期して、描画すべきパターンの描画データに相
応して光ビームが変調されるものであって、光ビームの
走査装置を検出するためのモータとして使用される上記
の光パルス信号をクロック信号として用いることにより
主走査方向の位置精度が保証されている。しかるに、上
述した基準スケール１０に塵埃等が付着すると、その付
着した透過部から参照ビームＢ２が透過しなかったり、
あるいは透過してもその光量が減少し、正確なりロック
信号が得られないという問題がある。
（発明の目的）
本発明の目的は、このような問題点を解消し、基準スケ
ールへの塵埃付着を防止するようにしたパターン描画装
置を提供することにある。
ールへの塵埃付着を防止するようにしたパターン描画装
置を提供することにある。
（発明の概要）
本発明は、内部に描画ビームおよび参照ビームを導く光
学系を設けるとともに基準スケールを保持する保持手段
を設け、さらにその保持手段内部への塵埃の侵入を防止
する防塵手段を設けたことを特徴とする。
学系を設けるとともに基準スケールを保持する保持手段
を設け、さらにその保持手段内部への塵埃の侵入を防止
する防塵手段を設けたことを特徴とする。
（実施例）
一第１の実施例−
第１図は本発明の第１の実施例を示し、２０は防塵が施
されたスケール保持構造、２１は保持手段を構成するホ
ルダであり、このホルダ２１は回転多面鏡５や結像レン
ズ６が配設されている上部架台２２に固着されている。
されたスケール保持構造、２１は保持手段を構成するホ
ルダであり、このホルダ２１は回転多面鏡５や結像レン
ズ６が配設されている上部架台２２に固着されている。
ホルダ２１内には光学通路２１１が形成され、その入口
２１２および出口２１３には防塵手段を構成する窓ガラ
ス２３および２４がそれぞれ嵌め込まれている。ホルダ
２１には、その光学通路２１１内に設けられた光学系を
構成する反射鏡１３および９が保持されるとともに上述
した基準スケールｌＯも保持される。また、基準スケー
ル１０の後方ではライトガイド１１がホルダ２１に保持
されている。
２１２および出口２１３には防塵手段を構成する窓ガラ
ス２３および２４がそれぞれ嵌め込まれている。ホルダ
２１には、その光学通路２１１内に設けられた光学系を
構成する反射鏡１３および９が保持されるとともに上述
した基準スケールｌＯも保持される。また、基準スケー
ル１０の後方ではライトガイド１１がホルダ２１に保持
されている。
このように構成されたスケール保持構造２０においては
、描画ビームＢｌおよび参照ビームＢ２は窓ガラス２３
を透過して光学通路２１１内に入射され、反射鏡１３に
より下方に曲折された後、描画ビームＢｌは窓ガラス２
４を透過して光学通路２１１から出射されて感光材８の
表面８Ａに結像され、参照ビームＢ２は反射鏡９で曲折
されて基準スケール１０上に結像される。しかして、基
準スケール１０を通過した明滅する光パルス信号はライ
トガイド１１を介して例えばフォトマルチプライヤで光
電変換されて変調用クロック信号が得られる。
、描画ビームＢｌおよび参照ビームＢ２は窓ガラス２３
を透過して光学通路２１１内に入射され、反射鏡１３に
より下方に曲折された後、描画ビームＢｌは窓ガラス２
４を透過して光学通路２１１から出射されて感光材８の
表面８Ａに結像され、参照ビームＢ２は反射鏡９で曲折
されて基準スケール１０上に結像される。しかして、基
準スケール１０を通過した明滅する光パルス信号はライ
トガイド１１を介して例えばフォトマルチプライヤで光
電変換されて変調用クロック信号が得られる。
この実施例によれば、窓ガラス２３および２４により光
学通路２１１内が封止されるので通路２１１内への塵埃
の侵入が防止され、その通路２１１内でホルダ２１に保
持された基準スケール１０に塵埃が付着するおそれが少
なくなる。
学通路２１１内が封止されるので通路２１１内への塵埃
の侵入が防止され、その通路２１１内でホルダ２１に保
持された基準スケール１０に塵埃が付着するおそれが少
なくなる。
−第２の実施例−
第２図は本発明の第２の実施例を示し、本例では、第１
図に示したホルダ２１を上部ホルダ２１Ａおよび下部ホ
ルダ２１Ｂに分割し、それぞれを図示のようにボルト２
５により上部架台２２の」二面および下面に螺着したも
のであり、上部架台２２には光学通路２１１を構成する
ため紙面と垂直方向に延在する細長い開口２２１があけ
られている。その他の構成９作用については第１の実施
例と同様であり説明を省略する。
図に示したホルダ２１を上部ホルダ２１Ａおよび下部ホ
ルダ２１Ｂに分割し、それぞれを図示のようにボルト２
５により上部架台２２の」二面および下面に螺着したも
のであり、上部架台２２には光学通路２１１を構成する
ため紙面と垂直方向に延在する細長い開口２２１があけ
られている。その他の構成９作用については第１の実施
例と同様であり説明を省略する。
この実施例によれば、特に反射鏡９や基準スケール１０
のホルダ２１への組立が第１の実施例に比べて容易とな
る。
のホルダ２１への組立が第１の実施例に比べて容易とな
る。
一部３の実施例−
第３図は本発明の第３の実施例を示し、本例では、窓ガ
ラス２３の代りに、反射鏡１３の後方の光学通路２１１
内で、紙面と垂直の方向に延在する細長いレンズ（シリ
ンドリカルレンズ等）２６がホルダ２１に保持され、レ
ンズ２６と窓ガラス２４とによりホルダ２１内の光学通
路２１１の一部２１４を封止して防塵手段が構成されて
いる。
ラス２３の代りに、反射鏡１３の後方の光学通路２１１
内で、紙面と垂直の方向に延在する細長いレンズ（シリ
ンドリカルレンズ等）２６がホルダ２１に保持され、レ
ンズ２６と窓ガラス２４とによりホルダ２１内の光学通
路２１１の一部２１４を封止して防塵手段が構成されて
いる。
ここで、レンズ２６は、複数枚のレンズから構成される
結像レンズ６の一枚のレンズとして機部するものである
。その他の構成９作用については第１の実施例と同様で
あり説明を省略する。
結像レンズ６の一枚のレンズとして機部するものである
。その他の構成９作用については第１の実施例と同様で
あり説明を省略する。
第３の実施例では窓ガラス２３が省略されているのでそ
の分だけレーザビームの光量損失が少なく、第１および
第２の実施例に比べて効果的である。
の分だけレーザビームの光量損失が少なく、第１および
第２の実施例に比べて効果的である。
一部４の実施例−
第４図は本発明の第４の実施例を示し、第３の実施例に
おいて窓ガラス２４を省略し、レンズ２６後方のホルダ
２１に空気導入口２１５を設けて光学通路２１４内に圧
縮空気等の気体を供給し、その気体を光学通路出口２１
３から排出するように構成したものである。本例では光
学通路２１４は密閉されていないが、光学通路２１４内
に例えば圧力源２７から圧縮空気が導かれて出口２１３
から排出されるので、光学通路２１４内への塵埃の侵入
が防止される。ここで、圧力源２７、レンズ２６．空気
導入口２１５．出口２１３により防塵手段が構成される
。
おいて窓ガラス２４を省略し、レンズ２６後方のホルダ
２１に空気導入口２１５を設けて光学通路２１４内に圧
縮空気等の気体を供給し、その気体を光学通路出口２１
３から排出するように構成したものである。本例では光
学通路２１４は密閉されていないが、光学通路２１４内
に例えば圧力源２７から圧縮空気が導かれて出口２１３
から排出されるので、光学通路２１４内への塵埃の侵入
が防止される。ここで、圧力源２７、レンズ２６．空気
導入口２１５．出口２１３により防塵手段が構成される
。
第４の実施例では窓ガラス２３．２４が共に省略されて
いるので、第３の実施例に比べてレーザビームの損失が
更に少ない。
いるので、第３の実施例に比べてレーザビームの損失が
更に少ない。
一部５の実施例−
第５図は本発明の第５の実施例を示し、第３の実施例と
比較して説明するに、光学通路出口２１３を突設して形
成するとともに、その出口断面積を上記各実施例に比べ
て小さくしてオリフィス２１３を形成する。そのオリフ
ィス２１３の周囲に沿って開口２１６が設けられるとと
もに、ホルダ２１の底面に沿って開口２１６に連通ずる
気体通路２１７が形成され、圧力源２７から通路２１７
に気体を導入してオリフィス２１３の周囲から噴出させ
る。ここで、圧力源２７．レンズ２６、オリフィス２１
３．開口２１６９通路２１７により防塵手段が構成され
る。
比較して説明するに、光学通路出口２１３を突設して形
成するとともに、その出口断面積を上記各実施例に比べ
て小さくしてオリフィス２１３を形成する。そのオリフ
ィス２１３の周囲に沿って開口２１６が設けられるとと
もに、ホルダ２１の底面に沿って開口２１６に連通ずる
気体通路２１７が形成され、圧力源２７から通路２１７
に気体を導入してオリフィス２１３の周囲から噴出させ
る。ここで、圧力源２７．レンズ２６、オリフィス２１
３．開口２１６９通路２１７により防塵手段が構成され
る。
この実施例ではオリフィス２１３の周囲にいわゆるエア
カーテンが構成され、オリフィス２１３から光学通路２
１４内への塵埃の侵入が防止される。
カーテンが構成され、オリフィス２１３から光学通路２
１４内への塵埃の侵入が防止される。
第５の実施例を第４の実施例と比較してその効果に言及
すると、第４の実施例と同様にレーザビームの損失のな
い防塵構造２０が構成され、更に加えて、光学通路２１
４内へは気体が導入されずその内部の圧力が上昇しない
ので、レンズ２６やその保持金具等の耐久性に優れ、ま
た、光学通路２１４内でのゆらぎも生じないので、第４
の実施例に比べればより良好な描画パターンを感光材８
上に描画できる。
すると、第４の実施例と同様にレーザビームの損失のな
い防塵構造２０が構成され、更に加えて、光学通路２１
４内へは気体が導入されずその内部の圧力が上昇しない
ので、レンズ２６やその保持金具等の耐久性に優れ、ま
た、光学通路２１４内でのゆらぎも生じないので、第４
の実施例に比べればより良好な描画パターンを感光材８
上に描画できる。
なお、組立性を考慮して、第３〜第５の実施例において
もホルダ２１を上下に分割してもよく、また、レンズ２
６の位置に窓ガラスを配置してもよい。
もホルダ２１を上下に分割してもよく、また、レンズ２
６の位置に窓ガラスを配置してもよい。
また、本発明はレーザビームプリンタ等、この種クロッ
ク信号生成用スケールを有するその他のレーザビーム露
光装置へも適用できる。
ク信号生成用スケールを有するその他のレーザビーム露
光装置へも適用できる。
（発明の効果）
本発明によれば、基準スケールを保持手段内で保持する
とともに、その保持手段内への塵埃の侵入を防止する防
塵手段を設けたので、基準スケールへの塵埃の付着が防
止され、正確なりロック信号を生成することができ、以
って、描画パターンの寸法および位置精度の向上に寄与
する。
とともに、その保持手段内への塵埃の侵入を防止する防
塵手段を設けたので、基準スケールへの塵埃の付着が防
止され、正確なりロック信号を生成することができ、以
って、描画パターンの寸法および位置精度の向上に寄与
する。
第１図〜第５図は本発明に係るスケール保持構造の第１
〜第５の実施例を示すそれぞれ縦断面図、第６図はパタ
ーン描画装置の概略構成を示す図である。 １：レーザビーム光源 ２：ビームスプリッタ ３：光変調器５：回転多面鏡
６：結像レンズ７：移動ステージ ８
：感光材 ９：反射鏡 １０ニスケールｌｌニライト
ガイド １２：光検出器２０ニスケール保持構造
２１：ホルダ２２：上部架台 ２３，２４：
窓ガラス２８：レンズ ２７：圧力源２１
１．２１４ ：光学通路 ２１２：入口２１３
：出口（オリフィス） ２１５：空気導入口２１６：
開口 出 願 人 日本光学工業株式会社 代理人弁理士 永 井 冬 紀ｉＪ’３ ’１
図′ ざｉｉ ２図 笛３＠ 第４図 第５図 第６図
〜第５の実施例を示すそれぞれ縦断面図、第６図はパタ
ーン描画装置の概略構成を示す図である。 １：レーザビーム光源 ２：ビームスプリッタ ３：光変調器５：回転多面鏡
６：結像レンズ７：移動ステージ ８
：感光材 ９：反射鏡 １０ニスケールｌｌニライト
ガイド １２：光検出器２０ニスケール保持構造
２１：ホルダ２２：上部架台 ２３，２４：
窓ガラス２８：レンズ ２７：圧力源２１
１．２１４ ：光学通路 ２１２：入口２１３
：出口（オリフィス） ２１５：空気導入口２１６：
開口 出 願 人 日本光学工業株式会社 代理人弁理士 永 井 冬 紀ｉＪ’３ ’１
図′ ざｉｉ ２図 笛３＠ 第４図 第５図 第６図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 入力されるクロック信号と同期させて光ビームを変調し
て描画ビームを得る描画ビーム生成手段と、参照ビーム
を得る参照ビーム生成手段と、前記描画ビームと同期さ
せて前記参照ビームを走査する走査手段と、走査される
前記参照ビームを受光する受光部が所定のピッチで配列
された基準スケールと、前記受光部からの信号により光
ビーム変調用の前記クロック信号を生成するクロック信
号生成手段と、を有するパターン描画装置において、 前記参照ビームを前記基準スケールに導く光学系と前記
基準スケールとを内部で保持する保持手段と、 その保持手段の内部への塵埃侵入を防止する防塵手段と
を、具備したことを特徴とするパターン描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60266326A JPS62125319A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | パタ−ン描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60266326A JPS62125319A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | パタ−ン描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62125319A true JPS62125319A (ja) | 1987-06-06 |
Family
ID=17429369
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60266326A Pending JPS62125319A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | パタ−ン描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62125319A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009061207A1 (en) * | 2007-11-07 | 2009-05-14 | Tomra Systems Asa | An apparatus, an optical unit and devices for use in detection of objects |
-
1985
- 1985-11-27 JP JP60266326A patent/JPS62125319A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009061207A1 (en) * | 2007-11-07 | 2009-05-14 | Tomra Systems Asa | An apparatus, an optical unit and devices for use in detection of objects |
| JP2011503573A (ja) * | 2007-11-07 | 2011-01-27 | トムラ・システムズ・エイ・エス・エイ | 対称物の検出に使用する装置、光学ユニット及びデバイス |
| US8126325B2 (en) | 2007-11-07 | 2012-02-28 | Tomra Systems Asa | Apparatus, an optical unit and devices for use in detection of objects |
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