JP2542473B2 - 薄膜el素子 - Google Patents

薄膜el素子

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JP2542473B2 JP4198195A JP19819592A JP2542473B2 JP 2542473 B2 JP2542473 B2 JP 2542473B2 JP 4198195 A JP4198195 A JP 4198195A JP 19819592 A JP19819592 A JP 19819592A JP 2542473 B2 JP2542473 B2 JP 2542473B2
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佳弘 遠藤
正明 平井
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、透光性基板上に発光
電極絶縁層薄膜形成され、外部との接続のため
の端子電極が設けられてなる薄膜EL素子に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の薄膜EL素子として、例
えば図3に示すようなものが知られている。この薄膜E
L素子は、ガラス基板1上に錫添加酸化インジウム(以
下、ITOと略す)からなる多数の透明電極2をストラ
イプ状に設け、この上をSiO2 やSi34からなる第
1絶縁膜3で絶縁し、この第1絶縁膜3上にZnS:M
nからなる発光層4を電子ビーム蒸着した後、さらにこ
の上を上述と同種の第2絶縁膜5で絶縁し、最後にこの
第2絶縁膜5上にアルミニウム(Al)からなる多数の
背面電極6を上記透明電極2と直交する方向に設けてな
る。そして、上記透明電極2と背面電極6の1本ずつの
端部に電圧を印加するため設けられる端子電極11と1
2は、製造工数削減のため上記背面電極6の形状と同時
に、上記第2絶縁膜およびガラス基板1の全面にAl
6’を蒸着し、さらにこの上にはんだ付けの便宜のため
Ni13を蒸着した後、図示の如く前者は透明電極2に
継がるように、後者は背面電極6と一体にエッチングで
パターン形成される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の薄膜
EL素子の上記端子電極11,12は、AlとNiの積
層膜からなるため機械的強度が低く、しかも3本/mm
程度に高精細度加工されるため、輝度特性安定化のため
施されるエージング処理等において、疵が発生しやす
い。そのため、端子部の断線が多発して、製品の信頼性
を低下させ、製品の不良率を増大させるという欠点があ
る。
【0004】そこで、端子電極を機械的強度の高い構造
とするために、薄膜EL素子発光層の両側に互いに直交
するようにストライプ状に設けられた各電極の端部へ、
電圧印加のために設けられる各端子電極を、錫添加酸化
インジウムと無電解Niメッキ層の積層構造となす発明
を行った。この構造により不良率を低減させるとともに
信頼性の高い薄膜EL素子を提供している。この構造に
おいては、単に錫添加インジウム(ITO)上に無電解
Niメッキを行なっただけの状態で素子内部より直接端
子部まで導出されると錫添加インジウム自体に僅かな透
湿性が存在するために封止したシールを透過して素子本
体へ湿気が侵入する恐れがある。
【0005】本発明の目的は、端子電極を機械的強度の
高い構造にするとともに、併せてこの構造で湿気が素子
本体へ侵入することがないようにして、表示品位と信頼
性を向上させ、不良率を低減させることができる薄膜E
L素子を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の薄膜EL素子では、透光性基板上に設けら
れた透明電極と金属の背面電極との間に、発光層及び絶
縁層を挾持してEL素子が構成され、上記EL素子を外
気から封止する外囲器が上記透光性基板に接合され、上
記透明電極及び上記背面電極と夫々片端が接続されかつ
他端が上記外囲器外方へ延設された端子電極が上記透光
性基板上に形成されてなる薄膜EL素子において、上記
端子電極は、外囲器外にて上層の外囲器直前まで形成さ
れる金属導電膜と下層の外囲器内へ延設される酸化物の
透明導電膜とから構成され、上記透明電極は金属接続線
を介して上記端子電極の透明導電膜と接続され、上記背
面電極は上記端子電極の透明導電膜と接続されるととも
に、上記外囲器と上記透光性基板との接合部分内には上
記金属接続線と上記透明導電膜との接続部分及び上記背
面電極と上記透明導電膜との接続部分が位置し、上記透
明導電膜の一端が上記外囲器と上記透光性基板との間に
挾設されている構造としている。
【0007】
【作用】薄膜EL素子の端子電極は、上層の金属導電膜
と下層の酸化物からなる透明導電膜との2層の電極から
構成されているので、金属導電膜は透光性基板から剥が
れ難くくなり端子電極の機械的強度を高くすることがで
る。
【0008】また、外囲器と透光性基板との接合位置に
は一部端子電極の酸化物からなる透明導電膜を介するこ
とになるので、外囲器と透光性基板との接合が強固なも
のになるため、湿気が外囲器内に侵入することがない
【0009】
【実施例】以下、本発明を図示の実施例により詳細に説
明する。
【0010】図1及び図2は薄膜EL素子の一例を夫々
背面電極及び透明電極の端子電極部で切断した断面図で
あり、1はガラス基板、2,A,Bはこのガラス基板1
上にITOをスパッタリング等で厚さ1000〜300
0Åに蒸着し、フォトエッチングで多数本のストライプ
状に互いに分離させてパターン形成してなる透明電極,
背面電極側端子電極,透明電極側端子電極、3は上記透
明電極2を埋め込むようにスパッタリングでSiO2
厚さ200〜800Åに夫々蒸着した第1絶縁膜、4は
この第1絶縁膜3上にZnS:Mnペレットを電子ビー
ムで加熱して厚さ5000〜9000Åに蒸着し、50
0〜650℃で熱処理してなる発光層、5はこの発光層
4上にスパッタリングでSi34を厚さ1000〜30
00Åに、次いでAl23を厚さ200〜800Åに夫
々蒸着した第2絶縁膜である。
【0011】また、6,Cはこの第2絶縁膜5及び上記
背面,透明両電極側端子A,Bの内端縁を覆うようにA
lを厚さ3000〜8000Åに蒸着し、フォトエッチ
ングで上記透明電極2と直交する多数本のストライプ状
に、または上記透明電極2とその端子電極Bを接続する
ようにパターン形成してなる背面電極,電極接続線、7
は素子本体9の四周の電極接続線C部及び背面電極の接
続端6a部にエポキシ樹脂等で接着され、素子本体9を
外気から封止するシールガラス、8はこのシールガラス
7と素子本体9間に防湿のため充填されたシリコン油、
10はシールガラス7の外側の上記両端子電極A,B上
に最後に無電解メッキにより厚さ1500〜5000Å
に形成されたNi膜である。なお、図3の従来例と同一
の部分には、同一番号を付している。
【0012】上記構成の薄膜EL素子において、端子電
極A,Bは、高硬度のセラミックスたるITOの上にN
iを無電解メッキして形成されるので、ガラス基板より
Niが剥がれ難くく従来のAlとNiの積層膜からなる
端子電極(図3中6’,13参照)よりも機械的強度が
はるかに高く、エージング処理等の工程においても疵が
つきにくく、端子電極部の断線が発生しない。また、無
電解メッキによるITO上のNiは密着性が良いため駆
動回路等とのはんだ付けには何ら問題がない。
【0013】さらに、上記実施例では、図1及び図2に
示すように背面電極6の接続端6aと端子電極Aの下層
のITOとの接続部分及び電極接続線Cと端子電極Bの
下層のITOとの接続部分はシールガラス7とガラス基
板1との接合位置に配置されているので、シールガラス
7とガラス基板1はその間に介するITOにより強固に
接続している。従って、湿気が直接シールガラス7とガ
ラス基板1との間から侵入することがないため、端子電
極A,Bの下層のITOの透湿性が高いため湿気がその
ITOよりシールガラス7内に侵入しようとしても、端
子電極A,BのITOと夫々接続する背面電極6及び金
属接続線Cは不透湿性であり、かつ、背面電極6及び金
属接続線Cはシールガラス7及びガラス基板1と強固に
接着しているので、ITOを通ってシールガラス7内に
侵入しようとする湿気は端子電極A,BのITOと夫々
接続する背面電極6及び金属接続線Cの部分で防止され
る。 また、シールガラス内に撥水性のシリコン油8
を充填しているので、素子本体9への湿気の侵入がより
一層完全に防止でき、湿気で薄膜EL素子の機能が損な
われることはない。
【0014】なお、本発明が図示の実施例に限られない
のはいうまでもない。
【0015】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
薄膜EL素子は、端子電極が上層の金属導電膜と下層の
酸化物からなる透明導電膜の2層の電極で構成されてい
るので、金属導電膜が透光性基板から剥がれ難くくなり
機械的強度を高くすることができるまた、端子電極の
透明導電膜と透明電極と接続する金属接続線との接続部
分及び端子電極の透明導電膜と背面電極との接続部分は
外囲器と透光性基板との接合位置に配置されているの
で、外囲器と透光性基板との接着が強固なものになり、
湿気が外囲器内に侵入することないので薄膜EL素
子の表示品位と信頼性が向上し、不良率が低減する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の薄膜EL素子の一実施例を背面電極の
端子電極部で切断した断面図。
【図2】本発明の薄膜EL素子の一実施例を透明電極の
端子電極部で切断した断面図。
【図3】従来の薄膜EL素子の斜視図である。
【符号の説明】
1 ガラス基板 2 透明電極 3 第1絶縁膜 4 発光層 5 第2絶縁膜 6 背面電極 7 シールガラス 8 シリコン油 9 素子本体 10 Ni膜 A 端子電極 B 端子電極 C 電極接続線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上出 久 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−109294(JP,A) 特開 昭63−298990(JP,A) 特開 昭63−226684(JP,A) 実開 昭61−114797(JP,U) 実開 昭61−48697(JP,U) 実開 平2−25196(JP,U) 実開 昭61−44796(JP,U) 実公 平1−17839(JP,Y2)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透光性基板上に設けられた透明電極と金
    属の背面電極との間に、発光層及び絶縁層を挾持してE
    L素子が構成され、上記EL素子を外気から封止する外
    囲器が上記透光性基板に接合され、上記透明電極及び上
    記背面電極と夫々片端が接続されかつ他端が上記外囲器
    外方へ延設された端子電極が上記透光性基板上に形成
    れてなる薄膜EL素子において、 上記端子電極は、上記外囲器外にて上層の外囲器直前ま
    で形成される金属導電膜と下層の外囲器内へ延設される
    酸化物の透明導電膜とから構成され、上記透明電極は金
    属接続線を介して上記端子電極の透明導電膜と接続さ
    れ、上記背面電極は上記端子電極の透明導電膜と接続さ
    れるとともに、上記外囲器と上記透光性基板との接合部
    分内には上記金属接続線と上記透明導電膜との接続部分
    及び上記背面電極と上記透明導電膜との接続部分が位置
    し、上記透明導電膜の一端が上記外囲器と上記透光性基
    板との間に挾設されていることを特徴とする薄膜EL素
    子。
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