JP2523227Y2 - 異物検査装置 - Google Patents
異物検査装置Info
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- JP2523227Y2 JP2523227Y2 JP1991067258U JP6725891U JP2523227Y2 JP 2523227 Y2 JP2523227 Y2 JP 2523227Y2 JP 1991067258 U JP1991067258 U JP 1991067258U JP 6725891 U JP6725891 U JP 6725891U JP 2523227 Y2 JP2523227 Y2 JP 2523227Y2
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- inclination
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/002—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring two or more coordinates
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/94—Investigating contamination, e.g. dust
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/003—Alignment of optical elements
- G02B7/004—Manual alignment, e.g. micromanipulators
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、主としてＬＳＩ製造プ
ロセスにおいて、半導体ウエハに回路パターンを焼き付
けるために用いられるレティクルやマスク、あるいは、
回路パターンが形成された製品ウエハ、さらには、液晶
用基板などの検査対象基板の表面に、異物が付着してい
るか否かおよびその大きさや付着場所を特定することが
できる異物検査装置に関する。
ロセスにおいて、半導体ウエハに回路パターンを焼き付
けるために用いられるレティクルやマスク、あるいは、
回路パターンが形成された製品ウエハ、さらには、液晶
用基板などの検査対象基板の表面に、異物が付着してい
るか否かおよびその大きさや付着場所を特定することが
できる異物検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】前記異物検査装置として、検査対象基板
を載置する検査ステージを、異物検査位置と異物観察位
置との間を直線的に移動できるように構成すると共に、
一定の偏向角を有するレーザ光を光走査ミラーによって
走査しながら検査対象基板の表面にし、そのときの検査
対象基板の表面からの反射散乱光を検出光学系に入射さ
せ、この検出光学系による反射散乱光の検出結果に基づ
いて検査対象基板の表面における異物の有無検出並びに
その大きさの測定を行うと共に、異物観察位置において
は、検出された異物を顕微鏡によって観察確認すること
ができるようにしたものがある。
を載置する検査ステージを、異物検査位置と異物観察位
置との間を直線的に移動できるように構成すると共に、
一定の偏向角を有するレーザ光を光走査ミラーによって
走査しながら検査対象基板の表面にし、そのときの検査
対象基板の表面からの反射散乱光を検出光学系に入射さ
せ、この検出光学系による反射散乱光の検出結果に基づ
いて検査対象基板の表面における異物の有無検出並びに
その大きさの測定を行うと共に、異物観察位置において
は、検出された異物を顕微鏡によって観察確認すること
ができるようにしたものがある。
【０００３】
【考案が解決しようとする課題】ところで、前記検査ス
テージは、部品の製作精度や組立精度を高めたりして
も、その平面に極めて僅かではあるが若干の傾きが生じ
るのを避けられない。このような傾きのある検査ステー
ジに検査対象基板を載置すると、検査対象基板が傾くこ
とになるが、従来においては、観察対象である検査対象
基板を一様に平坦または水平とみなし、検査対象基板上
の一点のみで焦点を合わせるようにしていたため、レー
ザ照射により検出された異物を、顕微鏡によって拡大し
て観察確認する際に検査対象基板を移動すると、一つの
異物においては焦点が合っていても、他の異物において
は焦点ズレが生ずることがある。
テージは、部品の製作精度や組立精度を高めたりして
も、その平面に極めて僅かではあるが若干の傾きが生じ
るのを避けられない。このような傾きのある検査ステー
ジに検査対象基板を載置すると、検査対象基板が傾くこ
とになるが、従来においては、観察対象である検査対象
基板を一様に平坦または水平とみなし、検査対象基板上
の一点のみで焦点を合わせるようにしていたため、レー
ザ照射により検出された異物を、顕微鏡によって拡大し
て観察確認する際に検査対象基板を移動すると、一つの
異物においては焦点が合っていても、他の異物において
は焦点ズレが生ずることがある。
【０００４】そこで、従来においては、このような焦点
ズレを解消するため、高度な光学的手法によって焦点を
検出するなどしていたが、装置の構成や制御が複雑にな
らざるを得なかった。
ズレを解消するため、高度な光学的手法によって焦点を
検出するなどしていたが、装置の構成や制御が複雑にな
らざるを得なかった。
【０００５】本考案は、上述の事柄に留意してなされた
もので、その目的とするところは、検査ステージの傾き
に起因して検査対象基板が傾いていても、検査対象基板
上の異物に対して焦点を常に合わせた状態で異物を観察
確認することができる安価な異物検査装置を提供するこ
とにある。
もので、その目的とするところは、検査ステージの傾き
に起因して検査対象基板が傾いていても、検査対象基板
上の異物に対して焦点を常に合わせた状態で異物を観察
確認することができる安価な異物検査装置を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本考案に係る異物検査装置は、異物観察位置におけ
る検査ステージ上に載置された検査対象基板表面上の任
意の３点における３次元的座標に基づいて検査対象基板
の平面の傾きを求めて、これを装置の平面傾き定数とし
て記憶し、検出された異物を拡大して観察確認する際、
前記平面傾き定数に基づいて、異物に対する顕微鏡の焦
点合わせを行うように構成されている。
め、本考案に係る異物検査装置は、異物観察位置におけ
る検査ステージ上に載置された検査対象基板表面上の任
意の３点における３次元的座標に基づいて検査対象基板
の平面の傾きを求めて、これを装置の平面傾き定数とし
て記憶し、検出された異物を拡大して観察確認する際、
前記平面傾き定数に基づいて、異物に対する顕微鏡の焦
点合わせを行うように構成されている。
【０００７】
【作用】検査ステージの平面の傾きは、検査ステージ上
に載置される検査対象基板の表面の任意の３点の３次元
的座標に基づいて得ることができる。従って、この平面
の傾きを装置特有の定数として記憶しておき、検出され
た異物を確認する際、前記平面傾き定数に基づいて、異
物に対する顕微鏡の焦点合わせを行うようにすれば、異
物を常に正しい焦点位置で明確に確認することができ
る。そして、装置の構成や制御が複雑になるといったこ
ともない。
に載置される検査対象基板の表面の任意の３点の３次元
的座標に基づいて得ることができる。従って、この平面
の傾きを装置特有の定数として記憶しておき、検出され
た異物を確認する際、前記平面傾き定数に基づいて、異
物に対する顕微鏡の焦点合わせを行うようにすれば、異
物を常に正しい焦点位置で明確に確認することができ
る。そして、装置の構成や制御が複雑になるといったこ
ともない。
【０００８】
【実施例】以下、本考案の実施例を、図面に基づいて説
明する。
明する。
【０００９】図１および図２において、１は固定ベース
で、カム２のＹ方向（前後方向）への駆動に伴って、立
設部材３に沿ってＺ方向（上下方向）に昇降される架台
４と、顕微鏡５とが設けられている。すなわち、図３に
も示すように、固定ベース１には、一端側がパルスモー
タ６に結合されたねじ軸７がＹ方向に横設されており、
このねじ軸７と咬合するナット部材８がカム２に設けら
れると共に、架台４の下方にカム２に対するカムフォロ
ア９が枢着されている。そして、パルスモータ６には、
ロータリエンコーダ10が設けられている。
で、カム２のＹ方向（前後方向）への駆動に伴って、立
設部材３に沿ってＺ方向（上下方向）に昇降される架台
４と、顕微鏡５とが設けられている。すなわち、図３に
も示すように、固定ベース１には、一端側がパルスモー
タ６に結合されたねじ軸７がＹ方向に横設されており、
このねじ軸７と咬合するナット部材８がカム２に設けら
れると共に、架台４の下方にカム２に対するカムフォロ
ア９が枢着されている。そして、パルスモータ６には、
ロータリエンコーダ10が設けられている。
【００１０】11は架台４の上面に設けられたガイドレー
ル12に沿ってＸ方向（左右方向）に駆動されるスライド
ベースで、このスライドベース11の上面に設けられたガ
イドレール13に沿ってＹ方向に駆動される検査ステージ
14が載置されている。この検査ステージ14は、スライド
ベース11の移動に伴って異物検査位置と異物観察位置と
にわたって移動できるようにしてある。
ル12に沿ってＸ方向（左右方向）に駆動されるスライド
ベースで、このスライドベース11の上面に設けられたガ
イドレール13に沿ってＹ方向に駆動される検査ステージ
14が載置されている。この検査ステージ14は、スライド
ベース11の移動に伴って異物検査位置と異物観察位置と
にわたって移動できるようにしてある。
【００１１】すなわち、図３にも示すように、架台４に
は、一端側がパルスモータ15に結合されたねじ軸16がＸ
方向に横設されており、このねじ軸16と咬合するナット
部材17がスライドベース11に設けられている。また、一
端側がパルスモータ18に結合され、Ｙ方向に延設された
ねじ軸19と咬合するナット部材20が検査ステージ14の下
面に設けられている。そして、パルスモータ15, 18に
は、それぞれロータリエンコーダ21, 22が設けられてい
る。
は、一端側がパルスモータ15に結合されたねじ軸16がＸ
方向に横設されており、このねじ軸16と咬合するナット
部材17がスライドベース11に設けられている。また、一
端側がパルスモータ18に結合され、Ｙ方向に延設された
ねじ軸19と咬合するナット部材20が検査ステージ14の下
面に設けられている。そして、パルスモータ15, 18に
は、それぞれロータリエンコーダ21, 22が設けられてい
る。
【００１２】そして、検査ステージ14の上面には、例え
ば半導体ウエハーに回路パターンを焼付けるために用い
られるレティクルなどの検査対象基板23を所定位置で固
定するために、固定部材24と可動部材25とが設けられて
いる。
ば半導体ウエハーに回路パターンを焼付けるために用い
られるレティクルなどの検査対象基板23を所定位置で固
定するために、固定部材24と可動部材25とが設けられて
いる。
【００１３】26は一定の偏向角を有するレーザ光ＬをＸ
方向斜め上方から前記検査対象基板23に対して走査しな
がら照射するための入射光学系で、レーザ光Ｌを発する
例えばＨｅ−Ｎｅレーザ発振器27と、ビームエキスパン
ダ28と、レーザ光ＬをＹ方向に走査させる光走査ミラー
29と、光走査ミラー29からのレーザ光Ｌを集光させて検
査対象基板23の表面に照射させる集光レンズ30と、ミラ
ー31とからなる。また、32はレーザ光Ｌが検査対象基板
23に照射されたときに生ずる反射散乱光Ｒを検出するた
めの２つの検出光学系で、各検出光学系32は、詳細には
図示してないが、集光レンズと、スリットと、特定の直
線偏光成分をカットする検光子と、光検出器をその順に
備えてなり、Ｙ方向斜め上方に適宜の間隔をおいて設け
られている。
方向斜め上方から前記検査対象基板23に対して走査しな
がら照射するための入射光学系で、レーザ光Ｌを発する
例えばＨｅ−Ｎｅレーザ発振器27と、ビームエキスパン
ダ28と、レーザ光ＬをＹ方向に走査させる光走査ミラー
29と、光走査ミラー29からのレーザ光Ｌを集光させて検
査対象基板23の表面に照射させる集光レンズ30と、ミラ
ー31とからなる。また、32はレーザ光Ｌが検査対象基板
23に照射されたときに生ずる反射散乱光Ｒを検出するた
めの２つの検出光学系で、各検出光学系32は、詳細には
図示してないが、集光レンズと、スリットと、特定の直
線偏光成分をカットする検光子と、光検出器をその順に
備えてなり、Ｙ方向斜め上方に適宜の間隔をおいて設け
られている。
【００１４】従って、上記構成の異物検査装置によれ
ば、図１に示すように、検査ステージ14上に載置された
検査対象基板23が異物検査位置にあるときは、一定の偏
向角を有するレーザ光Ｌを光走査ミラー29によって走査
しながら検査対象基板23の表面に照射し、そのときの検
査対象基板23の表面からの反射散乱光Ｒを検出光学系32
に入射させ、この検出光学系32による反射散乱光Ｒの検
出結果に基づいて検査対象基板23の表面における異物の
有無検出並びにその大きさの測定を行うことができる。
そして、図３、図５においてそれぞれ仮想線で示すよう
に、検査対象基板23が異物観察位置にあるときは、検出
された異物を顕微鏡５によって拡大して観察確認するこ
とができる。
ば、図１に示すように、検査ステージ14上に載置された
検査対象基板23が異物検査位置にあるときは、一定の偏
向角を有するレーザ光Ｌを光走査ミラー29によって走査
しながら検査対象基板23の表面に照射し、そのときの検
査対象基板23の表面からの反射散乱光Ｒを検出光学系32
に入射させ、この検出光学系32による反射散乱光Ｒの検
出結果に基づいて検査対象基板23の表面における異物の
有無検出並びにその大きさの測定を行うことができる。
そして、図３、図５においてそれぞれ仮想線で示すよう
に、検査対象基板23が異物観察位置にあるときは、検出
された異物を顕微鏡５によって拡大して観察確認するこ
とができる。
【００１５】ところで、検出された異物を拡大観察する
には、検査対象基板23を載置した状態で検査ステージ14
を、顕微鏡５が設けられている異物観察位置に移動させ
ると共に、検査対象基板23上の異物の検出位置に合わせ
て、検査ステージ14を左右方向および前後方向に移動さ
せると共に、検査ステージ14を載置した架台４を上下方
向に移動して、前記異物に焦点を合わせる必要がある。
には、検査対象基板23を載置した状態で検査ステージ14
を、顕微鏡５が設けられている異物観察位置に移動させ
ると共に、検査対象基板23上の異物の検出位置に合わせ
て、検査ステージ14を左右方向および前後方向に移動さ
せると共に、検査ステージ14を載置した架台４を上下方
向に移動して、前記異物に焦点を合わせる必要がある。
【００１６】このため、本考案では、検査ステージ14を
異物観察位置にセットしたときの検査対象基板23上の任
意の３点を選び、それらの３次元的座標、すなわち、Ｘ
方向、Ｙ方向およびＺ方向の位置（縦、横、高さ）に基
づいて検査対象基板23の平面の傾きを求めて、これを装
置の平面傾き定数として記憶する。ここで、縦、横の座
標は、それぞれＹ方向、Ｘ方向への移動量を示し、ま
た、高さとは、顕微鏡５の対物レンズまでの距離であ
る。
異物観察位置にセットしたときの検査対象基板23上の任
意の３点を選び、それらの３次元的座標、すなわち、Ｘ
方向、Ｙ方向およびＺ方向の位置（縦、横、高さ）に基
づいて検査対象基板23の平面の傾きを求めて、これを装
置の平面傾き定数として記憶する。ここで、縦、横の座
標は、それぞれＹ方向、Ｘ方向への移動量を示し、ま
た、高さとは、顕微鏡５の対物レンズまでの距離であ
る。
【００１７】そして、検出された異物を拡大して観察確
認する際、前記平面傾き定数に基づいて、前記各方向に
おいて架台４を移動させるときの移動量に補正を加える
ようにするのである。なお、前記３点は、検査対象基板
23上の広い範囲を選ぶのが好ましく、このようにした場
合、誤差をより小さくすることができる。
認する際、前記平面傾き定数に基づいて、前記各方向に
おいて架台４を移動させるときの移動量に補正を加える
ようにするのである。なお、前記３点は、検査対象基板
23上の広い範囲を選ぶのが好ましく、このようにした場
合、誤差をより小さくすることができる。
【００１８】このように、検査対象基板23の傾きを装置
に予め入力しておくことにより、任意のＸ方向およびＹ
方向のそれぞれにおいて、架台４を正確に移動させるこ
とができ、従って、検査対象基板23上の異物を常に正し
い焦点位置のもとで明確に確認することができる。
に予め入力しておくことにより、任意のＸ方向およびＹ
方向のそれぞれにおいて、架台４を正確に移動させるこ
とができ、従って、検査対象基板23上の異物を常に正し
い焦点位置のもとで明確に確認することができる。
【００１９】
【考案の効果】以上説明したように、本考案によれば、
検査ステージの傾きに起因して検査対象基板が傾いてい
ても、検査対象基板上の異物に対して焦点を常に合わせ
た状態で異物を観察確認することができる。そして、本
考案によれば、高度な光学的手法によって焦点を検出す
る必要がないから、装置の構成や制御が簡単であり、装
置全体を安価に構成できる。
検査ステージの傾きに起因して検査対象基板が傾いてい
ても、検査対象基板上の異物に対して焦点を常に合わせ
た状態で異物を観察確認することができる。そして、本
考案によれば、高度な光学的手法によって焦点を検出す
る必要がないから、装置の構成や制御が簡単であり、装
置全体を安価に構成できる。
【図１】本考案に係る異物検査装置の要部を示す斜視図
である。
である。
【図２】前記異物検査装置における駆動系統を示す斜視
図である。
図である。
【図３】前記異物検査装置におけるＸ方向およびＺ方向
における駆動系統の要部を示す図である。
における駆動系統の要部を示す図である。
【図４】前記異物検査装置におけるＺ方向における駆動
系統の要部を示す図である。
系統の要部を示す図である。
【図５】前記異物検査装置におけるＸ方向およびＹ方向
における駆動系統の要部を示す図である。
における駆動系統の要部を示す図である。
５…顕微鏡、14…検査ステージ、23…検査対象基板、29
…光走査ミラー、32…検出光学系、Ｌ…レーザ光、Ｒ…
反射散乱光。
…光走査ミラー、32…検出光学系、Ｌ…レーザ光、Ｒ…
反射散乱光。
Claims (1)
- 【請求項１】 検査対象基板を載置する検査ステージ
を、異物検査位置と異物観察位置との間を直線的に移動
できるように構成すると共に、異物検査位置において
は、検査対象基板の表面に対して一定の偏向角を有する
レーザ光を光走査ミラーによって走査しながら照射し、
そのときの検査対象基板の表面からの反射散乱光を検出
光学系に入射させ、この検出光学系による反射散乱光の
検出結果に基づいて検査対象基板の表面における異物を
検査すると共に、異物観察位置においては、検出された
異物を顕微鏡によって観察確認するようにした異物検査
装置において、前記異物観察位置における検査ステージ
上に載置された検査対象基板表面上の任意の３点におけ
る３次元的座標に基づいて検査対象基板の平面の傾きを
求めて、これを装置の平面傾き定数として記憶し、検出
された異物を拡大して観察確認する際、前記平面傾き定
数に基づいて、異物に対する顕微鏡の焦点合わせを行う
ようにしたことを特徴とする異物検査装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991067258U JP2523227Y2 (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 異物検査装置 |
| US07/922,057 US5311275A (en) | 1991-07-30 | 1992-07-29 | Apparatus and method for detecting particles on a substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991067258U JP2523227Y2 (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 異物検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0514904U JPH0514904U (ja) | 1993-02-26 |
| JP2523227Y2 true JP2523227Y2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=13339750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1991067258U Expired - Lifetime JP2523227Y2 (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 異物検査装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5311275A (ja) |
| JP (1) | JP2523227Y2 (ja) |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5517027A (en) * | 1993-06-08 | 1996-05-14 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method for detecting and examining slightly irregular surface states, scanning probe microscope therefor, and method for fabricating a semiconductor device or a liquid crystal display device using these |
| JP3258821B2 (ja) * | 1994-06-02 | 2002-02-18 | 三菱電機株式会社 | 微小異物の位置決め方法、分析方法、これに用いる分析装置およびこれを用いた半導体素子もしくは液晶表示素子の製法 |
| JPH09218163A (ja) * | 1996-02-13 | 1997-08-19 | Horiba Ltd | 異物検査装置における信号処理方法 |
| US6586193B2 (en) * | 1996-04-25 | 2003-07-01 | Genicon Sciences Corporation | Analyte assay using particulate labels |
| IL126544A (en) | 1996-04-25 | 2004-08-31 | Genicon Sciences Inc | Test for component detection using detectable particles in diffused light |
| KR100274596B1 (ko) * | 1997-06-05 | 2000-12-15 | 윤종용 | 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법과 이를 이용한 감지장치 및 그 제어방법 |
| US7361472B2 (en) * | 2001-02-23 | 2008-04-22 | Invitrogen Corporation | Methods for providing extended dynamic range in analyte assays |
| US20050141843A1 (en) * | 2003-12-31 | 2005-06-30 | Invitrogen Corporation | Waveguide comprising scattered light detectable particles |
| US20110143378A1 (en) * | 2009-11-12 | 2011-06-16 | CyVek LLC. | Microfluidic method and apparatus for high performance biological assays |
| JP5701894B2 (ja) | 2009-11-23 | 2015-04-15 | サイヴェク・インコーポレイテッド | アッセイを行う方法及び装置 |
| US9500645B2 (en) | 2009-11-23 | 2016-11-22 | Cyvek, Inc. | Micro-tube particles for microfluidic assays and methods of manufacture |
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| WO2013134741A2 (en) | 2012-03-08 | 2013-09-12 | Cyvek, Inc. | Methods and systems for manufacture of microarray assay systems, conducting microfluidic assays, and monitoring and scanning to obtain microfluidic assay results |
| US9759718B2 (en) | 2009-11-23 | 2017-09-12 | Cyvek, Inc. | PDMS membrane-confined nucleic acid and antibody/antigen-functionalized microlength tube capture elements, and systems employing them, and methods of their use |
| US9855735B2 (en) | 2009-11-23 | 2018-01-02 | Cyvek, Inc. | Portable microfluidic assay devices and methods of manufacture and use |
| US9700889B2 (en) | 2009-11-23 | 2017-07-11 | Cyvek, Inc. | Methods and systems for manufacture of microarray assay systems, conducting microfluidic assays, and monitoring and scanning to obtain microfluidic assay results |
| US10065403B2 (en) | 2009-11-23 | 2018-09-04 | Cyvek, Inc. | Microfluidic assay assemblies and methods of manufacture |
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