KR100274596B1 - 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법과 이를 이용한 감지장치 및 그 제어방법 - Google Patents

반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법과 이를 이용한 감지장치 및 그 제어방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법과 이를 이용한 감지장치 및 그 제어방법에 관한 것이다.
본 발명은, 웨이퍼를 스테이지 상의 스테이지 홀더에 안착시켜 노광공정을 수행하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법에 있어서, 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 위치편차를 판단하여 상기 스테이지 홀더 상의 특정위치에 잔류하는 파티클을 감지함을 특징으로 한다.
따라서, 스테이지 홀더 상에 잔류하는 파티클을 감지할 수 있음으로 인해 상기 파티클로 인한 불량을 방지하여 제품의 수율이 향상되는 효과가 있다.

Description

반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법과 이를 이용한 감지장치 및 그 제어방법
본 발명은 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법과 이를 이용한 감지장치 및 그 제어방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼(Wafer)가 안착되는 스테이지 홀더(Stage Holder) 상에 잔류하는 파티클(Particle)을 감지하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법과 이를 이용한 감지장치 및 그 제어방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체장치의 제조에서는 설계 패턴(Pattern)을 웨이퍼 상에 전사시키기 위하여 주로 사진식각공정을 이용한다.
이러한 사진식각공정에서는 1 : 1 방식으로 상기 설계 패턴을 웨이퍼 상에 전사시키는 마스크(Mask) 또는 광학렌즈(Optical Lens)를 이용하여 상기 설계 패턴을 일정한 배율로 축소하여 웨이퍼 상에 전사하는 레티클(Reticle) 등을 이용한 노광공정을 수행한다.
여기서 상기 레티클을 이용한 노광공정에서는 상기 웨이퍼가 안착되는 스테이지 홀더 및 모터(Motor)의 작동에 의해서 상기 스테이지 홀더를 구동시키는 스테이지가 구비되는 노광설비를 주로 이용한다.
즉, 상기 스테이지 홀더 상에 상기 웨이퍼를 안착시킨 후, 상기 스테이지를 이용하여 정렬을 수행하고, 광을 발광하는 조명부 및 축소투영렌즈를 이용하여 레티클의 설계 패턴을 상기 웨이퍼 상에 전사시키는 노광공정을 수행하였다.
그리고 상기 노광공정은 단일 웨이퍼에 대하여 반복적으로 수행되는 것이 일반적이다.
그러나 종래에는 상기 스테이지 홀더 상에 파티클이 잔류한 상태에서 노광공정을 수행하는 경우가 빈번하게 발생하였다.
즉, 종래에는 상기 스테이지 홀더 상에 잔류하는 파티클을 감지하지 못하였다.
이에 따라 반복적으로 이루어지는 노광공정 수행시 상기 스테이지 홀더 상에 잔류하는 파티클에 의하여 불량이 대량으로 유발되었다.
즉, 종래에는 스테이지 홀더 상에 잔류하는 파티클을 감지하지 못하였기 때문에 상기 파티클이 잔류하는 상태에서 노광공정을 수행하였고, 이로 인해 대량 불량 상태를 유발시켰다.
따라서 종래에는 스테이지 홀더 상에 잔류하는 파티클로 인하여 대량 불량이 발생함으로써 제품의 수율이 저하되는 문제점이 있었다.
본 발명의 목적은, 스테이지 홀더 상에 잔류하는 파티클의 감지로 이로 인한 불량을 제거하여 제품의 수율을 향상시키기 위한 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법과 이를 이용한 감지장치 및 그 제어방법을 제공하는 데 있다.
도1은 반도체장치 제조용 노광설비를 나타내는 구성도이다.
도2는 도1의 노광설비를 이용한 공정수행의 경로를 나타내는 도면이다.
도3은 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 일 실시예를 나타내는 구성도이다.
도4는 도3을 이용한 파티클 감지방법의 실시예를 나타내는 도면이다.
도5는 도3의 파티클 감지에 의한 파형을 나타내는 그래프이다.
도6은 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법의 일 실시예를 나타내는 순서도이다.
도7은 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지에 의한 제어방법의 일 실시예를 나타내는 순서도이다.
도8은 도6에 따른 파티클 감지를 웨이퍼의 맵 상에 나타내는 도면이다.
※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 : 웨이퍼 12 : 스테이지 홀더
14 : 스테이지 16 : 조명부
18 : 레티클 20 : 축소투영렌즈
30 : 판단부 32 : 입력부
34 : 출력부 36 : 에러표시부
38 : 경보부 40 : 노광설비
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법은, 웨이퍼를 스테이지 상의 스테이지 홀더에 안착시켜 노광공정을 수행하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법에 있어서, 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 위치편차를 판단하여 상기 스테이지 홀더 상의 특정위치에 잔류하는 파티클을 감지함을 특징으로 한다.
상기 위치편차의 판단은 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 Z축에 대한 신호 또는 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 거리차에 대한 신호로 판단하는 것이 바람직하다.
상기 위치편차에 대한 판단신호는 전압신호로 표현되는 것이 바람직하다.
상기 위치편차에 대한 판단신호는 상기 노광설비의 셔터가 오픈되는 시점에서 검출하는 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법은, 웨이퍼를 스테이지 상의 스테이지 홀더에 안착시켜 노광공정을 수행하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법에 있어서, (1) 상기 웨이퍼를 스테이지 홀더 상에 안착시켜 정렬공정을 수행하는 S2단계; (2) 상기 (1)의 S2단계의 정렬공정수행시 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 위치편차를 판단하는 S4단계; 및 (3) 상기 (2)의 S4단계에 의한 상기 스테이지 홀더 상의 특정위치의 위치편차의 에러를 카운팅하는 S6단계를 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다.
상기 (3)의 S6단계에 의한 카운팅을 표시하는 S8단계를 더 구비하는 것이 바람직하다.
상기 (2)의 S4단계에 의한 위치편차의 판단은 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 Z축에 대한 신호 또는 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 거리차에 대한 신호로 판단하는 것이 바람직하다.
상기 (3)의 S6단계에 의한 카운팅은 누산되는 것이 바람직하다.
상기 카운팅의 표시는 상기 스테이지 홀더 상에 안착되는 웨이퍼로 표현되는 웨이퍼 맵 상에 표시하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치는, 웨이퍼를 스테이지 상의 스테이지 홀더에 안착시켜 노광공정을 수행하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치에 있어서, 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 상기 스테이지 홀더 상의 특정위치의 위치편차를 판단하는 판단수단을 구비함을 특징으로 한다.
상기 판단수단은 상기 위치편차를 아날로그 신호로 입력시키는 입력수단 및 상기 위치편차를 디지털 신호로 출력시키는 출력수단을 더 구비하는 것이 바람직하다.
상기 판단수단에 의한 위치편차의 에러를 표시하는 에러표시수단이 더 구비되고, 상기 출력수단에 연결시키는 것이 바람직하다.
상기 판단수단에 의한 위치편차의 에러를 경보하는 경보수단을 더 구비하고, 상기 에러표시수단에 연결시키는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법은, 웨이퍼를 스테이지 상의 스테이지 홀더에 안착시켜 노광공정을 수행하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법에 있어서, (1) 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 상기 스테이지 홀더 상의 특정위치의 위치편차의 신호를 입력시키는 S2단계; (2) 상기 (1)의 S2단계에 의한 위치편차의 신호를 입력받아 판단하는 S4단계; 및 (3) 상기 S4단계에 의한 위치편차의 판단을 출력시키는 출력단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 한다.
상기 (3)의 S6단계의 출력에 의한 상기 위치편차의 에러를 표시하는 S8단계 및 상기 (3)의 S6단계의 출력에 의한 상기 위치편차의 에러를 경보하는 S10단계를 더 구비하는 것이 바람직하다.
상기 (1)의 S2단계에 의한 위치편차의 신호의 입력은 아날로그 신호로 입력되고, 상기 (3)의 S6단계에 의한 위치편차의 신호의 출력은 디지털 신호로 출력시키는 것이 바람직하다.
상기 (2)의 S4단계에 의한 위치편차의 판단은 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 Z축에 대한 신호로 판단하거나, 또는 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 거리차에 대한 신호로 판단하는 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치는, 웨이퍼를 스테이지 상의 스테이지 홀더에 안착시켜 노광공정을 수행하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치에 있어서, 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 상기 스테이지 홀더 상의 특정위치의 위치편차를 판단하는 판단수단이 상기 노광설비에 연결시켜 구비됨을 특징으로 한다.
상기 판단수단은 적어도 2대이상의 노광설비에 연결시켜 구비하는 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법은, 웨이퍼를 스테이지 상의 스테이지 홀더에 안착시켜 노광공정을 수행하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법에 있어서, (1) 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 상기 스테이지 홀더 상의 특정위치의 위치편차를 판단하여 상기 위치편차에 대한 에러를 카운팅하는 S2단계; (2) 상기 (1)의 S2단계에 의한 카운팅이 설정치 이상인가를 판단하는 S4단계; (3) 상기 (2)의 S4단계의 판단에 의한 에러의 메시지를 표시하는 S6단계; 및 (4) 상기 (3)의 S6단계에 대한 에러의 메시지가 표시되는 노광설비를 인터로크시키는 S8단계를 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다.
상기 (1)의 S2단계의 위치편차의 판단은 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 Z축에 대한 신호로 판단하거나, 또는 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 거리차에 대한 신호로 판단하는 것이 바람직하다.
상기 (2)의 S4단계의 설정치는 적어도 2회이상인 것이 바람직하다.
상기 (3)의 S6단계의 에러의 메시지의 표시는 디스플레이수단에 디스플레이되거나, 또는 경보부에 의한 경보로 표시되는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도1은 반도체장치 제조용 노광설비를 나타내는 구성도이고, 도2는 도1의 노광설비를 이용한 공정수행의 경로를 나타내는 도면이며, 도3은 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 일 실시예를 나타내는 구성도이고, 도4는 도3을 이용한 파티클 감지방법의 실시예를 나타내는 도면이며, 도5는 도3의 파티클 감지에 의한 파형을 나타내는 그래프이고, 도6은 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법의 일 실시예를 나타내는 순서도이며, 도7은 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지에 의한 제어방법의 일 실시예를 나타내는 순서도이고, 도8은 도6에 따른 파티클 감지를 웨이퍼의 맵 상에 나타내는 도면이다.
먼저, 도1은 노광공정을 수행하는 노광설비로서, 웨이퍼(10)가 안착되는 스테이지 홀더(12) 및 모터의 작동에 의해서 상기 스테이지 홀더(12)를 구동시키는 스테이지(14)가 구비되어 있고, 상기 웨이퍼(10) 상에 설계 패턴을 전사시키기 위하여 광을 발광시키는 조명부(16), 상기 설계 패턴이 형성되는 레티클(18) 및 상기 레티클의 설계 패턴을 축소투영시키기 위하여 광학렌즈로 이루어지는 축소투영렌즈(20)가 구비되어 있다.
그리고 도3은 상기 스테이지 홀더(12)의 상하구동에 의한 상기 스테이지 홀더(12)의 특정위치의 위치편차를 판단하는 판단부(30)로서, 상기 스테이지 홀더(12)의 상하구동에 의한 위치편차의 신호의 입력을 아날로그 신호(Analog Signal)로 입력시키는 입력부(32) 및 상기 위치편차를 디지털 신호(Digital Signal)로 출력시키는 출력부(34)가 구비되어 있다.
그리고 상기 판단부(30)에 의한 위치편차의 판단으로 인한 이상유무 즉, 에러를 표시하는 에러표시부(36)가 구비되어 있고, 또한 상기 위치편차의 판단으로 인한 에러의 경보를 알리는 경보부(38)가 구비되어 있다.
본 발명에서는 상기 에러표시부(36)를 상기 출력부(34)에 연결시키고, 상기 경보부(38)를 상기 에러표시부(36)에 연결시킨다.
그리고 본 발명의 판단부(30)는 적어도 2대 이상의 노광설비(40)에 연결시킬 수 있고, 실시예에서는 6대의 노광설비(40)에 연결시킨다.
또한 도4는 파티클이 잔류하는 스테이지 홀더(12) 상에 웨이퍼(10)가 안착된 상태로써, 상기 스테이지 홀더(12)의 상하구동시 상기 파티클이 잔류하는 스테이지 홀더(12) 상의 해당 영역 즉, 특정위치의 위치편차(t1)가 상기 파티클이 잔류하지 않는 스테이지 홀더(12) 상의 해당 영역의 위치편차(t)보다 더 큰 상태를 나타낸다.
이러한 위치편차는 상하구동의 거리차이로 판단할 수 있고, 또한 상기 스테이지 홀더(12) 상에 안착되는 웨이퍼(10)의 상하 정렬을 수행하는 발,수광센서(도시되지 않음) 등의 반사각(θ)으로 판단할 수 있다.
그리고 도6은 상기 스테이지 홀더(12)의 상하구동에 의한 위치편차를 이용하여 상기 스테이지 홀더(12) 상에 잔류하는 파티클을 감지하는 방법으로써, 먼저 상기 웨이퍼(10)를 스테이지 홀더(12)에 안착시킨 후, 정렬을 수행하고, 상기 정렬수행중 상기 스테이지 홀더(12)의 상하 구동에 의한 위치편차를 판단하여 상기 위치편차의 에러를 카운팅한 후, 상기 카운팅되는 에러를 누산하여 상기 웨이퍼(10)의 해당위치를 표시하는 공정을 수행하는 상태를 나타내고, 상기한 공정의 수행으로서 상기 스테이지 홀더(12) 상에 잔류하는 파티클을 감지할 수 있다.
여기서 본 발명의 상기 웨이퍼(10)의 해당위치의 표시는 상기 웨이퍼(10) 로 표현되는 웨이퍼맵(Wafer Map) 상에 표시한다.
그리고 도7은 스테이지 홀더(12) 상에 잔류하는 파티클 감지에 의한 제어방법으로서, 먼저 스테이지 홀더(12)에 안착되는 웨이퍼(10)의 정렬수행시 상기 스테이지 홀더(12)의 상하구동에 의한 위치편차를 이용하여 정렬 에러를 카운팅한 후, 상기 정렬 에러의 카운팅이 설정치 이상인가를 판단하여 에러 상황을 표시하고, 상기 에러 상황이 표시되는 해당 노광설비(40)를 인터로크(Interlock)시키는 공정을 수행하는 상태를 나타낸다.
여기서 본 발명은 상기 정렬 에러의 설정치를 적어도 2회 이상으로 설정할 수 있고, 실시예에서는 3회 이상으로 상기 설정치를 설정한다.
전술한 구성으로 이루어지는 본 발명에 따른 구체적인 실시예에 대한 작용 및 효과에 대하여 설명한다.
실시예에서는 상기 판단부(30)에 6대의 노광설비(40)를 연결시키고, 상기 스테이지 홀더(12)의 상하 구동의 위치편차에 의한 정렬 에러의 설정치는 3회 이상으로 설정한다.
먼저, 웨이퍼(10)를 스테이지 홀더(12) 상에 안착시킨 후, 노광을 위한 정렬을 수행한다.
여기서 상기 정렬은 상기 웨이퍼(10)가 안착된 스테이지 홀더(12)를 구동시키는 스테이지(14)를 좌우 즉, X축 및 Y축으로 구동시키고, 또한 상기 스테이지(14)를 상하 즉, Z축으로 구동시켜 정렬을 수행한다.
그리고 도2 및 도6에 도시된 바와 같이 상기 정렬 상태가 이상이 없으면 계속하여 노광공정을 수행하고, 상기 웨이퍼(10)의 해당 수행 영역으로 이동하여 반복, 수행한다.
여기서 상기 정렬공정의 수행은 X축을 따라 계속해서 진행하는 것이 일반적이다.
즉, 스테이지 홀더(12)의 좌우 정렬상태인 X축 및 Y축의 정렬시 도2에 도시된 바와 같이 Y축의 정렬은 한 번 수행되면 다음의 Y축 정렬 수행까지는 Y축 정렬을 수행하지 않아도 가능하다.
그리고 상기 정렬 수행시 도4에 도시된 바와 같이 상기 스테이지 홀더(12)의 상하구동으로 위치편차가 발생하면 상기 스테이지 홀더(12) 상에는 파티클이 잔류하는 것으로 판단한다.
여기서 상기 위치편차는 상기 스테이지 홀더(12) 상에 안착되는 웨이퍼(10)의 상하의 정렬을 수행하는 발,수광센서(도시되지 않음) 등의 반사각으로 판단한다.
이러한 위치편차의 신호가 상기 입력부(32)에 의해 아날로그 신호로 판단부(30)에 입력된다.
즉, 도5를 참조하면 상기 아날로그 신호의 입력에 의해 상기 판단부(30)는 전압신호로써 판단을 수행하고, 상기 전압차가 적어도 200mV 이상이면 정렬이 불량인 상태로 간주하고, 상기 스테이지 홀더에 파티클이 잔류하는 것으로 판단한다.
다시 말해 위치편차의 신호인 Z축에 대한 신호는 정렬을 위하여 상기 스테이지(14)가 이동하여 상기 노광설비(40)의 셔터(Shutter)가 오픈(Open)되기 직전에 상기 웨이퍼(10)의 경사도를 조정하는 작업을 수행할 때 상기 경사도에 따른 저항값의 변화를 전압값으로 변환시켜 상기 전압값의 차이로써 파티클을 감지하는 것이다.
여기서 상기 전압차는 작업자가 임의로 설정할 수 있고, 도5에 도시된 바와 같이 상기 노광설비(40)의 셔터가 오픈되는 시점을 기준으로 하여 상기 전압차를 판단한다.
그리고 상기 스테이지 홀더(12)의 상하구동의 판단으로 인한 위치편차의 이상이 있으면 상기 판단부(30)는 상기 디지털 신호를 출력하는 출력부(34)에 입력시키고, 상기 출력부(34)는 상기 에러표시부(36)를 이용하여 에러 상황을 카운팅하고, 상기 웨이퍼(10) 상의 해당 위치에 카운팅을 누산하여 표시한다.
즉, 도8과 같이 웨이퍼(10) 상의 해당 영역을 나타내는 웨이퍼맵 상에 상기 카운팅을 누산하여 표시한다.
이러한 누산되는 카운팅 횟수가 3회이상이면 상기 판단부(30)는 출력부(34)에 구비된 경보부(38)를 통하여 작업자에게 경보를 알리고, 해당 노광설비(40)를 인터로크시킨다.
또한 상기 웨이퍼맵 상에는 특정 색상으로 표시할 수 있다.
이러한 구성으로 이루어지는 본 발명은 상기 웨이퍼(10)가 안착되는 스테이지 홀더(12)의 Z축 구동 즉, 상하구동에 의한 위치편차의 판단으로써, 상기 스테이지 홀더(12) 상의 특정위치에 잔류하는 파티클을 감지할 수 있다.
이에 따라 상기 스테이지 홀더(12) 상에 잔류하는 파티클로 인한 노광공정의 불량을 방지할 수 있다.
즉, 상기 파티클로 인해 대량으로 발생되던 불량을 미연에 방지할 수 있다.
또한 상기 웨이퍼(10)의 해당 영역을 웨이퍼의 맵 상에 표시함으로써 상기 스테이지 홀더(12) 상에 잔류하는 파티클의 정확한 위치를 판단할 수 있다.
그리고 상기 파티클의 잔류시 작업자에게 즉각적으로 경보를 알리고, 해당 노광설비(40)를 인터로크시킴으로써 신속한 조치를 취할 수 있다.
따라서, 본 발명에 의하면 스테이지 홀더 상에 잔류하는 파티클을 감지할 수 있음으로 인해 상기 파티클로 인한 불량을 방지하여 제품의 수율이 향상되는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (32)

  1. 웨이퍼(Wafer)를 스테이지(Stage) 상의 스테이지 홀더(Stage Holder)에 안착시켜 노광공정을 수행하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법에 있어서,
    상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 위치편차를 판단하여 상기 스테이지 홀더 상의 특정위치에 잔류하는 파티클(Particle)을 감지함을 특징으로 하는 반도체장치 제조용 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 위치편차의 판단은 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 Z축에 대한 신호로 판단함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 위치편차의 판단은 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 거리차에 대한 신호로 판단함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법.
  4. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 위치편차에 대한 판단신호는 전압신호로 표현됨을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법.
  5. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 위치편차에 대한 판단신호는 상기 노광설비의 셔터(Shutter)가 오픈(Open)되는 시점에서 검출함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법.
  6. 웨이퍼를 스테이지 상의 스테이지 홀더에 안착시켜 노광공정을 수행하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법에 있어서,
    (1) 상기 웨이퍼를 스테이지 홀더 상에 안착시켜 정렬공정을 수행하는 S2단계;
    (2) 상기 (1)의 S2단계의 정렬공정수행시 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 위치편차를 판단하는 S4단계; 및
    (3) 상기 (2)의 S4단계에 의한 상기 스테이지 홀더 상의 특정위치의 위치편차의 에러(Error)를 카운팅(Counting)하는 S6단계;
    를 구비하여 이루어짐을 특징으로 하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 (3)의 S6단계에 의한 카운팅을 표시하는 S8단계;
    를 더 구비함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 (2)의 S4단계에 의한 위치편차의 판단은 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 Z축에 대한 신호로 판단함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 (2)의 S4단계에 의한 위치편차의 판단은 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 거리차에 대한 신호로 판단함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법.
  10. 제 6 항에 있어서,
    상기 (3)의 S6단계에 의한 카운팅은 누산함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법.
  11. 제 7 항에 있어서,
    상기 카운팅의 표시는 상기 스테이지 홀더 상에 안착되는 웨이퍼로 표현되는 웨이퍼맵 상에 표시함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법.
  12. 웨이퍼를 스테이지 상의 스테이지 홀더에 안착시켜 노광공정을 수행하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치에 있어서,
    상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 상기 스테이지 홀더 상의 특정위치의 위치편차를 판단하는 판단수단을 구비함을 특징으로 하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 판단수단은 상기 위치편차를 아날로그신호(Analog Signal)로 입력시키는 입력수단 및 상기 위치편차를 디지털신호(Digital Signal)로 출력시키는 출력수단을 더 구비함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 판단수단에 의한 위치편차의 에러를 표시하는 에러표시수단이 더 구비됨을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 에러표시수단은 상기 출력수단에 연결시켜 구비함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치.
  16. 제 12 항에 있어서,
    상기 판단수단에 의한 위치편차의 에러를 경보하는 경보수단을 더 구비함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 경보수단은 상기 에러표시수단에 연결시켜 구비함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치.
  18. 웨이퍼를 스테이지 상의 스테이지 홀더에 안착시켜 노광공정을 수행하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법에 있어서,
    (1) 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 상기 스테이지 홀더 상의 특정위치의 위치편차의 신호를 입력시키는 S2단계;
    (2) 상기 (1)의 S2단계에 의한 위치편차의 신호를 입력받아 판단하는 S4단계; 및
    (3) 상기 S4단계에 의한 위치편차의 판단을 출력시키는 출력단계;
    를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 (3)의 S6단계의 출력에 의한 상기 위치편차의 에러를 표시하는 S8단계를 더 구비함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법.
  20. 제 18 항에 있어서,
    상기 (3)의 S6단계의 출력에 의한 상기 위치편차의 에러를 경보하는 S10단계를 더 구비함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법.
  21. 제 18 항에 있어서,
    상기 (1)의 S2단계에 의한 위치편차의 신호의 입력은 아날로그 신호로 입력됨을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법.
  22. 제 18 항에 있어서,
    상기 (2)의 S4단계에 의한 위치편차의 판단은 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 Z축에 대한 신호로 판단함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법.
  23. 제 18 항에 있어서,
    상기 (2)의 S4단계에 의한 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 거리차에 대한 신호로 판단함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법.
  24. 제 18 항에 있어서,
    상기 (3)의 S6단계에 의한 위치편차의 신호의 출력은 디지털 신호로 출력됨을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법.
  25. 웨이퍼를 스테이지 상의 스테이지 홀더에 안착시켜 노광공정을 수행하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치에 있어서,
    상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 상기 스테이지 홀더 상의 특정위치의 위치편차를 판단하는 판단수단이 상기 노광설비에 연결시켜 구비됨을 특징으로 하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치.
  26. 제 25 항에 있어서,
    상기 판단수단은 적어도 2대이상의 노광설비에 연결시켜 구비함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이 홀더 상의 파티클 감지장치.
  27. 웨이퍼를 스테이지 상의 스테이지 홀더에 안착시켜 노광공정을 수행하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법에 있어서,
    (1) 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 상기 스테이지 홀더 상의 특정위치의 위치편차를 판단하여 상기 위치편차에 대한 에러를 카운팅하는 S2단계;
    (2) 상기 (1)의 S2단계에 의한 카운팅이 설정치 이상인가를 판단하는 S4단계;
    (3) 상기 (2)의 S4단계의 판단에 의한 에러의 메시지(Massage)를 표시하는 S6단계; 및
    (4) 상기 (3)의 S6단계에 대한 에러의 메시지가 표시되는 노광설비를 인터로크(Interlock)시키는 S8단계;
    를 구비하여 이루어짐을 특징으로 하는 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법.
  28. 제 27 항에 있어서,
    상기 (1)의 S2단계의 위치편차의 판단은 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 Z축에 대한 신호로 판단함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법.
  29. 제 28 항에 있어서,
    상기 (1)의 S2단계의 위치편차의 판단은 상기 스테이지 홀더의 상하구동에 의한 거리차에 대한 신호로 판단함을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 스테이지 홀더 상의 파티클 감지방법.
  30. 제 27 항에 있어서,
    상기 (2)의 S4단계의 설정치는 적어도 2회이상임을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법.
  31. 제 27 항에 있어서,
    상기 (3)의 S6단계의 에러의 메시지의 표시는 디스플레이수단에 의해 디스플레이됨을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법.
  32. 제 27 항에 있어서,
    상기 (3)의 S6단계의 에러의 메시지의 표시는 경보부에 의해 경보시킴을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 노광설비의 스테이지 홀더 상의 파티클 감지장치의 제어방법.
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