JP2006010544A - 異物検査装置および異物検査方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】検査対象基板1の外周縁1b,1cの異なる複数箇所の位置を、ステージStを基準とするステージ座標系(X,Y)において検知する非接触型の位置検知手段11と、検知された外周縁1b,1cの各位置から検査対象基板1を基準とする基板座標系(x,y)を作成し、検査対象基板1上の各点の位置をステージ座標系から基板座標系に変換するための座標変換定数を求める変換定数算出手段Paと、検査対象基板1にレーザ光Lを照射する光源部2と、このレーザ光Lの照射に伴って生じる反射散乱光Rを検出する検出部7と、前記反射散乱光Rを分析することにより検査対象基板1上の表面にある異物のステージ座標系における位置(Xa1 ,Ya1 )…を検出し、前記座標変換定数を用いて基板座標系における異物の位置(xa1 ,ya1 )…を演算する異物位置検出手段Pbとを有する。
【選択図】 図1
Description
X4 =(εX1 −Y1 +X3 /ε+Y3 )×ε/(ε2 +1) … (1)
Y4 =(X4 −X1 )×ε+Y1 … (2)
但し、ε=(Y2 −Y1 )/(X2 −X1 )とする
X5 =X4 −Φ×α/ξ … (3)
Y5 =Y4 −Ψ×α/ξ … (4)
但し、Ψ=X2 −X1 、Φ=Y2 −Y1 、ξ=√(Ψ2 +Φ2 )とする
X’=Xa−X5 … (5)
Y’=Ya−Y5 … (6)
X''=X’cos θ−Y’sin θ … (7)
Y''=X’sin θ+Y’cos θ … (8)
xa=−α×X''/Px2 … (9)
ya=α×Y''/Py2 … (10)
但し、θ= tan-1(−α/α)− tan-1〔(Y4 −Y5 )/(X4 −X5 )〕、
Px2=(X4 −X5 )cos θ−(Y4 −Y5 )sin θ、
Py2=(X4 −X5 )sin θ+(Y4 −Y5 )cos θ とする。
1a 角
1b 角を挟む一方の辺
1c 角を挟む他方の辺
2 光源部
7 検出部
11 位置検知手段(光電センサ)
A1 ,A2 … 異物
(Xa1 ,Ya1 )… 異物のステージ座標系における位置
(xa1 ,xa1 )… 異物の基板座標系における位置
D1 〜D3 辺上の点(外周縁上の点)
(X1 ,Y1 )〜(X3 ,Y3 ) 各点のステージ座標系における位置
Da 異物のステージ座標系における位置データ
Db 異物の基板座標系における位置データ
L レーザ光
R 反射散乱光
Pa 変換定数算出手段
Pb 異物位置検出手段
D5 中心(基準点)
(X5 ,Y5 ) 基準点のステージ座標系における位置
O 基準点
(X,Y) ステージ座標系
(x,y) 基板座標系
θ 傾き
Claims (8)
- 検査対象基板が載置された状態で水平方向に移動可能に構成されたステージと、検査対象基板の外周縁の異なる複数箇所の位置を、ステージを基準とする座標系において検知する非接触型の位置検知手段と、
位置検知手段によって検知された外周縁の各位置から検査対象基板を基準とする座標系を作成し、検査対象基板上の各点の位置をステージを基準とする座標系から検査対象基板を基準とする座標系に変換するための座標変換定数を求める変換定数算出手段と、
検査対象基板にレーザ光を照射する光源部と、
このレーザ光の照射に伴って検査対象基板で生じる反射散乱光を検出する検出部と、
前記反射散乱光を分析することにより検査対象基板上の表面にある異物のステージを基準とする座標系における位置を検出し、前記座標変換定数を用いて検査対象基板を基準とする座標系における異物の位置を演算する異物位置検出手段とを有することを特徴とする異物検査装置。 - 矩形の検査対象基板に対し、
前記位置検知手段が直角な角を挟む一方の辺上の異なる2点と、前記2点を通る辺に直交する他方の辺上の1点をそれぞれ検知することにより、
前記変換定数算出手段が、前記一方の辺上の2点の位置から検査対象基板の傾きを求めると共に、この一方の辺上の2点の位置と前記他方の辺上の1点の位置とから検査対象基板の基準点のステージを基準とする座標系における位置を求め、この基準点の位置と傾きを前記座標変換定数とする演算処理部を有する請求項1に記載の異物検査装置。 - 前記位置検知手段がそれぞれ前記検査対象基板の外周縁の異なる3箇所に対応してそれぞれ固定的に配置された3個のセンサを有し、
ステージ上に載置された検査対象基板を前記水平方向に移動させてその位置を変えながら前記センサが外周縁を検出することができるステージの位置を基に検査対象基板のステージを基準とする座標系における位置を求めるものである請求項1または2に記載の異物検査装置。 - 前記センサが光反射型または光透過型の光電センサである請求項3に記載の異物検査装置。
- 検査対象基板の外周縁の異なる複数箇所の位置を、ステージを基準とする座標系において検知し、
検知された外周縁の各位置から検査対象基板を基準とする座標系を作成し、検査対象基板上の各点の位置をステージを基準とする座標系から検査対象基板を基準とする座標系に変換するための座標変換定数を求める一方、
検査対象基板にレーザ光を照射し、
このレーザ光の照射に伴って検査対象基板で生じる反射散乱光を検出して、
前記反射散乱光を分析することにより検査対象基板上の表面にある異物のステージを基準とする座標系における位置を検出し、
前記座標変換定数を用いて異物の検査対象基板を基準とする座標系における位置を演算することを特徴とする異物検査方法。 - 検査対象基板が矩形であり、
直角な角を挟む一方の辺上の異なる2点と、前記2点を通る辺に直交する他方の辺上の1点をそれぞれ検知することにより、
前記一方の辺上の2点の位置から検査対象基板の傾きを求めると共に、この一方の辺上の2点の位置と前記他方の辺上の1点の位置とから検査対象基板の基準点の位置を求め、この基準点の位置と傾きを前記座標変換定数とする請求項5に記載の異物検査方法。 - 前記検査対象基板の外周縁の異なる3箇所に対応して固定的に配置された3個のセンサを用いて、
検査対象基板をステージ上に載置させた状態でこのステージを水平方向に移動させながら前記センサが外周縁を検出することができるステージの位置を基に検査対象基板のステージを基準とする座標系における位置を求めるものである請求項5または6に記載の異物検査方法。 - 前記検査対象基板の外周縁の位置を光反射型または光透過型のセンサを用いて検出する請求項5〜7の何れかに記載の異物検査方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102010010106A1 (de) | 2009-03-11 | 2010-10-28 | Horiba Ltd. | Vorrichtung zur Prüfung und Entfernung von Partikeln und Programm zur Prüfung und Entfernung von Partikeln |
JP2012221594A (ja) * | 2011-04-04 | 2012-11-12 | Shimadzu Corp | アレイ検査装置およびアレイ検査方法 |
CN107199139A (zh) * | 2017-05-25 | 2017-09-26 | 昆山国显光电有限公司 | 涂布装置及检测基板上异物的方法 |
CN110270555A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-09-24 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 涂布平台自动清洁装置 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0384441A (ja) * | 1989-08-29 | 1991-04-10 | Fujitsu Ltd | レチクルの検査方法 |
JPH03213244A (ja) * | 1990-01-19 | 1991-09-18 | Komatsu Ltd | 平板ワーク加工機械の位置決め装置 |
JPH06162987A (ja) * | 1992-11-18 | 1994-06-10 | Hitachi Ltd | 試料処理装置 |
JPH0727509A (ja) * | 1993-07-12 | 1995-01-27 | Hitachi Ltd | 異物検査方法及び異物増減判定方法 |
JPH07260701A (ja) * | 1994-03-23 | 1995-10-13 | Sekisui Chem Co Ltd | 検査範囲認識方法 |
JPH08220007A (ja) * | 1995-02-14 | 1996-08-30 | Mitsubishi Electric Corp | 微小異物の分析方法、分析装置およびこれらを用いる半導体素子もしくは液晶表示素子の製法 |
JPH08220006A (ja) * | 1995-02-14 | 1996-08-30 | Mitsubishi Electric Corp | 微小異物の分析方法、分析装置およびこれらを用いる半導体素子もしくは液晶表示素子の製法 |
JPH0990308A (ja) * | 1995-09-26 | 1997-04-04 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 矩形基板の位置決め装置 |
WO1998001903A1 (fr) * | 1996-07-09 | 1998-01-15 | Hitachi, Ltd. | Procede de fabrication d'un composant de circuit integre a semi-conducteur |
JP2002039959A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-06 | Hitachi Ltd | 欠陥検査方法および欠陥検査システム |
JP2002243653A (ja) * | 2001-12-11 | 2002-08-28 | Mitsubishi Electric Corp | 微小異物検出方法及びその検出装置 |
-
2004
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Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0384441A (ja) * | 1989-08-29 | 1991-04-10 | Fujitsu Ltd | レチクルの検査方法 |
JPH03213244A (ja) * | 1990-01-19 | 1991-09-18 | Komatsu Ltd | 平板ワーク加工機械の位置決め装置 |
JPH06162987A (ja) * | 1992-11-18 | 1994-06-10 | Hitachi Ltd | 試料処理装置 |
JPH0727509A (ja) * | 1993-07-12 | 1995-01-27 | Hitachi Ltd | 異物検査方法及び異物増減判定方法 |
JPH07260701A (ja) * | 1994-03-23 | 1995-10-13 | Sekisui Chem Co Ltd | 検査範囲認識方法 |
JPH08220007A (ja) * | 1995-02-14 | 1996-08-30 | Mitsubishi Electric Corp | 微小異物の分析方法、分析装置およびこれらを用いる半導体素子もしくは液晶表示素子の製法 |
JPH08220006A (ja) * | 1995-02-14 | 1996-08-30 | Mitsubishi Electric Corp | 微小異物の分析方法、分析装置およびこれらを用いる半導体素子もしくは液晶表示素子の製法 |
JPH0990308A (ja) * | 1995-09-26 | 1997-04-04 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 矩形基板の位置決め装置 |
WO1998001903A1 (fr) * | 1996-07-09 | 1998-01-15 | Hitachi, Ltd. | Procede de fabrication d'un composant de circuit integre a semi-conducteur |
JP2002039959A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-06 | Hitachi Ltd | 欠陥検査方法および欠陥検査システム |
JP2002243653A (ja) * | 2001-12-11 | 2002-08-28 | Mitsubishi Electric Corp | 微小異物検出方法及びその検出装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102010010106A1 (de) | 2009-03-11 | 2010-10-28 | Horiba Ltd. | Vorrichtung zur Prüfung und Entfernung von Partikeln und Programm zur Prüfung und Entfernung von Partikeln |
US8279432B2 (en) | 2009-03-11 | 2012-10-02 | Horiba, Ltd. | Particle inspection and removal apparatus and particle inspection and removal program |
JP2012221594A (ja) * | 2011-04-04 | 2012-11-12 | Shimadzu Corp | アレイ検査装置およびアレイ検査方法 |
CN107199139A (zh) * | 2017-05-25 | 2017-09-26 | 昆山国显光电有限公司 | 涂布装置及检测基板上异物的方法 |
CN110270555A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-09-24 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 涂布平台自动清洁装置 |
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