JPH0990308A - 矩形基板の位置決め装置 - Google Patents
矩形基板の位置決め装置Info
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- JPH0990308A JPH0990308A JP27202495A JP27202495A JPH0990308A JP H0990308 A JPH0990308 A JP H0990308A JP 27202495 A JP27202495 A JP 27202495A JP 27202495 A JP27202495 A JP 27202495A JP H0990308 A JPH0990308 A JP H0990308A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
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- G03F9/7011—Pre-exposure scan; original with original holder alignment; Prealignment, i.e. workpiece with workpiece holder
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】非接触でＬＣＤパネル等の矩形基板の位置決め
ができる矩形基板の位置決め装置を提供することにあ
る。 【解決手段】光学的なエッジセンサを基板の一辺に対応
するこの辺が位置決めされるべき基準位置に配置し、２
つのエッジセンサを基板の他の一辺に対応するこの他の
辺が位置決めされるべき基準位置に配置するようにして
いるので、ＸＹθステージを介した基板の相対的な移動
により各エッジセンサがある基準位置までの３点の移動
量を得ることができ、これにより回転角とＸ方向，Ｙ方
向の補正量を得ることができる。
ができる矩形基板の位置決め装置を提供することにあ
る。 【解決手段】光学的なエッジセンサを基板の一辺に対応
するこの辺が位置決めされるべき基準位置に配置し、２
つのエッジセンサを基板の他の一辺に対応するこの他の
辺が位置決めされるべき基準位置に配置するようにして
いるので、ＸＹθステージを介した基板の相対的な移動
により各エッジセンサがある基準位置までの３点の移動
量を得ることができ、これにより回転角とＸ方向，Ｙ方
向の補正量を得ることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、矩形基板の位置
決め装置に関し、詳しくは、非接触状態で大型液晶パネ
ルの位置決めができるような位置決め装置に関する。
決め装置に関し、詳しくは、非接触状態で大型液晶パネ
ルの位置決めができるような位置決め装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶パネルは技術の進歩により、大型の
ものが開発されて各方面に多用されている。液晶パネル
（以下単にＬＣＤパネルという）は、表面に微小な画素
がマトリックス状に形成されたもので、露光装置により
ガラス基板上に薄膜トランジスタや、抵抗、コンデン
サ、画素電極などのパターンが形成され、各パターンが
形成された段階で検査装置により検査される。露光装置
や検査装置には、ＬＣＤパネルやガラス基板を載置する
チャックテーブルが設けられていて、これによりＬＣＤ
パネル１を吸着して保持する。このチャックテーブルの
下側にはＸ，Ｙ，Ｚ移動機構が設けられ、チャックテー
ブルの上方には露光装置では露光光学系が、検査装置で
は検査光学系ががそれぞれ設けられている。そして、こ
れら光学系の中心位置にＬＣＤパネル１の中心が一致す
るようにＬＣＤパネルが位置決めされる。また、これら
とは別に制御系としてチャックテーブルを移動制御する
制御系がある。
ものが開発されて各方面に多用されている。液晶パネル
（以下単にＬＣＤパネルという）は、表面に微小な画素
がマトリックス状に形成されたもので、露光装置により
ガラス基板上に薄膜トランジスタや、抵抗、コンデン
サ、画素電極などのパターンが形成され、各パターンが
形成された段階で検査装置により検査される。露光装置
や検査装置には、ＬＣＤパネルやガラス基板を載置する
チャックテーブルが設けられていて、これによりＬＣＤ
パネル１を吸着して保持する。このチャックテーブルの
下側にはＸ，Ｙ，Ｚ移動機構が設けられ、チャックテー
ブルの上方には露光装置では露光光学系が、検査装置で
は検査光学系ががそれぞれ設けられている。そして、こ
れら光学系の中心位置にＬＣＤパネル１の中心が一致す
るようにＬＣＤパネルが位置決めされる。また、これら
とは別に制御系としてチャックテーブルを移動制御する
制御系がある。
【０００３】大型ＬＣＤパネルは、縦横の寸法は、例え
ば３００ｍｍ，４００ｍｍの方形をなし、その厚さｄは
約１ｍｍ程度である。ＬＣＤパネルは、基本的にはガラ
ス基板をベースとし、ＴＦＴＬＣＤパネルでは、その表
面に対してフォトリソグラフ法により、前記した薄膜ト
ランジスタや、抵抗、コンデンサ、画素電極などよりな
るパターンが形成される。なお、ここでは、パターン形
成以前のガラス基板も含めて、説明の都合上、ＬＣＤパ
ネルをもって代表し、説明する。
ば３００ｍｍ，４００ｍｍの方形をなし、その厚さｄは
約１ｍｍ程度である。ＬＣＤパネルは、基本的にはガラ
ス基板をベースとし、ＴＦＴＬＣＤパネルでは、その表
面に対してフォトリソグラフ法により、前記した薄膜ト
ランジスタや、抵抗、コンデンサ、画素電極などよりな
るパターンが形成される。なお、ここでは、パターン形
成以前のガラス基板も含めて、説明の都合上、ＬＣＤパ
ネルをもって代表し、説明する。
【０００４】図５は、従来の露光ステージあるいは検査
ステージのチャックテーブルを中心とした平面図であっ
て、ＬＣＤパネル１がチャックテーブル２に載置され、
周囲にはＬＣＤパネル１に対する位置決め機構５が設け
られている。ＬＣＤパネル１の２長辺を１Ａ，１Ｂ、２
短辺を１Ｃ，１Ｄとし、長辺をＸ方向、短辺をＹ方向と
して載置されたとする。長辺１Ａに対して、それぞれス
トッパＳta，Ｓtbを有する位置決めエアシリンダ５a ，
５b が、また、長辺１Ｂに対して押圧エアシリンダ５c
，５d がそれぞれ配設される。エアシリンダ５a ，５c
、および５b と５d とは、それぞれＹ方向の作用線Ｃ1
，Ｃ2 上にあり、これらの押圧力または反力に対する
ＬＣＤパネル１の作用点は、ｐa ，ｐc 、およびｐb ，
ｐd である。一方、短辺１Ｃ，１Ｄに対して、ストッパ
Ｓteを有する位置決めエアシリンダ５e と押圧エアシリ
ンダ５f とが、Ｘ方向の作用線Ｃ3 上にそれぞれ配設さ
れ、力の作用点はｐe ，ｐf である。
ステージのチャックテーブルを中心とした平面図であっ
て、ＬＣＤパネル１がチャックテーブル２に載置され、
周囲にはＬＣＤパネル１に対する位置決め機構５が設け
られている。ＬＣＤパネル１の２長辺を１Ａ，１Ｂ、２
短辺を１Ｃ，１Ｄとし、長辺をＸ方向、短辺をＹ方向と
して載置されたとする。長辺１Ａに対して、それぞれス
トッパＳta，Ｓtbを有する位置決めエアシリンダ５a ，
５b が、また、長辺１Ｂに対して押圧エアシリンダ５c
，５d がそれぞれ配設される。エアシリンダ５a ，５c
、および５b と５d とは、それぞれＹ方向の作用線Ｃ1
，Ｃ2 上にあり、これらの押圧力または反力に対する
ＬＣＤパネル１の作用点は、ｐa ，ｐc 、およびｐb ，
ｐd である。一方、短辺１Ｃ，１Ｄに対して、ストッパ
Ｓteを有する位置決めエアシリンダ５e と押圧エアシリ
ンダ５f とが、Ｘ方向の作用線Ｃ3 上にそれぞれ配設さ
れ、力の作用点はｐe ，ｐf である。
【０００５】ＬＣＤパネルの位置決めにおいては、ま
ず、各エアシリンダ５a 〜５f を反対方向に動作してそ
れぞれの押圧棒（位置決めピン）５１を待避し、ついで
ＬＣＤパネル１を図示しないハンドリング機構により搬
送して、載置台２のおよその位置に載置する。ここで、
各位置決めエアシリンダ５a ，５b および５e を動作す
ると各位置決めピン５１が移動し、それぞれの先端がス
トッパＳta，Ｓtb，Ｓteにより一定の位置決め位置に停
止する。ついで各押圧エアシリンダ５c ，５d および５
f の動作により、それぞれの位置決めピン５１が長辺１
Ｂと短辺１Ｄの作用点ｐc ，ｐd ，ｐf を押圧し、ＬＣ
Ｄパネル１は移動して図示の状態に位置決めされるもの
である。なお、特に露光時における光学系の中心に対す
るＬＣＤパネルの中心の位置決めは、プリアライメント
と呼ばれ、より正確な位置決めは、この中心位置決めが
完了した後にＬＣＤパネル上１に形成された位置合わせ
マークを参照して行われる。
ず、各エアシリンダ５a 〜５f を反対方向に動作してそ
れぞれの押圧棒（位置決めピン）５１を待避し、ついで
ＬＣＤパネル１を図示しないハンドリング機構により搬
送して、載置台２のおよその位置に載置する。ここで、
各位置決めエアシリンダ５a ，５b および５e を動作す
ると各位置決めピン５１が移動し、それぞれの先端がス
トッパＳta，Ｓtb，Ｓteにより一定の位置決め位置に停
止する。ついで各押圧エアシリンダ５c ，５d および５
f の動作により、それぞれの位置決めピン５１が長辺１
Ｂと短辺１Ｄの作用点ｐc ，ｐd ，ｐf を押圧し、ＬＣ
Ｄパネル１は移動して図示の状態に位置決めされるもの
である。なお、特に露光時における光学系の中心に対す
るＬＣＤパネルの中心の位置決めは、プリアライメント
と呼ばれ、より正確な位置決めは、この中心位置決めが
完了した後にＬＣＤパネル上１に形成された位置合わせ
マークを参照して行われる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】さて、上記のチャック
テーブル２の表面は、検査あるいは露光の光学系４に対
する合焦上必要なために、極めて平坦かつ平滑とされて
いる。これに対して、大型ＬＣＤパネル１は前記したよ
うに面積が大きい割に厚さｄが薄いため、チャックテー
ブル２に載置されたときこれに密着し、両者間にはかな
り大きい摩擦抵抗が生ずる。いま、ＬＣＤパネル１がＸ
Ｙ方向に対して角度ずれして載置されたとすると、この
摩擦抵抗のためにＬＣＤパネル１は移動せず、従って角
度ズレが補正されない。この点を図６により説明する。
図６において、ＬＣＤパネル１が右側に傾斜して載置さ
れたとする。まず、各位置決めエアシリンダ５a ，５b
，５e を動作すると、それぞれの位置決めピン５１の
先端が位置決め位置に停止する。ついで各押圧エアシリ
ンダ５c ，５d ，５f の動作により、ＬＣＤパネル１は
作用点ｐc ，ｐd ，ｐf が押圧されて移動し、作用点ｐ
a ，ｐe が位置決めピン５１に接触して停止する。しか
し、摩擦抵抗が大きいためにＬＣＤパネル１は回転せ
ず、従って作用点ｐb が離間した図示の状態となる。す
なわち角度ズレδθは補正されない。上記はＬＣＤパネ
ル１が右側に傾斜した場合であるが、左側に傾斜した場
合も上記と同様に角度ズレは補正されない。
テーブル２の表面は、検査あるいは露光の光学系４に対
する合焦上必要なために、極めて平坦かつ平滑とされて
いる。これに対して、大型ＬＣＤパネル１は前記したよ
うに面積が大きい割に厚さｄが薄いため、チャックテー
ブル２に載置されたときこれに密着し、両者間にはかな
り大きい摩擦抵抗が生ずる。いま、ＬＣＤパネル１がＸ
Ｙ方向に対して角度ずれして載置されたとすると、この
摩擦抵抗のためにＬＣＤパネル１は移動せず、従って角
度ズレが補正されない。この点を図６により説明する。
図６において、ＬＣＤパネル１が右側に傾斜して載置さ
れたとする。まず、各位置決めエアシリンダ５a ，５b
，５e を動作すると、それぞれの位置決めピン５１の
先端が位置決め位置に停止する。ついで各押圧エアシリ
ンダ５c ，５d ，５f の動作により、ＬＣＤパネル１は
作用点ｐc ，ｐd ，ｐf が押圧されて移動し、作用点ｐ
a ，ｐe が位置決めピン５１に接触して停止する。しか
し、摩擦抵抗が大きいためにＬＣＤパネル１は回転せ
ず、従って作用点ｐb が離間した図示の状態となる。す
なわち角度ズレδθは補正されない。上記はＬＣＤパネ
ル１が右側に傾斜した場合であるが、左側に傾斜した場
合も上記と同様に角度ズレは補正されない。
【０００７】さらに、位置決めピン５１をＬＣＤパネル
１の端面に接触させる関係で、エッジ付近のレジストが
はがれ、あるいは、端部にチッピング（欠け）が発生す
る。レジストのはがれは、発塵の原因になり、チッピン
グは不良発生の要因になる。この発明の目的は、このよ
うな従来技術の問題点を解決するものであって、非接触
でＬＣＤパネル等の矩形基板の位置決めができる矩形基
板の位置決め装置を提供することにある。
１の端面に接触させる関係で、エッジ付近のレジストが
はがれ、あるいは、端部にチッピング（欠け）が発生す
る。レジストのはがれは、発塵の原因になり、チッピン
グは不良発生の要因になる。この発明の目的は、このよ
うな従来技術の問題点を解決するものであって、非接触
でＬＣＤパネル等の矩形基板の位置決めができる矩形基
板の位置決め装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るためのこの発明の矩形基板の位置決め装置の特徴は、
ＸＹθステージのＸ，Ｙのいずれか一方の基準位置に配
置されＸＹθステージに保持され基板の矩形の一辺の縁
を光学的に検出する第１のエッジセンサと、ＸＹθステ
ージのＸ，Ｙのいずれか他方の基準位置でかつ一方の方
向において所定の距離離れて配置されＸＹθステージに
保持され基板の前記の一辺に直交する他の一辺の縁を光
学的に検出する第２，第３のエッジセンサと、基板を所
定の初期位置から相対的に第１，第２，第３のエッジセ
ンサに向かって移動させて第１，第２，第３のエッジセ
ンサからの検出信号を受けてそれぞれの縁が検出される
までのそれぞれの移動量を得て、これら移動量から前記
の初期位置に対してＸＹθステージの角度と、Ｘ方向，
Ｙ方向のそれぞれの位置とを補正する位置補正手段とを
備えるものである。
るためのこの発明の矩形基板の位置決め装置の特徴は、
ＸＹθステージのＸ，Ｙのいずれか一方の基準位置に配
置されＸＹθステージに保持され基板の矩形の一辺の縁
を光学的に検出する第１のエッジセンサと、ＸＹθステ
ージのＸ，Ｙのいずれか他方の基準位置でかつ一方の方
向において所定の距離離れて配置されＸＹθステージに
保持され基板の前記の一辺に直交する他の一辺の縁を光
学的に検出する第２，第３のエッジセンサと、基板を所
定の初期位置から相対的に第１，第２，第３のエッジセ
ンサに向かって移動させて第１，第２，第３のエッジセ
ンサからの検出信号を受けてそれぞれの縁が検出される
までのそれぞれの移動量を得て、これら移動量から前記
の初期位置に対してＸＹθステージの角度と、Ｘ方向，
Ｙ方向のそれぞれの位置とを補正する位置補正手段とを
備えるものである。
【０００９】
【発明の実施形態】矩形基板は、実施例では、ＬＣＤパ
ネルであるが、これは、ＬＣＤパネルに限定されるもの
ではない。検査装置あるいは露光装置のＸＹθステージ
に配置される基板であれば、セラミックスの基板や合成
樹脂の基板などようなものであってもよい。なお、実施
例ではＸＹθステージに加えてＺステージを加えたＸＹ
Ｚθステージになっている。ＸＹθステージの外側周囲
に配置されるエッジセンサは、基板の辺の縁を光学的に
検出できるセンサであれば、非接触状態で検出可能であ
るので、透過形や反射形を問うものではない。また、実
施例では、エッジセンサが固定されていて、ＸＹθステ
ージ側がＸＹ方向にそれぞれ移動する例を示している
が、ＸＹθステージ側を固定にしてＸ方向，Ｙ方向のエ
ッジセンサがそれぞれの方向に移動するような構成を採
ってもよい。本願発明にあっては、前記のように、光学
的なエッジセンサを基板の一辺に対応するこの辺が位置
決めされるべき基準位置に配置し、２つのエッジセンサ
を基板の他の一辺に対応するこの他の辺が位置決めされ
るべき基準位置に配置するようにしているので、ＸＹθ
ステージを介した基板の相対的な移動により各エッジセ
ンサがある基準位置までの３点の移動量を得ることがで
き、これにより回転角とＸ方向，Ｙ方向の補正量を得る
ことができる。また、この補正量を非接触で得るので、
エッジ付近のレジストがはがれが発生し難く、発塵が生
じ難い。さらに、位置決めによるチッピング不良の発生
もほとんどない。
ネルであるが、これは、ＬＣＤパネルに限定されるもの
ではない。検査装置あるいは露光装置のＸＹθステージ
に配置される基板であれば、セラミックスの基板や合成
樹脂の基板などようなものであってもよい。なお、実施
例ではＸＹθステージに加えてＺステージを加えたＸＹ
Ｚθステージになっている。ＸＹθステージの外側周囲
に配置されるエッジセンサは、基板の辺の縁を光学的に
検出できるセンサであれば、非接触状態で検出可能であ
るので、透過形や反射形を問うものではない。また、実
施例では、エッジセンサが固定されていて、ＸＹθステ
ージ側がＸＹ方向にそれぞれ移動する例を示している
が、ＸＹθステージ側を固定にしてＸ方向，Ｙ方向のエ
ッジセンサがそれぞれの方向に移動するような構成を採
ってもよい。本願発明にあっては、前記のように、光学
的なエッジセンサを基板の一辺に対応するこの辺が位置
決めされるべき基準位置に配置し、２つのエッジセンサ
を基板の他の一辺に対応するこの他の辺が位置決めされ
るべき基準位置に配置するようにしているので、ＸＹθ
ステージを介した基板の相対的な移動により各エッジセ
ンサがある基準位置までの３点の移動量を得ることがで
き、これにより回転角とＸ方向，Ｙ方向の補正量を得る
ことができる。また、この補正量を非接触で得るので、
エッジ付近のレジストがはがれが発生し難く、発塵が生
じ難い。さらに、位置決めによるチッピング不良の発生
もほとんどない。
【００１０】
【実施例】図１は、この発明の基板の位置決め装置を適
用した一実施例の大型ＬＣＤパネルの露光ステージのチ
ャックテーブルを中心とした平面図であり、図２は、そ
の側面図、図３は、ＬＣＤパネル用の位置決め処理のフ
ローチャート、図４は、小さいＬＣＤパネル位置決め用
のチャックテーブルの平面図である。図１において、１
０は、露光ステージであって、ＬＣＤパネル１は、その
チャックテーブル２０に載置されている。図５の従来の
チャックテーブル２は、ＬＣＤパネル１のその縁より外
側に縁が配置されるように一回り大きなチャックテーブ
ルであるが、これに対して、このチャックテーブル２０
は、ＬＣＤパネル１より一回り小さく、ＬＣＤパネル１
の縁が外側にはみ出している点でチャックテーブル２と
はその大きさが相違している。また、チャックテーブル
２０には、ＬＣＤパネル１を吸着するために中央部に吸
着孔２１、そして縦横に２分割した各エリアの中央位置
に吸着孔２１a，２１b，２１c，２１dがそれぞれ設けら
れていて、このチャックテーブル２０の裏面下側には、
図２に示すように、ＸＹ移動機構３ａの上にθＺ回転移
動機構３ｂが積み上げられたＸＹＺθ移動ステージ３が
設けられている。なお、このＸＹＺθ移動ステージ３に
ついては、本願出願人による出願である特開平７−８３
７９３号（特願平５−２５２３１８号）に示されていて
すでに公知であるので、その詳細は割愛する。
用した一実施例の大型ＬＣＤパネルの露光ステージのチ
ャックテーブルを中心とした平面図であり、図２は、そ
の側面図、図３は、ＬＣＤパネル用の位置決め処理のフ
ローチャート、図４は、小さいＬＣＤパネル位置決め用
のチャックテーブルの平面図である。図１において、１
０は、露光ステージであって、ＬＣＤパネル１は、その
チャックテーブル２０に載置されている。図５の従来の
チャックテーブル２は、ＬＣＤパネル１のその縁より外
側に縁が配置されるように一回り大きなチャックテーブ
ルであるが、これに対して、このチャックテーブル２０
は、ＬＣＤパネル１より一回り小さく、ＬＣＤパネル１
の縁が外側にはみ出している点でチャックテーブル２と
はその大きさが相違している。また、チャックテーブル
２０には、ＬＣＤパネル１を吸着するために中央部に吸
着孔２１、そして縦横に２分割した各エリアの中央位置
に吸着孔２１a，２１b，２１c，２１dがそれぞれ設けら
れていて、このチャックテーブル２０の裏面下側には、
図２に示すように、ＸＹ移動機構３ａの上にθＺ回転移
動機構３ｂが積み上げられたＸＹＺθ移動ステージ３が
設けられている。なお、このＸＹＺθ移動ステージ３に
ついては、本願出願人による出願である特開平７−８３
７９３号（特願平５−２５２３１８号）に示されていて
すでに公知であるので、その詳細は割愛する。
【００１１】吸着孔２１は、図１に一点鎖線で示すよう
に、チャックテーブル２０の中心に位置していて、図示
するようにＸＹＺ方向を設定すると、吸着孔２１を通る
Ｙ方向の中心線Ｙoにその中心が一致するように、Ｙ方
向のエッジ検出光学センサ（以下エッジセンサ）６がＬ
ＣＤパネル１の縁がら少し離れる位置で、その検出位置
がＹ方向の基準位置（Ｙ方向でＬＣＤパネル１のＹ方向
の縁が本来位置決めされるべき位置）に一致するように
設けられている。また、吸着孔２１を通るＸ方向の中心
線Ｘoに対称にＸ方向のエッジセンサ７，８がＬＣＤパ
ネル１の縁がら少し離れる位置でＸ方向の基準位置（Ｘ
方向でＬＣＤパネル１のＸ方向の縁が本来位置決めされ
るべき位置）に一致するように設けられている。これら
エッジセンサ７，８の検出位置の距離をここではＬとす
る。エッジセンサ６，７，８は、チャックテーブル２０
を固定しているベース９にそれぞれ取付けられている。
そして、ＬＣＤパネル１のＸ方向，Ｙ方向のそれぞれの
一辺が前記エッジセンサの検出位置に一致したときに、
ＬＣＤパネル１に中心がその上部に配置された露光光学
系４（図２参照）の中心に一致するようになり、これに
よりＬＣＤパネル１の位置決めが完了する。特に、露光
装置ではこれによりＬＣＤパネル１のプリアライメント
が完了する。
に、チャックテーブル２０の中心に位置していて、図示
するようにＸＹＺ方向を設定すると、吸着孔２１を通る
Ｙ方向の中心線Ｙoにその中心が一致するように、Ｙ方
向のエッジ検出光学センサ（以下エッジセンサ）６がＬ
ＣＤパネル１の縁がら少し離れる位置で、その検出位置
がＹ方向の基準位置（Ｙ方向でＬＣＤパネル１のＹ方向
の縁が本来位置決めされるべき位置）に一致するように
設けられている。また、吸着孔２１を通るＸ方向の中心
線Ｘoに対称にＸ方向のエッジセンサ７，８がＬＣＤパ
ネル１の縁がら少し離れる位置でＸ方向の基準位置（Ｘ
方向でＬＣＤパネル１のＸ方向の縁が本来位置決めされ
るべき位置）に一致するように設けられている。これら
エッジセンサ７，８の検出位置の距離をここではＬとす
る。エッジセンサ６，７，８は、チャックテーブル２０
を固定しているベース９にそれぞれ取付けられている。
そして、ＬＣＤパネル１のＸ方向，Ｙ方向のそれぞれの
一辺が前記エッジセンサの検出位置に一致したときに、
ＬＣＤパネル１に中心がその上部に配置された露光光学
系４（図２参照）の中心に一致するようになり、これに
よりＬＣＤパネル１の位置決めが完了する。特に、露光
装置ではこれによりＬＣＤパネル１のプリアライメント
が完了する。
【００１２】エッジセンサ６，７，８の構成は、ＬＣＤ
パネル１の面に対してレーザ光を垂直に照射してその照
射光が遮断されたことで、その位置を検出するものであ
って、図２にエッジセンサ８を代表として示すように、
これらエッジセンサは、チャックテーブル２０の表面よ
り高い位置に配置され水平方向にビームを照射する半導
体素子によるレーザ光源１１と、レーザ光源１１のビー
ムを水平方向で受けてこれを垂直方向へと反射する上部
ミラー１２、チャックテーブル２０の裏面より低い位置
に配置され、上部ミラー１２からのビームを受けてこれ
を水平方向に反射する下部ミラー１３、そして、下部ミ
ラー１３からのビームを受光する受光素子１４、そし
て、これらを支持するコの字形のフレーム１５とからな
る。
パネル１の面に対してレーザ光を垂直に照射してその照
射光が遮断されたことで、その位置を検出するものであ
って、図２にエッジセンサ８を代表として示すように、
これらエッジセンサは、チャックテーブル２０の表面よ
り高い位置に配置され水平方向にビームを照射する半導
体素子によるレーザ光源１１と、レーザ光源１１のビー
ムを水平方向で受けてこれを垂直方向へと反射する上部
ミラー１２、チャックテーブル２０の裏面より低い位置
に配置され、上部ミラー１２からのビームを受けてこれ
を水平方向に反射する下部ミラー１３、そして、下部ミ
ラー１３からのビームを受光する受光素子１４、そし
て、これらを支持するコの字形のフレーム１５とからな
る。
【００１３】受光素子１４の検出信号は、それぞれのセ
ンサに対応して設けられた検出回路１６，１６，１６を
介してデータ処理・制御回路１７に送出される。検出回
路１６は、図２に示すように、受光素子１４の検出信号
を増幅するアンプ（ＡＭＰ）１６ａとコンパレータ（Ｃ
ＯＭ）１６ｂとからなり、コンパレータ１６ｂは、アン
プ１６ａの出力が基準値以下になったときにエッジ検出
信号を発生する。データ処理・制御回路１７は、ＭＰＵ
１７ａとメモリ１７ｂ等からなり、コンパレータ１６ｂ
からエッジ検出信号を受けるとともに、検査のために、
チャックテーブル２０の上部に配置された検出露光光学
系４のＣＣＤセンサ等（図示せず）からの信号を受け
る。また、ＸＹＺθ移動ステージ３を所定量移動するた
めの制御信号をテーブル駆動制御回路１８へと送出す
る。メモリ１７ｂには、ＸＹＺθ移動ステージ３を制御
する移動制御プログラム１７ｃと位置補正処理プログラ
ム１７ｄとが設けられている。
ンサに対応して設けられた検出回路１６，１６，１６を
介してデータ処理・制御回路１７に送出される。検出回
路１６は、図２に示すように、受光素子１４の検出信号
を増幅するアンプ（ＡＭＰ）１６ａとコンパレータ（Ｃ
ＯＭ）１６ｂとからなり、コンパレータ１６ｂは、アン
プ１６ａの出力が基準値以下になったときにエッジ検出
信号を発生する。データ処理・制御回路１７は、ＭＰＵ
１７ａとメモリ１７ｂ等からなり、コンパレータ１６ｂ
からエッジ検出信号を受けるとともに、検査のために、
チャックテーブル２０の上部に配置された検出露光光学
系４のＣＣＤセンサ等（図示せず）からの信号を受け
る。また、ＸＹＺθ移動ステージ３を所定量移動するた
めの制御信号をテーブル駆動制御回路１８へと送出す
る。メモリ１７ｂには、ＸＹＺθ移動ステージ３を制御
する移動制御プログラム１７ｃと位置補正処理プログラ
ム１７ｄとが設けられている。
【００１４】次に、図３に従って、ＬＣＤパネル１の位
置決め処理について説明する。まず、チャックテーブル
２０を初期位置（原点位置）に設定する（ステップ１０
０）。次にＬＣＤパネル１がチャックテーブル２０に載
置され、これを吸着保持する（ステップ１０１）。そし
て、移動制御プログラム１７ｃが実行されてチャックテ
ーブル２０をＸ方向にエッジセンサ７，８に向かって定
速で移動させる（ステップ１０２）。次に、データ処理
・制御回路１７のＭＰＵ１７ａは、エッジセンサ７，８
からの信号待ちループに入る（ステップ１０３）。エッ
ジセンサ７，８のいずれかからエッジ検出信号が得られ
ると、そのエッジ検出信号に応じてそのときのチャック
テーブル２０の移動量をメモリ１７ｂのエッジ検出信号
が得られたセンサに対応する記憶位置に記憶する。例え
ば、エッジセンサ７からエッジ検出信号が得られたとす
れば、エッジセンサ７の記憶位置ＦＸ1にその原点から
の移動量、すなわち、その原点からのＸ座標値としてＸ
1を記憶する（ステップ１０４）。
置決め処理について説明する。まず、チャックテーブル
２０を初期位置（原点位置）に設定する（ステップ１０
０）。次にＬＣＤパネル１がチャックテーブル２０に載
置され、これを吸着保持する（ステップ１０１）。そし
て、移動制御プログラム１７ｃが実行されてチャックテ
ーブル２０をＸ方向にエッジセンサ７，８に向かって定
速で移動させる（ステップ１０２）。次に、データ処理
・制御回路１７のＭＰＵ１７ａは、エッジセンサ７，８
からの信号待ちループに入る（ステップ１０３）。エッ
ジセンサ７，８のいずれかからエッジ検出信号が得られ
ると、そのエッジ検出信号に応じてそのときのチャック
テーブル２０の移動量をメモリ１７ｂのエッジ検出信号
が得られたセンサに対応する記憶位置に記憶する。例え
ば、エッジセンサ７からエッジ検出信号が得られたとす
れば、エッジセンサ７の記憶位置ＦＸ1にその原点から
の移動量、すなわち、その原点からのＸ座標値としてＸ
1を記憶する（ステップ１０４）。
【００１５】次に、再び、エッジセンサ７，８からの信
号待ちループに入る（ステップ１０５）。前記と同様
に、エッジセンサ７，８のいずれかからエッジ検出信号
が得られる。この例では、今度は、エッジセンサ８のエ
ッジ検出信号が得られ、これに応じてそのときのチャッ
クテーブル２０の移動量をメモリ１７ｂのエッジ検出信
号が得られたセンサに対応する記憶位置に記憶する（ス
テップ１０６）。このときには、エッジセンサ８からエ
ッジ検出信号であるので、エッジセンサ８の記憶位置Ｆ
Ｘ2にその原点からの移動量、すなわち、そのＸ座標値
としてＸ2を記憶する。そして、初期位置にチャックテ
ーブル２０を戻して（ステップ１０７）、次の式により
回転量θの補正を行う。 θ＝arctan{(Ｘ1−Ｘ2)／Ｌ} によりθを求めて、チャックテーブル２０を−θ分回転
させる（ステップ１０８）。ただし、Ｌは、エッジセン
サ７とエッジセンサ８との距離である。さらに、次の式
によりＸ軸補正を行う。 Ｘ＝(Ｘ1＋Ｘ2)／２ により補正量Ｘ3を求めて、チャックテーブル２０をＸ
軸方向に−Ｘ3分移動させる（ステップ１０９）。
号待ちループに入る（ステップ１０５）。前記と同様
に、エッジセンサ７，８のいずれかからエッジ検出信号
が得られる。この例では、今度は、エッジセンサ８のエ
ッジ検出信号が得られ、これに応じてそのときのチャッ
クテーブル２０の移動量をメモリ１７ｂのエッジ検出信
号が得られたセンサに対応する記憶位置に記憶する（ス
テップ１０６）。このときには、エッジセンサ８からエ
ッジ検出信号であるので、エッジセンサ８の記憶位置Ｆ
Ｘ2にその原点からの移動量、すなわち、そのＸ座標値
としてＸ2を記憶する。そして、初期位置にチャックテ
ーブル２０を戻して（ステップ１０７）、次の式により
回転量θの補正を行う。 θ＝arctan{(Ｘ1−Ｘ2)／Ｌ} によりθを求めて、チャックテーブル２０を−θ分回転
させる（ステップ１０８）。ただし、Ｌは、エッジセン
サ７とエッジセンサ８との距離である。さらに、次の式
によりＸ軸補正を行う。 Ｘ＝(Ｘ1＋Ｘ2)／２ により補正量Ｘ3を求めて、チャックテーブル２０をＸ
軸方向に−Ｘ3分移動させる（ステップ１０９）。
【００１６】このＸ軸補正後にチャックテーブル２０の
位置においてチャックテーブル２０をＹ方向にエッジセ
ンサ６に向かって定速で移動させる（ステップ１１
０）。そして、データ処理・制御回路１７のＭＰＵ１７
ａは、エッジセンサ６からの信号待ちループに入る（ス
テップ１１１）。エッジセンサ６からエッジ検出信号が
得られたとすれば、エッジセンサ６の記憶位置ＦＹ1に
その原点からの移動量、すなわち、そのＹ座標値として
Ｙ1を記憶する（ステップ１１２）。そして、Ｙ軸補正
としてチャックテーブル２０をＹ軸方向に−Ｙ1分移動
させる（ステップ１１３）。以上により求めた位置が本
来の原点位置となり、ＬＣＤパネル１の中心が露光光学
系４の中心に一致してＬＣＤパネル１が位置決め（プリ
アライメント）されたことになる。
位置においてチャックテーブル２０をＹ方向にエッジセ
ンサ６に向かって定速で移動させる（ステップ１１
０）。そして、データ処理・制御回路１７のＭＰＵ１７
ａは、エッジセンサ６からの信号待ちループに入る（ス
テップ１１１）。エッジセンサ６からエッジ検出信号が
得られたとすれば、エッジセンサ６の記憶位置ＦＹ1に
その原点からの移動量、すなわち、そのＹ座標値として
Ｙ1を記憶する（ステップ１１２）。そして、Ｙ軸補正
としてチャックテーブル２０をＹ軸方向に−Ｙ1分移動
させる（ステップ１１３）。以上により求めた位置が本
来の原点位置となり、ＬＣＤパネル１の中心が露光光学
系４の中心に一致してＬＣＤパネル１が位置決め（プリ
アライメント）されたことになる。
【００１７】図４は、チャックテーブル２０の大きさよ
りも小さいＬＣＤパネル１も位置決めすることができる
チャックテーブルの例であって、チャックテーブル２０
ａは、小さいＬＣＤパネル１のサイズに合わせて、エッ
ジセンサ６，７，８のビームを通過させるためのＸ方向
の長孔２２ａ，２２ｂとＹ方向の長孔２２ｃ，２２ｄが
それぞれＸ，Ｙ方向の各辺に沿って設けられていて、Ｘ
方向の長孔２２ａ，２２ｂの長さは、正負の方向を考え
ると、Ｙ軸の補正量の最大値の２倍以上のものであり、
Ｙ方向の長孔２２ｃ，２２ｄの長さは、同様にＸ軸の補
正量の最大値の２倍以上のものである。また、図２に示
すように、エッジセンサ６，７，８は、コの字形になっ
ているので、前記の長孔２２ａ〜２２ｄの位置までエッ
ジ検出のためのビームが入り込むことができる。あるい
は、それができるように、上部ミラー１２および下部ミ
ラー１３が支持されるように、コの字の先端側のアーム
部分の長さが長くなっている。
りも小さいＬＣＤパネル１も位置決めすることができる
チャックテーブルの例であって、チャックテーブル２０
ａは、小さいＬＣＤパネル１のサイズに合わせて、エッ
ジセンサ６，７，８のビームを通過させるためのＸ方向
の長孔２２ａ，２２ｂとＹ方向の長孔２２ｃ，２２ｄが
それぞれＸ，Ｙ方向の各辺に沿って設けられていて、Ｘ
方向の長孔２２ａ，２２ｂの長さは、正負の方向を考え
ると、Ｙ軸の補正量の最大値の２倍以上のものであり、
Ｙ方向の長孔２２ｃ，２２ｄの長さは、同様にＸ軸の補
正量の最大値の２倍以上のものである。また、図２に示
すように、エッジセンサ６，７，８は、コの字形になっ
ているので、前記の長孔２２ａ〜２２ｄの位置までエッ
ジ検出のためのビームが入り込むことができる。あるい
は、それができるように、上部ミラー１２および下部ミ
ラー１３が支持されるように、コの字の先端側のアーム
部分の長さが長くなっている。
【００１８】以上説明してきたが、実施例では、エッジ
センサ６，７，８を固定としているが、これらをそれぞ
れの軸に沿って移動するように移動機構に結合してチャ
ックテーブル２０ａを原点に固定状態でエッジセンサ
６，７，８側を移動させることができる。これによりそ
れぞれの座標値Ｘ1，Ｘ2，Ｙ1を得てもよい。なお、こ
のようにセンサ側を移動させる場合には、同時にこれら
の値を得ることもでき、これにより補正処理の時間が短
縮される。また、ここでのセンサは、光ビームを透過さ
せて、そのビームの遮断によりエッジを検出するもので
あるが、反射形の光学センサによりエッジの乱反射光を
検出するようなセンサを用いることもできる。さらに、
実施例におけるＸ、Ｙは、相対的なものであって、Ｘ方
向とＹ方向とは入れ替えられてもよい。
センサ６，７，８を固定としているが、これらをそれぞ
れの軸に沿って移動するように移動機構に結合してチャ
ックテーブル２０ａを原点に固定状態でエッジセンサ
６，７，８側を移動させることができる。これによりそ
れぞれの座標値Ｘ1，Ｘ2，Ｙ1を得てもよい。なお、こ
のようにセンサ側を移動させる場合には、同時にこれら
の値を得ることもでき、これにより補正処理の時間が短
縮される。また、ここでのセンサは、光ビームを透過さ
せて、そのビームの遮断によりエッジを検出するもので
あるが、反射形の光学センサによりエッジの乱反射光を
検出するようなセンサを用いることもできる。さらに、
実施例におけるＸ、Ｙは、相対的なものであって、Ｘ方
向とＹ方向とは入れ替えられてもよい。
【００１９】
【発明の効果】以上の説明のとおり、この発明による矩
形基板の位置決め装置にあっては、光学的なエッジセン
サを基板の一辺に対応するこの辺が位置決めされるべき
基準位置に配置し、２つのエッジセンサを基板の他の一
辺に対応するこの他の辺が位置決めされるべき基準位置
に配置するようにしているので、ＸＹθステージを介し
た基板の相対的な移動により各エッジセンサがある基準
位置までの３点の移動量を得ることができ、これにより
回転角とＸ方向，Ｙ方向の補正量を得ることができる。
また、この補正量を非接触で得るので、エッジ付近のレ
ジストがはがれが発生し難く、発塵が生じ難い。さら
に、位置決めによるチッピング不良の発生もほとんどな
い。
形基板の位置決め装置にあっては、光学的なエッジセン
サを基板の一辺に対応するこの辺が位置決めされるべき
基準位置に配置し、２つのエッジセンサを基板の他の一
辺に対応するこの他の辺が位置決めされるべき基準位置
に配置するようにしているので、ＸＹθステージを介し
た基板の相対的な移動により各エッジセンサがある基準
位置までの３点の移動量を得ることができ、これにより
回転角とＸ方向，Ｙ方向の補正量を得ることができる。
また、この補正量を非接触で得るので、エッジ付近のレ
ジストがはがれが発生し難く、発塵が生じ難い。さら
に、位置決めによるチッピング不良の発生もほとんどな
い。
【図１】図１は、この発明の基板の位置決め装置を適用
した一実施例の大型ＬＣＤパネルの露光ステージのチャ
ックテーブルを中心とした平面図である。
した一実施例の大型ＬＣＤパネルの露光ステージのチャ
ックテーブルを中心とした平面図である。
【図２】図２は、図１の大型ＬＣＤパネル用検査ステー
ジのチャックテーブルの側面図である。
ジのチャックテーブルの側面図である。
【図３】図３は、ＬＣＤパネル用の位置決め処理のフロ
ーチャートである。
ーチャートである。
【図４】図４は、小さいＬＣＤパネル位置決め用のチャ
ックテーブルの平面図である。
ックテーブルの平面図である。
【図５】大型ＬＣＤパネル用検査ステージの従来のチャ
ックテーブルの平面図である。
ックテーブルの平面図である。
【図６】従来のチャックテーブルの角度ずれについての
説明図である。
説明図である。
１…大型ＬＣＤパネル、２，２０…チャッククテーブ
ル、 ３…ＸＹＺθ移動ステージ、４…光学系、 ６，７，８…エッジセンサ、９…ベース、 １１…レーザ光源、１２…上部ミラー、１３…下部ミラ
ー、 １４…受光素子、１６…検出回路、 １７…データ処理・制御回路、 １７ａ…ＭＰＵ、１７ｂ…メモリ、 １７ｃ…移動制御プログラム、１７ｄ…位置補正処理プ
ログラム、 １８…テーブル駆動制御回路。
ル、 ３…ＸＹＺθ移動ステージ、４…光学系、 ６，７，８…エッジセンサ、９…ベース、 １１…レーザ光源、１２…上部ミラー、１３…下部ミラ
ー、 １４…受光素子、１６…検出回路、 １７…データ処理・制御回路、 １７ａ…ＭＰＵ、１７ｂ…メモリ、 １７ｃ…移動制御プログラム、１７ｄ…位置補正処理プ
ログラム、 １８…テーブル駆動制御回路。
Claims (2)
- 【請求項１】ＸＹの二次元の移動と回転が可能なＸＹθ
ステージ上に載置された矩形基板をこのステージ上部に
設けられた光学系に対して所定の位置に位置決めする矩
形基板の位置決め装置において、前記ＸＹθステージの
Ｘ，Ｙのいずれか一方の基準位置に配置され前記ＸＹθ
ステージに保持され前記基板の矩形の一辺の縁を光学的
に検出する第１のエッジセンサと、前記ＸＹθステージ
のＸ，Ｙのいずれか他方の基準位置でかつ前記一方の方
向において所定の距離離れて配置され前記ＸＹθステー
ジに保持され前記基板の前記一辺に直交する他の一辺の
縁を光学的に検出する第２，第３のエッジセンサと、前
記基板を所定の初期位置から相対的に前記第１，第２，
第３のエッジセンサに向かって移動させて前記第１，第
２，第３のエッジセンサからの検出信号を受けてそれぞ
れの前記縁が検出されるまでのそれぞれの移動量を得
て、これら移動量から前記初期位置に対して前記ＸＹθ
ステージの角度と、Ｘ方向，Ｙ方向のそれぞれの位置と
を補正する位置補正手段とを備える矩形基板の位置決め
装置。 - 【請求項２】前記基板は、液晶パネルあるいはそのガラ
ス基板であり、前記第１，第２，第３のエッジセンサ
は、前記基板表面に垂直な方向にビームを発生してこの
ビームが遮断されることで前記縁を検出するものであ
り、第１のエッジセンサは、実質的に前記一辺の中央位
置に配置され、第２，第３のエッジセンサは、実質的に
前記他の一辺の中央位置に対称となる位置に前記所定の
距離Ｌだけ離れて配置され、前記初期位置は原点であ
り、前記位置補正手段は、前記基板を所定の基準位置か
ら相対的に前記第２，第３のエッジセンサに向かって移
動させてそれぞれの移動量Ａ1，Ａ2を得て、θ＝arctan
{(Ａ1−Ａ2)／Ｌ}により回転角を得（ただし、Ｌは前記
所定の距離）、これにより−θ分の角度補正を行った後
にこの移動方向に一致する方向の位置補正を行い、次に
前記第１のセンサの方向に向かって前記基板を移動させ
て前記移動量を得てこの方向の位置補正を行う請求項１
記載の矩形基板の位置決め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07272024A JP3140349B2 (ja) | 1995-09-26 | 1995-09-26 | 矩形基板の位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07272024A JP3140349B2 (ja) | 1995-09-26 | 1995-09-26 | 矩形基板の位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0990308A true JPH0990308A (ja) | 1997-04-04 |
| JP3140349B2 JP3140349B2 (ja) | 2001-03-05 |
Family
ID=17508072
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07272024A Expired - Fee Related JP3140349B2 (ja) | 1995-09-26 | 1995-09-26 | 矩形基板の位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3140349B2 (ja) |
Cited By (18)
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|---|---|---|---|---|
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| EP1458013A1 (en) * | 2003-02-20 | 2004-09-15 | Applied Materials, Inc. | A method and an apparatus for determining a position of a substrate relative to a support stage |
| US6795164B2 (en) | 2001-07-20 | 2004-09-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| JP2006010544A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Horiba Ltd | 異物検査装置および異物検査方法 |
| US7104535B2 (en) | 2003-02-20 | 2006-09-12 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for positioning a substrate relative to a support stage |
| US7151981B2 (en) | 2003-02-20 | 2006-12-19 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for positioning a substrate relative to a support stage |
| JP2007057813A (ja) * | 2005-08-24 | 2007-03-08 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板の位置決め方法及びそれを用いた試料台、並びに、寸法測定装置または基板加工装置 |
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| CN102768976A (zh) * | 2011-05-05 | 2012-11-07 | 上海微电子装备有限公司 | 一种基板预对准装置及方法 |
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| CN104567598A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-04-29 | 彩虹（合肥）液晶玻璃有限公司 | 液晶基板玻璃成型出炉跑偏量测量装置及测量处理方法 |
| JP2019110200A (ja) * | 2017-12-18 | 2019-07-04 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置、基板処理装置の制御方法、プログラムを格納した記憶媒体 |
| JP2019141921A (ja) * | 2018-02-16 | 2019-08-29 | 日本電産サンキョー株式会社 | 産業用ロボットの補正値算出方法 |
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|---|---|---|---|---|
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-
1995
- 1995-09-26 JP JP07272024A patent/JP3140349B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN100382269C (zh) * | 2003-02-20 | 2008-04-16 | 应用材料有限公司 | 相对于支撑台确定衬底位置的方法和装置 |
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| JP2019141921A (ja) * | 2018-02-16 | 2019-08-29 | 日本電産サンキョー株式会社 | 産業用ロボットの補正値算出方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3140349B2 (ja) | 2001-03-05 |
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Legal Events
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