CN110270555A - 涂布平台自动清洁装置 - Google Patents
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Abstract
一种涂布平台自动清洁装置,包括:清洁腔、电机、超声波探测装置、伺服电机以及控制系统;其中,所述清洁腔又包括真空腔和压力腔,均设置在所述涂布平台自动清洁装置的内部;所述电机设置在所述压力腔上,是使所述压力腔形成气流的驱动;所述超声波探测装置设置在所述清洁腔内,用于发射超声波信号给涂布机平台并检测所述涂布机平台上是否存在颗粒物;所述伺服电机设置在所述清洁腔上,用于驱动所述涂布平台自动清洁装置,使得所述涂布平台自动清洁装置运动;所述控制系统与所述涂布平台自动清洁装置无线连接,可在不同的频率下控制所述涂布平台自动清洁装置涂布平台上的颗粒物进行清洁、检测以及控制所述涂布平台自动清洁装置的运动。
Description
技术领域
本申请涉及涂布清洁领域,特别是涉及一种涂布平台自动清洁装置。
背景技术
显示面板的生产过程中,需要用涂布机涂布光刻胶,而在进行涂布工艺时,若涂布平台上存在颗粒物等异物,则会造成光阻涂布不均匀,产生蝴蝶纹等涂布不均情况的产生。蝴蝶纹清理及时需要浪费重工材料和设备,清理不及时则会导致线宽变异,引起特性不良,使得大批量产品质量受到影响。同时,涂布机平台上的颗粒物的清理,需要长时间的停机,一般还需要多次清理才能成功,影响加工效率和成功率。
因此,现有的涂布机自动清洁技术中,还存在涂布机平台上存在异物不便于清理,以及一次清理不干净、成功率不高的问题,急需改进。
发明内容
本申请涉及一种涂布平台自动清洁装置,用于解决现有技术中存在的涂布工艺过程中,涂布机平台存在异物不便于清理,以及一次清理不干净、成功率不高的问题。
为解决上述问题,本申请提供的技术方案如下:
本申请提供的一种涂布平台自动清洁装置,包括:清洁腔、电机、超声波探测装置、颗粒物探测装置、伺服电机以及控制系统;其中,
所述清洁腔又包括真空腔和压力腔,均设置在所述涂布平台自动清洁装置的内部;
所述电机设置在所述压力腔上,是使所述压力腔形成气流的驱动;
所述超声波探测装置设置在所述清洁腔内,用于发射超声波信号给涂布机平台并检测所述涂布机平台上是否存在颗粒物;
所述伺服电机设置在所述清洁腔上,用于驱动所述涂布平台自动清洁装置,使得所述涂布平台自动清洁装置运动;
所述控制系统与所述涂布平台自动清洁装置无线连接,可在不同的频率下控制所述涂布平台自动清洁装置对涂布平台上的颗粒物进行检测、清洁以及控制所述涂布平台自动清洁装置的运动。
根据本申请提供的一优选实施例,所述超声波探测装置包括:超声波发生装置和颗粒物定位装置。
根据本申请提供的一优选实施例,所述涂布平台自动清洁装置可沿X轴、Y轴和Z轴运动。
根据本申请提供的一优选实施例,所述控制系统包括:信号接收单元、信号处理单元以及信号输出单元。
根据本申请提供的一优选实施例,所述信号接收单元分为第一信号接收单元、第二信号接收单元和第三信号接收单元。
根据本申请提供的一优选实施例,所述第一信号接收单元与所述超声波探测装置无线连接;所述第二信号接收单元为手动输入单元;所述第三信号接收单元与所述伺服电机无线连接。
根据本申请提供的一优选实施例,所述信号接收单元、所述信号处理单元与所述信号输出单元串联连接,所述第一信号接收单元与所述第二信号接收单元或是所述第三信号接收单元之间并联;所述第二信号接收单元与所述第三信号接收单元之间互锁连接。
本申请还提供一种涂布平台自动清洁装置的清洁方法,包括上述所有上述所述的涂布平台自动清洁装置的特征;该方法的步骤如下:
S10,开启所述涂布平台自动清洁装置;
S20,所述涂布平台自动清洁装置开始沿平台涂布平台移动,同时所述超声波探测装置开始发射超声波信号并进行检测;
S30,若没有检测到所述涂布平台上存在颗粒物,则所述涂布平台自动清洁装置继续沿所述涂布平台匀速移动并检测;
S40,若检测到所述涂布平台上存在颗粒物,则所述超声波探测装置对所述颗粒物所处的位置坐标进行检测并标记;
S50,所述伺服电机根据所述颗粒物的位置坐标驱动所述涂布平台自动清洁装置移动到所述颗粒物所处的位置;
S60,所述压力腔排出气流将所述颗粒物清扫至所述第一真空腔或是所述第二真空腔。
根据本申请提供的一优选实施例,步骤“S40”包括:
S401,若检测到所述涂布平台上存在颗粒物,则所述超声波探测装置将探测信号传递给所述第一信号接收单元或是所述第二信号接收单元;
S402,所述第一信号接收单元或是所述第二信号接收单元将接收到的信号信息传递给所述信号处理单元;
S403,所述信号处理单元继续将接收到的信号信息传递给所述信号输出单元;
S404,所述信号输出单元再将信号信息传递给所述显示面板、所述电机和所述伺服电机。
根据本申请提供的一优选实施例,步骤“S60”包括:
S601,所述电机驱动所述叶轮旋转,形成气流;
S602,所述气流经过所述压力腔的开口流出,将所述颗粒物吹进所述第一真空腔或是所述第二真空腔。
与现有技术相比,本申请所提供的涂布平台自动清洁装置的有益效果为:
1.所述涂布平台自动清洁装置包含超声波探测装置,在进行清洁过程中可以检测出是否存在颗粒物及标记出颗粒物所处的位置,所述伺服电机再根据该颗粒物所处的位置直接驱动所述涂布平台自动清洁装置进行清洁,节约时间,避免停工对设备造成的浪费;
2.所述涂布平台自动清洁装置可沿X轴、Y轴以及Z轴移动,运动灵活,便于清洁;
3.所述涂布平台自动清洁装置可由机器自动控制或是手动控制,若知道颗粒物所处的位置但机器控制不方便时,也可以使用手动控制,操作方便;
4.超声波探测装置的工作周期为每次2-3分钟,完全不影响生产周期。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的涂布平台自动清洁装置的结构示意图。
图2为本申请实施例提供的涂布平台自动清洁装置中控制系统的结构示意图。
图3为本申请实施例提供的涂布平台自动清洁装置的控制系统中信号接收单元的电路连接图。
图4为本申请实施例提供的涂布平台自动清洁装置清洁方法的第一流程示意图。
图5为本申请实施例提供的涂布平台自动清洁装置清洁方法的第二流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
本申请提供一种涂布平台自动清洁装置,具体参阅图1-3。
参阅图1,为本申请实施例提供的涂布平台自动清洁装置的结构示意图。1为电机,用于驱动主轴11,再由主轴11带动叶轮12转动,形成气流,使得所述压力腔2的气流从开口21处流出,将涂布机平台上的颗粒物吹进真空腔22/23中。
2为清洁腔,包括:压力腔21,第一真空腔22和第二真空腔23。压力腔21下方设置有压力腔开口211,将叶轮12旋转所形成的气流经压力腔开口211排出。压力腔21上设置有超声波探测装置4。所述第一真空腔22和所述第二真空腔23的形状、大小以及结构完全相同。所述第一真空腔22和所述第二真空腔23下方均设有开口,分别为第一真空腔开口221和第二真空腔开口231,所述第一真空腔开口221处设置有第一封盖222,所述第二真空腔开口231处设置有第二封盖232,所述第一封盖222和所述第二封盖232在涂布平台自动清洁装置不工作时,处于关闭状态;在涂布平台自动清洁装置工作时,开启。所述第一封盖222和所述第二封盖232与所述第一真空腔开口221和所述第二真空腔开口231之间通过连接装置进行连接,该连接关系可以是滑动连接(参见图1),转轴连接(水平转轴连接或是竖直转轴连接)等,不限于图中所述的一种连接方式。所述超声波探测装置4包括:超声波发生装置41和颗粒物定位装置42;所述超声波发生装置设置在所述压力腔开口211处,所述颗粒物定位装置设置在所述第一真空腔22外部。
3为伺服电机,用于驱动所述涂布平台自动清洁装置,使得所述涂布平台自动清洁装置可以在不同的频率下沿X轴、Y轴以及Z轴移动,通过超声波发生装置反馈的声波信号判断所述涂布平台上是否存在颗粒物,若存在颗粒物再通过所述颗粒物定位装置42进行监测并定位,再由所述伺服电机驱动所述涂布平台自动清洁装置移动至所述颗粒物所处的位置并进行清洁,由于所述伺服电机为闭环控制,因此,其定位精准、快速。
4为超声波探测装置,包括:超声波发生装置41和颗粒物定位装置42。在涂布平台自动清洁装置对涂布机平台清洁过程中,若发现涂布平台上有颗粒物存在,所述涂布平台自动清洁装置将所述颗粒物所处的位置坐标进行标记并传回给控制系统5的第一信号接收单元511,第一信号接收单元511再将接收到的信号信息传递给信号处理单元52进行处理,信号处理单元52再将处理完成的信号信息传递给信号输出单元53,信号输出单元53将颗粒物的位置信息显示在显示面板531上。所述超声波探测装置工作周期为每次2-3分钟。
5为控制系统,包括:信号接收单元51,信号处理单元52以及信号输出单元53;其中,信号接收单元51又分为第一信号接收单元511,第二信号接收单元512以及第三信号接收单元513,参阅图2。
所述第一信号接收单元511与所述超声波探测装置4无线连接,当所述超声波探测装置4在检测到涂布机平台上存在颗粒物时,所述超声波探测装置4将接收到的信号信息传递给所述第一信号接收单元511,所述第一信号接收单元511将接收到的信号信息传递给信号处理单元52,所述信号处理单元52再将接收到的信号信息传递给信号输出单元53。所述信号输出单元53分别与所述电机5,所述显示面板531以及所述伺服电机3相连;所述电机5,所述显示面板531以及所述伺服电机3之间并联。由于所述伺服电机3是闭环连接的,因此,所述涂布机清洁装置在未达到所述颗粒物所述的位置时,所述伺服电机3内部会持续发出脉冲,不断的进行修正,以使所述涂布机清洁装置所处的位置精确地靠近。
所述第二信号接收单元512为手动输入单元,即在所述伺服电机3故障,不能使所述涂布平台自动清洁装置准确到达颗粒物所述的位置时,可开启使用,手动输入颗粒物所处的位置,进行调节。
所述第三信号接收单元513与所述伺服电机3无线连接,能够接收并反馈颗粒物所处的位置给所述涂布平台自动清洁装置;所述伺服电机3内部包含两种坐标系统,一种绝对坐标系统,一种相对坐标系统。在绝对坐标系统中,以涂布机平台的中点或是某一个角落的一点为原点坐标,每次清洁完成后,所述涂布平台自动清洁装置要退回至原点,再下次进行清洁时,再从原点出发,对涂布机平台上的颗粒物进行清洁;在相对坐标系统中,始终以所述涂布平台自动清洁装置自身所处的位置为原点,直接捕捉颗粒物所处的位置,每次清洁完成不用返回原点。相交而言,相对坐标的控制会更快捷。
所述信号接收单元51、所述信号处理单元52与所述信号输出单元53串联连接,所述第一信号接收单元511与所述第二信号接收单元512或是所述第三信号接收单元513之间并联;所述第二信号接收单元512与所述第三信号接收单元513之间互锁连接。即在工作时,所述信号接收单元51、所述信号处理单元52与所述信号输出单元53必须同时接通;而在所述信号接收单元51中,所述第二信号接收单元512与所述第三信号接收单元513不能同时开启,每次只能开启一个,交叉通断,即为互锁连接。所述第一信号接收单元511与所述第二信号接收单元512和所述第三信号接收单元513所组成的单元并联,也即所述第一信号接收单元511与所述第二信号接收单元512同时工作或是所述第一信号接收单元511与所述第三信号接收单元513同时工作,其电路图详见附图3。
所述涂布平台自动清洁装置的移动速度,即频率,可根据实际需求进行调节。
参阅图4,本申请还提供一种涂布平台自动清洁装置的清洁方法,需采用上述所述的涂布平台自动清洁装置;该方法的步骤如下:S10,开启所述涂布平台自动清洁装置;S20,所述涂布平台自动清洁装置开始沿涂布平台移动,同时所述超声波探测装置开始发射超声波信号并进行检测;S30,若没有检测到所述涂布平台上存在颗粒物,则所述涂布平台自动清洁装置继续沿所述涂布平台匀速移动并检测;S40,若检测到所述涂布平台上存在颗粒物,则所述超声波探测装置对所述颗粒物所处的位置坐标进行检测并标记;S50,所述伺服电机根据所述颗粒物的位置坐标驱动所述涂布平台自动清洁装置移动到所述颗粒物所处的位置;S60,所述压力腔排出气流将所述颗粒物清扫至所述第一真空腔或是所述第二真空腔。
参阅图5,步骤“S40”包括:S401,若检测到所述涂布平台上存在颗粒物,则所述超声波探测装置将探测信号传递给所述第一信号接收单元或是所述第二信号接收单元;S402,所述第一信号接收单元或是所述第二信号接收单元将接收到的信号信息传递给所述信号处理单元;S403,所述信号处理单元继续将接收到的信号信息传递给所述信号输出单元;S404,所述信号输出单元再将信号信息传递给所述显示面板、所述电机和所述伺服电机。
进一步地,步骤“S60”包括:S601,所述电机驱动所述叶轮旋转,形成气流;S602,所述气流经过所述压力腔的开口流出,将所述颗粒物吹进所述第一真空腔或是所述第二真空腔。
以上对本申请实施例所提供的一种涂布平台自动清洁装置进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种涂布平台自动清洁装置,其特征在于,包括:清洁腔、电机、超声波探测装置、伺服电机以及控制系统;其中,
所述清洁腔又包括真空腔和压力腔,均设置在所述涂布平台自动清洁装置的内部;
所述电机设置在所述压力腔上,是使所述压力腔形成气流的驱动;
所述超声波探测装置设置在所述清洁腔内,用于发射超声波信号给涂布机平台并检测所述涂布机平台上是否存在颗粒物;
所述伺服电机设置在所述清洁腔上,用于驱动所述涂布平台自动清洁装置,使得所述涂布平台自动清洁装置运动;
所述控制系统与所述涂布平台自动清洁装置无线连接,可在不同的频率下控制所述涂布机自动清洁装置对涂布平台上的颗粒物进行检测、清洁以及控制所述涂布平台自动清洁装置的运动。
2.根据权利要求1所述的涂布平台自动清洁装置,其特征在于,所述超声波探测装置包括:超声波发生装置和颗粒物定位装置。
3.根据权利要求1所述的涂布平台自动清洁装置,其特征在于,所述涂布平台自动清洁装置可沿X轴、Y轴和Z轴运动。
4.根据权利要求3所述的涂布平台自动清洁装置,其特征在于,所述控制系统包括:信号接收单元、信号处理单元以及信号输出单元。
5.根据权利要求4所述的涂布平台自动清洁装置,其特征在于,所述信号接收单元分为第一信号接收单元、第二信号接收单元和第三信号接收单元。
6.根据权利要求5所述的涂布平台自动清洁装置,其特征在于,所述第一信号接收单元与所述超声波发生装置无线连接;所述第二信号接收单元为手动输入单元;所述第三信号接收单元与所述伺服电机无线连接。
7.根据权利要求6所述的涂布平台自动清洁装置,其特征在于,所述信号接收单元、所述信号处理单元与所述信号输出单元串联连接,所述第一信号接收单元与所述第二信号接收单元或是所述第三信号接收单元之间并联;所述第二信号接收单元与所述第三信号接收单元之间互锁连接。
8.一种涂布平台自动清洁装置的清洁方法,其特征在于,包括上述任一项所述的涂布平台自动清洁装置;该方法的步骤如下:
S10,开启所述涂布平台自动清洁装置;
S20,所述涂布平台自动清洁装置开始沿涂布平台移动,同时所述超声波探测装置开始发射超声波信号并进行检测;
S30,若没有检测到所述涂布平台上存在颗粒物,则所述涂布平台自动清洁装置继续沿所述涂布平台匀速移动并检测;
S40,若检测到所述涂布平台上存在颗粒物,则所述超声波探测装置对所述颗粒物所处的位置坐标进行检测并标记;
S50,所述伺服电机根据所述颗粒物的位置坐标驱动所述涂布平台自动清洁装置移动到所述颗粒物所处的位置;
S60,所述压力腔排出气流将所述颗粒物清扫至所述第一真空腔或是所述第二真空腔。
9.根据权利要求8所述的涂布平台自动清洁装置的清洁方法,其特征在于,步骤“S40”包括:
S401,若检测到所述涂布平台上存在颗粒物,则所述超声波探测装置将探测信号传递给所述第一信号接收单元或是所述第二信号接收单元;
S402,所述第一信号接收单元或是所述第二信号接收单元将接收到的信号信息传递给所述信号处理单元;
S403,所述信号处理单元继续将接收到的信号信息传递给所述信号输出单元;
S404,所述信号输出单元再将信号信息传递给所述显示面板、所述电机和所述伺服电机。
10.根据权利要求8所述的涂布平台自动清洁装置的清洁方法,其特征在于,步骤“S60”包括:
S601,所述电机驱动所述叶轮旋转,形成气流;
S602,所述气流经过所述压力腔的开口流出,将所述颗粒物吹进所述第一真空腔或是所述第二真空腔。
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
CB02 | Change of applicant information |
Address after: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant after: TCL China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. |
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CB02 | Change of applicant information | ||
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Application publication date: 20190924 |
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