JP2511736B2 - フィルムキャリアの製造方法 - Google Patents

フィルムキャリアの製造方法

Info

Publication number
JP2511736B2
JP2511736B2 JP3046138A JP4613891A JP2511736B2 JP 2511736 B2 JP2511736 B2 JP 2511736B2 JP 3046138 A JP3046138 A JP 3046138A JP 4613891 A JP4613891 A JP 4613891A JP 2511736 B2 JP2511736 B2 JP 2511736B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cutting
film carrier
polyimide resin
layer
cutting edge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP3046138A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH04300124A (ja
Inventor
昭雄 高橋
秀範 古川
重則 徳永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JNC Corp
Original Assignee
Chisso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chisso Corp filed Critical Chisso Corp
Priority to JP3046138A priority Critical patent/JP2511736B2/ja
Publication of JPH04300124A publication Critical patent/JPH04300124A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2511736B2 publication Critical patent/JP2511736B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、T.A.B.(Tape Automate
d Bonding)法により製造される半導体装置等に用いられ
るフィルムキャリアの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、電子機器は高機能化・軽薄短小化
が進められ、それに搭載される半導体装置も高集積化・
高機能化が求められ、その実装方法についても軽薄短小
化が要求されている。こうした要求に適した半導体装置
の実装方法としてフィルムキャリアを用いる上記T.A.B.
法が注目されている。絶縁層としてポリイミド樹脂を用
いるフィルムキャリアには、金属導体層とポリイミド樹
脂層とを接着剤を介して貼着した3層構造フィルムキャ
リアと、金属導体層とポリイミド樹脂層のみからなる2
層構造フィルムキャリアがある。
【0003】現在主として用いられているフィルムキャ
リアは3層構造フィルムキャリアであるが、介在する接
着剤層にエポキシ系の材料を使用しているため、ポリイ
ミド樹脂本来の耐熱性を発揮し得ないといった問題点
や、接着剤層に含まれる不純物塩素イオンのために実装
された半導体装置の信頼性に欠ける等の問題点を有して
いる。このような問題点を克服するフィルムキャリアが
金属導体層とポリイミド樹脂層のみからなる2層構造フ
ィルムキャリアである。
【0004】2層構造フィルムキャリアは、導体金属層
をエッチング等によってパターニングする以外に、ポリ
イミド樹脂層にもデバイスホール等の所定の開孔部を設
ける必要があり、その方法としてウエット・エッチン
グ法ドライ・エッチング法レーザー・エッチング法
が挙げられる。ウエット・エッチング法はリソグラフィ
工程を必要とし、工程が長く経済性に劣ることのほか
に、ポリイミド樹脂のエッチング速度が極めて小さいた
め、以後の工程で作業性が極めて困難となる剛性の低
い、ポリイミド樹脂層の薄いフィルムキャリアのみにそ
の適用が限定されてしまうといった問題点を有してい
る。ドライ・エッチング法としては、スパッタ法やイオ
ン・ミリング法が知られているが、いづれも高価で大掛
りな装置を必要とし、しかも連続生産ができず経済性、
生産性、作業性に問題がある。近年、注目されているレ
−ザー・エッチング法は熱による金属導体層の熔融破
損、除去困難なカーボンの発生と付着等の問題点があ
る。
【0005】
【発明が解決しようとする問題点】以上のような問題点
を有さないすぐれた2層構造フィルムキャリアの製造方
法として、切削加工機を用いる方法があげられる。この
方法は金属導体層とポリイミド樹脂層からなる2層構造
フィルムキャリア本体のポリイミド樹脂層所定部を数値
制御切削加工機のような切削加工機を用いて、実質的に
金属導体層を損なうことなく開孔除去してデバイスホー
ル等を形成するフィルムキャリアの製造方法である。こ
の切削加工機の刃として座ぐり加工等に一般に用いられ
ている超硬合金製の刃を用いると以下の問題点を生じる
ことが判明した。
【0006】ポリイミド樹脂層と併せて金属導体層の一
部をも切削除去する加工を行なうと被開孔部の残存金属
導体層に塑性変形による伸びが生じ、著しい場合には金
属導体面側に凸状の膨らみを呈するに到る。そうした著
しい変形が生じるとその後のエッチング工程で形成され
る半導体チップの電極とバンプを介しての接続に用いら
れるデバイスホール内に突出したフィンガー状のインナ
ー・リードの位置精度を確保することが困難となり、多
ピン又は/及び狭ピッチの半導体装置用フィルムキャリ
アの製造が難しくなる。また、切削を繰り返し実施する
と共に切刃が摩耗により変形し、刃交換及び切削条件調
整頻度が多くなり生産性、作業性、経済性の点でも望ま
しくない。
【0007】本問題を解決すべく切削加工条件、刃形
状、刃材質、被切削物である2層構造フィルムキャリア
本体の性状等につき鋭意検討した結果、切削加工機の切
刃の材質を実質的にダイヤモンドとすること及び切刃稜
の丸味半径を10μm以下とすることにより、被開孔部
の残存金属導体層の塑性変形及び刃の摩耗が殆ど生じな
い切削加工が可能となり、本発明を完成した。
【0008】本発明は、かゝる背景下になされたもので
あり、金属導体層とポリイミド樹脂層からなる2層構造
キャリアフィルムのポリイミド樹脂層所定部を切削加工
機を用いて開孔除去し、デバイスホール等を形成するフ
ィルムキャリアの製造方法において、被開孔部の残存金
属導体層の塑性変形が小さく、多ピン・狭ピッチ半導体
装置に適し、かつ刃の摩耗が殆ど生じず生産性、作業
性、経済性にすぐれたフィルムキャリアの製造方法を提
供することをその目的とする。
【0009】
【問題点を解決するための手段】本発明は、下記(1)
及び(2)の構成を有する。 (1)金属導体層とポリイミド樹脂層からなる2層構造
のフィルムキャリア本体を準備し、該フィルムキャリア
本体の所定部分の該ポリイミド樹脂層を切削加工機を用
いて除去することによりポリイミド樹脂層に開孔部を形
成してフィルムキャリアを製造する方法において、該切
削加工機の切刃の刃部の材質が実質的にダイヤモンドで
あることを特徴とするフィルムキャリアの製造方法。 (2)切刃の切刃稜の丸味半径が10μm以下の切刃で
ある前記第1項記載のフィルムキャリアの製造方法。
【0010】本発明は、金属導体層とポリイミド樹脂層
からなる2層構造のフィルムキャリア本体の所定部分の
ポリイミド樹脂層をダイヤモンド製で切刃稜丸味半径1
0μm以下の特殊な切刃を有する切削加工機にて除去す
ることによりデバイスホール等を開孔するものである。
上記フィルムキャリア本体に用いる金属導体層の構成材
料としては、銅、アルミニウム、金、銀、鉄、錫、鉛な
いしはこれらの合金またはこれらをメッキしてなるもの
が挙げられる。上記フィルムキャリア本体は、上記材料
からなる金属導体層上へポリイミド樹脂溶液あるいはポ
リイミド前駆体溶液をキャスティングして形成したり、
ポリイミド樹脂層上に上記材料からなる金属を蒸着ある
いは電着して形成された2層構造のものがあげられる。
又、熱可塑性ポリイミド樹脂を上記金属導体層に対して
ラミネートしたものや、熱可塑性ポリイミド樹脂を接着
剤として使用し、金属導体層とポリイミド樹脂層とを貼
着したものが挙げられる。
【0011】上記のような2層構造フィルムキャリア本
体・ポリイミド樹脂層所定部を切削除去するために用い
られる実質的にダイヤモンド製の切刃を有する刃として
は無垢のダイヤモンド刃のほかに超硬合金製等の刃の首
もしくはその先の部分にダイヤモンド製の刃を熱融着、
接着剤接着もしくは嵌合により接続した刃や、超硬合金
製等の刃にダイヤモンドを蒸着した刃があげられる。い
づれも切刃稜の丸味半径が10μm以下となるように研
磨する。これらの刃の内、超硬合金製等の刃の首もしく
はその先の部分にダイヤモンド製の刃を接続した刃が製
作費用、あるいは研磨及び切削加工時の欠けの発生が少
ないこと等からより好ましい。
【0012】本発明は、上記のような特殊な切刃を用い
ることにより2層構造フィルムキャリア本体のポリイミ
ド樹脂層所定部分を被開孔部の残存金属導体層の塑性変
形と切刃の摩耗を殆ど生じることなく切削加工除去する
ことが可能となるものである。これは次のような理由に
よるものと考えられる。すなわち、2層構造フィルムキ
ャリア本体のポリイミド樹脂層を深さ方向に完全に除去
するためには図2Aに示すように金属導体層も深さ方向
に一部切削することが考えられる。一般の切削加工にお
ける被切削加工物への切込み深さtと切刃稜丸味半径R
との関係は図2Bに示すように切込み深さtが切刃稜丸
味半径Rより大なる条件の場合には切層を生じ切削が行
なわれるが、図2Cに示すように切込み深さtが切刃稜
丸味半径Rより小なる条件の場合には切刃の上すべりが
生じ切削は行なわれず、切削のため供されるエネルギー
は、熱及び被切削物の変形や切刃の摩耗等にのみ消費さ
れてしまう。
【0013】図2Aに示すように2層構造フィルムキャ
リア本体のポリイミド樹脂層深さ方向に完全除去加工す
る場合には切削エネルギーの殆ど大部分が金属導体層の
切削に供されるものと考えられ、被開孔部の残存金属導
体層の塑性変形を防止し、又切刃の摩耗を防止するため
には切刃稜丸味半径Rはポリイミド樹脂層厚みt2と金属
導体層切込み深さt1の合計(t1+t2)以下でなく、実質
的に金属導体層切込み深さt1以下が必要となる。こゝ
で、金属導体層切込み深さt1は一般には10μm以下で
あり、切刃稜丸味半径Rは10μm以下が必要となる。
図1Aに示すように実質的にダイヤモンド製の切刃稜丸
味半径R1 は同一の切刃稜研磨角度θを有する図1Bに
示す超硬合金製切刃の切刃稜丸味半径R2 よりも小さく
且つ10μm以下とすること及び摩耗が小のためこれを
維持することが可能であり被開孔部の残存金属導体の塑
性変形及び切刃の摩耗を殆ど生ぜしめないことができ
る。
【0014】又、ダイヤモンドは超硬合金に比し、熱伝
導性にはるかにすぐれており、1000kg/mm2以上にものぼ
る切削エネルギ−の相当量が熱となり、被切削部の残存
金属導体層が塑性変形しやすくなるような高温状態に到
ることを熱伝導性の悪い超硬合金製切刃使用の場合より
もはるかに抑制できることもその理由の一つと考えられ
る。又、ダイヤモンドは硬度が最も大きく、切刃の摩耗
が生じ難いこともその理由の一つである。
【0015】
【発明の効果】以上のように本発明は、金属導体層とポ
リイミド樹脂層からなる2層構造フィルムキャリア本体
の所定部分のポリイミド樹脂層を特殊な切刃を有する切
削加工機を用いて除去することにより、被開孔部の残存
金属導体層の塑性変形を殆ど生じせしめることなくテバ
イスホ−ル等が開孔可能となる。また、フィルムキャリ
アに形成されるデバイスホ−ルに突出したフィンガ−状
のインナ−リ−ドの位置精度を維持向上せしめることが
可能となり、且つ切刃の摩耗が少なく刃交換や切削加工
条件の変更頻度を小さくすることができ、生産性、作業
性、経済性の大巾な向上が実現できる。そしてそれによ
って耐熱性、信頼性等の諸特性にすぐれたフィルムキャ
リアを容易に製造できるようになる。
【0016】
【図面の簡単な説明】
図1は本発明に係るダイヤモンド製切刃の切刃稜断面
図、図2は一般の座ぐり加工等に用いられる超硬合金製
切刃の切刃稜断面図である。両図においてそれぞれθは
切刃稜研磨角度、R1 及びR2 はそれぞれの切刃稜丸味
半径を示し、R1 <R2 である。図3は本発明に係る2
層構造フィルムキャリア本体のポリイミド樹脂層b及び
金属導体層cの切削状態断面図でt1 は金属導体層切込
み深さ、t2 はポリイミド樹脂層厚さ、Rは切刃稜aの
丸味半径である。図4は公知方法における被切削物切込
み深さtよりも小さな切刃稜aの丸味半径Rを有する切
刃による切削加工断面図、図5は被切削切込み深さtよ
りも大きな切刃稜aの丸味半径Rを有する切刃による切
削加工断面図である。両図において、bは夫々被切削物
である。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属導体層とポリイミド樹脂層からなる
    2層構造のフィルムキャリア本体を準備し、該フィルム
    キャリア本体の所定部分の該ポリイミド樹脂層を切削加
    工機を用いて除去することによりポリイミド樹脂層に開
    孔部を形成してフィルムキャリアを製造する方法におい
    て、該切削加工機の切刃の刃部の材質がダイヤモンドで
    あることを特徴とするフィルムキャリアの製造方法。
  2. 【請求項2】 切刃の切刃稜の丸味半径が10μm以下
    の切刃である請求項第1項記載のフィルムキャリアの製
    造方法。
JP3046138A 1991-02-19 1991-02-19 フィルムキャリアの製造方法 Expired - Fee Related JP2511736B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3046138A JP2511736B2 (ja) 1991-02-19 1991-02-19 フィルムキャリアの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3046138A JP2511736B2 (ja) 1991-02-19 1991-02-19 フィルムキャリアの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04300124A JPH04300124A (ja) 1992-10-23
JP2511736B2 true JP2511736B2 (ja) 1996-07-03

Family

ID=12738618

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3046138A Expired - Fee Related JP2511736B2 (ja) 1991-02-19 1991-02-19 フィルムキャリアの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2511736B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104625634A (zh) * 2014-12-30 2015-05-20 江苏安德信超导加速器科技有限公司 一种穿通密封件加工及焊接工艺

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6352431A (ja) * 1986-08-22 1988-03-05 Hitachi Micro Comput Eng Ltd フイルムキヤリアパツケ−ジ
JPS6451205A (en) * 1987-08-21 1989-02-27 Nec Corp Diamond tool

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104625634A (zh) * 2014-12-30 2015-05-20 江苏安德信超导加速器科技有限公司 一种穿通密封件加工及焊接工艺

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04300124A (ja) 1992-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4911727B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3530149B2 (ja) 配線基板の製造方法及び半導体装置
JPH08125077A (ja) 半導体装置の製造方法、及び半導体装置
JP4479611B2 (ja) 半導体装置
JP4466662B2 (ja) 半導体装置の金属電極形成方法
JP2511736B2 (ja) フィルムキャリアの製造方法
JP2004119606A (ja) 半導体基板の貫通孔埋め込み方法および半導体基板
JP2003211660A (ja) インクジェットヘッドおよびその製造方法
JP2508848B2 (ja) 銅配線セラミック基板の製造方法
JP4676859B2 (ja) 電子部品パッケージ用プリント配線板及びその製造方法
JPH0750727B2 (ja) フィルムキャリアの製造方法
JP2003060343A (ja) 配線基板の製造方法
JP2003127143A (ja) 微細金型の製造方法
JP4107003B2 (ja) 配線基板の製造方法および同製造方法に使用される基板
JP2715579B2 (ja) 銅配線セラミック基板の製造方法
JPH06333991A (ja) フィルムキャリアの製造方法
JPH04273455A (ja) フィルムキャリアの製造方法
JP4086771B2 (ja) バンプ電極、バンプ電極製造方法及びバンプ電極接続構造
US6602431B2 (en) Enhancements in sheet processing and lead formation
JPS63161644A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH065609A (ja) バンプ形成方法
JPS6088452A (ja) バンプ付フイルムキヤリヤとその製造方法
JPH10270844A (ja) 配線板の製造方法
CN117500165A (zh) 一种厚铜pcb上长槽孔的加工方法
JPH0620089B2 (ja) キャリヤーテープの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090416

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090416

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100416

Year of fee payment: 14

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees