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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022117091A (ja) 2021-01-29 2022-08-10 キヤノン株式会社 計測装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6026343A (ja) * 1983-07-22 1985-02-09 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 投影露光装置
JP3013463B2 (ja) 1991-02-01 2000-02-28 株式会社ニコン 焦点位置検出装置及び投影露光装置
JPH0883753A (ja) * 1994-09-13 1996-03-26 Nikon Corp 焦点検出方法
CN1144263C (zh) * 1996-11-28 2004-03-31 株式会社尼康 曝光装置以及曝光方法
WO2000030163A1 (en) * 1998-11-18 2000-05-25 Nikon Corporation Exposure method and device
JP2002324746A (ja) * 2001-04-25 2002-11-08 Nikon Corp 露光方法及び露光装置
JP2002353099A (ja) * 2001-05-22 2002-12-06 Canon Inc 位置検出方法及び装置及び露光装置及びデバイス製造方法
JP2005175034A (ja) * 2003-12-09 2005-06-30 Canon Inc 露光装置
JP2006135015A (ja) * 2004-11-04 2006-05-25 Canon Inc 露光装置
JP2008283052A (ja) * 2007-05-11 2008-11-20 Toshiba Corp 液浸露光装置および半導体装置の製造方法
JP2010251546A (ja) * 2009-04-16 2010-11-04 Canon Inc 露光方法
JP5662717B2 (ja) * 2010-07-08 2015-02-04 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイスの製造方法
JP2012141452A (ja) * 2010-12-28 2012-07-26 Olympus Corp 自動合焦機構および顕微鏡装置
JP2012189734A (ja) * 2011-03-10 2012-10-04 Canon Inc 露光装置
CN103091993B (zh) * 2011-11-02 2015-02-11 上海微电子装备有限公司 用于光刻机透镜热效应测量的测试标记及其测量方法
JP6552312B2 (ja) * 2015-07-16 2019-07-31 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP2019035813A (ja) * 2017-08-10 2019-03-07 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法及び物品の製造方法
JP2019079029A (ja) * 2017-10-24 2019-05-23 キヤノン株式会社 露光装置および物品の製造方法
JP2022026343A (ja) * 2020-07-30 2022-02-10 国立大学法人 筑波大学 感圧センサー、感圧センサーの製造方法および圧力検出方法

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