JP5662717B2 - 露光装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
Claims (10)
- マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、
前記基板を移動するためのステージと、
前記投影光学系の光軸に直交する第1の方向に長手方向を有する第1のパターン、及び、前記第1の方向と平行ではなく、且つ、前記投影光学系の光軸に直交する第2の方向に長手方向を有する第2のパターンのそれぞれを前記投影光学系の物体面に配置したときの、前記第1のパターンからの光が前記投影光学系を介して結像する前記光軸方向の第1の結像位置、及び、前記第2のパターンからの光が前記投影光学系を介して結像する前記光軸方向の第2の結像位置のそれぞれのデータを取得する取得部と、
前記マスクのパターンを前記基板に投影するときの前記基板の前記光軸方向の目標位置に前記基板が位置決めされるように前記ステージを制御する制御部と、
を有し、
前記取得部は、前記第1の結像位置における焦点深度及び前記第2の結像位置における焦点深度のデータを取得し、
前記制御部は、前記第1の結像位置における焦点深度のデータに基づいて比率Hratioを決定し、前記第2の結像位置における焦点深度のデータに基づいて比率Vratioを決定し、
前記第1の結像位置をH_C、前記第2の結像位置をV_Cとすると、
前記制御部は、前記マスクのパターンとして前記第1の方向に長手方向を有するパターンと前記第2の方向に長手方向を有するパターンとが混在する混在パターンを前記基板に投影する場合には、前記第1の結像位置及び前記第2の結像位置のそれぞれに前記比率Hratio及びVratio(Hratio+Vratio=100%)を乗じたH_C×Hratio+V_C×Vratioとなる位置を前記目標位置として前記基板が位置決めされるように前記ステージを制御することを特徴とする露光装置。 - 前記焦点深度のデータは、前記第1のパターン及び前記第2のパターンを前記基板に転写し、前記基板に転写した前記第1パターン及び前記第2パターンを測定することによって得られることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、
前記基板を移動するためのステージと、
前記投影光学系の光軸に直交する第1の方向に長手方向を有する第1のパターン、及び、前記第1の方向と平行ではなく、且つ、前記投影光学系の光軸に直交する第2の方向に長手方向を有する第2のパターンのそれぞれを前記投影光学系の物体面に配置したときの、前記第1のパターンからの光が前記投影光学系を介して結像する前記光軸方向の第1の結像位置、及び、前記第2のパターンからの光が前記投影光学系を介して結像する前記光軸方向の第2の結像位置のそれぞれのデータを取得する取得部と、
前記マスクのパターンを前記基板に投影するときの前記基板の前記光軸方向の目標位置に前記基板が位置決めされるように前記ステージを制御する制御部と、
を有し、
前記第1の結像位置及び前記第2の結像位置は、前記マスクのパターンを前記基板に投影するジョブを開始してからの積算時間に応じて変化し、
前記マスクのパターンとして前記第1の方向に長手方向を有するパターンのみを有するパターンを前記投影光学系を介して前記基板に投影する期間の後、前記期間が経過した後の前記第2の結像位置を前記目標位置として前記基板が位置決めされるように前記制御部が前記ステージを制御しながら、前記マスクのパターンとして前記第2の方向に長手方向を有するパターンのみを有するパターンを前記基板に投影することを特徴とする露光装置。 - マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、
前記基板を移動するためのステージと、
前記投影光学系の光軸に直交する第1の方向に長手方向を有する第1のパターン、及び、前記第1の方向と平行ではなく、且つ、前記投影光学系の光軸に直交する第2の方向に長手方向を有する第2のパターンのそれぞれを前記投影光学系の物体面に配置したときの、前記第1のパターンからの光が前記投影光学系を介して結像する前記光軸方向の第1の結像位置、及び、前記第2のパターンからの光が前記投影光学系を介して結像する前記光軸方向の第2の結像位置のそれぞれのデータを取得する取得部と、
前記マスクのパターンを前記基板に投影するときの前記基板の前記光軸方向の目標位置に前記基板が位置決めされるように前記ステージを制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記マスクのパターンとして前記第1の方向に長手方向を有するパターンと前記第2の方向に長手方向を有するパターンとが混在する混在パターンを前記投影光学系を介して前記基板に投影する場合に、
前記第1の結像位置における焦点深度領域の一部又は全部が前記第2の結像位置における焦点深度領域に重なる時間領域では、前記第1の結像位置及び前記第2の結像位置に基づいて前記目標位置を決定し、
前記第1の結像位置における焦点深度領域と前記第2の結像位置における焦点深度領域とが重ならないときに、前記マスクのパターンの前記基板への投影を中断することを特徴とする露光装置。 - 前記マスクのパターンを前記基板に投影するジョブを開始してからの積算時間に応じて、前記ジョブを行う期間を時間順に第1の時間領域、第2の時間領域及び第3の時間領域とすると、
前記第1の時間領域では、前記第1の結像位置における焦点深度の下端点と上端点との間の焦点深度領域の全てが前記第2の結像位置における焦点深度の下端点と上端点との間の焦点深度領域に重なり、
前記第2の時間領域では、前記第1の結像位置における焦点深度領域の一部が前記第2の結像位置における焦点深度領域に重なり、
前記第3の時間領域では、前記第1の結像位置における焦点深度領域と前記前記第2の結像位置における焦点深度領域とが重ならず、
前記制御部は、前記マスクのパターンとして前記第1の方向に長手方向を有するパターンと前記第2の方向に長手方向を有するパターンとが混在する混在パターンを前記基板に投影する場合に、前記第1の時間領域及び前記第2の時間領域では、前記第1の結像位置及び前記第2の結像位置に基づいて前記目標位置を決定し、前記第3の時間領域では、前記マスクのパターンの前記基板への投影を中断することを特徴とする請求項4に記載の露光装置。 - 前記第1の結像位置における焦点深度領域の一部又は全部が前記第2の結像位置における焦点深度領域に重なる時間領域は、前記第1の結像位置における焦点深度領域の全部が前記第2の結像位置における焦点深度領域に重なる第1の時間領域と、前記第1の時間領域とは異なり、前記第1の結像位置における焦点深度領域の一部が前記第2の結像位置における焦点深度領域に重なる第2の時間領域とを含み、
前記制御部は、
前記第1の時間領域では、前記第1の結像位置を前記目標位置として決定し、
前記第2の時間領域では、前記第1の結像位置における焦点深度の下端点と上端点のうち前記第2の結像位置における焦点深度に含まれる端点と、前記第2の結像位置における焦点深度の下端点と上端点のうち前記第1の結像位置における焦点深度に含まれる端点との間に含まれる位置を前記目標位置として決定することを特徴とする請求項4に記載の露光装置。 - 前記第1の結像位置における焦点深度領域の一部又は全部が前記第2の結像位置における焦点深度領域に重なる時間領域は、前記第1の結像位置における焦点深度領域の全部が前記第2の結像位置における焦点深度領域に重なる第1の時間領域と、前記第1の時間領域とは異なり、前記第1の結像位置における焦点深度領域の一部が前記第2の結像位置における焦点深度領域に重なる第2の時間領域とを含み、
前記制御部は、
前記第1の時間領域では、前記第1の結像位置を前記目標位置として決定し、
前記第1の結像位置をH_C、前記第2の結像位置をV_Cとすると、
前記第2の時間領域では、前記第1の結像位置及び前記第2の結像位置のそれぞれに予め定められた比率Hratio及びVratio(Hratio+Vratio=100%)を乗じたH_C×Hratio+V_C×Vratioとなる位置を前記目標位置として決定することを特徴とする請求項4に記載の露光装置。 - 前記第1の結像位置をH_C、前記第2の結像位置をV_Cとすると、
前記制御部は、前記第1の結像位置における焦点深度領域の一部又は全部が前記第2の結像位置における焦点深度領域に重なる時間領域では、前記第1の結像位置及び前記第2の結像位置のそれぞれに予め定められた比率Hratio及びVratio(Hratio+Vratio=100%)を乗じたH_C×Hratio+V_C×Vratioとなる位置を前記目標位置として決定することを特徴とする請求項4に記載の露光装置。 - 前記比率Hratioは、前記第1の結像位置における焦点深度に基づいて定められ、
前記比率Vratioは、前記第2の結像位置における焦点深度に基づいて定められることを特徴とする請求項7又は8に記載の露光装置。 - 請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
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JP2766575B2 (ja) * | 1992-01-23 | 1998-06-18 | 三菱電機株式会社 | 投影レンズの評価装置及び評価方法 |
JPH0817719A (ja) * | 1994-06-30 | 1996-01-19 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JPH0922868A (ja) * | 1995-07-06 | 1997-01-21 | Canon Inc | 投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法 |
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WO2003075328A1 (fr) * | 2002-03-01 | 2003-09-12 | Nikon Corporation | Procede de reglage d'un systeme optique de projection, procede de prediction, procede d'evaluation, procede de reglage, procede d'exposition, dispositif d'exposition, programme et procede de fabrication dudit dispositif |
JP2004047786A (ja) * | 2002-07-12 | 2004-02-12 | Nikon Corp | 照明光学装置,露光装置および露光方法 |
JP2004319937A (ja) * | 2003-04-21 | 2004-11-11 | Nikon Corp | 計測方法、光学特性計測方法、露光装置の調整方法及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
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WO2009018846A1 (en) * | 2007-08-09 | 2009-02-12 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of structuring a photosensitive material |
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