JP5089137B2 - 露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
10 光源部
20 照明光学系
24 オプティカルインテグレーター
26 遮光部材
26a 駆動部
27 マスキングブレード
30 レチクル(原版)
32 アライメントマーク
32A X方向の開口パターン
32B Y方向の開口パターン
40 投影光学系
50 ウェハ(基板)
60 ウェハステージ
70 ウェハ基準プレート
72 アライメントマーク
72A X方向の開口パターン
72B Y方向の開口パターン
80、80A及び80B フォトダイオード
1A 露光装置
90 波面収差調整機構
910 測定部
912 波面収差測定用レチクル
912a 波面収差測定用マーク
914 受光部
914a 開口パターン
914b パターン基板
914c フーリエ変換レンズ
914d 2次元CCDセンサー
920 調整部
Claims (9)
- 光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、
前記照明光学系は、
前記レチクルと光学的に共役な位置からずれた位置において光を遮ることにより前記レチクルを照明する光の照度分布を制御するための遮光部材を有し、
前記遮光部材は前記照明光学系の光路に対して挿脱可能であることを特徴とする露光装置。 - 前記基板を露光する場合には前記レチクルを照明する光の照度分布を制御するために前記照明光学系の光路中に前記遮光部材が配置され、前記レチクルが配置される面である前記投影光学系の物体面に配置された測定用パターンを照明する場合には前記照明光学系の光路外に前記遮光部材が配置されることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記測定用パターンを照明して、前記レチクル又は前記レチクルを保持する第1のステージと前記基板を保持する第2のステージとの位置を測定することを特徴とする請求項2記載の露光装置。
- 前記遮光部材を前記照明光学系の光路に対して挿脱する駆動部を有することを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項記載の露光装置。
- 前記レチクルと前記基板とは相対的に走査方向に走査され、
前記測定用パターンは、前記走査方向に沿って配置された複数のパターンを含み、前記照明光学系の光路外に前記遮光部材が配置されて前記複数のパターンが同時に照明されることを特徴とする請求項2記載の露光装置。 - 前記レチクルと前記基板とは相対的に走査方向に走査され、
前記基板を露光する場合、前記走査方向における前記照度分布は台形状であり、
前記測定用パターンを照明する場合、前記走査方向における前記照度分布は矩形状であることを特徴とする請求項2記載の露光装置。 - 前記測定用パターンを照明して、前記投影光学系の波面収差を測定することを特徴とする請求項2記載の露光装置。
- 前記複数のパターンは、前記走査方向に垂直な方向に延びた第1の開口パターンと、前記走査方向に延びた第2の開口パターンとを含むことを特徴とする請求項5記載の露光装置。
- 請求項1乃至8のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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