JP2024114710A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019078206A1 (ja) 2017-10-17 2019-04-25 Hoya株式会社 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法
TWI811369B (zh) 2018-05-25 2023-08-11 日商Hoya股份有限公司 反射型光罩基底、反射型光罩、以及反射型光罩及半導體裝置之製造方法
WO2020235612A1 (ja) * 2019-05-21 2020-11-26 Agc株式会社 Euvリソグラフィ用反射型マスクブランク
JP7610346B2 (ja) * 2019-11-01 2025-01-08 テクセンドフォトマスク株式会社 反射型マスク及び反射型マスクの製造方法
CN111290224B (zh) * 2020-02-20 2023-04-07 上海华力微电子有限公司 一种单元标记及其设计方法
JP7318607B2 (ja) * 2020-07-28 2023-08-01 Agc株式会社 Euvリソグラフィ用反射型マスクブランク、euvリソグラフィ用反射型マスク、およびそれらの製造方法
TW202246879A (zh) * 2021-02-09 2022-12-01 美商應用材料股份有限公司 極紫外光遮罩毛胚結構
US11782337B2 (en) * 2021-09-09 2023-10-10 Applied Materials, Inc. Multilayer extreme ultraviolet reflectors
JP2025036222A (ja) 2023-08-31 2025-03-14 Hoya株式会社 多層反射膜付き基板、マスクブランク、転写用マスク及び転写用マスクの製造方法
KR20250179074A (ko) * 2024-06-20 2025-12-29 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 반사형 마스크 블랭크 및 그 제조 방법, 및 반사형 마스크 블랭크 관련 기판의 검사 방법
US20260044067A1 (en) * 2024-08-09 2026-02-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Reflective mask blank and method for manufacturing the same
WO2026042468A1 (ja) * 2024-08-22 2026-02-26 Agc株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスク、反射型マスクの製造方法
WO2026058621A1 (ja) * 2024-09-13 2026-03-19 Agc株式会社 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスク

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH021901A (ja) * 1988-06-09 1990-01-08 Fujitsu Ltd 位置合わせマークの形成方法
JP3219502B2 (ja) 1992-12-01 2001-10-15 キヤノン株式会社 反射型マスクとその製造方法、並びに露光装置と半導体デバイス製造方法
US6830851B2 (en) * 2001-06-30 2004-12-14 Intel Corporation Photolithographic mask fabrication
US6756158B2 (en) * 2001-06-30 2004-06-29 Intel Corporation Thermal generation of mask pattern
JP2005317617A (ja) * 2004-04-27 2005-11-10 Nikon Corp 位置検出用マーク及びそれを備えたレチクル又は感光性基板、位置検出方法、マーク評価方法、及びマーク検出方法とマーク検出装置、並びに露光方法と露光装置
US8399160B2 (en) * 2008-11-27 2013-03-19 Hoya Corporation Multilayer reflective film coated substrate, reflective mask blank, and method of manufacturing a reflective mask
JP2010219445A (ja) 2009-03-18 2010-09-30 Nuflare Technology Inc 荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画用の基準マークの位置検出方法及び荷電粒子ビーム描画装置
JP5910625B2 (ja) * 2011-03-07 2016-04-27 旭硝子株式会社 多層基板、多層基板の製造方法、多層基板の品質管理方法
WO2013031863A1 (ja) 2011-09-01 2013-03-07 旭硝子株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクブランクの品質管理方法
JP6460619B2 (ja) 2012-03-12 2019-01-30 Hoya株式会社 反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法
JP2013222811A (ja) 2012-04-16 2013-10-28 Lasertec Corp Euvマスクブランクス、マスクの製造方法、及びアライメント方法
KR20150058254A (ko) * 2012-09-28 2015-05-28 아사히 가라스 가부시키가이샤 Euv 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크 및 그 제조 방법, 그리고 euv 리소그래피용 반사형 마스크 및 그 제조 방법
WO2015146140A1 (ja) * 2014-03-24 2015-10-01 凸版印刷株式会社 Euvマスクの位相欠陥評価方法、euvマスクの製造方法、euvマスクブランク及びeuvマスク
JP6713251B2 (ja) * 2015-03-30 2020-06-24 Hoya株式会社 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びにそれらの製造方法
JP6586934B2 (ja) 2015-09-17 2019-10-09 Agc株式会社 反射型マスクブランク、及び反射型マスクブランクの製造方法
JP2017075997A (ja) * 2015-10-13 2017-04-20 旭硝子株式会社 反射型マスクブランク、及び反射型マスクブランクの製造方法
WO2019078206A1 (ja) 2017-10-17 2019-04-25 Hoya株式会社 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法
WO2022004201A1 (en) 2020-06-30 2022-01-06 Aoyama Seisakusho Co., Ltd. Piercing nut and method for fixing the same to inner surface of mating member having closed sectional shape

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