JP2024075660A5 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JP2024075660A5 JP2024075660A5 JP2024041943A JP2024041943A JP2024075660A5 JP 2024075660 A5 JP2024075660 A5 JP 2024075660A5 JP 2024041943 A JP2024041943 A JP 2024041943A JP 2024041943 A JP2024041943 A JP 2024041943A JP 2024075660 A5 JP2024075660 A5 JP 2024075660A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- multilayer reflective
- reflective film
- film
- coated substrate
- multilayer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019175851 | 2019-09-26 | ||
| JP2019175851 | 2019-09-26 | ||
| PCT/JP2020/035728 WO2021060253A1 (ja) | 2019-09-26 | 2020-09-23 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 |
| JP2021548918A JP7746160B2 (ja) | 2019-09-26 | 2020-09-23 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021548918A Division JP7746160B2 (ja) | 2019-09-26 | 2020-09-23 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2024075660A JP2024075660A (ja) | 2024-06-04 |
| JP2024075660A5 true JP2024075660A5 (enExample) | 2025-12-03 |
Family
ID=75166148
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021548918A Active JP7746160B2 (ja) | 2019-09-26 | 2020-09-23 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 |
| JP2024041943A Pending JP2024075660A (ja) | 2019-09-26 | 2024-03-18 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021548918A Active JP7746160B2 (ja) | 2019-09-26 | 2020-09-23 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US12346017B2 (enExample) |
| JP (2) | JP7746160B2 (enExample) |
| KR (1) | KR20220065763A (enExample) |
| CN (1) | CN114424119A (enExample) |
| TW (2) | TW202522117A (enExample) |
| WO (1) | WO2021060253A1 (enExample) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI811037B (zh) | 2016-07-27 | 2023-08-01 | 美商應用材料股份有限公司 | 具多層吸收劑的極紫外遮罩坯料及製造方法 |
| TW202141165A (zh) | 2020-03-27 | 2021-11-01 | 美商應用材料股份有限公司 | 極紫外光遮罩吸收材料 |
| TW202202641A (zh) | 2020-07-13 | 2022-01-16 | 美商應用材料股份有限公司 | 極紫外線遮罩吸收劑材料 |
| US20220350233A1 (en) * | 2021-05-03 | 2022-11-03 | Applied Materials, Inc. | Extreme ultraviolet mask absorber materials |
| TW202532955A (zh) * | 2023-12-27 | 2025-08-16 | 日商Ｈｏｙａ股份有限公司 | 反射型光罩基底、反射型光罩、及半導體裝置之製造方法 |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5433988A (en) | 1986-10-01 | 1995-07-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Multi-layer reflection mirror for soft X-ray to vacuum ultraviolet ray |
| JPH0797159B2 (ja) | 1986-10-01 | 1995-10-18 | キヤノン株式会社 | 軟ｘ線・真空紫外線用多層膜反射鏡 |
| US5310603A (en) | 1986-10-01 | 1994-05-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Multi-layer reflection mirror for soft X-ray to vacuum ultraviolet ray |
| JPH0816720B2 (ja) | 1992-04-21 | 1996-02-21 | 日本航空電子工業株式会社 | 軟ｘ線多層膜反射鏡 |
| US7217940B2 (en) * | 2003-04-08 | 2007-05-15 | Cymer, Inc. | Collector for EUV light source |
| JP4342830B2 (ja) | 2003-05-02 | 2009-10-14 | Ｈｏｙａ株式会社 | 反射型マスクブランクスの製造方法及び反射型マスクの製造方法並びに反射多層膜付き基板の製造方法。 |
| JP4553239B2 (ja) * | 2004-06-29 | 2010-09-29 | Ｈｏｙａ株式会社 | 反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに半導体装置の製造方法 |
| JP2008101916A (ja) | 2006-10-17 | 2008-05-01 | Canon Inc | 多層膜光学素子 |
| KR101485754B1 (ko) * | 2008-09-26 | 2015-01-26 | 주식회사 에스앤에스텍 | 극자외선용 블랭크 마스크 및 이를 이용하여 제조되는 포토마스크 |
| WO2010113787A1 (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-07 | Hoya株式会社 | マスクブランク及び転写用マスクの製造方法 |
| JP2010280931A (ja) * | 2009-06-03 | 2010-12-16 | Canon Inc | 多層膜成膜方法 |
| JP5662123B2 (ja) * | 2010-02-02 | 2015-01-28 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | Ｅｕｖマスク修正装置および方法 |
| JP2012212787A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-01 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射型マスクの製造方法、反射型マスク用イオンビーム装置、および反射型マスク |
| KR101596177B1 (ko) | 2011-08-25 | 2016-02-19 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 반사형 마스크 및 그 제조 방법 |
| JP2013122952A (ja) * | 2011-12-09 | 2013-06-20 | Asahi Glass Co Ltd | Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランクおよびその製造方法、ならびに該マスクブランク用の反射層付基板の製造方法 |
| JP6416129B2 (ja) | 2013-02-15 | 2018-10-31 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 放射源コレクタ及び製造方法 |
| US9612521B2 (en) | 2013-03-12 | 2017-04-04 | Applied Materials, Inc. | Amorphous layer extreme ultraviolet lithography blank, and manufacturing and lithography systems therefor |
| JP2014229825A (ja) * | 2013-05-24 | 2014-12-08 | 旭硝子株式会社 | Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法および、該マスクブランク用の反射層付基板の製造方法 |
| NL2017602A (en) * | 2015-11-02 | 2017-05-23 | Stichting Voor Fundamenteel Onderzoek Der Materie | Multilayer Reflector, Method of Manufacturing a Multilayer Reflector and Lithographic Apparatus |
| JP7097159B2 (ja) | 2017-07-03 | 2022-07-07 | 高砂熱学工業株式会社 | 登録プログラム、携帯端末及び登録方法 |
| SG11201913862WA (en) * | 2017-07-05 | 2020-01-30 | Toppan Printing Co Ltd | Reflective photomask blank and reflective photomask |
| JP6904234B2 (ja) | 2017-12-15 | 2021-07-14 | Ａｇｃ株式会社 | マスクブランク用基板およびマスクブランク |
| JP7401356B2 (ja) * | 2019-03-27 | 2023-12-19 | Hoya株式会社 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 |
| JP6931729B1 (ja) * | 2020-03-27 | 2021-09-08 | Hoya株式会社 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体デバイスの製造方法 |
-
2020
- 2020-09-23 TW TW114105764A patent/TW202522117A/zh unknown
- 2020-09-23 US US17/761,100 patent/US12346017B2/en active Active
- 2020-09-23 TW TW109132882A patent/TWI877228B/zh active
- 2020-09-23 CN CN202080066022.1A patent/CN114424119A/zh active Pending
- 2020-09-23 JP JP2021548918A patent/JP7746160B2/ja active Active
- 2020-09-23 KR KR1020227007436A patent/KR20220065763A/ko active Pending
- 2020-09-23 WO PCT/JP2020/035728 patent/WO2021060253A1/ja not_active Ceased
-
2024
- 2024-03-18 JP JP2024041943A patent/JP2024075660A/ja active Pending
-
2025
- 2025-05-28 US US19/220,266 patent/US20250284189A1/en active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2024075660A5 (enExample) | ||
| JP2022069683A5 (enExample) | ||
| US8394558B2 (en) | Reflection type photomask blank, manufacturing method thereof, reflection type photomask, and manufacturing method of semiconductor device | |
| JP6185721B2 (ja) | マスクブランク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法 | |
| TW201541199A (zh) | 保護膜結構及其形成方法及保護膜－罩幕結構 | |
| JP2007133102A (ja) | 反射防止膜を有する光学素子及びそれを有する露光装置 | |
| TWI724186B (zh) | 罩幕結構與罩幕製程方法 | |
| TWI767370B (zh) | 用於極紫外光微影的使用氮化硼奈米管之護膜以及其製造方法 | |
| US11726413B2 (en) | Overlay marks for reducing effect of bottom layer asymmetry | |
| JPWO2022138434A5 (enExample) | ||
| CN104656367A (zh) | 在euv光刻制程期间使用的euv掩膜 | |
| JP2019040200A5 (ja) | マスクブランク、位相シフトマスク、及び半導体デバイスの製造方法 | |
| JPH075675A (ja) | マスク及びその製造方法 | |
| JPWO2020196555A5 (enExample) | ||
| CN107783367B (zh) | 相位移光掩模 | |
| JP2007041603A5 (ja) | 超紫外線リソグラフィ用の反射デバイス、それを適用した超紫外線リソグラフィ用マスク、プロジェクション光学系及びリソグラフィ装置 | |
| TWI827878B (zh) | 光罩基底、相偏移光罩及半導體裝置之製造方法 | |
| CN1653392A (zh) | 光掩模及其制备方法 | |
| JPH07333829A (ja) | 光学素子およびその製造方法 | |
| JP2008288361A (ja) | 反射型フォトマスクブランク及びその製造方法、反射型フォトマスク、並びに、半導体装置の製造方法 | |
| JP2018146760A5 (enExample) | ||
| CN106842823B (zh) | 表面等离子体多次干涉曝光的亚波长结构制备方法 | |
| KR20140016662A (ko) | 극자외선 리소그래피용 마스크 및 그 제조방법, 마스크 정렬도 에러 보정방법 | |
| JP3215394B2 (ja) | 電極配線導通孔の製造方法および半導体装置の製造方法 | |
| JP2020134577A (ja) | レーザ露光用フォトマスク及びフォトマスクブランクス |