JP2023171555A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2023171555A5
JP2023171555A5 JP2023175816A JP2023175816A JP2023171555A5 JP 2023171555 A5 JP2023171555 A5 JP 2023171555A5 JP 2023175816 A JP2023175816 A JP 2023175816A JP 2023175816 A JP2023175816 A JP 2023175816A JP 2023171555 A5 JP2023171555 A5 JP 2023171555A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
processing
substrate
data
performance data
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2023175816A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7699180B2 (ja
JP2023171555A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2020558311A external-priority patent/JP7594914B2/ja
Application filed filed Critical
Publication of JP2023171555A publication Critical patent/JP2023171555A/ja
Publication of JP2023171555A5 publication Critical patent/JP2023171555A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7699180B2 publication Critical patent/JP7699180B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2023175816A 2018-11-21 2023-10-11 基板処理の条件設定支援方法、基板処理システム、記憶媒体及び学習モデル Active JP7699180B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018218375 2018-11-21
JP2018218375 2018-11-21
JP2020558311A JP7594914B2 (ja) 2018-11-21 2019-11-12 基板処理の条件設定支援方法、基板処理システム、記憶媒体及び学習モデル
PCT/JP2019/044429 WO2020105517A1 (ja) 2018-11-21 2019-11-12 基板処理の条件設定支援方法、基板処理システム、記憶媒体及び学習モデル

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020558311A Division JP7594914B2 (ja) 2018-11-21 2019-11-12 基板処理の条件設定支援方法、基板処理システム、記憶媒体及び学習モデル

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2023171555A JP2023171555A (ja) 2023-12-01
JP2023171555A5 true JP2023171555A5 (https=) 2025-02-07
JP7699180B2 JP7699180B2 (ja) 2025-06-26

Family

ID=70773628

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020558311A Active JP7594914B2 (ja) 2018-11-21 2019-11-12 基板処理の条件設定支援方法、基板処理システム、記憶媒体及び学習モデル
JP2023175816A Active JP7699180B2 (ja) 2018-11-21 2023-10-11 基板処理の条件設定支援方法、基板処理システム、記憶媒体及び学習モデル

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020558311A Active JP7594914B2 (ja) 2018-11-21 2019-11-12 基板処理の条件設定支援方法、基板処理システム、記憶媒体及び学習モデル

Country Status (5)

Country Link
JP (2) JP7594914B2 (https=)
KR (1) KR102826807B1 (https=)
CN (1) CN112997274B (https=)
TW (1) TWI830812B (https=)
WO (1) WO2020105517A1 (https=)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7542417B2 (ja) * 2019-12-27 2024-08-30 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置、基板処理方法、基板処理システム、及び学習用データの生成方法
JP7698502B2 (ja) * 2021-07-29 2025-06-25 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理方法及び基板処理装置
JP7808940B2 (ja) 2021-09-22 2026-01-30 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 学習装置、情報処理装置、基板処理装置、基板処理システム、学習方法、レシピ決定方法及び学習プログラム
US12443153B2 (en) 2021-09-24 2025-10-14 Onto Innovation Inc. Deep learning model in high-mix semiconductor manufacturing
US12278101B2 (en) * 2021-11-11 2025-04-15 Applied Materials, Inc. Coded substrate material identifier communication tool
JP7709930B2 (ja) 2022-02-18 2025-07-17 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理条件の設定方法、基板処理方法、基板処理条件の設定システム、及び、基板処理システム
JP2024165967A (ja) * 2023-05-18 2024-11-28 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 予測アルゴリズム生成装置、情報処理装置、基板処理装置、予測アルゴリズム生成方法、予測アルゴリズム生成プログラム、処理条件決定方法、処理条件決定プログラムおよび予測アルゴリズム
WO2025154410A1 (ja) * 2024-01-16 2025-07-24 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 推定システム、推定方法、データ選定システム、及びデータ選定方法
JP2025184266A (ja) * 2024-06-06 2025-12-18 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 学習モデル生成方法、学習モデル生成装置および学習モデル生成プログラム
KR102850431B1 (ko) * 2024-07-31 2025-08-27 (주)동주 인공지능 알고리즘을 이용하여 도장 제품의 불량률을 제어하는 장치 및 시스템

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04131930U (ja) * 1991-05-28 1992-12-04 山形日本電気株式会社 フオトレジスト塗布装置
JP2007088485A (ja) * 2001-12-25 2007-04-05 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法
JP2003234280A (ja) * 2002-02-08 2003-08-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理ユニットおよび基板処理装置
JP4170643B2 (ja) * 2002-03-14 2008-10-22 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
US7508034B2 (en) * 2002-09-25 2009-03-24 Sharp Kabushiki Kaisha Single-crystal silicon substrate, SOI substrate, semiconductor device, display device, and manufacturing method of semiconductor device
US8050900B2 (en) * 2003-09-30 2011-11-01 Tokyo Electron Limited System and method for using first-principles simulation to provide virtual sensors that facilitate a semiconductor manufacturing process
KR100598296B1 (ko) * 2004-06-08 2006-07-07 동부일렉트로닉스 주식회사 감광막 패턴 형성 방법
JP4990548B2 (ja) * 2006-04-07 2012-08-01 株式会社日立製作所 半導体装置の製造方法
JP2007317068A (ja) * 2006-05-29 2007-12-06 Osaka Prefecture Univ リコメンド装置およびリコメンドシステム
JP4464979B2 (ja) * 2007-03-05 2010-05-19 東京エレクトロン株式会社 処理システム、処理方法、及び、プログラム
KR100897351B1 (ko) * 2007-08-31 2009-05-15 세메스 주식회사 기판 현상 방법 및 장치
US7967995B2 (en) * 2008-03-31 2011-06-28 Tokyo Electron Limited Multi-layer/multi-input/multi-output (MLMIMO) models and method for using
JP2010034180A (ja) * 2008-07-28 2010-02-12 Toshiba Corp 半導体製造装置の制御方法および半導体装置の製造方法
US20100081285A1 (en) * 2008-09-30 2010-04-01 Tokyo Electron Limited Apparatus and Method for Improving Photoresist Properties
JP2011071296A (ja) * 2009-09-25 2011-04-07 Sharp Corp 特性予測装置、特性予測方法、特性予測プログラムおよびプログラム記録媒体
CN102033423B (zh) * 2009-09-28 2013-05-29 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 用于校准光刻工具的装置及方法
JP5336441B2 (ja) * 2010-08-24 2013-11-06 東京エレクトロン株式会社 液処理装置及び液処理方法
JP5314657B2 (ja) * 2010-11-12 2013-10-16 東京エレクトロン株式会社 ノズルの位置調整方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置
US9075318B2 (en) * 2012-03-07 2015-07-07 Tokyo Electron Limited Sequential stage mixing for a resist batch strip process
JP5739841B2 (ja) * 2012-06-13 2015-06-24 株式会社東芝 電子デバイスの生産管理装置、生産管理システム及び生産管理プログラム
JP6332095B2 (ja) * 2015-03-20 2018-05-30 東京エレクトロン株式会社 薬液供給装置の調整方法、記憶媒体及び薬液供給装置
JP6352230B2 (ja) 2015-10-09 2018-07-04 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法、基板処理装置及び記録媒体
US10048594B2 (en) * 2016-02-19 2018-08-14 Tokyo Electron Limited Photo-sensitized chemically amplified resist (PS-CAR) model calibration
JP6584352B2 (ja) * 2016-03-24 2019-10-02 東京エレクトロン株式会社 制御装置、基板処理システム、基板処理方法及びプログラム
JP6541599B2 (ja) * 2016-03-28 2019-07-10 東京エレクトロン株式会社 制御装置、基板処理システム、基板処理方法及びプログラム
EP3291007A1 (en) * 2016-08-30 2018-03-07 ASML Netherlands B.V. Patterning stack optimization
JP7024307B2 (ja) * 2017-01-26 2022-02-24 東京エレクトロン株式会社 塗布膜除去装置、塗布膜除去方法及び記憶媒体
JP6769335B2 (ja) * 2017-02-22 2020-10-14 東京エレクトロン株式会社 処理レシピの評価方法、記憶媒体、処理レシピ評価用の支援装置、及び液処理装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2023171555A5 (https=)
TWI830812B (zh) 基板處理之條件設定支援方法、基板處理系統、記錄媒體及學習模型
US11415898B2 (en) Signal-domain adaptation for metrology
KR102427132B1 (ko) 제품 유닛의 다중-스테이지 처리를 위한 장치 최적화
JP2024096135A5 (https=)
TWI659274B (zh) 產生用於控制或監控一生產程序的經預測資料
KR102307022B1 (ko) 리소그래피 장치 교정 방법
CN118073175B (zh) 晶圆清洗过程中化学品自动配比调控方法及系统
TWI695233B (zh) 計算方法、曝光方法、儲存媒體、曝光裝置以及製造物品之方法
JPWO2021015010A5 (https=)
JP2006031674A5 (https=)
JP7450517B2 (ja) 加工面判定装置、加工面判定プログラム、加工面判定方法、及び、加工システム
JP2005512314A (ja) レチクル測定値を使用したフォトリソグラフィ短寸法制御
JPS6161164A (ja) 感光性平版印刷版自動現像装置の現像補充液補充方法
JP7482018B2 (ja) 推定モデル作成装置、推定モデル作成方法、及び記憶媒体
US11187975B2 (en) Correction pattern generation device, pattern defect correction system, correction pattern generation method, and semiconductor device manufacturing method
JP2017040821A (ja) 決定方法、露光装置、プログラム、および物品の製造方法
CN114071014B (zh) 一种提高ic载板线路图形成像精度的方法及系统
CN102632686A (zh) 一种印刷版材的自动检测控制方法及其系统
CN118830059A (zh) 信息处理装置、推论装置、机器学习装置、信息处理方法、推论方法、及机器学习方法
JP2018060068A5 (https=)
JP2024080399A5 (https=)
JP7836896B2 (ja) 部品計数装置およびロボットシステム
CN114687129B (zh) 一种自动清洗洗衣机夹层的方法、装置、终端及存储介质
CN113196191A (zh) 生产管理系统、生产管理程序、生产量管理系统以及生产量管理程序