JP2024096135A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US12106468B2 (en) * 2019-10-02 2024-10-01 Prospection Solutions, LLC Foreign material inspection system
JP7431694B2 (ja) * 2020-07-28 2024-02-15 キヤノン株式会社 情報処理装置、膜形成装置、物品の製造方法、およびプログラム
JP2022189284A (ja) 2021-06-11 2022-12-22 東京エレクトロン株式会社 基板検査装置、基板検査方法及び記憶媒体
US20220404716A1 (en) * 2021-06-17 2022-12-22 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Inspection tool for a semiconductor processing tool and methods of use
KR20240117592A (ko) * 2021-12-10 2024-08-01 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 검사 방법, 기판 검사 프로그램 및 기판 검사 장치
US20250045906A1 (en) * 2021-12-21 2025-02-06 Tokyo Electron Limited Information processing method, information processing apparatus, and storage medium
US12386340B2 (en) * 2022-02-25 2025-08-12 Globalwafers Co., Ltd. Systems and methods for generating post-polishing topography for enhanced wafer manufacturing
US20240230755A9 (en) * 2022-10-20 2024-07-11 Mediatek Inc. Outlier Integrated Circuit Detection Method and Outlier Integrated Circuit Detection System by Using Machine Learning Frameworks
JP2024110453A (ja) * 2023-02-03 2024-08-16 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 検査装置および検査方法
WO2025041661A1 (ja) * 2023-08-23 2025-02-27 東京エレクトロン株式会社 基板検査装置、基板検査方法、及び記憶媒体

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08136466A (ja) * 1994-11-10 1996-05-31 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 画像パターン検査装置
US7860675B2 (en) * 2004-11-05 2010-12-28 Nec Corporation Pattern inspection apparatus, pattern inspection method, and pattern inspection program
JP2008002935A (ja) * 2006-06-22 2008-01-10 Tokyo Seimitsu Co Ltd 外観検査方法及び外観検査装置
JP4448181B2 (ja) 2008-03-18 2010-04-07 アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 パターン検査方法、パターン検査装置及びプログラム
NL2003716A (en) * 2008-11-24 2010-05-26 Brion Tech Inc Harmonic resist model for use in a lithographic apparatus and a device manufacturing method.
JP6004956B2 (ja) * 2013-01-29 2016-10-12 株式会社日立ハイテクノロジーズ パターン評価装置、及び、パターン評価装置を備えた外観検査装置
KR101939288B1 (ko) * 2014-02-12 2019-01-16 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 프로세스 윈도우를 최적화하는 방법
JP6251647B2 (ja) 2014-07-15 2017-12-20 株式会社ニューフレアテクノロジー マスク検査装置及びマスク検査方法
US10514614B2 (en) * 2015-02-13 2019-12-24 Asml Netherlands B.V. Process variability aware adaptive inspection and metrology
JP6244329B2 (ja) 2015-05-12 2017-12-06 東京エレクトロン株式会社 基板の検査方法、基板処理システム及びコンピュータ記憶媒体
US9915625B2 (en) * 2016-01-04 2018-03-13 Kla-Tencor Corp. Optical die to database inspection
US10043261B2 (en) * 2016-01-11 2018-08-07 Kla-Tencor Corp. Generating simulated output for a specimen
US10395356B2 (en) * 2016-05-25 2019-08-27 Kla-Tencor Corp. Generating simulated images from input images for semiconductor applications
US10395362B2 (en) * 2017-04-07 2019-08-27 Kla-Tencor Corp. Contour based defect detection
JP2018195119A (ja) * 2017-05-18 2018-12-06 住友電装株式会社 異変検出装置及び異変検出方法
JP6423064B2 (ja) * 2017-11-13 2018-11-14 東京エレクトロン株式会社 基板処理システム
JP7002949B2 (ja) * 2018-01-22 2022-01-20 株式会社日立ハイテク 画像評価方法及び画像評価装置
KR102541743B1 (ko) * 2018-09-03 2023-06-13 가부시키가이샤 프리퍼드 네트웍스 학습 장치, 추론 장치 및 학습 완료 모델
CN109543720B (zh) * 2018-10-30 2023-10-27 东华大学 一种基于对抗生成网络的晶圆图缺陷模式识别方法

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