JP2023159163A5 - - Google Patents
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Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018017167 | 2018-02-02 | ||
| JP2018017167 | 2018-02-02 | ||
| JP2018121282 | 2018-06-26 | ||
| JP2018121282 | 2018-06-26 | ||
| JP2019569605A JP7396049B2 (ja) | 2018-02-02 | 2019-02-01 | ジスルフィド構造を有するレジスト下層膜形成組成物 |
| PCT/JP2019/003574 WO2019151471A1 (ja) | 2018-02-02 | 2019-02-01 | ジスルフィド構造を有するレジスト下層膜形成組成物 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019569605A Division JP7396049B2 (ja) | 2018-02-02 | 2019-02-01 | ジスルフィド構造を有するレジスト下層膜形成組成物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023159163A JP2023159163A (ja) | 2023-10-31 |
| JP2023159163A5 true JP2023159163A5 (enExample) | 2024-03-12 |
| JP7647808B2 JP7647808B2 (ja) | 2025-03-18 |
Family
ID=67479675
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019569605A Active JP7396049B2 (ja) | 2018-02-02 | 2019-02-01 | ジスルフィド構造を有するレジスト下層膜形成組成物 |
| JP2023127123A Active JP7647808B2 (ja) | 2018-02-02 | 2023-08-03 | ジスルフィド構造を有するレジスト下層膜形成組成物 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019569605A Active JP7396049B2 (ja) | 2018-02-02 | 2019-02-01 | ジスルフィド構造を有するレジスト下層膜形成組成物 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US12222651B2 (enExample) |
| JP (2) | JP7396049B2 (enExample) |
| KR (1) | KR102777020B1 (enExample) |
| CN (1) | CN111670410A (enExample) |
| TW (1) | TWI840342B (enExample) |
| WO (1) | WO2019151471A1 (enExample) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112437901A (zh) * | 2018-07-24 | 2021-03-02 | 日产化学株式会社 | 聚合物主链中包含杂原子的抗蚀剂下层膜形成用组合物 |
| US12332566B2 (en) | 2018-07-31 | 2025-06-17 | Nissan Chemical Corporation | Resist underlayer film-forming composition |
| CN111809195B (zh) * | 2019-04-12 | 2021-12-21 | 北京工商大学 | α-二硫醚二羧酸类化合物的电化学催化氧化偶联合成方法 |
| TW202128671A (zh) * | 2019-10-10 | 2021-08-01 | 日商日產化學股份有限公司 | 包含雜環化合物之阻劑下層膜形成組成物 |
| KR102665285B1 (ko) | 2020-06-12 | 2024-05-13 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 디올구조를 포함하는 레지스트 하층막 형성용 조성물 |
| KR20230062820A (ko) | 2020-09-07 | 2023-05-09 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 웨이퍼 처리방법 |
| US20240004295A1 (en) * | 2020-10-07 | 2024-01-04 | Nissan Chemical Corporation | Resist underlayer film-forming composition containing a reaction product of trifunctional compound |
| US20240126172A1 (en) * | 2022-09-16 | 2024-04-18 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoresist underlayer composition |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3368680B2 (ja) * | 1994-09-12 | 2003-01-20 | 日産化学工業株式会社 | 新規エポキシ化合物及びその製造方法 |
| JP4124678B2 (ja) * | 2002-03-12 | 2008-07-23 | 三井化学株式会社 | チオエポキシ系重合性組成物の製造方法 |
| JP4279070B2 (ja) * | 2003-02-20 | 2009-06-17 | Ｈｏｙａ株式会社 | 光学製品 |
| JP4895034B2 (ja) * | 2006-05-24 | 2012-03-14 | Ｊｓｒ株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、スペーサーおよびその形成方法 |
| JP4784784B2 (ja) * | 2006-08-28 | 2011-10-05 | 日産化学工業株式会社 | 液状添加剤を含むレジスト下層膜形成組成物 |
| JP4938539B2 (ja) * | 2007-04-24 | 2012-05-23 | 凸版印刷株式会社 | アルカリ現像型樹脂、フォトスペーサ用感光性樹脂組成物、及びこれを用いた液晶表示装置用基板 |
| JP2009096340A (ja) | 2007-10-17 | 2009-05-07 | Toyota Motor Corp | ハイブリッド車およびその制御方法 |
| JP5218785B2 (ja) * | 2008-01-30 | 2013-06-26 | 日産化学工業株式会社 | 硫黄原子を含有するレジスト下層膜形成用組成物及びレジストパターンの形成方法 |
| JP5227818B2 (ja) | 2009-01-22 | 2013-07-03 | 東京応化工業株式会社 | 被覆パターン形成方法、レジスト被覆膜形成用材料、レジスト組成物、パターン形成方法 |
| EP2430075A2 (en) * | 2009-04-29 | 2012-03-21 | Henkel Corporation | Moisture curable polydisulfides |
| WO2012053600A1 (ja) * | 2010-10-22 | 2012-04-26 | 日産化学工業株式会社 | フッ素系添加剤を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物 |
| KR20180082617A (ko) * | 2012-02-09 | 2018-07-18 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 막형성 조성물 및 이온주입방법 |
| JP5849152B2 (ja) * | 2012-04-27 | 2016-01-27 | 富士フイルム株式会社 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、有機ｅｌ表示装置および液晶表示装置 |
| JP5904890B2 (ja) * | 2012-07-02 | 2016-04-20 | 富士フイルム株式会社 | 感光性転写材料、硬化膜の製造方法、有機ｅｌ表示装置の製造方法、液晶表示装置の製造方法および静電容量型入力装置の製造方法 |
| JP6196897B2 (ja) | 2013-12-05 | 2017-09-13 | 東京応化工業株式会社 | ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び錯体 |
| US9678427B2 (en) * | 2013-12-27 | 2017-06-13 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Resist underlayer film-forming composition containing copolymer that has triazine ring and sulfur atom in main chain |
| US10067423B2 (en) * | 2014-03-26 | 2018-09-04 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Additive and resist underlayer film-forming composition containing the same |
| JP2015209509A (ja) * | 2014-04-28 | 2015-11-24 | 京セラケミカル株式会社 | エポキシ樹脂組成物および樹脂封止型電子部品装置 |
| EP3106488A1 (en) * | 2015-06-19 | 2016-12-21 | Université de Haute Alsace | Photobase-catalysed oxidative polymerisation of poly (disulphide)s |
| KR102522912B1 (ko) * | 2015-07-02 | 2023-04-18 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 장쇄알킬기를 갖는 에폭시부가체를 포함하는 레지스트 하층막 형성 조성물 |
| JP2017120359A (ja) * | 2015-12-24 | 2017-07-06 | Jsr株式会社 | 半導体用ケイ素含有膜形成用材料及びパターン形成方法 |
| KR102516390B1 (ko) * | 2016-01-05 | 2023-03-31 | 에스케이이노베이션 주식회사 | 신규한 티오바르비투르산 유도체, 이로부터 유도되는 반복 단위를 포함하는 중합체, 이를 포함하는 바닥반사방지막용 조성물 및 이를 이용한 레지스트 패턴의 형성 방법 |
| JPWO2018012253A1 (ja) | 2016-07-15 | 2019-04-25 | 日産化学株式会社 | ヒダントイン環を有する化合物を含むレジスト下層膜形成組成物 |
-
2019
- 2019-01-29 TW TW108103201A patent/TWI840342B/zh active
- 2019-02-01 WO PCT/JP2019/003574 patent/WO2019151471A1/ja not_active Ceased
- 2019-02-01 US US16/964,869 patent/US12222651B2/en active Active
- 2019-02-01 JP JP2019569605A patent/JP7396049B2/ja active Active
- 2019-02-01 CN CN201980010876.5A patent/CN111670410A/zh active Pending
- 2019-02-01 KR KR1020207021581A patent/KR102777020B1/ko active Active
-
2023
- 2023-08-03 JP JP2023127123A patent/JP7647808B2/ja active Active
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