JP2023009278A - 絶縁導体および絶縁導体の製造方法 - Google Patents
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この場合、加熱工程における加熱時間が5分以上とされているので、熱可塑性フッ素樹脂粒子を確実に凝集させることでき、これにより島相の平均長径が1μm以上とされた海島構造を有する絶縁皮膜を備えた絶縁導体をより確実に製造することが可能となる。
図1は、本発明の一実施形態である絶縁導体の横断面図である。
本実施形態の絶縁導体10は、図1に示すように、導体11と、導体11の表面に備えられた絶縁皮膜12とを有する。
導体11の材質は、良好な導電性を有する銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金等の金属であることが好ましい。図1に記載されている導体11は、横断面が円形の金属線とされているが、導体11の横断面形状は特に制限はなく、例えば、楕円形、四角形であってもよい。また、導体11は、金属板であってもよい。
絶縁皮膜12は、熱硬化性樹脂硬化物を含む海相(マトリックス相)と、海相に分散された熱可塑性フッ素樹脂を含む島相(ドメイン相)とから構成された海島構造を有する。
絶縁皮膜12が海島構造を有することは、走査型電子顕微鏡(SEM)と、エネルギー分散型X線分光(EDS)分析装置とを用いて確認することができる。例えば、絶縁皮膜12の断面を、SEM-EDS分析装置を用いて観察し、フッ素が検出されない連続した部分(海相)と、フッ素が粒状に検出された部分(島相)とが確認された場合は、絶縁皮膜12は海島構造を有すると言える。
熱硬化性樹脂は、硬化温度が、熱可塑性フッ素樹脂の融点よりも低いことが好ましい。
図2は、本発明の一実施形態である絶縁導体の製造方法のフロー図である。
本実施形態の絶縁導体の製造方法は、図2に示すように、電着工程S01と、乾燥工程S02と、加熱工程S03とを含む。
電着工程S01では、導体の表面に、熱硬化性樹脂粒子と熱可塑性フッ素樹脂粒子とを含む電着液を電着させて、電着層付き導体を得る。ここで、電着液について、熱硬化性樹脂粒子が、イミド結合を有するポリイミド系樹脂粒子である場合を例にとって説明する。
電着液は、分散媒と固形分とからなる。固形分は、ポリイミド系樹脂粒子と熱可塑性フッ素樹脂粒子とを含む。
(ポリイミド系樹脂ワニスの合成)
先ず、撹拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた2リットルの四つ口フラスコ内に、極性溶剤と、イソシアネート成分と酸成分とを混合し、80~130℃の温度に昇温してこの温度に2~8時間保持して反応させることにより、ポリイミド系樹脂を得る。ここで、イソシアネート成分としては、ジフェニルメタン-4,4’-ジイソシアネート(MDI)、ジフェニルメタン-3,3’-ジイソシアネート、ジフェニルメタン-3,4’-ジイソシアネート、ジフェニルエーテル-4,4’-ジイソシアネート、ベンゾフェノン-4,4’-ジイソシアネート、ジフェニルスルホン-4,4’-ジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート等が挙げられ、酸成分としてはトリメリット酸無水物(TMA)、1,2,5-トリメリット酸(1,2,5-ETM)、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物(OPDA)、ピロメリット酸二無水物(PMDA)、4,4’-(2,2’-ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物等が挙げられる。その後、上記合成したポリイミド系樹脂を、極性溶剤により希釈してポリイミド系樹脂ワニスを調製する。
次いで、上記得られたポリイミド系樹脂ワニスを、有機溶剤で更に希釈し、塩基性化合物を加えた後、撹拌しつつ、室温下で水を添加する。これにより、メジアン径が50nm以上400nm以下の範囲内にあるポリイミド系樹脂粒子の分散液が得られる。
市販の熱可塑性フッ素樹脂粒子のディスパージョンを水で希釈した後、撹拌することにより、メジアン径が50nm以上500nm以下の範囲内にある熱可塑性フッ素樹脂粒子の分散液が得られる。
乾燥工程S02では、電着工程S01で得られた電着層付き導体を、ポリイミド系熱硬化性樹脂粒子の硬化温度以上でかつ熱可塑性フッ素樹脂粒子の融点以下の温度で加熱した後、乾燥させて、乾燥電着層付き導体を得る。電着層付き導体の乾燥雰囲気は、特に制限はなく、大気雰囲気であってもよいし、不活性雰囲気であってもよい。
乾燥温度は、ポリイミド系樹脂粒子の硬化温度以上、通常は220℃以上で、かつ熱可塑性フッ素樹脂粒子の融点以下の範囲内にあることが好ましい。乾燥温度がこの範囲にあると、熱可塑性フッ素樹脂粒子を外部に流出させずに、電着層を効率よく乾燥させることができる。この乾燥により、電着層中のポリイミド系樹脂粒子が硬化して、ポリイミド系樹脂硬化物を含む海相が形成され、その海相に熱可塑性フッ素樹脂粒子が分散した乾燥電着層が生成する。乾燥時間は、乾燥温度、導体のサイズや電着層の厚みなどの要因によって変動するが、通常は1分以上10分以下の範囲内である。
加熱工程S03では、乾燥工程S02で得られた乾燥電着層付き導体を、熱可塑性フッ素樹脂粒子の融点に対して-40℃以上+30℃以下の温度で加熱する。この加熱により、乾燥電着層中の熱可塑性フッ素樹脂粒子が溶融あるいは軟化して、加熱電着層内で凝集し、平均長径が1μm以上の粗大な熱可塑性フッ素樹脂を含む島相が形成される。加熱工程S03の加熱温度は、乾燥工程S02の乾燥温度よりも10℃以上高い温度であることが好ましく、10℃以上100℃以下の範囲内で高い温度であることが好ましい。加熱工程S03は、乾燥工程S02と同じ加熱装置を用いて、乾燥工程S02と連続して行うことが好ましい。
[ポリイミド系樹脂ワニスの合成]
先ず、撹拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた2リットルの四つ口フラスコ内に、有機溶媒としてN-メチル-2-ピロリドン747g、イソシアネート成分として4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート298g(1.19モル)、及び酸成分として無水トリメリット酸227g(1.18モル)を投入して130℃まで昇温させた。この温度で約4時間反応させることにより、数平均分子量が17000のポリアミドイミド樹脂(PAI)を得た。その後、上記合成したポリアミドイミド樹脂を、有機溶媒としてN-メチル-2-ピロリドンを使用し、ポリアミドイミド樹脂(不揮発分)の濃度が20質量%となるように希釈したポリアミドイミドワニス(ポリアミドイミド樹脂:N-メチル-2-ピロリドン=20質量%:80質量%)を得た。
次いで、上記得られたポリアミドイミドワニス62.5gを、N-メチル-2-ピロリドン140gで更に希釈し、塩基性化合物であるトリ-n-プロピルアミン0.5gを加えた後、この液を回転速度10000rpmの高速で撹拌しつつ、常温下(25℃)で水を47g添加した。これにより、メジアン径160nmのポリアミドイミド樹脂粒子の分散液(ポリアミドイミド樹脂粒子:N-メチル-2-ピロリドン:水:トリ-n-プロピルアミン=5質量%:76質量%:18.8質量%:0.2質量%)250gを得た。
市販のペルフルオロアルコキシフッ素樹脂(PFA)ディスパージョンを水で希釈した後、攪拌し、PFA粒子分散液を得た(メジアン径200nm、PFA粒子:水=30質量%:70質量%)。
ポリアミドイミド樹脂(PAI)粒子分散液60gとフッ素樹脂(PFA)粒子分散液10gを混合し電着液を得た(PAI粒子:PFA粒子:N-メチル-2-ピロリドン:水:トリ-n-プロピルアミン=4.3質量%:4.3質量%:65質量%:26.2質量%:0.2質量%)。
上記調製した電着液を用いて絶縁銅線を作製した。具体的には、先ず、電着液を電着槽内に貯留し、この電着槽内の電着液の温度を20℃とした。次いで、長さが300mmで直径が1mmの銅線(導体)を陽極とし、上記電着槽内の電着液に挿入された円筒型の銅板を陰極とし、銅線と円筒型の銅板との間に直流電圧100Vを印加した状態で、銅線及び円筒型の銅板を電着槽内の電着液中に30秒間保持した。これにより銅線の表面に電着層が形成された電着層付き銅線を得た。次に、電着層付き銅線をマッフル炉に投入して、250℃で5分間加熱して、電着層を乾燥させて、乾燥電着層付き銅線を得た。その後、マッフル炉の温度を300℃に昇温し、その温度で乾燥電着層付き銅線を5分間加熱して、表面に厚み約40μmの絶縁皮膜が形成された銅線を得た。この絶縁皮膜付きの銅線(絶縁銅線)を本発明例1とした。
表1に示すように、熱可塑性フッ素樹脂粒子の種類をそれぞれ変えたこと以外は、本発明例1と同様にして、表面に厚み約40μmの絶縁皮膜が形成された銅線を得た。この絶縁皮膜付きの銅線(絶縁銅線)を本発明例2~4とした。なお、表1中、「PFA」はペルフルオロアルコキシフッ素樹脂であり、「FEP」は、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体であり、「PTFE」は、ポリテトラフルオロエチレンである。
乾燥電着層付き銅線の加熱処理を実施しなかったことは本発明例1と同様にして、表面に厚み約40μmの絶縁皮膜が形成された銅線を得た。この絶縁皮膜付きの銅線(絶縁銅線)を比較例1とした。
得られた絶縁銅線(絶縁導体)について、島相の平均長径と、可撓性と、絶縁破壊電圧を下記の方法により測定した。
元素分布は絶縁銅線を樹脂埋めし研磨により断面を出した後、SEM-EDS分析装置(日立ハイテク社製、電子顕微鏡SU8230)により、絶縁銅線の絶縁皮膜断面のSEM写真と、その絶縁皮膜断面のフッ素原子の元素マッピング画像を撮影した。そして、得られたSEM写真と元素マッピング画像から、フッ素が検出されない連続した部分を、ポリアミドイミドを含む海相とし、フッ素が粒状に検出された部分を、熱可塑性フッ素樹脂を含む島相とし、海相と島相とが確認された場合は、海島構造とした。
JIS C 3216-3:2011(巻線試験方法-第3部:機械的特性)に規定された方法に準拠して測定を実施した。その結果を表1に示す。
JIS C 3216-5:2011(巻線試験方法-第5部:電気的特性)に規定された金属箔法に準拠して測定を実施した。
11 導体
12 絶縁皮膜
15 海相
16 島相
Claims (3)
- 導体と、前記導体の表面に備えられた絶縁皮膜とを有する絶縁導体であって、
前記絶縁皮膜は、熱硬化性樹脂硬化物を含む海相と、前記海相に分散された熱可塑性フッ素樹脂を含む島相とから構成された海島構造を有し、
前記島相は、熱可塑性フッ素樹脂粒子が凝集して粗大化した構造とされ、平均長径が1μm以上であることを特徴とする絶縁導体。 - 請求項1に記載の絶縁導体を製造する絶縁導体の製造方法であって、
導体の表面に、メジアン径が50nm以上400nm以下の範囲内にある熱硬化性樹脂粒子と、メジアン径が50nm以上500nm以下の範囲内にある熱可塑性フッ素樹脂粒子とを含む電着液を電着させて、電着層付き導体を得る電着工程と、
前記電着層付き導体を、前記熱硬化性樹脂粒子の硬化温度以上でかつ前記熱可塑性フッ素樹脂粒子の融点以下の温度で加熱して乾燥させて、乾燥電着層付き導体を得る乾燥工程と、
前記乾燥電着層付き導体を、前記熱可塑性フッ素樹脂粒子の融点に対して-40℃以上+30℃以下の温度で加熱する加熱工程と、を含むことを特徴とする絶縁導体の製造方法。 - 前記加熱工程における加熱時間が5分以上であることを特徴とする請求項2に記載の絶縁導体の製造方法。
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