JP6859736B2 - 電着液及びこれを用いた絶縁皮膜付き導体の製造方法 - Google Patents

電着液及びこれを用いた絶縁皮膜付き導体の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6859736B2
JP6859736B2 JP2017027100A JP2017027100A JP6859736B2 JP 6859736 B2 JP6859736 B2 JP 6859736B2 JP 2017027100 A JP2017027100 A JP 2017027100A JP 2017027100 A JP2017027100 A JP 2017027100A JP 6859736 B2 JP6859736 B2 JP 6859736B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating film
electrodeposition
particles
mass
resin particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017027100A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018131562A (ja
Inventor
慎太郎 飯田
慎太郎 飯田
桜井 英章
英章 桜井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2017027100A priority Critical patent/JP6859736B2/ja
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to KR1020197021240A priority patent/KR102545341B1/ko
Priority to US16/464,847 priority patent/US11286576B2/en
Priority to EP18755015.7A priority patent/EP3584293B1/en
Priority to PCT/JP2018/004873 priority patent/WO2018151091A1/ja
Priority to CN201880007709.0A priority patent/CN110234717A/zh
Priority to TW107105467A priority patent/TWI737892B/zh
Publication of JP2018131562A publication Critical patent/JP2018131562A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6859736B2 publication Critical patent/JP6859736B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/44Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
    • C09D5/4473Mixture of polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D13/00Electrophoretic coating characterised by the process
    • C25D13/04Electrophoretic coating characterised by the process with organic material
    • C25D13/06Electrophoretic coating characterised by the process with organic material with polymers
    • C25D13/08Electrophoretic coating characterised by the process with organic material with polymers by polymerisation in situ of monomeric materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/44Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/14Polyamide-imides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L27/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L27/02Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08L27/12Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
    • C08L27/18Homopolymers or copolymers or tetrafluoroethene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D127/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D127/02Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C09D127/12Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D127/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D127/02Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C09D127/12Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
    • C09D127/18Homopolymers or copolymers of tetrafluoroethene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D179/00Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09D161/00 - C09D177/00
    • C09D179/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C09D179/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/44Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
    • C09D5/4419Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications with polymers obtained otherwise than by polymerisation reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09D5/4461Polyamides; Polyimides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/66Additives characterised by particle size
    • C09D7/68Particle size between 100-1000 nm
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D13/00Electrophoretic coating characterised by the process
    • C25D13/12Electrophoretic coating characterised by the process characterised by the article coated
    • C25D13/16Wires; Strips; Foils
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D15/00Electrolytic or electrophoretic production of coatings containing embedded materials, e.g. particles, whiskers, wires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/18Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
    • H01B3/30Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/18Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
    • H01B3/30Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
    • H01B3/44Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/18Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
    • H01B3/30Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
    • H01B3/44Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins
    • H01B3/443Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins from vinylhalogenides or other halogenoethylenic compounds
    • H01B3/445Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins from vinylhalogenides or other halogenoethylenic compounds from vinylfluorides or other fluoroethylenic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08L79/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/18Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
    • H01B3/30Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
    • H01B3/303Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups H01B3/38 or H01B3/302
    • H01B3/306Polyimides or polyesterimides

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

本発明は、誘電率が低くかつ絶縁破壊電圧が高い絶縁皮膜を形成するための電着液と、この電着液を用いて絶縁皮膜を有する導体を製造する方法に関するものである。
従来、水性媒体中に、平均粒径1μm以下かつ比誘電率3以下の非成膜性微粒子と、重合性化合物及び重合体の少なくとも一方からなる有機粒子とが分散し、電着により絶縁膜を形成可能な低誘電率絶縁膜形成用水性分散液が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。この低誘電率絶縁膜形成用水性分散液では、非成膜性微粒子は、フッ素含有微粒子及び架橋有機微粒子から選択された少なくとも一種である。また、水性分散液は、有機粒子が水性媒体に分散した水性エマルジョンを用いて調整される。ここで「水性媒体」とは水を主成分とする媒体を意味し、この水性媒体中における水の含有率は通常40重量%以上、好ましくは50重量%以上である。
このように構成された低誘電率絶縁膜形成用水性分散液では、この分散液を電着液に用いた電着により、低誘電率でかつ密着性の良い絶縁膜を形成することができる。また、この低誘電率の絶縁膜は、上記水性分散液を用いた電着により作製されるので、塗布により作製された場合等に比べて膜厚制御性および膜形成位置の制御性に優れる。
また、ポリイミド樹脂とフッ素樹脂と電荷付与剤とを水分散してなる水分散型樹脂エマルジョンを導体上に電着した後に、乾燥し焼付けすることによって絶縁層を形成する絶縁電線の製造方法(例えば、特許文献2参照。)が開示されている。この絶縁電線の製造方法では、電着によって、導体が水分散型樹脂エマルジョンで被覆される。この電着は、水分散型樹脂エマルジョンで満たされた電着バス中に上記導体を通過させるなどして、導体を水分散型樹脂エマルジョン中に浸漬させた状態で電圧を印加することにより行われる。
このように構成された絶縁電線の製造方法では、十分な絶縁性能を有し、かつ厚みが小さく、更に耐熱性にも優れる絶縁層を備える絶縁電線を製造できる。この結果、絶縁電線は、耐熱性が要求される電子機器内や電子機器間における配線に好適に使用できる。
特開2001−294815号公報(請求項1、請求項2、段落[0023]、[0068]) 特開2002−298674号公報(請求項1、段落[0020]、[0037]、図1)
しかし、上記従来の特許文献1に示された低誘電率絶縁膜形成用水性分散液では、有機粒子の粒径が示されておらず、電着液中の溶媒に占める水の比率が高いため、乾燥時の溶媒の揮発速度が速く、発泡が生じ易くなって、厚膜を形成するのが難しい問題点もあった。一方、上記従来の特許文献2に示された絶縁電線の製造方法では、ポリイミド樹脂の粒径が示されておらず、水分散型樹脂エマルジョン(電着液)中の溶媒が全て水であるため、乾燥時の溶媒の揮発速度が速く、発泡が生じ易くなって、厚膜を形成するのが難しい問題点があった。
本発明の目的は、ポリイミド系樹脂及びフッ素樹脂の複合膜を厚膜化することができ、誘電率が低くかつ絶縁破壊電圧が高い絶縁皮膜を得ることができる、電着液及びこれを用いた絶縁皮膜付き導体の製造方法を提供することにある。
本発明の第1の観点は、分散媒と固形分からなり、固形分が、ポリイミド系樹脂粒子とフッ素樹脂粒子とを含み、固形分中のフッ素樹脂粒子の含有割合が、20〜70質量%であり、ポリイミド系樹脂粒子のメジアン径が50〜400nmであり、分散媒が、極性溶剤、水及び塩基を含み、極性溶剤が水より高い沸点を有し、分散媒中の極性溶媒の含有割合が59.8〜84.8質量%であり、分散媒中の水の含有割合が15〜40質量%であり、分散媒中の塩基の含有割合が0.1〜0.3質量%であることを特徴とする電着液である。
本発明の第の観点は、第1の観点に基づく発明であって、更にポリイミド系樹脂粒子がフッ素樹脂粒子より小さいメジアン径を有することを特徴とする。
本発明の第の観点は、第1又は第2の観点に記載の電着液を用いて、導体表面に電着により絶縁皮膜を形成する絶縁皮膜付き導体の製造方法である。
本発明の第の観点は、第の観点に基づく発明であって、更に導体が金属線であることを特徴とする。
本発明の第1の観点の電着液では、ポリイミド系樹脂粒子のメジアン径が50〜400nmと小さいので、電着時にポリイミド系樹脂粒子やフッ素樹脂粒子の間に閉じ込められる分散媒の量を減らすことができ、熱処理時における絶縁皮膜の発泡を抑制できる。この結果、ポリイミド系樹脂及びフッ素樹脂の複合膜である絶縁皮膜を厚膜化することができるので、誘電率が低く部分放電が発生し難く、かつ絶縁皮膜の絶縁破壊電圧を高くすることができる。
また、本発明の第の観点の電着液では、極性溶剤が水より高い沸点を有し、分散媒中の水の含有割合が15〜40質量%と少ないので、熱処理時の分散媒の揮発速度が遅くなり、熱処理時における絶縁皮膜の発泡をより抑制できる。特に、最終的に皮膜の熱処理に必要な温度に設定した炉内に静置した場合でも絶縁皮膜の発泡をより抑制できる。
本発明の第の観点の電着液では、ポリイミド系樹脂粒子がフッ素樹脂粒子より小さいメジアン径を有するので、フッ素樹脂粒子間の隙間にポリイミド系樹脂粒子が入り込み易くなる。この結果、分散媒の閉じ込め量を減らすことができ、熱処理時における絶縁皮膜の発泡を更に抑制できる。
本発明の第の観点の絶縁皮膜付き導体の製造方法では、上記電着液を用いて絶縁皮膜を導体表面に電着により形成するので、熱処理時における絶縁皮膜の発泡を抑制できる。この結果、絶縁皮膜を厚膜化することができるので、誘電率が低く部分放電が発生し難く、かつ絶縁破壊電圧が高い絶縁皮膜を有する導体を製造できる。
本発明の第の観点の絶縁皮膜付き導体の製造方法では、上記電着液を用いて絶縁皮膜を金属線表面に電着により形成するので、熱処理時における絶縁皮膜の発泡を抑制できる。この結果、絶縁皮膜を厚膜化することができるので、誘電率が低く部分放電が発生し難く、かつ絶縁破壊電圧が高い絶縁皮膜を有する金属線を製造できる。
本発明実施形態のポリイミド系樹脂粒子のメジアン径が小さい電着液を用いて絶縁皮膜を形成したときに気泡が発生しないメカニズムを示す模式図であり、(a)は電着開始直後の電着液を示し、(b)は電着完了後の電着膜を示し、(c)は焼付処理後の絶縁皮膜を示す断面模式図である。 参考形態のポリイミド系樹脂粒子のメジアン径が大きい電着液を用いて絶縁皮膜を形成したときに気泡が発生するメカニズムを示す模式図であり、(a)は電着開始直後の電着液を示し、(b)は電着完了後の電着膜を示し、(c)は焼付処理後の絶縁皮膜を示す断面模式図である。
次に本発明を実施するための形態を図面に基づいて説明する。電着液は、分散媒と固形部からなる。固形部は、ポリイミド系樹脂粒子とフッ素樹脂粒子とを含む。ポリイミド系樹脂としては、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂、ポリアミック酸樹脂等が挙げられる。また、フッ素樹脂としては、ポリテトラフルオロエチレン(4フッ化)樹脂、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体樹脂、パーフルオロエチレンプロペンコポリマー樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂等が挙げられる。
固形分中のフッ素樹脂粒子の含有割合は、20〜70質量%、好ましくは30〜70質量%である。また、ポリイミド系樹脂粒子のメジアン径は、50〜400nm、好ましくは50〜200nmである。また、フッ素樹脂粒子のメジアン径は、50〜500nmであることが好ましい。更に、ポリイミド系樹脂粒子はフッ素樹脂粒子より小さいメジアン径を有することが好ましい。ここで、固形分中のフッ素樹脂粒子の含有割合を20〜70質量%の範囲内に限定したのは、20質量%未満では絶縁皮膜の誘電率を下げることができず、70質量%を超えると絶縁皮膜が連続膜化せずクラックが発生し易いからである。また、ポリイミド系樹脂粒子のメジアン径を50〜400nmの範囲内に限定したのは、50nm未満では樹脂粒子間に存在する分散媒が少なく膜の抵抗が大きくなるため電着速度が遅く厚膜を得るのに時間を要し、400nmを超えると電着液の分散安定性が低下するとともに、電着液の乾燥時に水の揮発量が増加して絶縁皮膜を厚く形成すると絶縁皮膜が発泡し易くなってしまうからである。更に、フッ素樹脂粒子の好ましいメジアン径を50〜500nmの範囲内に限定したのは、50nm未満では樹脂粒子間に存在する分散媒が少なく膜の抵抗が大きくなるため電着速度が遅く厚膜を得るのに時間を要し、500nmを超えると電着液が凝集して沈殿が発生し分散安定性が低下してしまうからである。
分散媒は、極性溶剤、水及び塩基を含むことが好ましい。また、極性溶剤は水より高い沸点を有することが好ましい。極性溶剤としては、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、N,Nジメチルアセトアミド等の有機溶剤が挙げられる。更に、塩基としては、トリ−n−プロピルアミン、ジブチルアミン、ピペリジン、トリエチルアミン等が挙げられる。分散媒中の水の含有割合は、15〜40質量%であ、18〜30質量%であることが好ましい。また、分散媒中の極性溶剤の含有割合は59.8〜84.8質量%であ、分散媒中の塩基の含有割合は0.1〜0.3質量%である。更に、電着液中の固形分の含有割合は1〜10質量%であることが好ましい。
ここで、分散媒中の水の含有割合を15〜40質量%の範囲内に限定したのは、15質量%未満では電着液の導電率が小さく電着による絶縁皮膜を形成できず、40質量%を超えると電着液の乾燥時に分散媒の揮発速度が速くなり絶縁皮膜を厚く形成すると絶縁皮膜が発泡し易くなってしまうからである。また、分散媒中の極性溶剤の含有割合を59.8〜84.8質量%の範囲内に限定したのは、59.8質量%未満では分散媒中における水の割合が多くなり揮発速度が速くなって発泡し易くなり、84.8質量%を超えると分散媒中における水の割合が減り電着速度が遅くなって厚膜を得るのに時間を要するからである。また、分散媒中の塩基の含有割合を0.1〜0.3質量%の範囲内に限定したのは、0.1質量%未満ではポリイミド系樹脂粒子のメジアン径が増加し分散安定性が悪化してしまい、0.3質量%を超えるとポリイミド系樹脂粒子のメジアン径が減少し樹脂粒子間に存在する分散媒が少なくなって膜の抵抗が大きくなるため電着速度が遅く厚膜を得るのに時間を要するからである。更に、電着液中の固形分の好ましい含有割合を1〜10質量%の範囲内に限定したのは、1質量%未満では電着速度が遅く厚膜を得るのに時間を要し、10質量%を超えると分散安定性が悪化してしまうからである。なお、上記ポリイミド系樹脂粒子のメジアン径及びフッ素樹脂粒子のメジアン径は、動的光散乱粒径分布測定装置(堀場製作所製LB−550)を用いて測定した体積基準平均粒径である。
次に電着液の製造方法を説明する。
[ポリイミド系樹脂ワニスの合成]
先ず、撹拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた2リットルの四つ口フラスコ内に、極性溶剤と、イソシアネート成分と酸成分とを混合し、80〜130℃の温度に昇温してこの温度に2〜8時間保持して反応させることにより、ポリイミド系樹脂を得る。ここで、イソシアネート成分としては、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(MDI)、ジフェニルメタン−3,3’−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−3,4’−ジイソシアネート、ジフェニルエーテル−4,4’−ジイソシアネート、ベンゾフェノン−4,4’−ジイソシアネート、ジフェニルスルホン−4,4’−ジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート等が挙げられ、酸成分としてはトリメリット酸無水物(TMA)、1,2,5−トリメリット酸(1,2,5−ETM)、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物(OPDA)、ピロメリット酸二無水物(PMDA)、4,4’−(2,2’−ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物等が挙げられる。その後、上記合成したポリイミド系樹脂を、極性溶剤により希釈してポリイミド系樹脂ワニスを調製する。
[ポリイミド系樹脂粒子の分散液の調製]
次いで、上記得られたポリイミド系樹脂ワニスを、有機溶剤で更に希釈し、塩基性化合物を加えた後、撹拌しつつ、室温下で水を添加する。これにより、メジアン径50〜400nmのポリイミド系樹脂粒子の分散液が得られる。
[フッ素樹脂粒子の分散液の調製]
市販のフッ素樹脂粒子を水で希釈した後、撹拌することにより、メジアン径50〜500nmのフッ素樹脂粒子の分散液が得られる。
[電着液の調製]
ポリイミド系樹脂粒子の分散液とフッ素樹脂粒子の分散液を混合することにより、電着液が得られる。
上記電着液を用いて導体表面に絶縁皮膜を形成するには、電着液を用いて電着法により導体の表面に電着膜を形成した後、乾燥処理及び焼付処理することにより、導体の表面に絶縁皮膜を形成することが好ましい。この絶縁皮膜の厚さは10〜70μmであることが好ましく、絶縁皮膜の絶縁破壊電圧は、絶縁皮膜の厚さが40μmである場合、少なくとも5kVであることが好ましい。また、上記導体としては、金属線、金属板等が挙げられる。導体が金属線である場合、金属線の材質としては、良好な導電性を有する銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金等であることが好ましい。
このように構成された絶縁皮膜付き導体では、絶縁皮膜を形成するための電着液中のポリイミド系樹脂粒子のメジアン径が50〜400nmと小さいので、電着時にポリイミド系樹脂粒子やフッ素樹脂粒子の間に閉じ込められる分散媒の量を減らすことができ、熱処理時における絶縁皮膜の発泡を抑制できる。具体的には、図1に示すように、固形分11であるポリイミド系樹脂粒子11a及びフッ素樹脂粒子11bのうちポリイミド系樹脂粒子11aのメジアン径が50〜400nmと小さい場合、導体12表面においてポリイミド系樹脂粒子11aがフッ素樹脂粒子11bの間に多く進入して密にパッキングされ、これらの粒子11a,11b間に残留する分散媒13が少なくなるので(図1(b))、焼付処理後に絶縁皮膜14に発泡が生じ難い(図1(c))。これに対し、図2に示すように、固形分21であるポリイミド系樹脂粒子21a及びフッ素樹脂粒子21bのうち、フッ素樹脂粒子21bのメジアン径が上記フッ素樹脂粒子11bと同じであり、ポリイミド系樹脂粒子21aのメジアン径が上記範囲より大きい場合、導体22表面においてポリイミド系樹脂粒子21aがフッ素樹脂粒子21bの間に多く進入できず粗くパッキングされ、これらの粒子21a,21b間に残留する分散媒23が多くなるので(図2(b))、焼付処理後に絶縁皮膜24に発泡24aが生じ易くなる(図2(c))。この結果、本実施の形態では、ポリイミド系樹脂及びフッ素樹脂の複合膜である絶縁皮膜14を厚膜化することができるので、絶縁皮膜付き導体10の絶縁皮膜14の絶縁破壊電圧を高くすることができる。また、本実施の形態では、極性溶剤が水より高い沸点を有し、分散媒中の水の含有割合を15〜40質量%と少なくすることにより、熱処理時の分散媒の揮発速度が遅くなり、熱処理時における絶縁皮膜の発泡をより抑制できる。更に、本実施の形態では、ポリイミド系樹脂粒子がフッ素樹脂粒子より小さいメジアン径を有すれば、フッ素樹脂粒子間の隙間にポリイミド系樹脂粒子が入り込み易くなるので、分散媒の閉じ込め量を減らすことができ、熱処理時における絶縁皮膜の発泡を更に抑制できる。
次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく説明する。
<実施例1>
電着液の製造方法を説明する。
[ポリイミド系樹脂ワニスの合成]
先ず、撹拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた2リットルの四つ口フラスコ内に、747gのN−メチル−2−ピロリドン(極性溶剤)と、298g(1.19モル)のジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(MDI、イソシアネート成分)と、227g(1.18モル)のトリメリット酸無水物(TMA、酸成分)とを投入して130℃まで昇温させた。この温度で約4時間反応させることにより、数平均分子量が17000のポリマー(ポリアミドイミド樹脂)を得た。その後、上記合成したポリアミドイミド樹脂を、N−メチル−2−ピロリドン(極性溶剤)で、ポリアミドイミド樹脂(不揮発分)の濃度が20質量%となるように希釈して、ポリアミドイミド樹脂ワニス(ポリアミドイミド樹脂:N−メチル−2−ピロリドン=20質量%:80質量%)を得た。
[ポリイミド系樹脂粒子の分散液の調製]
次いで、上記得られたポリアミドイミド樹脂ワニス62.5gを、N−メチル−2−ピロリドン140g(極性溶剤)で更に希釈し、トリ−n−プロピルアミン(塩基性化合物(塩基))0.5gを加えた後、この液を回転速度10000rpmの高速で撹拌しつつ、室温下(25℃)で水を47g添加した。これにより、メジアン径160nmのポリアミドイミド樹脂粒子の分散液(ポリアミドイミド樹脂粒子:N−メチル−2−ピロリドン:水:トリ−n−プロピルアミン=5質量%:76質量%:18.8質量%:0.2質量%)250gを得た。
[フッ素樹脂粒子の分散液の調製]
フッ素樹脂粒子:水が60質量%:40質量%であるポリフロンPTFE−D(ダイキン工業社製)を水で希釈し、メジアン径200nmのフッ素樹脂粒子の分散液を得た(フッ素樹脂粒子:水=30質量%:70質量%)。
[電着液の調製]
ポリイミド系樹脂粒子の分散液60gとフッ素樹脂粒子の分散液10gを混合し電着液を得た(ポリアミドイミド樹脂粒子:フッ素樹脂粒子:N−メチル−2−ピロリドン:水:トリ−n−プロピルアミン=4.3質量%:4.3質量%:65質量%:26.2質量%:0.2質量%)。なお、上記ポリアミドイミド樹脂粒子及びフッ素樹脂粒子が固形分であり、上記N−メチル−2−ピロリドン(極性溶剤)、水及びトリ−n−プロピルアミン(塩基)が分散媒である。
[絶縁皮膜の作製]
上記調製した電着液を用いて絶縁皮膜を作製した。具体的には、先ず、電着液を電着槽内に貯留し、この電着槽内の電着液の温度を20℃とした。次いで、直径及び長さがそれぞれ1mm及び300mmである銅線(導体)を陽極とし、上記電着槽内の電着液に挿入された円筒型の銅板を陰極とし、銅線と円筒型の銅板との間に直流電圧100Vを印加した状態で、銅線及び円筒型の銅板を電着槽内の電着液中に30秒間保持した。これにより銅線の表面に電着膜が形成された。次に、電着膜が形成された銅線を250℃のマッフル炉中に3分間静置し乾燥処理して、表面に厚さ40μmの絶縁皮膜が形成された銅線を得た。この絶縁皮膜付きの銅線を実施例1とした。
<実施例2〜10及び比較例1〜8>
表1に示すように、ポリイミド系樹脂粒子及びフッ素系樹脂粒子の種類と、固形分中のポリイミド系樹脂粒子の含有割合と、固形分中のフッ素樹脂粒子の含有割合と、分散媒中の極性溶の含有割合と、分散媒中の水の含有割合と、分散媒中の塩基の含有割合と、ポリイミド系樹脂粒子のメジアン径とをそれぞれ変えて、実施例1と同様にして電着液を調製し、この電着液を用いて絶縁皮膜付き銅線を作製した。これらの絶縁皮膜付き銅線を実施例2〜10及び比較例1〜5とした。
<比較試験1及び評価>
実施例1〜10及び比較例1〜5の絶縁皮膜付き銅線の絶縁皮膜の外観を観察するとともに、比誘電率及び絶縁破壊電圧をそれぞれ測定した。具体的には、絶縁皮膜の外観は、目視により観察した。また、比誘電率は、LCRメーター(日置電機社製)を用いて、絶縁皮膜の静電容量と絶縁皮膜の膜厚から誘電率を算出し、この誘電率を真空の誘電率ε0(8.85×10-12F/m)で除することにより求めた。なお、絶縁皮膜の膜厚はマイクロメーター(ミツトヨ社製)を用いて測定した。更に、絶縁破壊電圧は、厚さ40μmの絶縁皮膜付きの導線に金属箔を巻付け、絶縁破壊試験機(東特塗料社製)を用いて測定した。その結果を表1に示す。
なお、表1の絶縁皮膜の外観において、「良好」は絶縁皮膜にクラックが発生せずに絶縁皮膜を電着できたことを示し、「クラック」は絶縁皮膜にクラックが発生したことを示し、「電着不可」は厚さ40μmの絶縁皮膜を形成できなかったことを示し、「発泡」は絶縁皮膜に発泡が生じたことを示す。また、表1において、「PI系樹脂粒子」はポリイミド系樹脂粒子であり、「PAI」はポリアミドイミド樹脂粒子であり、「PI」はポリイミド樹脂粒子であり、「PTFE」はポリテトラフルオロエチレン(4フッ化)樹脂粒子(ダイキン工業社製のポリフロンPTFE−D)であり、「PFA」はテトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体樹脂粒子(ダイキン工業社製のネオフロンPFA)である。また、表1において、PI/固形分は、固形分(フッ素樹脂粒子及びポリイミド系樹脂粒子の合計量)中のポリイミド系樹脂粒子の含有割合であり、F/固形分は、固形分(フッ素樹脂粒子及びポリイミド系樹脂粒子の合計量)中のフッ素樹脂粒子の含有割合であり、「分散媒」は水、極性溶剤及び塩基の合計量である。
Figure 0006859736
表1から明らかなように、フッ素樹脂粒子を用いずにポリアミドイミド樹脂粒子のみを用いた比較例1では、絶縁皮膜の外観は良好であり、絶縁破壊電圧は6.3kVと高かったけれども、比誘電率が4.7と高くなってしまい、フッ素樹脂粒子が10質量%と少ない比較例2では、絶縁皮膜の外観は良好であり、絶縁破壊電圧は6.1kVと高かったけれども、比誘電率が4.5と高くなってしまい、フッ素樹脂粒子が80質量%と多い比較例3では、絶縁皮膜の比誘電率は2.7と低くなったけれども、絶縁皮膜にクラックが発生し、絶縁破壊電圧が0.4kVと低くなった。これらに対し、フッ素樹脂粒子が20〜70質量%と適切な範囲内である実施例1〜3では、絶縁皮膜の外観は良好であり、比誘電率は2.8〜4.3と低く、絶縁破壊電圧は5.0〜6.0kVと高くなった。
また、ポリアミドイミド樹脂粒子のメジアン径が500nmと大きい比較例6では、絶縁皮膜の比誘電率が3.4と低くなったけれども、絶縁皮膜が発泡してしまい、絶縁破壊電圧が0.5kVと低くなり、ポリアミドイミド樹脂粒子のメジアン径が20nmと小さい比較例7では、絶縁皮膜の比誘電率が3.4と低くなったけれども、絶縁皮膜の厚さが40μmまで達せず、厚さ40μmの絶縁皮膜の絶縁破壊電圧を測定できなかった。これらに対し、ポリアミドイミド樹脂粒子のメジアン径が50〜400nmと適切な範囲内である実施例6及び7では、絶縁皮膜の外観は良好であり、比誘電率はそれぞれ3.4と低く、絶縁破壊電圧はそれぞれ5.5kVと高くなった。
更に、水/分散媒が10〜40質量%と好ましい範囲の下限値及び上限値である実施例4及び5では、絶縁皮膜の外観は良好であり、比誘電率はそれぞれ3.4と低く、絶縁破壊電圧は5.5〜5.7kVと高くなった。
一方、ポリアミドイミド樹脂粒子にPFA樹脂粒子を混合した実施例8では、絶縁皮膜の外観は良好であり、比誘電率は3.4と低く、絶縁破壊電圧は5.8kVと高くなった。また、ポリイミド樹脂粒子にPTFE樹脂粒子を混合した実施例9では、絶縁皮膜の外観は良好であり、比誘電率は3.0と低く、絶縁破壊電圧は5.5kVと高くなった。更に、ポリイミド樹脂粒子にPFA樹脂粒子を混合した実施例10では、絶縁皮膜の外観は良好であり、比誘電率は3.0と低く、絶縁破壊電圧は5.3kVと高くなった。
本発明の電着液は、絶縁電線のように耐部分放電性に優れ、絶縁破壊電圧の高い被覆を必要とする物品の製造に利用できる。
10 絶縁皮膜付き導体
11 固形分
11a ポリイミド系樹脂粒子
11b フッ素樹脂粒子
12 導体
13 分散媒
14 絶縁皮膜

Claims (4)

  1. 分散媒と固形分からなり、
    前記固形分が、ポリイミド系樹脂粒子とフッ素樹脂粒子とを含み、
    前記固形分中の前記フッ素樹脂粒子の含有割合が、20〜70質量%であり、
    前記ポリイミド系樹脂粒子のメジアン径が50〜400nmであり、
    前記分散媒が、極性溶剤、水及び塩基を含み、
    前記極性溶剤が前記水より高い沸点を有し、
    前記分散媒中の前記極性溶媒の含有割合が59.8〜84.8質量%であり、
    前記分散媒中の前記水の含有割合が15〜40質量%であり、
    前記分散媒中の前記塩基の含有割合が0.1〜0.3質量%であ
    ことを特徴とする電着液。
  2. 前記ポリイミド系樹脂粒子が前記フッ素樹脂粒子より小さいメジアン径を有する請求項1記載の電着液。
  3. 請求項1又は2記載の電着液を用いて、導体表面に電着により絶縁皮膜を形成する絶縁皮膜付き導体の製造方法。
  4. 前記導体が金属線である請求項記載の絶縁皮膜付き導体の製造方法。
JP2017027100A 2017-02-16 2017-02-16 電着液及びこれを用いた絶縁皮膜付き導体の製造方法 Active JP6859736B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017027100A JP6859736B2 (ja) 2017-02-16 2017-02-16 電着液及びこれを用いた絶縁皮膜付き導体の製造方法
US16/464,847 US11286576B2 (en) 2017-02-16 2018-02-13 Electrodeposition solution and method for producing conductor with insulating film using same
EP18755015.7A EP3584293B1 (en) 2017-02-16 2018-02-13 Electrodeposition solution and method for producing conductor with insulating film using same
PCT/JP2018/004873 WO2018151091A1 (ja) 2017-02-16 2018-02-13 電着液及びこれを用いた絶縁皮膜付き導体の製造方法
KR1020197021240A KR102545341B1 (ko) 2017-02-16 2018-02-13 전착액 및 이것을 사용한 절연 피막이 형성된 도체의 제조 방법
CN201880007709.0A CN110234717A (zh) 2017-02-16 2018-02-13 电沉积液及使用了该电沉积液的带绝缘覆膜的导体的制造方法
TW107105467A TWI737892B (zh) 2017-02-16 2018-02-14 電鍍液及使用此電鍍液之附絕緣被膜之導體的製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017027100A JP6859736B2 (ja) 2017-02-16 2017-02-16 電着液及びこれを用いた絶縁皮膜付き導体の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018131562A JP2018131562A (ja) 2018-08-23
JP6859736B2 true JP6859736B2 (ja) 2021-04-14

Family

ID=63170631

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017027100A Active JP6859736B2 (ja) 2017-02-16 2017-02-16 電着液及びこれを用いた絶縁皮膜付き導体の製造方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11286576B2 (ja)
EP (1) EP3584293B1 (ja)
JP (1) JP6859736B2 (ja)
KR (1) KR102545341B1 (ja)
CN (1) CN110234717A (ja)
TW (1) TWI737892B (ja)
WO (1) WO2018151091A1 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6508405B1 (ja) * 2017-11-21 2019-05-08 三菱マテリアル株式会社 絶縁導体および絶縁導体の製造方法
KR102334124B1 (ko) * 2019-11-22 2021-12-03 피아이첨단소재 주식회사 저유전 폴리이미드 복합 분말 및 그 제조방법
WO2022034791A1 (ja) 2020-08-12 2022-02-17 株式会社村田製作所 配線基板及び多層配線基板
JP7375777B2 (ja) * 2021-01-13 2023-11-08 三菱マテリアル株式会社 電着液、絶縁皮膜の製造方法
JP2022148149A (ja) * 2021-03-24 2022-10-06 三菱マテリアル株式会社 絶縁皮膜付き平板導電板及びその製造方法
WO2023054222A1 (ja) * 2021-09-30 2023-04-06 富士フイルム株式会社 組成物、硬化物、硬化物の製造方法、構造体、及び、デバイス
CN117304506B (zh) * 2023-11-30 2024-02-13 季华实验室 共沉积聚酰亚胺改性氟基材料及制备方法和自润滑材料

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100572646B1 (ko) * 1998-07-17 2006-04-24 제이에스알 가부시끼가이샤 폴리이미드계 복합체 및 이 복합체를 사용한 전자 부품, 및 폴리이미드계 수성 분산액
JP2001294815A (ja) * 2000-04-13 2001-10-23 Jsr Corp 低誘電率絶縁膜形成用水性分散液、低誘電率絶縁膜および電子部品
JP2002298674A (ja) * 2001-03-29 2002-10-11 Mitsubishi Cable Ind Ltd 絶縁電線の製造方法および絶縁電線
TWI441878B (zh) * 2007-05-07 2014-06-21 Mitsubishi Cable Ind Ltd 電沉積塗料組成物及電沉積方法
JP2013153107A (ja) * 2012-01-26 2013-08-08 Pi R & D Co Ltd ボンディングワイヤの製造方法及びボンディングワイヤ
JP6001014B2 (ja) * 2014-07-03 2016-10-05 三菱マテリアル株式会社 耐熱性絶縁電線とその絶縁層の形成に用いる電着液
JP6412740B2 (ja) 2014-08-26 2018-10-24 三菱マテリアル株式会社 電着塗装体の製造方法
JP5994955B1 (ja) 2015-05-25 2016-09-21 三菱マテリアル株式会社 水分散型絶縁皮膜形成用電着液
JP2017027100A (ja) 2015-07-15 2017-02-02 富士ゼロックス株式会社 画像処理装置及び画像処理プログラム

Also Published As

Publication number Publication date
TWI737892B (zh) 2021-09-01
WO2018151091A1 (ja) 2018-08-23
KR102545341B1 (ko) 2023-06-19
US11286576B2 (en) 2022-03-29
TW201835246A (zh) 2018-10-01
EP3584293A4 (en) 2021-01-06
JP2018131562A (ja) 2018-08-23
KR20190118559A (ko) 2019-10-18
EP3584293A1 (en) 2019-12-25
CN110234717A (zh) 2019-09-13
EP3584293B1 (en) 2023-10-04
US20190323140A1 (en) 2019-10-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6859736B2 (ja) 電着液及びこれを用いた絶縁皮膜付き導体の製造方法
JP7420202B2 (ja) 絶縁導体および絶縁導体の製造方法
JP5423800B2 (ja) 電線及びその製造方法
JP6508406B1 (ja) 絶縁導体および絶縁導体の製造方法
JPWO2018230706A1 (ja) 絶縁電線
JP5351011B2 (ja) 絶縁電線、電機コイル及びモータ
WO2022154052A1 (ja) 電着液、絶縁皮膜の製造方法
JP2011071089A (ja) 電線及びその製造方法
JP7326203B2 (ja) エナメル線
JP5712901B2 (ja) 絶縁電線、及びコイル

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190925

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200923

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20201007

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210224

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210309

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6859736

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150