JP2022553764A - ポリシロキサン共重合体、その調製方法、及びポリシロキサンコポリマーを含む樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
さらに、本発明は、ポリシロキサン共重合体の調製方法を提供することを目的とする。
さらに、本発明は、ポリシロキサン共重合体を含む樹脂組成物を提供することを目的とする。
X1~X3はそれぞれ独立して、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、炭素数4~20の脂環式炭化水素基、及び炭素数4~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、R1は炭素数1~10の脂肪族炭化水素基であり、R2及びR3はそれぞれ独立して、水素及び炭素数1~10の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、L1は酸素原子及び炭素数1~12の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、a1は0~20の整数であり、
化学式3において、
R4~R6はそれぞれ独立して、水素、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、及び炭素数3~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、R7は水素及び炭素数1~10の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、R8は水素、ヒドロキシ基、及び炭素数1~10の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、L2は単結合、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、炭素数3~10の脂環式炭化水素基、及び炭素数3~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、a2は0~20の整数であり、
R1~R8、X1~X3、L1及びL2はそれぞれ独立して、非置換であるか、又は、酸素原子、フッ素原子、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、及び炭素数3~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択される1又は複数種の置換基で置換されている。
第1のシラン化合物を準備すること;
第2のシラン化合物と無水系化合物とを反応させることにより、シラン系モノマーを準備すること;及び
上記第1のシラン化合物と上記シラン系モノマーとを同時に反応させること、
を含み、
ここで、上記シラン系モノマーは、化学式1~化学式3で表される化合物群からなる群より選択される。
第1のシラン化合物を反応させることにより、シロキサン系ポリマーを準備すること;
第2のシラン化合物と無水系化合物とを反応させることにより、シラン系モノマーを準備すること;及び
上記シロキサン系ポリマーと上記シラン系モノマーとを反応させること、
を含み、
ここで、上記シラン系モノマーは、化学式1~化学式3で表される化合物群からなる群より選択される。
X1~X3はそれぞれ独立して、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、炭素数4~20の脂環式炭化水素基、及び炭素数4~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、R1は炭素数1~10の脂肪族炭化水素基であり、R2及びR3はそれぞれ独立して、水素及び炭素数1~10の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、L1は酸素原子及び炭素数1~12の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、a1は0~20の整数であり得る。
R4~R6はそれぞれ独立して、水素、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、及び炭素数3~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、R7は水素及び炭素数1~10の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、R8は水素、ヒドロキシ基、及び炭素数1~10の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、L2は単結合、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、炭素数3~10の脂環式炭化水素基、及び炭素数3~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、a2は0~20の整数であり得る。
重量平均分子量が10,000~100,000の範囲内である必要があるカバーフィルム材料又はプリント回路基板材料(例えば、平坦膜(PL)材料、隔壁(partition wall)(PDL)材料、主基板(main substrate)材料)として使用し得る。さらに、上記ポリシロキサン共重合体は、重量平均分子量が2,000~20,000の範囲内である必要がある感光性材料としても使用し得る。
第1のシラン化合物を準備すること(以下、「ステップA-1」と称する);
第2のシラン化合物と無水系化合物とを反応させることによりシラン系モノマーを準備すること(以下、「ステップA-2」と称する);及び
上記第1のシラン化合物と上記シラン系モノマーを同時に反応させること(以下、「ステップA-3」と称する)、
を含み得る。具体的には、本発明の一実施形態に係るポリシロキサン共重合体を調製する方法は、上記第1のシラン化合物の重合反応と、上記シラン系モノマーの結合反応とを同時に行うことにより、上記ポリシロキサン共重合体を調製する。
トリメチルメトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリエチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン、トリエチルブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、3-トリエトキシシリルプロピルメタクリレート、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、及びビニルトリプロポキシシランからなる群より選択される1又は複数種であってよい。
;ここで、X1~X3、L1及びL2の説明は上述の説明を同じである)が加えられ得る。上述の通り反応材料をイミド化(濃縮反応)することにより、より優れた耐熱性を有するポリシロキサン共重合体を得ることが可能である。
;ここで、X1~X3、L1及びL2の説明は上述の説明を同じである)が加えられ得る。上述の通り反応材料をイミド化(濃縮反応)することにより、より優れた耐熱性を有するポリシロキサン共重合体を得ることが可能である。
(例えば、プリント回路基板材料、カバーフィルム材料、及び感光材料等)として使用し得るポリシロキサン共重合体、及び当該ポリシロキサン共重合体の調製方法に関する。本発明の一実施形態に係る樹脂組成物中に含まれる有機溶媒及び添加剤は、公知の有機溶媒及び添加剤であってよい。
無水テトラヒドロフラン(THF)(80mL)を保持する250mL容フラスコに、3-アミノプロピルジエトキシモノメチルシラン(APDEMS)(38.3g)及びシクロヘキシル二無水物(CHDA)(22.4g)を窒素雰囲気下で入れ、結果物を撹拌し、室温で24時間反応させた。反応溶液を減圧濃縮した後、更なる精製無しで、オフホワイトの固形(58.2g)が収量96%で得られた。
1H-NMR(δ, ppm), CDCl3:3.83 (q, 8H), 2.98 (m, 4H), 2.55 (m, 2H), 2.41 (m, 2H), 2.04 (m, 2H), 1.78 (m, 2H), 1.40 (m, 4H), 1.11 (t, 12H), 0.46 (m, 4H), 0.14 (s, 6H).
無水テトラヒドロフラン(THF)(80mL)を保持する250mL容フラスコに、3-アミノプロピルジエトキシモノメチルシラン(APDEMS)(38.3g)及びピロメリット酸二無水物(PMDA)(21.8g)を窒素雰囲気下で入れ、結果物を撹拌し、室温で48時間反応させた。反応溶液を減圧濃縮した後、更なる精製無しで、淡い黄色の固形(58.9g)が収量98%で得られた。
1H-NMR (δ, ppm), CDCl3: 8.42 (s, 2H), 3.79 (q, 8H), 3.28 (m, 4H), 1.43 (m, 4H), 1.08 (t, 12H), 0.48 (m, 4H), 0.15 (s, 6H).
無水テトラヒドロフラン(THF)(40mL)を保持する100mL容フラスコに、3-アミノプロピルジエトキシモノメチルシラン(APDEMS)(9.6g)及びマレイン酸無水物(MA)(4.9g)を窒素雰囲気下で入れ、結果物を撹拌し、室温で24時間反応させた。反応溶液を減圧濃縮した後、更なる精製無しで、淡い黄色の固形(14.3g)が収量99%で得られた。
1H-NMR (δ, ppm), CDCl3: 7.3 (d, 1H), 6.7 (d, 1H), 3.75 (q, 4H), 3.09 (m, 2H), 1.37 (m, 2H), 1.13 (t, 6H), 0.45 (m, 2H), 0.11 (s, 3H).
無水テトラヒドロフラン(THF)(80mL)を保持する250mL容フラスコに、3-アミノプロピルジエトキシモノメチルシラン(APDEMS)(32.7g)及びシクロヘキシル二無水物(CHDA)(22.4g)を窒素雰囲気下で入れ、結果物を撹拌し、室温で24時間反応させた。反応溶液を減圧濃縮した後、更なる精製無しで、オフホワイトの固形(53.1g)が収量97%で得られた。
1H-NMR (δ, ppm), CDCl3: 3.39 (s, 12H), 2.96 (m, 4H), 2.54 (m, 2H), 2.44 (m, 2H), 2.02 (m, 2H), 1.75 (m, 2H), 1.38 (m, 4H), 0.42 (m, 4H), 0.13 (s, 6H).
無水テトラヒドロフラン(THF)(80mL)を保持する250mL容フラスコに、3-アミノプロピルジエトキシモノメチルシラン(APDEMS)(32.7g)及びピロメリット酸二無水物(PMDA)(21.8g)を窒素雰囲気下で入れ、結果物を撹拌し、室温で48時間反応させた。反応溶液を減圧濃縮した後、更なる精製無しで、淡い黄色の固形(53.7g)が収量99%で得られた。
1H-NMR (δ, ppm), CDCl3: 8.39 (s, 2H), 3.37 (s, 12H), 3.29 (m, 4H), 1.45 (m, 4H), 0.43 (m, 4H), 0.12 (s, 6H).
無水テトラヒドロフラン(THF)(40mL)を保持する100mL容フラスコに、3-アミノプロピルジエトキシモノメチルシラン(APDEMS)(8.2g)及びマレイン酸無水物(MA)(4.9g)を窒素雰囲気下で入れ、結果物を撹拌し、室温で24時間反応させた。反応溶液を減圧濃縮した後、更なる精製無しで、淡い黄色の固形(12.4g)が収量94%で得られた。
1H-NMR (δ, ppm), CDCl3: 6.4 (d, 1H), 6.3 (d, 1H), 3.40 (s, 6H), 3.07 (m, 2H), 1.34 (m, 2H), 0.39 (m, 2H), 0.13 (s, 3H).
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(60mL)を保持する250mL容三つ口フラスコに、フェニルトリメトキシシラン(PTMS)(23.4g)、メチルトリメトキシシラン(MTMS)(34.3g)、及びテトラエトキシシラン(TEOS)(25.0g)を窒素雰囲気下で入れ、結果物を混合した。混合溶液を10分間撹拌した後、0.1%で脱イオン水に溶解した塩酸水溶液(30g)を、おおよそ40℃以下の反応温度で1時間にわたってゆっくり滴下して添加することにより反応させた。その後、反応混合物を10分間撹拌し、温度を80℃に上げた後、結果物を2時間撹拌して、シロキサン系ポリマーを調製した。次に、合成例1で合成した4価エトキシシランアミド酸モノマー(APDEMS/CHDA)(5.0g)をゆっくり滴下し、結果物を更に撹拌して1時間反応させた。反応混合物を室温に冷まし、そこに酢酸エチル及び脱イオン水を添加することにより層を分離させた後、有機層を脱イオン水で2回洗浄し、1回目の真空濃縮を行った。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)を反応溶液中に入れて、1回目に真空濃縮した反応溶液の固形分がおおよそ30%となるようにし、結果物を2回目の真空濃縮を行って、産物(ポリシロキサン共重合体)を得た。
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(60mL)を保持する250mL容三つ口フラスコに、フェニルトリメトキシシラン(PTMS)(23.4g)、メチルトリメトキシシラン(MTMS)(34.3g)、及びテトラエトキシシラン(TEOS)(25.0g)を窒素雰囲気下で入れ、結果物を混合した。混合溶液を10分間撹拌した後、0.1%で脱イオン水に溶解した塩酸水溶液(30g)を、おおよそ40℃以下の反応温度で1時間にわたってゆっくり滴下して添加することにより反応させた。反応混合物を10分間撹拌し、温度を80℃に上げた後、結果物を2時間撹拌して、シロキサン系ポリマーを調製した。次に、合成例2で合成した4価エトキシシランアミド酸モノマー(APDEMS/PMDA)(4.9g)をゆっくり滴下し、結果物を更に撹拌して1時間反応させた。反応混合物を室温に冷まし、そこに酢酸エチル及び脱イオン水を添加することにより層を分離させた後、有機層を脱イオン水で2回洗浄し、1回目の真空濃縮を行った。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)を反応溶液中に入れて、1回目に真空濃縮した反応溶液の固形分がおおよそ30%となるようにし、結果物を2回目の真空濃縮を行って、産物(ポリシロキサン共重合体)を得た。
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(60mL)を保持する250mL容三つ口フラスコに、フェニルトリメトキシシラン(PTMS)(23.4g)、メチルトリメトキシシラン(MTMS)(34.3g)、及びテトラエトキシシラン(TEOS)(25.0g)を窒素雰囲気下で入れ、結果物を混合した。混合溶液を10分間撹拌した後、0.1%で脱イオン水に溶解した塩酸水溶液(30g)を、おおよそ40℃以下の反応温度で1時間にわたってゆっくり滴下して添加することにより反応させた。反応混合物を10分間撹拌し、温度を80℃に上げた後、結果物を2時間撹拌して、シロキサン系ポリマーを調製した。次に、合成例3で合成した2価エトキシシランアミド酸モノマー(APDEMS/MA)(3.5g)をゆっくり滴下し、結果物を更に撹拌して1時間反応させた。その後、反応混合物を室温に冷まし、そこに酢酸エチル及び脱イオン水を添加することにより層を分離させた後、有機層を脱イオン水で2回洗浄し、1回目の真空濃縮を行った。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)を反応溶液中に入れて、1回目に真空濃縮した反応溶液の固形分がおおよそ30%となるようにし、結果物を2回目の真空濃縮を行って、産物(ポリシロキサン共重合体)を得た。
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(60mL)を保持する250mL容三つ口フラスコに、フェニルトリメトキシシラン(PTMS)(23.4g)、メチルトリメトキシシラン(MTMS)(34.3g)、及びテトラエトキシシラン(TEOS)(25.0g)を窒素雰囲気下で入れ、結果物を混合した。混合溶液を10分間撹拌した後、0.1%で脱イオン水に溶解した塩酸水溶液(30g)を、おおよそ40℃以下の反応温度で1時間にわたってゆっくり滴下して添加することにより反応させた。反応混合物を10分間撹拌し、温度を80℃に上げた後、結果物を2時間撹拌して、シロキサン系ポリマーを調製した。次に、合成例4で合成した4価エトキシシランアミド酸モノマー(APDMMS/CHDA)(3.5g)をゆっくり滴下し、結果物を更に撹拌して1時間反応させた。その後、反応混合物を室温に冷まし、そこに酢酸エチル及び脱イオン水を添加することにより層を分離させた後、有機層を脱イオン水で2回洗浄し、1回目の真空濃縮を行った。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)を反応溶液中に入れて、1回目に真空濃縮した反応溶液の固形分がおおよそ30%となるようにし、結果物を2回目の真空濃縮を行って、産物(ポリシロキサン共重合体)を得た。
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(60mL)を保持する250mL容三つ口フラスコに、フェニルトリメトキシシラン(PTMS)(23.4g)、メチルトリメトキシシラン(MTMS)(34.3g)、及びテトラエトキシシラン(TEOS)(25.0g)を窒素雰囲気下で入れ、結果物を混合した。混合溶液を10分間撹拌した後、0.1%で脱イオン水に溶解した塩酸水溶液(30g)を、おおよそ40℃以下の反応温度で1時間にわたってゆっくり滴下して添加することにより反応させた。その後、反応混合物を10分間撹拌し、温度を80℃に上げた後、結果物を2時間撹拌して、シロキサン系ポリマーを調製した。次に、合成例5で合成した4価エトキシシランアミド酸モノマー(APDMMS/PMDA)(4.4g)をゆっくり滴下し、結果物を更に撹拌して1時間反応させた。その後、反応混合物を室温に冷まし、そこに酢酸エチル及び脱イオン水を添加することにより層を分離させた後、有機層を脱イオン水で2回洗浄し、1回目の真空濃縮を行った。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)を反応溶液中に入れて、1回目に真空濃縮した反応溶液の固形分がおおよそ30%となるようにし、結果物を2回目の真空濃縮を行って、産物(ポリシロキサン共重合体)を得た。
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(60mL)を保持する250mL容三つ口フラスコに、フェニルトリメトキシシラン(PTMS)(23.4g)、メチルトリメトキシシラン(MTMS)(34.3g)、及びテトラエトキシシラン(TEOS)(25.0g)を窒素雰囲気下で入れ、結果物を混合した。混合溶液を10分間撹拌した後、0.1%で脱イオン水に溶解した塩酸水溶液(30g)を、おおよそ40℃以下の反応温度で1時間にわたってゆっくり滴下して添加することにより反応させた。その後、反応混合物を10分間撹拌し、温度を80℃に上げた後、結果物を2時間撹拌して、シロキサン系ポリマーを調製した。次に、合成例6で合成した2価エトキシシランアミド酸モノマー(APDMMS/MA)(3.2g)をゆっくり滴下し、結果物を更に撹拌して1時間反応させた。その後、反応混合物を室温に冷まし、そこに酢酸エチル及び脱イオン水を添加することにより層を分離させた後、有機層を脱イオン水で2回洗浄し、1回目の真空濃縮を行った。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)を反応溶液中に入れて、1回目に真空濃縮した反応溶液の固形分がおおよそ30%となるようにし、結果物を2回目の真空濃縮を行って、産物(ポリシロキサン共重合体)を得た。
実施例1で調製したポリシロキサン共重合体(100g)、ピリジニウムp-トルエンスルホネート(0.01g)、及び3,4-ジヒドロ-2H-ピラン(1.6g)を反応器に入れ、アセタール導入の反応を室温で24時間行い、産物(ポリシロキサン共重合体)を得た。得られた産物の重量平均分子量(Mw)は6,379であり、ADR(2.38%水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)現像液)の測定結果は50Åであり、アセタールの導入が成功したことが確認できた。
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(60mL)を保持する250mL容三つ口フラスコに、フェニルトリメトキシシラン(PTMS)(23.4g)、メチルトリメトキシシラン(MTMS)(34.3g)、ビニルトリエトキシシラン(11.8g)、及びテトラエトキシシラン(TEOS)(12.5g)を窒素雰囲気下で入れ、結果物を混合した。混合溶液を10分間撹拌した後、0.1%で脱イオン水に溶解した塩酸水溶液(30g)を、おおよそ40℃以下の反応温度で1時間にわたってゆっくり滴下して添加することにより反応させた。その後、反応混合物を10分間撹拌し、温度を80℃に上げた後、結果物を2時間撹拌して、シロキサン系ポリマーを調製した。次に、合成例1で合成した4価エトキシシランアミド酸モノマー(APDEMS/CHDA)(5.0g)をゆっくり滴下し、結果物を更に撹拌して1時間反応させた。その後、反応混合物を室温に冷まし、そこに酢酸エチル及び脱イオン水を添加することにより層を分離させた後、有機層を脱イオン水で2回洗浄し、1回目の真空濃縮を行った。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)を反応溶液中に入れて、1回目に真空濃縮した反応溶液の固形分がおおよそ30%となるようにし、結果物を2回目の真空濃縮を行って、産物(ポリシロキサン共重合体)を得た。得られた産物の重量平均分子量(Mw)は5,483であり、ADR(2.38%水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)現像液)の測定結果は1,800Åであった。
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(60mL)を保持する250mL容三つ口フラスコに、フェニルトリメトキシシラン(PTMS)(23.4g)、メチルトリメトキシシラン(MTMS)(34.3g)、及びテトラエトキシシラン(TEOS)(25.0g)を窒素雰囲気下で入れ、結果物を混合した。混合溶液を10分間撹拌した後、0.1%で脱イオン水に溶解した塩酸水溶液(30g)を、おおよそ40℃以下の反応温度で1時間にわたってゆっくり滴下して添加し、次に3-メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン(MPMS)(42.38g)及び3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GPMS)(9.85g)の混合溶液を入れた。反応混合物を10分間撹拌し、温度を80℃に上げた後、結果物を2時間撹拌して、シロキサン系ポリマーを調製した。次に、合成例6で合成した2価エトキシシランアミド酸モノマー(APDMMS/MA)(3.2g)をゆっくり滴下し、結果物を更に撹拌して1時間反応させた。その後、反応混合物を室温に冷まし、そこに酢酸エチル及び脱イオン水を添加することにより層を分離させた後、有機層を脱イオン水で2回洗浄し、1回目の真空濃縮を行った。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)を反応溶液中に入れて、1回目に真空濃縮した反応溶液の固形分がおおよそ30%となるようにし、結果物を2回目の真空濃縮を行って、産物(ポリシロキサン共重合体)を得た。
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(60mL)を保持する250mL容三つ口フラスコに、フェニルトリメトキシシラン(PTMS)(23.4g)、メチルトリメトキシシラン(MTMS)(34.3g)、テトラエトキシシラン(TEOS)(25.0g)、及びジメチルジメトキシシラン(DMDS)(6.54g)を窒素雰囲気下で入れ、結果物を混合した。混合溶液を10分間撹拌した後、0.1%で脱イオン水に溶解した塩酸水溶液(30g)を、おおよそ40℃以下の反応温度で1時間にわたってゆっくり滴下して添加して反応させた。その後、反応混合物を10分間撹拌し、温度を80℃に上げた後、結果物を2時間撹拌して、シロキサン系ポリマーを調製した。次に、合成例6で合成した2価エトキシシランアミド酸モノマー(APDMMS/MA)(3.2g)をゆっくり滴下し、結果物を更に撹拌して1時間反応させた。その後、反応混合物を室温に冷まし、そこに酢酸エチル及び脱イオン水を添加することにより層を分離させた後、有機層を脱イオン水で2回洗浄し、1回目の真空濃縮を行った。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)を反応溶液中に入れて、1回目に真空濃縮した反応溶液の固形分がおおよそ30%となるようにし、結果物を2回目の真空濃縮を行って、産物(ポリシロキサン共重合体)を得た。
実施例1で調製したポリシロキサン共重合体(バインダ樹脂)(5.5g)、SR399(Sartomer)(架橋性化合物)(1.65g)、Irgacure TPO(BASF社)(光重合開始剤)(0.5g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(有機溶媒)(7.5g)、KBM403(信越化学工業)(接着助剤)(0.03g)、及びFZ-2122(Dow社)(界面活性剤)(0.08g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
Irgacure TPO(BASFT社)の代わりにTPM-P07(Takoma Technology社)を光重合開始剤として使用したこと以外は、調製例1と同様にして感光性樹脂組成物(固形分25%)を調製した。
実施例1で調製したポリシロキサン共重合体(バインダ樹脂)(20g)、ジアゾナフトキノン化合物(光増感剤)(1g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(有機溶媒)(8g)、KBM403(信越化学工業)(接着助剤)(0.1g)、及びFZ-2122(Dow社)(界面活性剤)(0.14g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
実施例37で調製したポリシロキサン共重合体(バインダ樹脂)(20g)、1,3-ジオキソ-1H-ベンゾ[de]イソキノリン-2(3H)-イルトリフルオロメタンスルホネート(光酸発生剤:化学式10)(0.3g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(有機溶媒)(8.8g)、BYK333(界面活性剤)(0.03g)、及びKBM303(信越化学工業)(接着助剤)(0.02g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
実施例1で調製したポリシロキサン共重合体(バインダ樹脂)(20g)、テトラメトキシメチルグリコールウリル(架橋結合剤)(9g)、2-ヒドロキシヘキシルp-トルエンスルホネート(熱酸発生剤)(3g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(有機溶媒)(27g)、KBM403(信越化学工業)(接着助剤)(0.12g)、及びFZ-2122(Dow社)(界面活性剤)(0.3g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
実施例1で調製したポリシロキサン共重合体(バインダ樹脂)(5.5g)、SR399(Sartomer)(架橋性化合物)(1.65g)、TPM-P07(Takoma Technology社)(光重合開始剤)(0.35g)、ジ-tert-ブチルパーオキサイド(TCI Co.,Ltd.)(熱重合開始剤)(0.15g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(有機溶媒)(7.5g)、KBM403(信越化学工業)(接着助剤)(0.03g)、及びFZ-2122(Dow社)(界面活性剤)(0.08g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
実施例38で調製したポリシロキサン共重合体(バインダ樹脂)(5.5g)、SR399(Sartomer)(架橋性化合物)(1.65g)、TPM-P07(Takoma Technology社)(光重合開始剤)(0.5g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(有機溶媒)(7.5g)、KBM403(信越化学工業)(接着助剤)(0.03g)、及びFZ-2122(Dow社)(界面活性剤)(0.08g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
実施例1で調製したポリシロキサン共重合体(バインダ樹脂)(5.5g)、SR399(Sartomer)(架橋性化合物)(2.75g)、TPM-P07(Takoma Technology社)(光重合開始剤)(0.55g)、カーボンブラック顔料(0.84g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(有機溶媒)(7.04g)、KBM403(信越化学工業)(接着助剤)(0.03g)、及びFZ-2122(Dow社)(界面活性剤)(0.08g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
実施例1で調製したポリシロキサン共重合体(バインダ樹脂)(5.5g)、SR399(Sartomer)(架橋性化合物)(2.75g)、TPM-P07(Takoma Technology社)(光重合開始剤)(0.55g)、黒色染料(0.84g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(有機溶媒)(6.6g)、KBM403(信越化学工業)(接着助剤)(0.03g)、及びFZ-2122(Dow社)(界面活性剤)(0.08g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
実施例1で調製したポリシロキサン共重合体(バインダ樹脂)(20g)、ジアゾナフトキノン化合物(光増感剤)(1g)、カーボンブラック顔料(1.52g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(有機溶媒)(6.9g)、KBM403(信越化学工業)(接着助剤)(0.1g)、及びFZ-2122(Dow社)(界面活性剤)(0.14g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
実施例1で調製したポリシロキサン共重合体(バインダ樹脂)(20g)、ジアゾナフトキノン化合物(光増感剤)(1g)、黒色染料(1.52g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(有機溶媒)(6.9g)、KBM403(信越化学工業)(接着助剤)(0.1g)、及びFZ-2122(Dow社)(界面活性剤)(0.14g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
バインダ樹脂として、実施例1のポリシロキサン共重合体の代わりに、ベンジルメタクリレート(30重量%)とメチルメタクリレート(10重量%)とメタクリル酸(10重量%)を固形分30%でプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)の存在下で重合することにより得られたアクリル樹脂(重量平均分子量13,000)を使用したこと以外は、調製例1と同様にして、感光性樹脂組成物を調製した。
光重合開始剤として、Irgacure TPO(BASF社)の代わりにTPM-P07(Takoma Technology社)を使用したこと以外は比較調製例1と同様にして、感光性樹脂組成物(固形分25%)を調製した。
比較調製例1で使用したアクリル樹脂(5.5g)、ジアゾナフトキノン化合物(光増感剤)(1g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(8g)、KBM403(接着助剤)(0.1g)、及びFZ-2122(界面活性剤)(0.14g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
バインダ樹脂として、1-エトキシエチルメタクリレート(アセタール-アクリル系モノマー)(25%重量)とベンジルメタクリレート(10重量%)とメチルメタクリレート(51重量%)とメタクリル酸(14重量%)とを固形分30%でプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)の存在下で重合することにより得られたアクリル樹脂(重量平均分子量15,000)(20g)、化学式10の光酸発生剤(0.3g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(8.8g)、BYK333(界面活性剤)(0.03g)、及びKBM303(接着助剤)(0.02g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
比較調製例1で使用したアクリル樹脂(20g)、テトラメトキシメチルグリコールウリル(架橋結合剤)(9g)、2-ヒドロキシヘキシルp-トルエンスルホネート(熱酸発生剤)(3g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(27g)、BYK333(界面活性剤)(0.03g)、及びKBM303(接着助剤)(0.02g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
比較調製例1で使用したアクリル樹脂(5.5g)、SR399(Sartomer)(架橋性化合物)(2.75g)、TPM-P07(Takoma Technology社)(光重合開始剤)(0.55g)、カーボンブラック顔料(0.84g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(有機溶媒)(7.04g)、KBM403(信越化学工業)(接着助剤)(0.03g)、及びFZ-2122(Dow社)(界面活性剤)(0.08g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
比較調製例1で使用したアクリル樹脂(5.5g)、SR399(Sartomer)(架橋性化合物)(2.75g)、TPM-P07(Takoma Technology社)(光重合開始剤)(0.55g)、黒色染料(0.84g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(有機溶媒)(7.04g)、KBM403(信越化学工業)(接着助剤)(0.03g)、及びFZ-2122(Dow社)(界面活性剤)(0.08g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
比較調製例1で使用したアクリル樹脂(5.5g)、ジアゾナフトキノン化合物(光増感剤)(1g)、カーボンブラック顔料(0.84g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(有機溶媒)(6.9g)、KBM403(信越化学工業)(接着助剤)(0.1g)、及びFZ-2122(Dow社)(界面活性剤)(0.14g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
比較調製例1で使用したアクリル樹脂(5.5g)、ジアゾナフトキノン化合物(光増感剤)(1g)、黒色染料(0.84g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(有機溶媒)(6.9g)、KBM403(信越化学工業)(接着助剤)(0.1g)、及びFZ-2122(Dow社)(界面活性剤)(0.14g)を反応器に入れ、結果物を室温で3時間撹拌した。5.0μmフィルターを用いたろ過プロセスを行ったと、感光性樹脂組成物(固形分25%)を得た。
調製例1~11及び比較調製例1~9で調製した感光性樹脂組成物のそれぞれを使用して、下記の評価方法を用いて特性を評価し、図1及び表9にその結果を示す。
スピンコーティングを用いてガラス基板上に感光性樹脂組成物を塗布した後、結果物を90℃~110℃で90秒間熱処理(ホットプレート)して、厚さ2μmの薄膜を形成した。形成された薄膜の厚さは、触針型膜厚測定装置(Veeco Insctruments Inc.、DEKTAK150)を用いて測定した。そして、薄膜を、マスクを介して高圧水銀ランプに露光した後、2.38% TMAH現像液を用いてスプレー現像することにより、パターンを得た。
スピンコーティングを用いてガラス基板上に感光性樹脂組成物を塗布した後、結果物を90℃~110℃で90秒間熱処理(ホットプレート)して、厚さ2μmの薄膜を形成した。その後、フォトリソグラフィプロセスを行い、触針型膜厚測定装置(Veeco Instruments Inc.(米国)製DEKTAK 6M)を用いて、250℃、60分のポストベークを行った後の厚さの変化、及び現像前後の厚さを測定することにより、膜保持率を測定した。ここで、ポストベークは調製例6において110℃で行った。
スピンコーティングを用いてガラス基板上に感光性樹脂組成物を塗布した後、結果物を90℃~110℃で90秒間熱処理(ホットプレート)して、厚さ2μmの薄膜を形成した。その後、250℃、60分のポストベークにより硬化膜を得た。得られた硬化膜について、UV分光器を用いて、400nm~800nmの波長の光の平均透過率を測定した。ここで、ポストベークは調製例6において110℃で行った。
スピンコーティングを用いてガラス基板上に感光性樹脂組成物を塗布した後、結果物を90℃~110℃で90秒間熱処理(ホットプレート)して、厚さ2μmの薄膜を形成した。その後、250℃、60分のポストベークにより硬化膜を得た。得られた硬化膜について、TGA分析器を介して5%分解温度を測定した。ここで、ポストベークは調製例6において110℃で行った。
スピンコーティングを用いてガラス基板上に感光性樹脂組成物を塗布した後、結果物を90℃~110℃で90秒間熱処理(ホットプレート)して、厚さ1.1μmの薄膜を形成した。その後、250℃、60分のポストベークにより硬化膜を得た。得られた硬化膜について、光学濃度計(OD)を用いて光学濃度を測定した。
Claims (7)
- シロキサン系ポリマー由来の構造単位と、
シラン系モノマー由来の構造単位と、
を含み、
前記シラン系モノマーは、下記の化学式1~化学式3で表される化合物群から成る群より選択される、ポリシロキサン共重合体:
化学式1及び化学式2において、
X1~X3はそれぞれ独立して、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、炭素数4~20の脂環式炭化水素基、及び炭素数4~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、
R1は炭素数1~10の脂肪族炭化水素基であり、
R2及びR3はそれぞれ独立して、水素及び炭素数1~10の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、
L1は酸素原子及び炭素数1~12の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、
a1は0~20の整数であり、
化学式3において、
R4~R6はそれぞれ独立して、水素、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、及び炭素数3~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、
R7は水素及び炭素数1~10の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、
R8は水素、ヒドロキシ基、及び炭素数1~10の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、
L2は単結合、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、炭素数3~10の脂環式炭化水素基、及び炭素数3~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、
a2は0~20の整数であり、
R1~R8、X1~X3、L1及びL2はそれぞれ独立して、非置換であるか、又は、酸素原子、フッ素原子、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、及び炭素数3~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択される1又は複数種の置換基で置換されている。 - X1~X3はそれぞれ独立して、炭素数1~3の脂肪族炭化水素基、炭素数4~12の脂環式炭化水素基、及び炭素数6~10の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、
R1は炭素数1~10のアルキル基又は炭素数1~10のアルキルオキシ基であり、
R2及びR3は水素であり、
L1はエーテル基、ケトン基、及び炭素数1~10のアルキレン基からなる群より選択される、
請求項1に記載のポリシロキサン共重合体。 - R4~R6はそれぞれ独立して、水素、炭素数1~10のアルキル基、及び炭素数1~10のアルキルオキシ基からなる群より選択され、
R7は水素であり、
R8はヒドロキシ基であり、
L2は炭素数1~10のアルキレン基、炭素数2~10のアルケニレン基、炭素数3~10のシクロアルキレン基、及び炭素数6~10のアリーレン基からなる群より選択される、
請求項1に記載のポリシロキサン共重合体。 - 第1のシラン化合物を準備すること;
第2のシラン化合物と無水系化合物とを反応させることにより、シラン系モノマーを準備すること;及び
前記第1のシラン化合物と前記シラン系モノマーとを同時に反応させること、
を含む、ポリシロキサン共重合体の調製方法であって、
ここで、前記シラン系モノマーは、化学式1~化学式3で表される化合物群からなる群より選択される、前記調製方法:
化学式1及び化学式2において、
X1~X3はそれぞれ独立して、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、炭素数4~20の脂環式炭化水素基、及び炭素数4~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、
R1は炭素数1~10の脂肪族炭化水素基であり、
R2及びR3はそれぞれ独立して、水素及び炭素数1~10の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、
L1は酸素原子及び炭素数1~12の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、
a1は0~20の整数であり、
化学式3において、
R4~R6はそれぞれ独立して、水素、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、及び炭素数3~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、
R7は水素及び炭素数1~10の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、
R8は水素、ヒドロキシ基、及び炭素数1~10の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、
L2は単結合、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、炭素数3~10の脂環式炭化水素基、及び炭素数3~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、
a2は0~20の整数であり、
R1~R8、X1~X3、L1及びL2はそれぞれ独立して、非置換であるか、又は、酸素原子、フッ素原子、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、及び炭素数3~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択される1又は複数種の置換基で置換されている。 - 第1のシラン化合物を反応させることにより、シロキサン系ポリマーを準備すること;
第2のシラン化合物と無水系化合物とを反応させることにより、シラン系モノマーを準備すること;及び
前記シロキサン系ポリマーと前記シラン系モノマーとを反応させること、
を含む、ポリシロキサン共重合体の調製方法であって、
ここで、前記シラン系モノマーは、化学式1~化学式3で表される化合物群からなる群より選択される、前記調製方法:
化学式1及び化学式2において、
X1~X3はそれぞれ独立して、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、炭素数4~20の脂環式炭化水素基、及び炭素数4~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、
R1は炭素数1~10の脂肪族炭化水素基であり、
R2及びR3はそれぞれ独立して、水素及び炭素数1~10の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、
L1は酸素原子及び炭素数1~12の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、
a1は0~20の整数であり、
化学式3において、
R4~R6はそれぞれ独立して、水素、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、及び炭素数3~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、
R7は水素及び炭素数1~10の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、
R8は水素、ヒドロキシ基、及び炭素数1~10の脂肪族炭化水素基からなる群より選択され、
L2は単結合、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、炭素数3~10の脂環式炭化水素基、及び炭素数3~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択され、
a2は0~20の整数であり、
R1~R8、X1~X3、L1及びL2はそれぞれ独立して、非置換であるか、又は、酸素原子、フッ素原子、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、及び炭素数3~20の芳香族炭化水素基からなる群より選択される1又は複数種の置換基で置換されている。 - バインダ樹脂、
有機溶剤、及び
添加剤
を含み、
前記バインダ樹脂は請求項1~請求項3のいずれか1項に記載のポリシロキサン共重合体である、樹脂組成物。 - プリント回路基板材料、カバーフィルム材料、又は感光性材料として使用される、請求項6に記載の樹脂組成物。
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